JPS5941982B2 - ヒドロキシアルキルパ−フルオロアルカンスルホンアミド類の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記一般式（１）−ａ 又は一般式（１）−ｂ 〔式中、ＲＦは炭素数が１〜２０の、好適にはｌ〜１０
の、直鎖もしくは枝分れ鎖のパーフルオロアルキル基を
表わし、Ｒは水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、シ
クロアルキル又はアラルキルを表わし、Ｒ′は水素、ア
ルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル又はアルケ
ニルオキシメチルもしくはアリールオキシメチルを表わ
し、そしてｎ及びｍは独立して１〜３０の値を表わす〕
の一つに相当するヒドロキシアルキルーパーフルォロァ
ルカンスルホンアミド類の製造方法に関するものである
。

ヒドロキシアルキルーパーフルオロアルカンスルホンア
ミド類は、種々の目的用に、特に織物、皮革、紙などを
疎油性もしくは疎水性にするための含浸用に使用される
物質の製造用中間生成物として、又は高い活性を持つ表
面活性剤として使用できる。

それらはワツクス、脂肪、ラツカ一及び他の物質用の均
質化剤としても使用できる。ヒドロキシアルキルーパー
フルオロアルカンスルホンアミド類はこれまでパーフル
オロアルカンスルホン酸アミドのアルカリ金属塩とハロ
ヒドリンとの反応により製造されていた〔例えば米国特
許第２８０３６５６明細書参照〕。しかしながら、この
方法は二段階反応からなるため非常に複雑である。

アルコール溶液中のスルホンアミドを最初にアルカリ金
属水酸化物と反応させて対応する塩を製造する。次に蒸
留により溶媒を除去した後に、クロロアルカノール又は
ブロモアルカノールとの反応を行なう。さらに、この反
応は不均質反応系中で生じるため、長い反応時間（１０
時間以上程度）を必要とし、その間相当の分解反応が生
じるため手間のかかる精製工程が必要となり、収率が減
少する。パーフルオロアルキルースルホンアミドアルカ
ノールを製造するための公知の反応、すなわち、パーフ
ルオロアルキルースルホニルフルオライドと例えばＮ−
アルキルエタノールアミンとの反応は、ＮＨ一基及び０
Ｈ一基の両方がスルホニルハライドと反応し、そして反
応中に生成したエステルがその強力なアルキル剤として
の性質により多くの２次的反応を起こすため、実施でき
ない。

例えばシリル化によるヒドロキシル官能基の遮蔽はこの
問題を解決することにはならず、その理由はトリメチル
シリル基がスルホニルフルオライドと非常に速やかに交
換反応をしてトリメチルフルオロシラン及び更に高度に
アルキル化された窒素化合物を製造するからである〔Ａ
ｎｎ．７３ｌ、５８（１９７０）参照〕。ドイツ公開特
許第２３０７３７７明細書に従う方法はパーフルオロア
ルキルスルホンアミドとエポキシドの反応に基ずいてい
るが、第三級アミンだけがこの方法に適する触媒である
。

アルカリ金属水酸化物及びアルコラード及び他の触媒は
要求される結果を生じない。さらに、該方法は溶媒中で
実施しなくてはならないため、反応生成物の単離が複雑
となる。本発明の一目的は、ヒドロキシアルキルーパー
フルオロアルカンスルホンアミド類の簡単なそして経済
的な製造方法を提供することである。

本発明は、下記一般式〔式中、ＲＦおよびＲの定義は下
記に同じである〕に相当するパーフルオロアルギルスル
ホンアミドを、付加反応触媒としての反応中に塩基性で
ある有機もしくは無機金属化合物及び／又は塩基性イオ
ン交換樹脂の存在下且つ実質的に溶媒の非存在下で、下
記一般式〔式中、Ｒ′の定義は下記に同じである〕に相
当するエポキシドと反応させることを特徴とする下記一
般式（１）−ａ又は一般式（１）−ｂ 〔上記各式において、 ＲＦは炭素数が１〜約２０１好適には１〜約１０の、直
鎖もしくは枝分れ鎖のパーフルオロアルキル基を表わし
、Ｒは水素又はアルキル、ヒドロキシアルキル、シクロ
アルキル又はアラルキルを表わし、ｗは水素、アルキル
、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル又はアルケニルオ
キシメチルもしくはアリールオキシメチルを表わし、そ
してｎ及びｍは独立して１〜約３０の値を表わす〕の一
つに相当するヒドロキシアルキルーパーフルオロアルカ
ンスルホンアミドの製造方法に関するものである。

好適には、Ｒは水素、ヒドロキシにより置換されていて
もよい炭素数が６までのアルキル、炭素数が３〜８のシ
クロアルキル、ベンジル又はフエネチルであり、Ｒ′は
水素又はヒロキシもしくはハロゲンにより置換されてい
てもよい炭素数が６までのアルキルである。

ドイツ公開特許第２３０７３７７明細書中の教示に反し
て、本発明に従う反応は例えばアルカリ金属水酸化物又
はアルコラードを用いて円滑に進行し、そして溶媒が必
要ではない。

従つて、得られた生成物を例えば真空蒸留により精製す
る必要がないため最終生成物の単離が非常に容易になる
。商業的規模では、１トル（ＴＯｒｒ）以下の低い使用
圧力にもかかわらず、ある場合には２００′Ｃまでのサ
ップ（Ｓｕｍｐ）温度が依然として必要であり、そして
そのような高温は必然的に高程度の分解をもたらすため
、この精製方法はそのような化合物の場合には非常に複
雑となり、従つて相当な欠点となる。本発明に従う方法
は、エポキシドを適当な触媒と共に溶媒を含まないパー
フルオロアルキルスルホンアミト沖に加えることにより
実施される。

反応は約４０沖〜１７０℃、好適には約６０る〜１４０
℃の温度において実施される。反応は好適には常圧下で
実施されるが、過剰圧力（例えばオートクレーブ沖）も
使用できる。該方法は連続的に又は不連続的に実施でき
る。塩基性イオン交換樹脂を使用するときには、それら
は反応後に例えば溶媒を含まない融解物の▲過により、
除去でき、そして再び使用できる。

アルカリ金属水酸化物又は同様の物質を使用するときに
は、例えば反応生成物は任意に圧力下で熱水で洗浄し、
力ｕえられた触媒から次に▲過しそして真空中で乾燥す
ることにより精製できるが、触媒を生成物中に残存させ
ておいてもよい。使用される出発物質はパーフルオロア
ルキルスルホンアミドであり、それは公知の如く適当な
フルオライドとアンモニア又は第一級アミンとの反応に
より得られる。

希望によりスルホンアミドを蒸留できる。蒸留による精
製を行なう場合には、より有利な分子量のために最終生
成物の段階よりこの段階で精製する方が好ましい。下記
のものが使用できるパーフルオロアルキルスルホンアミ
ドの例である。

例えば、エポキシド基を含有している化合物例えば下記
のものはいずれもアルキレンオキシドとして原則的に使
用できる。

例えば、酸化エチレン、酸化プロピレン、グリシドール
、酸化ブチレン、エピクロロヒドリン、酸化フエノキシ
プロピレン又はそれらの混合物。炭素数が２〜４のエポ
キシドが特に適している。使用される触媒は反応中に塩
基性である有機もしくは無機の金属化合物又は塩基性イ
オン交換樹脂である。

反応中に塩基性である適当な無機金属化合物には、例え
ばアルカリ金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩もしくはリ
ン酸塩、例えばＮａＯＨ．ＫＯＨ、Ｋ２ＣＯ３もしくは
Ｎａ３ｐＯぃ又はアルカリ土類金属の酸化物もしくは水
酸化物、又はアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の
水素化物、例えばＮａＨが含まれる。

反応中に塩基性である適当な有機金属化合物には、金属
アルキルもしくは金属アリール、例えばブチルリチウム
もしくはフエニルナトリウム、又は第二級金属アミド、
例えばリチウムジイソフロピルアミド、又は金属アルコ
ラード、例えばナトリウムメチラートもしくはカリウム
メーシャリーブチラート、又は金属カルボキシレート、
例えば酢酸ナトリウム、又は使用されるスルホンアミド
のアルカリ金属塩、例えばＲＦＳＯ２Ｎ（Ｒ）Ｎａが含
まれる。

触媒はスルホンアミドを基にして約０．０１〜２０モル
％、好適には約０．２〜１０モル％の量で使用される。

使用される塩基性触媒は、イオン交換用の特性基が第四
級アンモニウム塩であるようなイオン交換樹脂であるこ
ともでき、そして担体は例えばポリスチレン又はフエノ
ール／ホルムアルデヒド樹脂であることができる。

この型の物質には、例えば強塩基として作用するバイエ
ルーエージ一によりレワタイト（Ｌｅｗａｔｉｔｅ）の
名称で市販されている生成物が含まれる。それらは使用
される１モルのスルホンアミド当り約０．１〜２０７の
量で使用される。それより高割合の触媒を使用すること
もできるが、それは経済的でもなく有用でもなく、また
、その触媒量を減少することによりいかなる目的が達成
されるものでもない。

本発明に従う方法を下記の実施例により説明する。

実施例 １ スメラ一、内部温度計、ドライアイス還流冷却器、及び
流出点に連結している導入管を有しそしてフラスコの底
部に達している冷却可能な滴下ろうとを備えた三首フラ
スコ中で、２４．２ｙ（０，５５モル）の酸化エチレン
を約１２０℃において、２５６．６ｙ（０．５モル）の
Ｎ−メチルーパーフルオローオクタンスルホンアミド及
び０．５７（０．００８９モル）の水酸化カリウムから
なる溶媒を含まない融解物に３０分以内に滴下した。

酸化エチレンの添加後に、反応混合物を約２．５時間攪
拌した。未使用の酸化エチレン（もしくは一般にエポキ
シド）又は他の揮発性化合物を真空中で除去した後に、
２７９ｙ（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）の下記式に
相当する生成物が得られた。

この生成物は９０〜９５℃の範囲内で融解し、そして３
．１％の０Ｈ数（理論値３．０５％）を有していた。す
なわち、上記生成物はプロトンＮＭＲスペクトルにより
上記式で示される目的を含みそしてガスクロマトグラフ
イ一により目的物の純度が９７．７％であることが明ら
かにされた。触媒を除去するために、生成物を熱水を用
いて洗浄し、そして混合物を攪拌しながら冷却した。

顆粒状で得られた生成物を沢過しそして真空中で乾燥し
た。融解範囲９４〜９７℃。なお、ガスクロマトグラフ
イ一による分析は下記の条件で実施した（以下の実施例
においても同様である）。

検出器：ホツトワイヤー カラム：内径４ｍｕのガスカラム カラム充填物：クロモソープ（ＣｈｒＯｍＯｓＯｒｐ）
Ｇ２実施例 ２５９２ｙ（ほぼ定量的、触媒を含んでい
る）の、１３６〜１４０℃の範囲内で融解しかつ５，７
７％の０Ｈ数（理論値５．７９％）を有する化合物Ｃ８
Ｆ，７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ２−ＣＨ２−０Ｈ）２が、４時間
以内に実施例１の方法と同様な方法により、４９９７（
１モル）のパーフルオロオクタンスルホンアミド、２７
（０．０３６モル）の水酸化カリウム及び９２．５ｙ（
２．１モル）の酸化エチレンから約１２０゜Ｃにおいて
得られた。

すなわち、上記反応の生成物はプロトンＮＭＲスペクト
ルにより上記式で示される化合物を含みそしてガスクロ
マトグラフイ一によりこの目的化合物の純度が９４．５
％であることが明らかにされた。

実施例 ３ １０３９７（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）の、約７
５℃で融解しかつ８．７８％の０Ｈ数（理論値８．７８
％）を有する式Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ２−ＣＨ２−０
Ｈ）２の生成物が、４時間以内に実施例１の方法と同様
な方法により、８０２，５ｙ（２．６８モル）のパーフ
ルオロブタンスルホンアミド、２７（０．０３６モル）
の水酸化カリウム及び２４８ｙ（５．６３モル）の酸化
エチレンから９０〜１００℃において得られた。

すなわち、生成物は上記式の化合物を含むことがプロト
ンＮＭＲスペクトル及びガスクロマトグラフイ一により
明らかにされた。実施例 ４ 実施例１と同じ実験方法を用いて、１５６．６ｙ（０．
５モル）のＮ−メチルーパーフルオロブタンスルホンア
ミド及び２４．２７（０．５５モル）の酸化エチレンを
、２時間にわたつて７０〜９０℃において１０７の塩基
性イオン交換樹脂ｆ′ＭＰ５Ｏ『゛（ヒドロキシルイオ
ンを有する交叉結合されたポリスチレンのグループ）の
存在下で反応させた。

イオン交換樹脂を▲過により除去し、そして過剰の酸化
エチレンを真空下での蒸発により除去した後に、１７８
Ｖ（ほぼ定量的）の式Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ
２ＣＨ２ＯＨに相当する生成物が得られた。

すなわち、上記生成物はプロトンＮＭＲスペクトルによ
り上記式で示される化合物を含みそしてガスクロマトグ
ラフイ一によりこの目的化合物を９７．７％の純度で含
有することが明らかにされた。

実施例１の如く熱水を用いて洗滌したのちの融点は５８
〜５９゜Ｃであつた〜 実施例 ５ 実施例１からの実験方法を用いて、９４ｙ（ほぼ定量的
、触媒を含んでいる）の、３８〜４１℃の範囲内で融解
する化合物Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２−ＣＨ（
ＣＨ３）０Ｈが、７８．３７（０．２５モル）のＮ−メ
チルパーフルオロブメンスルホンアミド、１７（０．０
０９モル）のカリウムターシャリーブチレート及び１５
．３７（０．２６３モル）の酸化プロピレンから、１０
０〜１２０℃の温度における約２５時間以内の反応及び
その後の真空下での過剰の酸化プロピレンの除去により
得られた。

すなわち、上記生成物はプロトンＮＭＲスペクトルによ
り上記式の化合物を含みそしてこの目的物の純度が９４
．５％であることが明らかにされた。

実施例１の如く熱水を用いて洗浄した後の融点範囲は４
５〜４８℃であつた。実施例 ６ ９４７（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）の、３８〜４
０℃の範囲内で融解する化合物Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ
３）−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）０Ｈが実施例１の如くし
て、７８．３７゜（０．２５モル）のＮ−メチルーパー
フルオロブメンスルホンアミド、１．２ｙ（０．００８
７モル）の炭酸カリウム及び１５．３７（０．２６３モ
ル）の酸化プロピレンから得られた。

すなわち、上記反応の生成物はプロトンＮＭＲスペクト
ルにより上記式の化合物を含みそしてこの目的化合物を
純度９４．３％で含むことがガスクロマトグラフイ一に
より明らかにされた。

熱水を用いて洗浄した後の融解範囲は４５〜４８℃であ
つた。

実施例 ７ １１２７（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）の、ＮＭＲ
分光器により同定された式化合物が、実施例１と同様に
して８１．６ｆ１（０．５モル）のＮ−メチルーパーフ
ルオロメタンスルホンアミド、１７（０．０１８モル）
の水酸化カリウム及び３２．５７（０．５５モル）の酸
化プロピレンから得られた。

すなわち、この反応の生成物が上記式の化合物を含むこ
とはプロトンＮＭＲスペクトルにより明らかにされた。

実施例 ８ ６５ｙ（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）の化合物Ｃ８
Ｆｌ７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ２−ＣＨ（０Ｈ）−ＣＨ２ＯＨ）
２が、同様にして、１０ｍ１のジメチルホルムアミドが
加えられている４９．９ｙ（０．１モル）のパーフルオ
ロオクタンスルホンアミド、２００ワ（０．００３６モ
ル）の水酸化カリウム及び１６．５ｙ（０．２２モル）
のグリシドールから１２０〜１３０℃において得られた
。

すなわち、この反応生成物はプロトンＮＭＲスベクトル
により上記式の化合物を含みそしてガスクロマトグラフ
イ一によりこの目的化合物を純度９５．５％で含むこと
が明らかにされた。

実施例 ９ 実施例１の実験方法を用いて、９７７（ほぼ定量的、触
媒を含んでいる）の生成物５時間以内に、７８．３ｙ（
０．２５モル）のＮ−メチルーパーフルオロブタンスル
ホンアミド、０．３７（０．００７５モル）の水酸化ナ
トリウム及び１９７（０．２６モル）のエチルオキシラ
ンの反応により約１２０℃において得られた。

すなわち、この反応生成物はプロトンＮＭＲスベクトル
により上記式の化合物を含みそしてこの目的化合物を９
６．６％の純度で含むことが明らかにされた。

実施例 １０ １０８．８７（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）７８．
３７（０．２５モル）のＮ−メチルーパーフルオロブタ
ンスルホンアミド、０．５７（０．００８９モル）の水
酸化カリウム及び３０．７ｙ（０．６６モル）の〔（２
−プロピレンオキシ）メチル〕オキシランから、約１１
０℃における反応により３時間以内に得られた。

すなわち、この反応の生成物はプロトンＮＭＲスペクト
ルにより上記式の化合物を含みそしてこの目的化合物を
９７．８％の純度で含むことがガスクロマトグラフイ一
により明らかにされた。

また、実施例１の如く熱水を用いて洗滌したのちの融点
は６２〜６５℃であつた。実施例 １１ １１７７（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）の、６２〜
６５℃の範囲内で融解する化合物Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（Ｃ
Ｈ３）ＣＨ２−ＣＨ（０Ｈ）−ＣＨ２−０Ｃ６Ｈ５が同
様にして７８．３ｙ（０．２５モル）のＮメチルーパー
フルオロブタンスルホンアミド、０，５ｙ（０．００８
９モル）の水酸化カリウム及び３９．３７（０．２６モ
ル）のフエノキシメチルオキシランから３時間以内に１
２０〜１３０℃における反応により得られた。

すなわち、この反応生成物はプロトンＮＭＲスペクトル
により上記式の化合物を含みそしてこの目的化合物を純
度９２，４％で含むことが明らかにされた。

また、実施例１の如く熱水を用いて洗滌したのちの融点
は９５℃であつた。実施例 １２ ３８．７７（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）の約９５
℃で融解する化合物Ｃ４Ｆ，ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２
−ＣＨ（０Ｈ）−ＣＨ２ＯＨが同様にして３時間以内に
約１２０℃において、３１．３Ｖ（０．１モル）のＮ−
メチルーパーフルオロブタンスルホンアミド、０．１７
（０．００１８モル）の水酸化カリウム及び７．４７（
０，１モル）のグリシドールから得られた。

すなわち、この反応の生成物はプロトンＮＭＲスペクト
ルにより上記式の化合物を含むそしてこの目的化合物は
９７．１％の純度で含むことがガスクロマトグラフイ一
により明らかにされた。また、実施例１と同様に熱水で
洗滌したのちの融点は６９℃であつた。実施例 １３４
６７（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）の約６９℃で融
解する化合物Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＨが
同様にして、３１．３７（０．１モル）のＮメチルーパ
ーフルオロブタンスルホンアミド、０．１ｆｔ（０．０
０２５モル）の水酸化ナトリウム及び１４．８７（０．
２モル）のグリシドールから４時間以内に１２０〜１３
０℃において得られた。

すなわち、この反応の生成物はプロトンＮＭＲスペクト
ルにより上記式の化合物を含みそしてこの目的化合物を
９４％の純度で含むことがガスクロマトグラフイ一によ
り明らかにされた。実施例 １４ ４４ｙ（１モル）の酸化エチレンを７時間以内に、４７
ｙ（０．１５モル）のＮ−メチルーパーフルオロブタン
スルホンアミド及び０．５７（０．００８９モル）の水
酸化カリウムに、実施例１の方法と同様の方法により１
００〜１２０℃において滴下した。

真空下で過剰の酸化エチレンを除去した後に、８７Ｖの
式に相当する平均組成を有する易水溶性液体が得られた
。

すなわち、この反応生成物はプロトンＮＭＲスベクトル
により上記式の目的化合物を含むことが確認された。

実施例 １５ ６２６７（２モル）のＮ−メチルーパーフルオロブメン
スルホンアミド及び５７（０．０８９モル）の水酸化カ
リウムをオートクレーブ中に加え、そして混合物を約９
０℃で融解させた。

装置を約５バールの窒素圧にした。１２２ｙ（２．１モ
ル）の酸化プロピレンを、レワポンプ（Ｌｅｗａｐｕｍ
ｌｐ）を用いて、カロえた。

約１．５時間後に装置内の圧力を解放し、過剰の酸化プ
ロピレンを真空下で除去し、そして溶媒を含まない反応
混合物を吸引▲過した。実施例５と同様な化合物が得ら
れ、それはプロトンＮＭＲスペクトル及びガスクロマト
グラフイにより同定された。実施例 １６ ２７．７７（０．０５４モル）のＮ−メチルーパーフル
オロオクタンスルホンアミド、０，２７（０．００５モ
ル）の水酸化ナトリウム及び６６７（１．５モル）の酸
化エチレンを小さいオートクレーブ沖に加えた。

混合物を１２０小から１３『Ｃに攪拌しながら加熱する
と、約１０バールの圧力が制定された。圧力が約２バー
ルであるときに、装置の圧力を冷却用トラツプにより解
放し、次に装置を真空下で脱ガスした。

７８７の平均組成 有するワツクス状の易水溶性物質が得られた。

すなわち、この反応生成物はプロトンＮＭＲスベクトル
により上記式の目的化合物を含むことが確認された。実
施例 １７ 実施例１と同様な実験方法を用いて、３５７ｙ（ほぼ定
量的、触媒を含んでいる）の６１〜６３゜Ｃで融解する
化合物Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＨが
、３１３７（１モル）のＮ−メチルーパーフルオロブメ
ンスルホンアミド、０．６７（０．０１５モル）の水酸
化ナトリウム及び４８，５Ｖ（１．１モル）の酸化エチ
レンから３時間以内に８０〜９０℃において得られた。

すなわち、この反応生成物はプロトンＮＭＲスペクトル
により上記式の化合物を含みそしてこの目的化合物を純
度７５．８％で含むことがガスクロマトグラフイ一によ
り明らかにされた。

また、実施例１と同様にして熱水で洗滌したのちの融点
は８５〜１００℃であつた。実施例 １８ 実施例１の実験方法を使用して、８８ｙ（ほぼ定量的、
触媒を含んでいる）の化合物７６．３Ｖ（０．２モル）
のＮ−シクロヘキシルーパーフルオロブタンスルホンア
ミド、０．９６７（０．００９モル）のリチウムジイソ
プロピルアミド及び１２．８ｙ（０．２２モル）の酸化
プロピレンから得られた。

すなわち、この反応の生成物はプロトンＮＭＲスペクト
ルにより上記式の目的化合物を含むことが確認された。

実施例 １９ 実施例１の実験方法を使用して、８７ｙ（ほぼ定量的、
触媒を含んでいる）の化合物７７．９７（０．２モル）
のＮ−ベンジルーパーフルオロブタンスルホンアミド、
０。

０１モルの（ヘキサン中に溶解された）ブチルリチウム
及び１０Ｖ（０．２３モル）の酸化エチレンから得られ
た。

すなわち、この反応の生成物はプロトンＮＭＲスペクト
ルにより上記式の目的化合物を含むことが確認された。
実施例 ２０ ９６７（ほぼ定量的、触媒を含んでいる）の化合物Ｃ４
Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）０Ｈが同
様して７８．３ｙ（０，２５モル）のＮ−メチルーパー
フルオロブタンスルホンアミド、３７（０．００８５モ
ル）のスルフアミドのカリウム塩及び１５．２５７（０
．２６モル）の酸化プロピレンから得られた。

すなわち、この反応の生成物はプロトンＮＭＲスペクト
ルにより上記式の目的化合物を含むことが確認された。

実施例 ２１ 実施例１の化合物を実施例１と同様の方法により、２５
．７７（０．０５モル）のＮ−メチルーパーフルオロオ
クタンスルホンアミド、０．２７（０．００３６モル）
の水酸化カリウム及び２．５Ｖ（０．０５６モル）の酸
化エチレンから製造した。

次に３．７７（０．０５モル）のグリシドールを約１２
０℃において加えた。３２ｙ（〜量）の化合ＣＨ（０Ｈ
）−ＣＨ２−０Ｈが得られた。

すなわち、この反応の生成物はプロトンＮＭＲスペクト
ルにより上記式の目的化合物を含みそして９２．１％の
純度でこの目的化合物を含むことがガスクロマトグラフ
イにより明らかにされた。実施例 ２２ ７５７のＣ４Ｆ９ＳＯ２ＮＨ２、１７のＫＯＨおよび１
５７の酸化プロピレンを攪拌下で混合し、還流下で１２
０℃まで加熱した。

２時間反応させたのち、下記式 の反応生成物９０７を得た。

すなわち、このものはＮＭＲスペクトルにより確認され
また５１〜５３℃の融点を示した。実施例 ２３ 実施例３の方法に従つて、１５０７のパーフルオロブタ
ンスルホンアミドを、０．５Ｖの水酸化カリウムの存在
下で、２２７の酸化エチレンと約９０℃で１時間反応さ
せた。

その後２時間以内に、さらに３０．６７の酸化プロピレ
ンを添加した。最後に反応混合物を温水で洗滌して反応
生成物を得た。このものはＮＭＲスペクトルおよびガス
クロマトグラフスペクトルから、下記式の化合物である
と同定された。このものは１０℃で固化した。実施例
２４ 実施例１の方法に従つて、２５７のＮ−メチルパーフル
オロオクメンスルホンアミドを、１．６７のトリチルア
ミンの存在下で、４．６７のエピクロロヒドリンと反応
させた。

反応時間は１３『Ｃで１時間であつた。得られた生成物
は１００〜１１０℃の範囲で融解した。ＮＭＲスペクト
ルにより、この生成物は下記式の化合物であると同定さ
れた。実施例 ２５ 実施例１と同様にして、ガラスフラスコ中で、４４ｆ（
１モル）と酸化エチレンと５１５７（１モル）のＣ８Ｆ
ｌ７ＳＯ２ＮＨＣＨ３とを、３７の水酸化カリウムの存
在下、１２０℃で３時間反応させて、を９５％の収率で
得た。

比較例 １ ５１５Ｖ０）Ｃ８Ｆｌ７ＳＯ２ＮＨＣＨ３を、２００７
のジオキサン、１０．５Ｖのジメチルドデシルアミンと
一緒に、ステンレス製のオートクレーブに仕込んだ。

９０℃で４４クの酸化エチレンを滴下して同温度で６時
間反応せしめた。内圧は６バールであつた。反応後、反
応混合物からジオキサンを減圧下で留去したのち、Ｃ８
Ｆｌ７ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＨが８０％の
収率で得られた。実施例 ２６ ４４７（１モル）の酸化エチレン、５２７（０．１６７
モル）のＣ４Ｆ９ＳＯ２ＮＨＣＨ３および１７の水酸化
カリウムとから、実施例２５と同様にして１００〜１１
０℃で７時間反応させることにより、下記化合物を下記
収率で得た。

Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ４Ｏ）５Ｈ２５％
Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ４Ｏ）６Ｈ３０％
Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ４Ｏ）７Ｈ２５％
比較例 ２ ４４ｙ（１モル）の酸化エチレン、５２ｙ（０．１６７
モノ（ハ）のＣ４Ｆ９ＳＯ２ＮＨＣＨ３、５７のジメチ
ルドデシルアミンおよび５０Ｖのジオキサンから、比較
例１と同様にして、９０℃で７時間反応させ（内圧８バ
ール）、下記化合物を下記収率で得た。

Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）Ｃ２Ｈ４ＯＨ６Ｏ％Ｃ４Ｆ
９ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ４Ｏ）２Ｈ３０％本明細
書及び実施例は説明のためのものであり限定するための
ものではないこと、及び本発明の精神及び範囲から逸脱
しない限り種々の改変を行なえることは理解されるであ
ろう。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式（ I ）−ａ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ）−ａ
   又は一般式（ I ）−ｂ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ）−ｂ
   〔式中、Ｒ＿Ｆは炭素数１〜２０のパーフルオロアルキ
   ルを表わし、Ｒは水素、アルキル、ヒドロキシアルキル
   、シクロアルキル又はアラルキルを表わし、Ｒ′は水素
   、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル又はア
   ルケニルオキシメチルもしくはアリールオキシメチルを
   表わし、そしてｍ及びｎはそれぞれ独立して１〜３０の
   整数を表わす〕の一つに相当するヒドロキシアルキルパ
   ーフルオロアルカンスルホンアミドの製造方法であつて
   、一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿ＦおよびＲの定義は上記に同じである〕に
   相当するパーフルオロアルキルスルホンアミドを、付加
   反応触媒としての反応中に塩基性である有機もしくは無
   機金属化合物及び／又は塩基性イオン交換樹脂の存在下
   且つ実質的に溶媒の非存在下で、一般式▲数式、化学式
   、表等があります▼ 〔式中、Ｒ′の定義は上記に同じである〕に相当するエ
   ポキシドと付加反応させることを特徴とする方法。 ２ 触媒が水酸化カリウム及び／又は水酸化ナトリウム
   である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 一般式（ I ）−ａ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ）−ａ
   又は一般式（ I ）−ｂ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ）−ｂ
   〔式中、Ｒ＿Ｆは炭素数１〜２０のパーフルオロアルキ
   ルを表わし、Ｒは水素、アルキル、ヒドロキシアルキル
   、シクロアルキル又はアラルキルを表わし、Ｒ′は水素
   、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル又はア
   ルケニルオキシメチルもしくはアリールオキシメチルを
   表わし、そしてｍ及びｎはそれぞれ独立して１〜３０の
   整数を表わす〕の一つに相当するヒドロキシアルキルパ
   ーフルオロアルカンスルホンアミドの製造方法であつて
   、一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿ＦおよびＲの定義は上記に同じである〕に
   相当するパーフルオロアルキルスルホンアミドを、付加
   反応触媒としての反応中に塩基性である有機もしくは無
   機金属化合物及び／又は塩基性イオン交換樹脂の存在下
   且つ実質的に溶媒の非存在下で、一般式▲数式、化学式
   、表等があります▼ 〔式中、Ｒ′の定義は上記に同じである〕に相当するエ
   ポキシドと付加反応させ、次いで得られた反応生成物を
   水で洗滌することを特徴とする方法。