JPS5943522B2 - 金属粉末製造装置 - Google Patents
金属粉末製造装置Info
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- JPS5943522B2 JPS5943522B2 JP52009164A JP916477A JPS5943522B2 JP S5943522 B2 JPS5943522 B2 JP S5943522B2 JP 52009164 A JP52009164 A JP 52009164A JP 916477 A JP916477 A JP 916477A JP S5943522 B2 JPS5943522 B2 JP S5943522B2
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- Japan
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- cooling fluid
- rotating disk
- nozzle
- manifold
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/06—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material
- B22F9/08—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying
- B22F9/082—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying atomising using a fluid
Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高速度にて冷却される金属粉末を形成するため
の装置に係る。
の装置に係る。
金属粉末或は粒子物質は従来より当技術分野に於て製造
されており、種々の装置及び方法を開示している代表的
な特許は、米国特許第1,351,865号、第2,3
04,130号、第2,310,590号、第2,63
0,623号、第2,956,304号、第3,510
,546号、第3,646,177号、第3,695,
795号及び第3,771,929号等である。
されており、種々の装置及び方法を開示している代表的
な特許は、米国特許第1,351,865号、第2,3
04,130号、第2,310,590号、第2,63
0,623号、第2,956,304号、第3,510
,546号、第3,646,177号、第3,695,
795号及び第3,771,929号等である。
本発明によれば、制御された高速度にて冷却される多量
の金属粉末を製造する装置が開示される。
の金属粉末を製造する装置が開示される。
本発明の一つの目的は、金属粒子を冷却すべく所要の質
量流にて三つの暮秋の冷却流体を導くための効率を改善
された環状ノズル装置を提供することである。
量流にて三つの暮秋の冷却流体を導くための効率を改善
された環状ノズル装置を提供することである。
本発明の他の一つの目的は、注湯口の枢動中心の周りの
動きと、注湯中水半速度成分を変化することによる液体
金属流の水平方向変位とを修正する改善されたるつぼ傾
斜装置を提供することである。
動きと、注湯中水半速度成分を変化することによる液体
金属流の水平方向変位とを修正する改善されたるつぼ傾
斜装置を提供することである。
以下に添付の図を参照しつつ、本発明をその好ましい実
施例について詳細に説明する。
施例について詳細に説明する。
第1A図及び第1B図に示された装置は金属粉末を製造
するための装置を示している。
するための装置を示している。
第1A図に於て、真空の下におかれ得るハウジング1が
頂部4と底部6とを有する中央筒状部2を有している。
頂部4と底部6とを有する中央筒状部2を有している。
以下に説明する目的で頂部4はこれに接続された出入れ
カバー8を有しており、底部6はこれに接続された漏斗
型セクション9を有している。
カバー8を有しており、底部6はこれに接続された漏斗
型セクション9を有している。
ハウジング1の内部はノズルプレート装置10により上
部室と下部室とに分離されている。
部室と下部室とに分離されている。
ノズルプレート装置10は三つの環状マニホルド52,
62及び72を含む中央マニホルドセクジョン11を有
するよう構成されている。
62及び72を含む中央マニホルドセクジョン11を有
するよう構成されている。
第2図はノズルプレート装置10の中央セクション11
の構造を示している。
の構造を示している。
内側環状マニホルド52はノズルプレート装置10内の
中央開孔12の周りに形成されており、その中に形成さ
れた環状ノズル装置53を有している。
中央開孔12の周りに形成されており、その中に形成さ
れた環状ノズル装置53を有している。
中間環状マニホルド62は環状ノズル装置63より出る
実質的に一定の流れを形成すべく、その周りに隔壁装置
61を有する環状空間より形成されている。
実質的に一定の流れを形成すべく、その周りに隔壁装置
61を有する環状空間より形成されている。
第三の外側環状マニホルド72は他の二つのマニホルド
よりも大きな半径距離だけ延在しており、そのノズル装
置を形成している複数個の開孔73をその中に有してい
る。
よりも大きな半径距離だけ延在しており、そのノズル装
置を形成している複数個の開孔73をその中に有してい
る。
内側環状分配箱75が全ての開孔73を通る流れを均等
化するのを補助すべく、環状マニホルド72の上部に固
定されている。
化するのを補助すべく、環状マニホルド72の上部に固
定されている。
冷却流体供給装置40が冷却流体供給システムによりノ
ズルプレート装置10の環状マニホルド52.62及び
72の各々に接続されており、特定の質量流が各環状マ
ニホルドへ導かれる。
ズルプレート装置10の環状マニホルド52.62及び
72の各々に接続されており、特定の質量流が各環状マ
ニホルドへ導かれる。
この冷却流体供給システムはハウジング1の周りに配置
されている三つの外部環状マニホルド41.42及び4
3を含んでいる。
されている三つの外部環状マニホルド41.42及び4
3を含んでいる。
各マニホルド41,42及び43はそれぞれ導管44,
46及び48により制御弁49に接続されており、この
制御弁49は冷却流体供給装置40に接続されている。
46及び48により制御弁49に接続されており、この
制御弁49は冷却流体供給装置40に接続されている。
各導管44.46及び48はある予め定められた態様に
て三つの環状マニホルド4L42及び43の間に全質量
流を配分する固定絞りをその中に有している。
て三つの環状マニホルド4L42及び43の間に全質量
流を配分する固定絞りをその中に有している。
環状マニホルド41は導管54により内側環状マニホル
ド52に接続されている。
ド52に接続されている。
導管54は環状マニホルド62内の接続箱内に延在して
おり、環状マニホルド62は短管部により流れ分配箱5
6に接続されており、この流れ分配箱56は導管54か
らの流れを環状マニホルド52の内面に沿って二つの方
向に向ける。
おり、環状マニホルド62は短管部により流れ分配箱5
6に接続されており、この流れ分配箱56は導管54か
らの流れを環状マニホルド52の内面に沿って二つの方
向に向ける。
短管部はかかる位置に於て環状マニホルドの上部にまで
延在されている隔壁の上部により支持されている。
延在されている隔壁の上部により支持されている。
環状マニホルド42は導管64により内側環状マニホル
ド62に接続されている。
ド62に接続されている。
導管64は流れ分配箱66内に延びており、ここで流れ
が隔壁装置61と外壁67との間に配置された環状空間
の内面に沿った方向に向けられる。
が隔壁装置61と外壁67との間に配置された環状空間
の内面に沿った方向に向けられる。
環状マニホルド43は導管74により外側環状マニホル
ド72に接続されており、導管74は内側環状分配箱7
5に向けられている。
ド72に接続されており、導管74は内側環状分配箱7
5に向けられている。
流れはこの箱75から複数個の開孔を通って環状マニホ
ルド72内へ半径方向内方及び外方に向けられる。
ルド72内へ半径方向内方及び外方に向けられる。
ノズルプレート装置10は環状プレート30を有してお
り、この環状プレート30はノズルプレート装置10の
中央マニホルドセクション11の底部の外縁部に溶接さ
れた内縁部を有している。
り、この環状プレート30はノズルプレート装置10の
中央マニホルドセクション11の底部の外縁部に溶接さ
れた内縁部を有している。
この環状プレート30の外縁部は、ハウジング1の筒状
セクション2の側部より隔置されており筒状セクション
2の内壁に向けてこれより下方に延在している偏向シー
ルド装置31を有している。
セクション2の側部より隔置されており筒状セクション
2の内壁に向けてこれより下方に延在している偏向シー
ルド装置31を有している。
隔置タブ32がシールド装置31を所定の位置に固定的
に配置すべくシールド装置31の外面とハウジング1の
周りに配置されている。
に配置すべくシールド装置31の外面とハウジング1の
周りに配置されている。
シールド装置31の下端部は上部室及び下部室に通路を
与えるべく筒状壁より隔置されている。
与えるべく筒状壁より隔置されている。
金属粒子が下部室より上部室へ通過するのを阻止すべく
環状のバッフルプレートの組合せよりなり全体として符
号33にて示されたシール装置33が設けられている。
環状のバッフルプレートの組合せよりなり全体として符
号33にて示されたシール装置33が設けられている。
8個の半径方向支持部材34がノズルプレート装置10
を支持すべく45°隔置された八つの位置に於てノズル
プレート装置10の上部に固定されている。
を支持すべく45°隔置された八つの位置に於てノズル
プレート装置10の上部に固定されている。
これらの支持部材34の内端部はノズルフレート装置1
0の中央マニホルドセクション11の上部に溶接されて
おり、一方その外端部はその外縁部に近接して環状プレ
ート30の上部に固定されている。
0の中央マニホルドセクション11の上部に溶接されて
おり、一方その外端部はその外縁部に近接して環状プレ
ート30の上部に固定されている。
各支持部材は環状プレート30の端部より半径方向外方
に突出しており、筒状セクション2の内壁に固定された
ブラケット35内に固定的に支持されている。
に突出しており、筒状セクション2の内壁に固定された
ブラケット35内に固定的に支持されている。
またこの支持部材は導管54.64及び74を支持して
いる。
いる。
ノズルプレート装置10は支持部材34の内端部の間に
てその上に配置された環状熱シールド80を有している
。
てその上に配置された環状熱シールド80を有している
。
この環状熱シールド80の内側開孔はその寸法がノズル
プレート装置10の開孔12と等しく且つその上に配置
されている。
プレート装置10の開孔12と等しく且つその上に配置
されている。
タンディツシュ14が前記環状熱シールド部材80上に
固定的に配置されており、熱シールド80及びノズルプ
レート装置10内の整合孔上に共軸状に配置された絞り
開孔18を有している。
固定的に配置されており、熱シールド80及びノズルプ
レート装置10内の整合孔上に共軸状に配置された絞り
開孔18を有している。
タンディツシュ14はその周りに予熱炉16を有してお
り、この炉はハウジング1の外部に装着された制御装置
を有する多くの型の炉であってよい。
り、この炉はハウジング1の外部に装着された制御装置
を有する多くの型の炉であってよい。
関連する誘導炉を有するるつぼ20が枢動的に可動支持
キャリッジ22内に装着されている。
キャリッジ22内に装着されている。
このキャリッジ22はその後端部に於てクロスビーム2
4により接続された二つの隔置されたサイドビーム23
を含んでおり、るつぼ及びこれに関連する誘導炉を含む
装着フレーム25がその前端部に於て枢動的に筒耳26
上に装着されている。
4により接続された二つの隔置されたサイドビーム23
を含んでおり、るつぼ及びこれに関連する誘導炉を含む
装着フレーム25がその前端部に於て枢動的に筒耳26
上に装着されている。
筒耳26の自由端部は筒耳フ冶ツク27,28の間に回
転し得るよう装着されている。
転し得るよう装着されている。
この筒耳26はその他端部に於てベースプレート29に
より装着フレーム25に固定されている。
より装着フレーム25に固定されている。
カムプレート36が筒耳26の周りの前記装着フレーム
25の両側上に固定されており、カムプレート36の適
宜な位置を得るべくスペーサプレート31が使用されて
いる。
25の両側上に固定されており、カムプレート36の適
宜な位置を得るべくスペーサプレート31が使用されて
いる。
調整可能なストップ装置78が溶融金属を注湯する以前
の装着フレーム25の始動位置をプリセットしている。
の装着フレーム25の始動位置をプリセットしている。
ロッド79が各ビーム39の下に一つずつ作動的に装着
された二つの調整ねじ187の間に装着されている。
された二つの調整ねじ187の間に装着されている。
ブッシング37Aがサイドビーム23の前端部及び後端
部に固定されており且つこれらより下方に延在しており
、サイドビーム23はそれぞれ固定された支持ビーム3
9上に配置されている。
部に固定されており且つこれらより下方に延在しており
、サイドビーム23はそれぞれ固定された支持ビーム3
9上に配置されている。
各ブッシング37Aは共働する固定支持ビーム39に両
端に於て固定されたロッド38上に摺動可能に装着され
ている。
端に於て固定されたロッド38上に摺動可能に装着され
ている。
従ってキャリッジ22は支持ビーム39に沿って軸線方
向に移動され得る。
向に移動され得る。
カムローラ81がアーム82上に一つずつ装着フレーム
25の両側上に回転可能に装着されている。
25の両側上に回転可能に装着されている。
各アーム82は支持ビーム39に固定されている。
ばね83がクロスビーム24の各端部と支持ビーム39
に固定されたブラケット84とに接続されている。
に固定されたブラケット84とに接続されている。
ばね83は可動キャリッジ22を右方に(第5図参照)
偏倚し、各カムプレート36のカム面Aを関連するロー
ラ81に当接していることが理解されよう。
偏倚し、各カムプレート36のカム面Aを関連するロー
ラ81に当接していることが理解されよう。
カムプレート36のカム面Aは、装着フレーム25が筒
耳26の中心の周りに回動されるとき注湯口85の移動
を修正し、また注湯中水半速度成分を変化することによ
る液体金属流の水平方向変位を変化するのを修正するよ
う設計されている。
耳26の中心の周りに回動されるとき注湯口85の移動
を修正し、また注湯中水半速度成分を変化することによ
る液体金属流の水平方向変位を変化するのを修正するよ
う設計されている。
装着フレーム25はこの装着フレーム25上のブラケッ
ト87に固定的に取付けられたケーブル86により筒耳
26の周りに回動されるが、ケーブル86の他端部はウ
ィンチ88に接続されている。
ト87に固定的に取付けられたケーブル86により筒耳
26の周りに回動されるが、ケーブル86の他端部はウ
ィンチ88に接続されている。
回転ディスク或は微粒化ロータ90がタンディツシュ1
4の下方に配置されており、このディスクの中心はノズ
ル18の下に配置されている。
4の下方に配置されており、このディスクの中心はノズ
ル18の下に配置されている。
この装置は所要の任意の装置により回転され、垂直台座
91の端部に於て回転し得るよう装着されておりこの台
座91は漏斗型部材9内の平坦な支柱92に固定されて
いる。
91の端部に於て回転し得るよう装着されておりこの台
座91は漏斗型部材9内の平坦な支柱92に固定されて
いる。
台座91の底部より延在しているチューブは回転装置を
作動させる際の動力及び回転ディスク或は微粒化ロータ
90を冷却するための冷却液を供給する。
作動させる際の動力及び回転ディスク或は微粒化ロータ
90を冷却するための冷却液を供給する。
漏斗型部材9は中央排屈ダクト94に接続されており、
このダクトは導管96によりサイクロン分離機95に接
続されている。
このダクトは導管96によりサイクロン分離機95に接
続されている。
粉末粒子はコンテナ98,99内に収集されるが、コン
テナ98.99はそれぞれ開閉弁100,101により
このシステムに取付けられている。
テナ98.99はそれぞれ開閉弁100,101により
このシステムに取付けられている。
かかる装置に於てはサイクロン分離機が大気に排気する
。
。
以上に於ては本発明をその好ましい実施例について詳細
に説明したが、本発明はかかる実施例に限定されるもの
ではなく、種々の修正並びに省略が可能であることは当
業者にとって明らかであろう。
に説明したが、本発明はかかる実施例に限定されるもの
ではなく、種々の修正並びに省略が可能であることは当
業者にとって明らかであろう。
第1A図及び第1B図は金属粉末を製造するための装置
の断面図である。 第2図はノズルプレート装置の拡大断面図である。 第3図は第1A図に於る線3−3に沿った断面図である
。 第4図は第1A図に示された注湯制御装置の拡大図であ
る。 第5図は第4図の平面図である。 1・・・・・・ハウジング、2・・・・・・中央筒状セ
クション、4・・・・・・頂部、6・・・・・・底部、
8・・・・・・出入れカバー、10・・・・・・ノズル
プレート装置、11・・・・・・中央マニホルドセクシ
ョン、12・・・・・・中央開孔、14・・・・・・タ
ンディツシュ、16・・・・・・予熱炉、18・・・・
・・絞り開孔、20・・・・・・るつぼ、22・・・・
・・可動支持キャリティ、23・・・・・・サイドビー
ム、24・・・・・・クロスビーム、25・・・・・・
装着フレーム、26・・・・・・筒耳、27 、28・
・・・・・筒耳ブロック、29・・・・・・ベースプレ
ート、30・・・・・・環状プレート、32・・・・・
・離隔タブ、33・・・・・ウール装置、34・・・・
・・半径方向支持部材、35・・・・・・ブラケット、
36・・・・・・カムプレート、37・・・・・・スペ
ーサプレート、37A・・・・・・ブッシング、38・
・・・・・ロッド、39・・・・・・支持ヒーム、40
・・・・・・冷却流体供給装置、4L42,43・・・
・・・外部環状マニホルド、44,46,48・・・・
・・導管、49・・・・・・制御弁、52・・・・・・
内側環状マニホルド、53・・・・・・環状ノズル装置
、54・・・・・・導管、56・・・・・・流れ分配箱
、61・・・・・・隔壁装置、62・・・・・・中間環
状マニホルド、63・・・・・・環状ノズル装置、64
・・・・・・導管、66・・・・・・流れ分配箱、67
・・・・・・外壁、γ2・・・・・・外側環状マニホル
ド、73・・・・・・複数個の開孔、74・・・・・・
導管、75・・・・・・内側環状分配箱、78・・・・
・・調整可能なストップ装置、γ9・・・・・・ロッド
、80・・・・・・環状熱シールド、81・・・・・・
熱シールド、83・・・・・・ばね、84・・・・・・
ブラケット、85・・・・・・注湯口、86・・・・・
・ケーブル、87・・・・・・ブラケット、88・・・
・・・ウィンチ、90・・・・・・回転ディスク、91
・・・・・・垂直台座、92・・・・・・平坦な支柱、
94・・・・・・中央排出ダクト、95・・・・・・サ
イクロン分離機、96・・・・・・導管、98,99・
・・・・・コンテナ、100.101・・・・・・開閉
弁、181・・・・・・カムローラ、182・・・・・
・アーム、187・・・・・・調整ねじ。
の断面図である。 第2図はノズルプレート装置の拡大断面図である。 第3図は第1A図に於る線3−3に沿った断面図である
。 第4図は第1A図に示された注湯制御装置の拡大図であ
る。 第5図は第4図の平面図である。 1・・・・・・ハウジング、2・・・・・・中央筒状セ
クション、4・・・・・・頂部、6・・・・・・底部、
8・・・・・・出入れカバー、10・・・・・・ノズル
プレート装置、11・・・・・・中央マニホルドセクシ
ョン、12・・・・・・中央開孔、14・・・・・・タ
ンディツシュ、16・・・・・・予熱炉、18・・・・
・・絞り開孔、20・・・・・・るつぼ、22・・・・
・・可動支持キャリティ、23・・・・・・サイドビー
ム、24・・・・・・クロスビーム、25・・・・・・
装着フレーム、26・・・・・・筒耳、27 、28・
・・・・・筒耳ブロック、29・・・・・・ベースプレ
ート、30・・・・・・環状プレート、32・・・・・
・離隔タブ、33・・・・・ウール装置、34・・・・
・・半径方向支持部材、35・・・・・・ブラケット、
36・・・・・・カムプレート、37・・・・・・スペ
ーサプレート、37A・・・・・・ブッシング、38・
・・・・・ロッド、39・・・・・・支持ヒーム、40
・・・・・・冷却流体供給装置、4L42,43・・・
・・・外部環状マニホルド、44,46,48・・・・
・・導管、49・・・・・・制御弁、52・・・・・・
内側環状マニホルド、53・・・・・・環状ノズル装置
、54・・・・・・導管、56・・・・・・流れ分配箱
、61・・・・・・隔壁装置、62・・・・・・中間環
状マニホルド、63・・・・・・環状ノズル装置、64
・・・・・・導管、66・・・・・・流れ分配箱、67
・・・・・・外壁、γ2・・・・・・外側環状マニホル
ド、73・・・・・・複数個の開孔、74・・・・・・
導管、75・・・・・・内側環状分配箱、78・・・・
・・調整可能なストップ装置、γ9・・・・・・ロッド
、80・・・・・・環状熱シールド、81・・・・・・
熱シールド、83・・・・・・ばね、84・・・・・・
ブラケット、85・・・・・・注湯口、86・・・・・
・ケーブル、87・・・・・・ブラケット、88・・・
・・・ウィンチ、90・・・・・・回転ディスク、91
・・・・・・垂直台座、92・・・・・・平坦な支柱、
94・・・・・・中央排出ダクト、95・・・・・・サ
イクロン分離機、96・・・・・・導管、98,99・
・・・・・コンテナ、100.101・・・・・・開閉
弁、181・・・・・・カムローラ、182・・・・・
・アーム、187・・・・・・調整ねじ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ハウジング1と、前記ハウジング内にて回転するよ
う装着された回転ディスク90と、前記回転ディスク上
へ溶融金属を注ぐ装置20と、前記回転ディスクの回転
により該回転ディスクより投射された溶融金属粒を冷却
するための冷却手段とを有し、前記冷却手段は前記ハウ
ジング内にあって前記回転ディスクより上方に配置され
前記回転ディスクの周りに下方へ向けて冷却流体の環状
幕を形成すべぐ冷却流体を導くノズルプレート装置10
を含み、前記ノズルプレート装置は前記回転ディスク上
へ注がれるべき溶融金属を通すための開孔12と、前記
開孔の周りに配置され冷却流体の第一の噴流を放射すべ
く前記開孔の周りに配置された第一の環状ノズル53を
有する第一の環状マニホルド52と、前記第一の環状マ
ニホルドの周りに配置され冷却流体の第二の噴流を放射
すべく前記第一の環状ノズルの周りに配置された第二の
環状ノズル63を有する第二の環状マニホルド62と、
前記第二の環状マニホルドの周りに配置され複数個の冷
却流体放射開孔13を有する第三の環状マニホルド72
とを有し、前記第二の環状マニホルドは前記第二の環状
ノズルに対し冷却流体を適当に分配するための隔壁装置
61を有し、前記第三の環状マニホルドは前記冷却流体
噴射開孔のすべてに対し冷却流体の流れを均一化するこ
とを助ける分配箱をその内部に有していることを特徴と
する金属粉末製造装置。 2、特許請求の範囲第1項の金属粉末製造装置にして、
前記第三の環状マニホルドγ2は前記第−及び第二の環
状マニホルドより大きい半径方向寸法を有していること
を特徴とする金属粉末製造装置。 3 特許請求の範囲第1項又は第2項の金属粉末製造装
置にして、前記ノズルプレート装置10は環状プレート
30を含み、前記環状プレートの外周部は下方へ向けて
延びる偏向シールド装置31を含んでおり、前記偏向シ
ールド装置は前記回転ディスクより半径方向外方に位置
して前記ハウジングに接続されていることを特徴とする
金属粉末製造装置。 4 ハウジング1と、前記ハウジング内にて回転するよ
う装着された回転ディスク90と、前記回転ディスク上
へ溶融金属を注ぐ装置20と、前記回転ディスクの回転
により該回転ディスクより投射された溶融金属粒を冷却
するための冷却手段とを有し、前記冷却手段は前記ハウ
ジング内にあって前記回転ディスクより下方に配置され
前記回転ディスクの周りに下方へ向けて冷却流体の環状
幕を形成すべく冷却流体を導くノズルプレート装置10
を含み、前記ノズルプレート装置は前記回転ディスク上
へ注がれるべき溶融金属を通すための開孔12と、前記
開孔の周りに配置され冷却流体の第一の噴流を放射すべ
く前記開孔の周りに配置された第一の環状ノズル53を
有する第一の環状マニホルド52と、前記第一の環状マ
ニホルドの周りに配置され冷却流体の第二の噴流を放射
すべく前記第一の環状ノズルの周りに配置された第二の
環状ノズル63を有する第二の環状マニホルド62と、
前記第二の環状マニホルドの周りに配置され複数個の冷
却流体放射開孔73を有する第三の環状マニホルド72
とを有し、前記第二の環状マニホルドは前記第二の環状
ノズルに対し冷却流体を適当に分配するための隔壁装置
61を有し、前記第三の環状マニホルドは前記冷却流体
噴射開孔のすべてに対し冷却流体の流れを均一化するこ
とを助ける分配箱をその内部に有し、前記ノズルプレー
ト装置は環状プレート30を含み、前記環状プレートの
外周部は下方へ向けて延びる偏向シールド装置31を含
んでおり、前記偏向シールド装置は前記回転ディスクよ
り半径方向外方に位置して前記ハウジングに接続されて
おり、更に前記偏向シールド装置31と前記ハウジング
の間にはその間を前記回転ディスクより投射された溶融
金属粒が通過することを阻止するシール装置33が設け
られていることを特徴とする金属粉末製造装置。 5 ハウジング1と、前記ハウジング内にて回転するよ
う装着された回転ディスク90と、前記回転ディスク上
へ溶融金属を注ぐ装置20と、前記回転ディスクの回転
により該回転ディスクより投射された溶融金属粒を冷却
するための冷却手段とを有し、前記冷却手段は前記ハウ
ジング内にあって前記回転ディスクより上方に配置され
前記回転ディスクの周りに下方へ向けて冷却流体の環状
基を形成すべく冷却流体を導くノズルプレート装置10
を含み、前記ノズルプレート装置は前記回転ディスク上
へ注がれるべき溶融金属を通すための開孔12と、前記
開孔の周りに配置され冷却流体の第一の噴流を放射すべ
く前記開孔の周りに配置された第一の環状ノズル53を
有する第一の環状マニホルド52と、前記第一の環状マ
ニホルドの周りに配置され冷却流体の第二の噴流を放射
すべく前記第一の環状ノズルの周りに配置された第二の
環状ノズル63を有する第二の環状マニホルド62と、
前記第二の環状マニホルドの周りに配置され複数個の冷
却流体放射開孔73を有する第三の環状マニホルド72
とを有し、前記第二の環状マニホルドは前記第二の環状
ノズルに対し冷却流体を適当に分配するための隔壁装置
61を有し、前記第三の環状マニホルドは前記冷却流体
噴射開孔のすべてに対し冷却流体の流れを均一化するこ
とを助ける分配箱をその内部に有し、前記開孔12は前
記ノズルプレート装置10の中央に位置しており、前記
開孔にはタンディツシュ14が設けられており、前記タ
ンディツシュは前記回転ディスクへ向けて前記開孔を通
る溶融金属を通過させるための絞り開孔18を有してい
ることを特徴とする粉末金属製造装置。
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