JPS5944590B2 - 制御ビ−ム投射器 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は情報伝送の分野に関し、詳しくいうと、座標基
準情報を遠隔の受信機に供給する光学ビーム投射器（プ
ロジエクタ）に関する。

米国特許第３，３９８，９１８号には発射体を誘導する
ための光学装置の２つの実施例が提案されている。

第１の実施例においては、４つの扇形形状のビームが個
々に変調され、目標に向けて投射され、それによつて発
射体を誘導するためのピラミツド状の回廊（通路）の４
つの光学的壁を形成する。この態様で移動する発射体は
回廊の内側をはねながら誘導される傾向にある。ダウン
レンジの回廊の寸法はサーボ駆動のズームレンズ配置に
よつて制御される。第２の実施例においては、比例誘導
装置が発射体を指向するために直角に交わる方向に掃引
する２つの直角に配向されたビームを提供する。この第
２の実施例においては、２つのビームは単一の光源から
発生され、光学的に分割され、光学素子が互いに可変に
配向された制御ズームレンズ形式装置によつてそれぞれ
変調され、投射される〇本発明は従来技術のズームレン
ズ装置を除去し、時間関数に従つて投射されるビーム寸
法のより正確な制御を達成する改良された電磁放射線ビ
ーム投射器に向けられている。

この投射器は、例えば、ミサイルまたは発射体がその指
向性飛行を制御する手段として投射された放射線ビーム
を使用する尾部センサを含むビーム・ライダー・ミサイ
ル装置において、使用される。投射されたビームパター
ンの横断面内にその相対位置を決定することによつて、
ミサイルは応答し、ビームパターンの中心を追求するよ
うに操縦する。既知のフライトプロフイル（発射点から
の距離対時間）を有するミサイルの飛行経路を制御する
ために、情報の横断面積が既知のフライトプロフイルに
わたつて一定に維持されるようにマトリツクスパターン
を投射することが最も望ましい。本発明の投射される走
査パターンは、それぞれのあらかじめ定められた範囲の
パルス速度についてパルス変調され、定められたマトリ
ツクス内のあらかじめ定められた相対座標または［交差
領域（ピン）」に複数の測定可能なパルス速度を与える
２つの交互に走査されかつ直交するように配向された放
射線ビームによつて形成される。

あらかじめ定められた長方形横断面積を有する第１のビ
ームはその長さ寸法が基準に対して水平でありかつあら
かじめ定められた角度にわたつて垂直方向に走査される
ように投射される。

この第１のビームはあらかじめ定められた角度にわたつ
てのその垂直方向走査中第１のあらかじめ定められた範
囲の速度内のあらかじめ定められた数の速度値でパルス
変調される。第１のビームと同じあらかじめ定められた
長方形横断面積を有する第２のビームは、第１のビーム
と交互に、上記した基準に関して垂直方向に配向され、
そして同じあらかじめ定められた角度にわたつて水平方
向に走査され、垂直方向に走査された面積に共通の面積
をカバーする。

第２のビームもまた、あらかじめ定められた角度にわた
つてのその水平走査内に第２のあらかじめ定められた範
囲の速度内のあらかじめ定めっれた数の異なる速度値で
パルス変調される。その結果、特定の垂直走査パルス速
度および水平走査パルス速度に対応する複数の検出可能
な交差領域を有するマ９トリツクス情報パターンが投射
される。

例えば、走査されるビームがそれぞれ５１の異なる周波
数でパルス変調される場合には、２６０１の交差領域が
マトリツクスに定められる。その上、走査ビームは別個
の範囲（例えば、垂直走査に対しては１０４６０〜１１
．６８２ＫＨｚ１水平走査に対しては１３．０８９〜１
５．０６０・ＫＨｚ）についてそれぞれパルス変調され
るから、マトリツクス内の弁別受信機はそのパターンに
おけるその位置を容易に決定することができる。本発明
の目的は信頼性があり、正確な、コンパクトで軽量の投
射器を提供することである。

所望の目的を達成する本発明の２つの実施例が開発され
、後記される。第１の実施例においては、３つの選択的
に７駆動されるレーザよりなる単一の放射線源が使用さ
れ、これらレーザは３つの個々に選択可能な横断面密度
の任意のもので放射線を送るように横断面が型式化され
た対応するフアイバーオプチツク装置に個々に結合され
ている。

この単一の放射線源において、レーザは個々に、選択的
に駆動され、１つだけが１回に駆動されるようになされ
ている。それ故、単一の放射線源の出力は選択可能な横
断面密度を有し、従来技術の可変光学装置（ズームレン
ズ）の必要を除去する際のキーフアタタである。単一源
から放射される放射線はあらかじめ定められた角度につ
いておおむね長方形横断面放射線の横方向走査移動を行
なう振動ミラーのような走査位置に送られる。走査放射
線はビーム分割光学的投射装置に送られる。ここでビー
ムは、走査振動ミラーと同期して、分割され、２つのビ
ームとして投射される。これら２つのビームは直交する
方向に交互に走査され、互いに直交する方向に配向され
、それぞれのヨ一（偏揺れ）およびピツチ情報を提供す
る。第２の実施例においては、上記した単一源とそれぞ
れ実質的に同じである２つの放射線源が使用される。

この第２の実施例においては、光学的投射装置の機械的
ビームスプリツタが除去され、そして２つの源が走査装
置ミラーと同期して交互に変調され、固定の光学装置を
介して交互のヨ一およびピツチビームの投射を行なう。
本発明の目的は最低数の機械的に可動の部品を具備する
コンパクトな、正確に制御されるビーム投射器を提供す
ることである。

本発明の他の目的は相対的に固定されたレンズ系わ使用
して同一のあらかじめ定められた横断面寸法を有する直
交する放射線ビームを伝送するビーム投射器を提供する
ことである。

本発明の他の目的は既知の飛行経路を有し、かつ検出可
能なパルス速度交差領域のマトリツクスによつて誘動さ
れるミサイルに対して実質的に一定にとどまるように寸
法が制御される検出可能なパルス速度交差領域のマトリ
ツクスを投射する制御ビーム投射器を提供することであ
る。

以下本発明の好ましい実施例につき添付図面を参照して
詳細に説明する。

第４Ａ，４Ｂおよび４Ｃ図に、約３０００メートルの仮
想の制御レンジについて投射された誘導パターンが例示
されている。

本発明の実施例はここでは例示の制御レンジに関して記
載する。しかしながら、特定の設計パラメータを例示す
るために、特定の測定値が与えられる各例において、か
かる測定値が本発明の範囲を限定するものでないことを
理解すべきである。本発明の第１の実施例が第１図に示
されており、ピツチＰおよびヨ一Ｙ情報放射ビームは単
一の源２から交互に投射される。

源２は組立体３（第２図参照）の型式のクラツドガラス
長方形フアイバ一に光学的にインターフエースされる３
つのＧａＡｓレーザを含む。このクラツドガラスフアイ
バ一組立体３は対称的に関連するレーザ発生器からの放
射線を導びくための３つの個々の長方形チヤネルを有す
る。各長方形チヤネルＡ，ＢおよびＣは比例的に異なる
横断面寸法を有し、選択的に駆動される特定の個々のレ
ーザに従つて長方形横断面ビーム４を伝送する。この実
施例においては、伝送用の所望の横断面寸法のビームを
選択するために一回に１つのレーザのみが駆動される。
シヤフト９に装着された振動ミラー６は源２から伝送さ
れたビーム４を遮断し、ビーム４の長方形横断面の長さ
寸法に直交する方向にあらかじめ定められた角度αにわ
たりビームを反射、走査する。

シヤフト９は制御される検流計７によつてビーム４の経
路を遮断する軸に関してあらかじめ定められた角度αだ
け正弦波振動運動のため回転される。複数の反射表面８
および等しい数の透明領域を有する回転する光学的チヨ
ツパ１２が、振動ミラー６によつて走査された後、伝送
されたビーム４を遮断するように配向されており、ビー
ムの回転および回転解除（偏向および偏向解除）を行な
う。

反射表面８が長方形横断面ビーム４を遮断すると、ビー
ムは反射表面８によつてミラー２０に回転（偏向）、反
射される。ミラー２０はビームを反射し、伝送されたビ
ーム４に関して９０ー方向が回転されたＹ情報ビームと
して投射レンズ２２中を通す。反射表面８がチヨツパ１
２の透明領域を示す非遮断位置に移動すると、走査ビー
ムは振動ミラー６から直接ミラー１６に伝送される。ミ
ラー１６はビーム４と実質的に同じ相対的水平配向で投
射レンズ１８にビームを反射するようｌこ配向されてい
る。この水平方向に配向されたビームはＹビームに関し
て９０方配向されたＰ情報ビームとして投射レンズ１８
によつて投射される。第１図に示す実施例の動作を第３
図を参照して説明する。源２の単一のレーザは同期的に
トーン変調され、基準面に関しておおむね水平であるビ
ーム４を伝送する。時間サイクルの始めに、振動ミラー
６はあらかじめ定められた走査角αの一番端の点にあり
、その角度について回転運動を開始する。第３図におけ
る５０Ｈｚの時間サイクルでは、Ｐビームが最初に投射
されているものとして示されている。それ故、あらかじ
め定められた角度αについて振動ミラー６の振動回転の
最初の半サイクル中、チヨツパ１２の反射表面はビーム
４を遮断しない。同期状態において、振動ミラー６は回
転され、源２の選択されたレーザが第１の周波数範囲に
関してパルス変調され、チヨツパ１２が回転される。そ
れ故、相対的に水平方向に配向された横断面を有するＰ
ビームが投射され、相対的に垂直方向に走査される。振
動ミラー６が角度回転の第１の半サイクルの限界に達す
ると、約２．５ミリ秒の像回転の時間が提供され、この
時間において選択されたレーザは変調されず、反射表面
８はビーム遮断位置に回転する。

同期状態において、振動ミラー６はあらかじめ定められ
た角度αについて振動回転のその第２の半サイクルにお
いてその回転を開始する。この第２の半サイクル中、選
択されたレーザは第２の周波数範囲に関してパルス変調
され、反射表面８は走査ビームを遮断、反射し、ミラー
２０および投射レンズ２２に送り続ける。従つて、相対
的に垂直方向に配向された横断面を有するＹビームが投
射され、相対的に水平方向に走査される。本発明は、ミ
サイルが放射されたビームから受信した情報に応答でき
るように適当な復調および論理電子装置を備えた受信機
を有するミサイル誘導装置に特に適用される。それぞれ
受信したＰおよびＹビームに対する２つの受信パルス周
波数を識別することによつて、受信機は投射パターン内
のミサイル位置を決定し、ある操縦補正をミサイルに命
令することができる。第４Ａ，４Ｂおよび４Ｃ図におい
て、投射された情報パターンは本発明によつて得られる
所望の目的を記載する際の助けとして概念的に例示され
ている。第４Ａ図はこの装置によつて誘導されるべきで
ある仮想のミサイルに対する仮想の３，０００メートル
のフライトレンジを例示するものである。

誘導はミサイルが本発明のビーム投射器から１１１メー
トルのダウンレンジにあるときに始まるようにプログラ
ムされている。この装置はまた、この実施例においては
、ミサイルがビーム投射器とミサイルを結ぶ視程経路に
沿つてビーム投射器から遠ざかることを必要とする。ミ
サイルの誘導はミサイルが誘導情報を受信する限り継続
する。この場合には、３０００メートルはミサイルの既
知の最大距離であり、従つて、投射された情報パターン
の有効な制御に必要な最大距離である。ミサイルが１１
１メートルから１０００メートルまでの距離にあると予
言される時間中、第２図に示すクラツドガラス長方形フ
アイバ一Ａに関連するレーザはパルス変調のために選択
される。

この例においては、長方形フアイバ一Ａは２．７６Ｔｔ
１Ｌ×０．２３ｍ７１Ｌの横断面寸法を有し、かつ１２
：１の縦横比を有するから、結果としての投射されたＰ
ビーム横断面は１１１メートルの距離において幅６メー
トル、高さ０．５メートルとなる。Ｐビームが１１１メ
ートルにおいて垂直方向走査の最低点にあると、Ｐビー
ムは投射器の光学軸より３メートル下に現われる。Ｐビ
ームは６メートルの距離にわたり７．５ミリ秒の間上方
へ（第４Ｂ図参照）走査し、その後消える。このＰビー
ムの上方への走査中、Ｐビームは投射されたパターン内
に５１の検出可能なレベルを定めるために５１の異なる
パルス速度で第１の範囲について変調される。Ｐビーム
が消えた後約２．５ミリ秒に、Ｐビームと同じ寸法を有
するＹビームが投射される。投射器から眺めることによ
つて参照されるように、Ｙビームは１１１メートルのダ
ウンレンジにおいて光学軸の左側３メートルに現われ、
次の７．５ミリ秒の間右方向へ６メートル走査される。
この７．５ミリ秒の走査期間中、ＹビームはＰビームの
変調に対するパルス速度の第１の範囲とは異なる第２の
範囲の５１の異なるパルス速度でパルス変調される。従
つて、共通のオーバーラツプする空間領域を横切るよう
に掃引されるＰおよびＹビームの組合せは５１×５１の
マトリツクス型式において２６０１の別個の検出可能な
情報の交差領域を定め、中心の交差領域は投射器の光学
軸に対応する。ミサイルのダウンレンジ位置にかかわり
なくミサイルに同じ相対位置情報を通信するためにミサ
イルの飛行中走査パターンの寸法を制御することが最も
重要である。例えば、ミサイルが光学軸の左３メートル
、下１メートルにある場合には、ミサイルが１１１メー
トルのダウンレンジにあると、ミサイルは光学軸の交差
領域の左３メートル、下１メートルに位置付けされた特
定の交差領域に対応するヨ一およびピツチ情報を受信す
る。従つて、目的は飛行経路プロフイルに対して一定寸
法の情報領域を提供することであるから、ミサイルはミ
サイルが光学軸の左３メートル、下１メートルにある任
意のダウンレンジ位置において上に示したヨ一およびピ
ツチ情報の同じ交差領域を受信する。勿論、同じことが
投射された情報のパターン内に位置付けされた他のすべ
ての情報に対しても当てはまる。本発明はあらかじめ定
められたダウンレンジ距離ｄ（ｔ）について振動ミラー
走査角αを変化させることによつてダウンレンジ距離対
時間の予言された飛行経路関数に対して一定寸法の情報
の領域を維持する。

従つて、ミサイルがダウンレンジを移動していると予言
される時間中、振動ミラーＡｈ６は角度α−Ｔａｎ−１
？について走査される。

ｄ（ｔ）ここでｈは６メートルの維持される方形走査パ
ターン高さ（および幅）を表わす。

ミサイルが３３３メートルに達するまでには、投射ビー
ムは１８メートルの長さ寸法および１．５メートルの幅
寸法を有するように発散している。しかしながら、走査
のオーバーラツプする領域は振動ミラー走査角αを制御
することによつて第４Ｃ図に示すように６×６メートル
に維持される。フアイバ一Ａから発生されるビーム幅は
３３３メートルにおいて相当に大きいから、フアイバ一
Ａに関連するレーザはオフにされ、フアイバ一Ｂの後の
レーザがオンにされる。フアイバ一Ｂの横断面寸法は０
．９１４ｍｍ×０．０７６韮であり、１２：１の縦横比
を有する。

従つて、３３３メートルにおいてフアイバ一Ｂから発生
されるＹおよびＰビームの長方形横断面は第４Ｂ図に示
すように６メートル×０．５メートルであり、ミサイル
距離が１０００メートルでめると予言されるまで連続的
に減少する角度αについて走査される。その点で、Ｙお
よびＰビーム横断面は６Ｘ６メートルの走査パターン寸
法をもつ第４Ｃ図に示す寸法である。１０００メートル
において、フアイバ一Ｂの後のレーザはオフにされ、フ
アイバ一Ｃの後のレーザがオンにされ、かつ適当に変調
される。

フアイバ一ｃは０．３０５ｍｕＸ０．０２５ｍ７７！の
寸法を有し、そして１２：１の縦横比を有する。１００
０メート，ルにおいて、Ｃフアイバ一からのＹおよびＰ
投射ビームは第４Ｂ図に示すように６メートルＸＯ．５
メートルの寸法を有する。

これらビーム横断面は発散し続け、３０００メートルに
おいてそれらは第４Ｃ図に示す寸法に達する。本発明の
第２の実施例が第５図に示されており、第１の実施例に
共通の素子は同じ数字に１００を足した数字で指示され
ている。

例えば、第１図のミラー２０は第５図ではミラー１２０
として示されている。第５図に示す実施例は第１の実施
例に示す光学装置のチヨツパ素子を除去し、代りに交互
に駆動、変調される一対のレーザ組および各寸法の関連
するフアイバ一を使用するものである。

源１０２は第２図に示すように型式化されたフアイバＡ
，ＢおよびＣの１つとそれぞれ関連した第一組のレーザ
を含み、選択された横断面寸法のビームを振動ミラー１
０６の第１の反射表面に放射する。源１０２はまた、同
じく第２図に示すように型式化されたフアイバ一Ｎ，Ｂ
′およびＣ′の１つとそれぞれ関連した第二組のレーザ
を含み、対応的に選択された横断面寸法のビームを振動
ミラー１０６の第２の反射表面に放射する。この実施例
においては、振動ミラー１０６はシヤフト１０９に接続
され、角度αについて正弦波振動運動のため検流計１０
７によつて回転的に駆動される。従つて、振動ミラー１
０６が第１の方向に回転されたときに第一組における１
つのレーザ（例えばＡ）を選択的に変調し、かつ振動ミ
ラー１０６が第２の方向に回転されるときに第二組にお
ける対応する１つのレーザ（例えばＡりを選択的に変調
することによつて、２つの別個に配向され、走査された
ビームが伝送される。ミラー１２０は第一組のフアイバ
一から放射された走査ビームを受信するように配向され
ており、ミラー１１６は第二組のフアイバ一から放射さ
れた走査ビームを受信し、反射するように配向されてい
る。

ミラー１１６から反射された走査ビームはレンズ１１８
によつてＰビームとして投射され、またミラー１２０に
よつて反射された走査ビームはＹビームとしてレンズ１
２２によつて投射される。上記した２つの実施例のそれ
ぞれは第６図に示す回路によつて正しい走査角度にわた
つて正しく寸法の定められたビームを投射するように同
様に制御される。

第６図において、「Ｉ」と指示された素子は第１の実施
例に特有のものであり、また「」と指示された素子は第
２の実施例に特有のものである。マスタークロツク１４
２は種々のプログラムされた機能に対して正確なタイミ
ングを与えるために一連の高周波パルスを発生する。

マスタークロツク１４２の出力は特定のミサイル飛行経
路プロフイルに対してプリセツトされたタイマー（カウ
ンタ）１４０に送られ、その結果ミサイル発射「スター
ト］信号を受信した後、タイマー１４０は、ミサイルが
１１１メートルのダウンレンジにあることを予言する十
分な時間経過した後、可能化信号をＡＮＤゲート１４４
に出力する。その点でＡＮＤゲート１４４は可能化され
、マスタークロツク１４２からのパルスを通す。ＡＮＤ
ゲート１４４からの通過信号はプログラムされた分割器
１４６およびトーンジェネレータ１４８に送られる。プ
ログラムされた分割器１４６は、適正なレーザの選択、
レーザの変調および振動ミラーの制御を同期させるため
に、既知の飛行経路に沿つてあらかじめ定められた時間
に命令信号を出力するように形成されている。プログラ
ムされた分割器１４６の出力はプログラマブル・リード
・オンリー・メモリ（ＰＲＯＭ）１５０に送られる。こ
のＰＲＯＭｌ５Ｏは正弦波ルツクアツプテーブルとして
機能し、かつカウント入力アドレスに応答してデイジタ
ル出力を提供するＰＲＯＭｌ５Ｏの出力はデイジタルー
アナログ変換器（Ｄ／Ａ変換器）１５４に送られ、ここ
でデイジタル値が制御された振幅の５０Ｈｚアナログ正
弦波に変換される。このアナログ正弦波は駆動器（ドラ
イバ）１５６によつて増幅され、振動検流計７（１０７
）を介して振動ミラーの運動を制御する。プログラムさ
れた分割器１４６はまた、ヨ一／ピツチビーム信号をト
ーンジェネレータ１４８に供給する。

トーンジェネレータ１４８は各それぞれのヨ一またはピ
ツチビーム伝送ごとに個々の範囲について５１ステツプ
のパルス速度を選択されたレーザ／駆動器に提供する。
電子スイツチ１５２がプログラム分割器の出力によつて
制御され、トーンジェネレータ出力を受信する所望のレ
ーザ／駆動器寸法型式を選択する。第１の実施例１にお
いて、１駆動器１７はプログラム分割器１４６からの出
力を受信するように接続されており、プログラム分割器
１４６はチヨツパステツプモータ１４を，駆動して反射
表面８を同期回転させる。

その上、トーンジェネレータ１４８からの出力は対応す
るフアイバ一Ａ，ＢｌまたはＣの後の選択されたレーザ
／駆動器にスイツチ１５２を介して接続される。３つの
追加のレーザ／駆動器ならびに関連するフアイバ一型式
がビームチヨツパの代りに設けられている第２の実施例
において、スイツチ１５２からの３つの出力ラインはＡ
ＮＤゲート対２０２および２０８，２０４および２１０
，２０６および２１２の第１の入力端子に対応的に接続
されている。

プログラム分割器１４６からのヨ一／ピツチ制御信号は
ＡＮＤゲート２０２，２０４、および２０６の第２の入
力端子に共通に供給され、またＡＮＤゲート２０８，２
１０および２１２のそれぞれの反転入力端子にも供給さ
れる。第３図に示すように、「１」がＰビームが投射さ
れることを指示する場合には、ＡＮＤゲート２０２，２
０４，および２０６はプログラム分割器１４６からのＰ
＝「１」ラツチ信号によつて可能化される。スイツチ１
５２の出力に従つて、トーンジェネレータ１４８のトー
ン変調が型式化フアイバ一Ａ，ＢまたはＣの選択された
１つの後の対応するレーザ／駆動器の１つに適当なＡＮ
Ｄゲート２０２，２０４、または２０６を介して通され
る。Ｙビームが第２の実施例によつて伝送されるべきで
あると、プログラム分割器１４６からのラツチ「０」信
号がＡＮＤゲート２０８，２１０および２１２を可能化
し、型式化フアイバ一Ｎ，Ｂ′、またはＣ′の後のレー
ザ／駆動器の１つの選択変調を行なう。

上記実施例のそれぞれについて記載した本発明によつて
もたらされる主な利益は、走査振幅がミサイルの予言さ
れた距離の関数であるプログラムされた態様で投射され
たビームを走査することを組合せて、あらかじめ選択さ
れた距離点で投射されているビーム型式寸法を固定焦点
距離の光学装置を通じて段階的に切換えることによつて
、ミサイルのプログラムされた距離にわたつて一定寸法
を有する誘導制御情報のマトリツクスを維持することの
達成にあることは理解されよう。

従つて、本発明の新規な概念の範囲から逸脱することな
く多くの変形および変更が行なえることは明らかである
。それ故、本発明の真の精神および範囲内に入るかかる
すべての変形および変更をカバーすることが特許請求の
範囲によつて意図されている。

【図面の簡単な説明】

第１図は相対的に固定のレンズ系に単一の放射線源およ
びビームチヨツパを使用する、２つの直角に配向された
ビームの交互の伝送を行なうための本発明の第１の実施
例を示す概略斜視図、第２図は第１図に示す放射線発生
装置によつて選択的に伝送される放射線の比例的に相違
する横断面を示す正面図、第３図はある時間期間にわた
つて生じる種々の制御動作を例示する線図、第４Ａ図は
ミサイルの代表的な飛行経路にわたる制御された放射線
パターンの投射において考慮される種々のパラメータを
例示する説明図、第４Ｂ図は対応的に選択された光源の
範囲の下端における交互に投射される放射線ビームの走
査パターンを例示する説明図、第４Ｃ図は選択された放
射線源に対する放射線走査パターンの端部における光ビ
ームパターンを例示する説明図、第５図は第３図に示さ
れたような長方形横断面ビームを交互に発生するための
２組の対応するレーザ素子が対応する横断面の放射線ビ
ームをビーム分割器に発生させるように交互に選択、変
調され、そして固定のレンズ系によつて投射される本発
明の第２の実施例を示す概略斜視図、第６図は本発明の
第１および第２の実施例に使用する電気的制御系を例示
する回路構成図である。 ２：単一の放射線源、３：クラツドガラスフアイバ一組
立体、４：長方形横断面ビーム、６：振動ミラー、７：
検流計、８：反射表面、９：シヤフト、１２：光学的チ
ヨツパ、１６，２０：ミラ、１８，２２：投射レンズ、
１０２：放射線源、１０６：振動ミラー、１０７：検流
計、１０９：シヤフト、１１６，１２０：ミラ一、１１
８，１２２：レンズ、１４：チヨツパステツプモータ、
１７：駆動器、１４０：タイマ一 １４２：マスターク
ロツク、１４６：プログラム分割器、１４８：トーンジ
エネレータ、１５０：プログラマブル・リード・オンリ
ー・メモリ、１５２：電子スイツチ、１５４：デイジタ
ルーアナログ変換器、１５６：駆動器。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ほぼ長方形の横断面の、比例的に相違する横断面長
   さおよび幅寸法を有する放射線ビームを放射するように
   取付けられた複数の放射線発生器を有する制御可能な放
   射線源と、該放射された放射線を受け入れ、該放射線を
   前記ビーム横断面の長さ寸法に対し直角な方向にあらか
   じめ定められた角度にわたつて走査するように位置付け
   された走査器と、前記走査された放射線を受け入れ、互
   いに直交するように配向されたそれぞれの横断面長さ寸
   法を有する第１および第２の交互する走査ビームで前記
   放射された放射線を投射するように位置付けされた固定
   レンズ光学装置と、前記第１および第２の走査ビームに
   対応する第１および第２のあらかじめ定められた周波数
   範囲にわたる複数のパルス速度で前記放射線源をパルス
   変調するための変調器と、前記走査器と関連し、ある時
   間変数関数に従つて走査の角度を制御するための走査回
   路と、前記時間変数関数を発生するとともに、前記時間
   関数に従つて前記変調器による変調のために前記複数の
   放射線発生器の１つを選択し、かつ同期信号を前記変調
   器および前記走査回路に供給して前記第１および第２の
   あらかじめ定められた周波数範囲にわたる前記パルス変
   調放射線が前記それぞれの第１および第２の投射走査ビ
   ームに対応する走査の制御された角度内で生じるように
   するための制御装置とからなる制御ビーム投射器。 ２ 互いに直交するように配交され、直交するように走
   査される長方形横断面の２つの放射線ビームを交互に発
   生するための制御ビーム投射器において、それぞれが比
   例的に相違する横断面長さおよび幅寸法を有する放射線
   ビームを放射する複数のビーム発生器を有する２つの放
   射線源と、該放射線源を選択的に付勢して対応するあら
   かじめ定められた横断面積を有する直角な方向に配向さ
   れた放射線ビームを交互に発生させるための付勢装置と
   、該付勢装置に接続され、それぞれの交互に発生された
   ビームを、オーバーラップしないあらかじめ定められた
   パルス速度周波数の範囲にわたつてそれぞれ変化するパ
   ルス速度で、変調するための変調器と、該変調されたビ
   ームの経路中に位置付けされ、該ビームを横切る方向の
   軸線に関して振動して前記放射線源の一方から放射され
   たビームを第１の反射面で、また前記放射線源の他方か
   ら放射されたビームを該第１の反射面とは相違する第２
   の反射面であらかじめ定められた角度にわたつて反射、
   走査するための走査器と、該走査されたビームの経路中
   にあり、該走査ビームを中心投射軸に実質的に平行にか
   つ互いに直交するように光学的に投射するための投射装
   置と、前記走査装置に接続され、時間変数関数に従つて
   前記あらかじめ定められた走査の角度を制御するための
   制御装置とからなる制御ビーム投射器。 ３ 前記制御装置が前記変調器による変調のため前記２
   つの放射線源の発生器中の対応する発生器を交互に選択
   するための手段を含み、前記走査器が前記放射線ビーム
   をそれらの対応する横断面の長さ寸法に対し直角な方向
   に別個の対応する角度にわたつて走査する特許請求の範
   囲第２項記載の制御ビーム投射器。 ４ 前記制御装置が前記時間変数関数に従つて前記走査
   角度を制御するための信号を発生するようにプログラム
   される特許請求の範囲第２項記載の制御ビーム投射器。 ５ 前記投射装置が固定レンズ光学装置よりなる特許請
   求の範囲第２項記載の制御ビーム投射器。 ６ 前記各ビーム発生器が単色電磁放射線をそれぞれ放
   射するレーザ源からなる特許請求の範囲第２項記載の制
   御ビーム投射器。