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JPS594478B2 - 燐含有界面活性剤の製造方法 - Google Patents
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JPS594478B2 - 燐含有界面活性剤の製造方法 - Google Patents

燐含有界面活性剤の製造方法

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JPS594478B2
JPS594478B2 JP54155473A JP15547379A JPS594478B2 JP S594478 B2 JPS594478 B2 JP S594478B2 JP 54155473 A JP54155473 A JP 54155473A JP 15547379 A JP15547379 A JP 15547379A JP S594478 B2 JPS594478 B2 JP S594478B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、燐含有の両性第四級および双性イオン界面活
性剤の新規な製造方法並びにそれ自身新規な界面活性剤
に関する。
第四級化合物、ベタインおよび置換ベンタインは当業者
に公知である。
しかし、本発明方法に従つて得られた特別な化合物は、
特に有効であることが判明した。すなわち、本発明によ
つて得られた化合物は、顕著な発泡、粘度上昇、湿潤、
洗浄、洗浄力、帯電防止、および乳化作用を示し、従つ
て高能率の界面活性剤を要求する工業分野において有効
である。化合物は、また高度に安定したものでありそし
てヒトの組織に対し著しくかぶれがなく、例えば該化合
物は非常に目に対する刺激が少なく、また口腔毒性が低
く、従つて人の保護組成物において界面活性剤として有
用である。本質的に、本発明のプロセスは、燐含有反応
体を反応させてなるものであり、さらに詳しくは燐酸エ
ステル反応体を、第一級、第二級もしくは第三級アミン
の如きアミン反応体と反応させてホスホベタイン化合物
を得ることからなる。別の面において、本発明は、該プ
ロセスにおいて用いられる新規な燐酸エステル反応体並
びに非常に効能ある界面活性剤の変成に著しく適した該
反応体を製造するための燐酸エステル反応体の製造方法
に関する。本発明において利用される燐酸エステル反応
体は、式(La):(式中、Halはハロゲンであり、 Aは0Mおよび0YHa1から選択され、BはH,OM
′および0YHa1から選ばれる、但しM′は有機基で
あることを条件とする、Yはアルケンであり、3個まで
の酸素原子によつて中断されてもよい、炭素原子12個
までのアルキレンであり、該アルキレン鎖は、例えばそ
れぞれ炭素原子10以下を有する低級アルキル、アルコ
キシ、ヒドロキシもしくはヒドロキシアルキルによつて
置換されていてもよく:MおよびM′は次の群:(a)
水素、(b)炭素原子6までのアルキルもしくはヒドロ
キシアルキル、炭素原子数10までのポリヒドロキシア
ルキル、グリセリル、炭素原子数6までのシクロアルキ
ル、炭素原子数10までのアリールもしくはアリールア
ルキルから選ばれる有機基、又は(c)アルカリ金属(
例えばナトリウムもしくはカリウム)、アルカリ土類金
属(例えばマグネシウムもしくはカルシウム)、および
モノ一、ジ一、もしくはトリエタノールアミンから選ば
れる塩の基から個々に選ばれる}で表わされる。
アミン反応体は、第一級、第二級、もしくは第三級アミ
ンでよい。
従つて、アミン反応体は1,2もしくは3個の有機基を
有することができ、すなわち、該反応体は2個の水素を
有する第一級アミン(以下R″で示す)、第二級アミン
(以下、R′で示す)もじくは第三級アミン(以下、R
で示す)でよい。好ましくは、アミン反応体は炭素数6
以上もしくは60以下である。本発明において用いられ
るアミンは、1ないし3個の有機基を含有する、すなわ
ち、該アミンは置換アルキル、置換アルケニルおよび置
換アルキニルを含有してもよく、酸素、窒素、もしくは
硫黄の如きヘテロ原子によつて中断されてもよくそして
他の官能基、例えばエステルもしくはアミド部分を含ん
でもよく、そして第二級および第三級アミンの場合にお
いてはアミン置換体はそれ自身共に結合しN一複素環式
構造、例えばモルホリノを形成しうる。
本発明の好ましいそして更に特別な態様において、アミ
ン反応体は次式1bで表わされるアミドアミン反応体で
ある:すなわち該反応体の式は{式中、R1はそれぞれ
炭素原子数5から22のアルキル、アルケニル、アルコ
キシ、もしくはヒドロアルキル、又は炭素原子数20ま
でのアリールもしくはアルカリール(Alkaryl)
であり、R2は水素またはそれぞれ炭素原子数6までの
、好ましくは炭素原子数2ないし5のアルキル、ヒドロ
アルキルもしくはアルケニル、または炭素原子数6まで
の、好ましくは炭素数5までのシクロアルキル、又は炭
素原子数10までのポリオキシアルカレンであり、R3
およびR4は同一でももしくは異なつてもよく、第Ξ級
アミン(自)の場合は、各々のアルキル部分に炭素原子
数6までのアルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシ
アルキルそして炭素原子数10までのポリオキシアルキ
レンから選ばれる;加えてR3およびR4はそれらに結
合している窒素といつしよになつて、Y基がR部分の窒
素以外のN−複素環の環原子に結合しているような、N
一複素環、例えばモルホリノ構造、を表わし、第二韻ア
ミン(R’)の場合は、R3.およびR4の一方は水素
であり、第一級アミン(R″)の場合はR3およびR4
の双方とも水素であり:uは2から12の整数である}
で表わされる。
{R2,R3およびR4の定義中上に使用された如き語
句゛ポリオキシアルキレン基”は、式(R5−O−R5
′),h(式中、、・R’およびR’′は炭素原子数1
ないし4のアルキルでありそしてmは約2なιル10の
整数である)を有する}異なつた特別のおよび好ましい
態様において、本発明の第二級(R’)および第Ξ級(
Wアミン反応体は、更に1個のヘテロ原子(例えば酸素
もしくは他の窒素)を含有するN−複素環式基でありそ
して合計5なιル6の環状炭素原子を含み;該複素環式
基はそれぞれ炭素原子20までのアルキルおよび/また
はヒドロキシアルキルによつて置換されてもよい。典型
的な該ヘテロ環式基は、イミダゾリル、N−アルキルモ
ルホリノ、アルキルピリミジノ、アルコキザゾリニル(
AlkOxazOllnyl)等である。式I(c)に
おける置換基は次の如くである:(式中、ZはN又はO
であり:oはoないし3の整数であり: pは1なιル3の整数である、但しo+pの合計は3な
いし4である:R,は先に定義されたと同一の意味であ
りそして環状炭素原子に結合し;そしてR6は第Ξ級ア
ミン(自)の場合は、末端もしくは非末端炭素原子に水
酸基が置換される炭素原子数2ないし6のアルキルであ
り、第二級アミン(R’)の場合はR6は水素である。
本発明のプロセスを、特に第Ξ級、第二級および第一級
アミン変体に関して以下に説明する。
第Ξ級アミン反応体燐酸エステノレ反応体との反応に対
し第Ξ級アミンを使用する場合、本発明のプロセスは、
次の一般反応式(1):(式中、Rは第三級アミン、す
なわち3個の有機基を有し、好ましくは合計6ないし6
0炭素原子を有し:X はアニオンであり:そして 旦は0なιル2の整数でありAは電荷の均合のための必
要な値である)によつて代表される。
式(1a)中のAおよびBの双方が−O−Y一Halで
ある場合、 3モルのRが燐酸エステル反応体1モルに
対し必要である。式(1a)中のBが−O−Y−Hal
の場合、2モルのRが燐酸エステル反応体(1a)1モ
ルに対し必要である。
反応式(1)の更に特別な副態様、すなわち該副態様に
おいては特に燐酸エステル反応体が用いられるが、該副
態様は以下の如く示されうる:(式中、Halはハロゲ
ンであり、他の基は先に定義された如くである)(式中
、基は先に定義された如くである);そして(式中、基
は先に定義された如くである)第二級アミン反応体 燐酸エステル反応体との反応に第二級アミンを使用する
場合、本発明のプロセスは次の一般反応式:(式中、R
’は第二級アミン、すなわち2個の有機基を有し、好ま
しくは合計6ないし60個の炭素原子数を有し、そして
q’ないし2の整数である)によつて表わされる。
1モルの燐酸エステル反応体が第二級アミン反応体R′
1モルに対し使用される場合(すなわちq′=1)反応
は以下の如く進行することが理解される;(式中、基は
先に定義された如くである)。
2モルの第二級アミン反応体が供給される場合(すなわ
ち、q’= 2)、反応は次の如くビス化合物に至る:
(式中、基は先に定義された如くであり、そして基Aも
しくはBの一方は、荷電均衡のため図示される如くO−
である)。
第二級アミン反応体R’は、好ましくかつ特別な面にお
いて、先に与えられた式I(b)を有するが、第二級ア
ミン機能を与えるため式中R3は水素である。
また、R’は第二級アミン機能を与えるため式I(c)
中のR6が水素であることを条件として、先に与えられ
た式I(c)の環状アミン反応体となりうる。
第一級アミン反応体 燐酸エステル反応体との反応で第一級アミン反応体を使
用する場合、本発明のプロセスは次の一般反応式によつ
て表わされる:(式中、R″は第一級アミンであり、す
なわち1個の有機ラジカルを有し、好ましくは合計炭素
原子数6なιル60を有し、そしてq”は1ないし3の
整数である)。
燐酸エステル1モルを、第一級アミン反応体R″(すな
わちq″=1)1モルに対し用いる場合、反応は以下の
如く進行することが理解される:(式中、基は先に定義
された如くである)。
2モルの第一級アミン反応体が、燐酸エステル反応体1
モルに対し供給される場合、すなわちq″が2の場合、
反応体は以下の如くビス化合物に至る:(式中、基は先
に定義された如くである)3モルの第一級アミン反応体
が供給される場合、すなわち、q″が3の場合、反応は
以下の如くトリス化合物に至る:(式中、基は先に定義
された如くであり、そして基AもしくはBの一方は、荷
電均衡のため図示される如くO−である)。
好ましくかつ特別な面において、第一級アミン反応体R
″は、第一級アミン機能を与えるためR3およびR4が
水素であることを条件として先に与えられた式1(b)
を有する。
界面活性剤を製造する別のプロセスは、第三級アミン反
応体に対し図式的に示される如く、3−ヒドロキシプロ
ピルホスホベタインを製造するために、アミン反応と環
状ヒドロキシプロピレン一含有燐酸エステル反応体との
新規反応を利用する:(上式中、反応体は先に定義され
た如くであり、アニオンX−は反応体aもしくはa(式
中、X−=Halの場合)から脱離されるハロゲン化合
物(Hal)の基によつて供給される。
ここで表示″HO(C3H5)1もしくは″(C3鴇α
11は、ヒドロキシプロピレン機能に言及し、そして該
ヒドロキシプロピレンにおいて、水酸基は3個の炭素の
いずれか1つと結合できそして環状オキサ部分は、プロ
ピル基の3−もしくは2一位のいずれかで3個の炭素の
一つと結合する。反応は、示された第三級アミンの代わ
りに第一級アミン(Rt)もしくは第二級アミン(R′
)を使用して同様に進行する。この場合、第二級アミン
の使用は、先の反応(7)における如きビス化合物を与
えることができ、そして第一級アミンの使用は、環状ホ
スフエート反応体を適当な複数モル比(それぞれ2:1
もしくは3:1)で供給する場合、先の反応(代)およ
び(自)で示される如くビス一もしくはトリス化合物を
与えうる。プロセスにおいて要求される反応体は次の如
く調製されうる:中間アミン反応体の製造 アミン反応体R,R′およびR″は公知であるかもしく
は通常の技術により一般に調製される。
例えば、アミドアミン型(1b)の第三級アミン(Bの
製造に当たり、このアミンはアミドアミン機能を有する
ために、酸とアミノアルキル置換第三級(もしくは第二
級もしくは第一級、R′およびR″の場合)と反応させ
て調製されうる。別に、酸をアミノアルキルー置換第二
級もしくは第一級アミンと反応させ、続いて反応生成物
を酸化アルカレンと反応させ、それぞれ第Ξ級もしくは
第二級反応体を得ることができる。RもしくはR’がN
−複素環式構造(Ic)、例◆えばイミダゾリルである
場合、この場合、公知技術例えば米国特許第22679
65号に教示される如き技術に従つて製造されうる。次
の反応A゜は非環状反応体゛R’’を生成し、そして反
応aωは典型的な環状アミン反応体(イミダゾリル)の
製造を例示する:{式中、R1は先に定義された如くで
あり、そしてR7は(末端もしくは非末端炭素原子にお
いて)水酸基で置換されうる炭素原子数2なιル6のア
ルキルである}。
この環状反応体は、米国特許第2267965号に開示
される如く調製されうる。商業的に入手可能な多種多様
のアミンはこれらの反応に適当である。
アミンは、全炭素数が6以上、すなわち界面活性剤に対
し必要な疎水性を与えるための炭素数であることを条件
として、第一級、第二級もしくは第Ξ級でありうる、ア
ミンの全ての他の置換基および変形は、本プロセスにお
いて使用可能である。商業的に入手可能な脂肪族アミン
内、゛Armeen”(ArmakChemical)
、例えばオクチルアミンからドデシルアミンが言及され
る。同様の分子量を有する例示的な脂肪族第二級アミン
は、゛Armeen2C”{デイコカミン(DicOc
amine)からジソヤ(DisOya)アミン牛脂ア
ミンの如き第二級アミンを含む。第Ξ級アミンは、アル
マツクケミカルカンパニ一(ArmakChemica
lCOmpany)から市販されているアルキルジメチ
ルアミン、ジアルキルメチルアミンおよびトリアルキル
アミンの如き簡単な脂肪族第Ξ級アミンであり、そして
例として、゛ArmeenDMI4D”(これはN−テ
トラデシルジメチルアミンである)があげられる。さら
に、エポキシ化脂肪族アミンも又使用できる。これらの
製品ばEthafneen’’の名称で市販されている
。他の個所で例示される如く置換が可能である。燐酸エ
ステル中間反応体の製造 先の一連の反応で述べられた如き燐酸エステル中間反応
体(1aからVmaの反応体)の製造は以下の如く示さ
れる反応によつてもなされる:先の別の合成ルートa”
およびQ,に対して要求される環状燐酸エステル中間反
応体は以下の如く製造されうる反応23および24は、
先の反応17および18において必要とされる反応体に
類似の反応体が利用される(より限定されたヒドロキシ
プロピルが用いられる)が、異つた環状生成物が得られ
る。
異つた生成物は、異つたPH調整の結果である:それ故
、反応17は約4〜5のPHで行なわれるが、反応18
はPH9ないし10.5で行なわれ、環状生成物を生成
する。この環状生成物は、又隣位のエポキシ物質を含有
し、それ故は、ヒドロキシ−プロピレン炭素の一つとオ
キサーオキシゲン(0xa−0xygen)との結合で
生成する1以上の異性体(5員環もしくは6員環を形成
)のみならず、次の構造式をも含むものとして理解され
るべきである。
より高いPHl例えば10.5もしくはそれ以上での操
作が、隣位エポキシ一含有物質の形成に好都合である。
エピクロルヒドリンと燐酸および種々の燐酸塩との反応
は、適切な程度にまで研究されておらずそして、該反応
に関する文献の記載も殆どない。
多様の製品が実験的パラメーターを変動させることによ
つて得られることが分かつた。これらのパラメーターの
内最も重要なものに、燐酸塩のPHlエピクロルヒドリ
ンに対する燐酸塩のモル比および反応が行なわれる温度
が含まれる。反応番号16ないし18は、酸性の水溶液
中で起こる。従つて、反応はエポキシ基を攻撃して3−
クロロ−2−ヒドロキシプロピル燐酸エステル中間体を
生成して進行する。不安定な有機塩素を含有する中間体
はアミンの如き求核種と反応し一般のホスホベタイン構
造に一致する生成物を与える。この反応が起こるPHは
厳格にコントロールしなければならない。好ましい…域
は4から5までである。もしPHが4より下まわつてし
まうと、燐酸エステルの重大な加水分解が生じる。もし
、反応が行なわれる…が余りに高ければ、不安定な有機
塩素の損失があるであろう。反応がPH9.5〜10.
5のアルカリ環境下最適条件で行なわれれば、生成中間
体は、その不安定な有機塩素を非常に失い、そして環状
ジエステルを形成する。このジエステルは加水分解に対
しては全く抵抗するがある種の求核種に対して非常に反
応性が高い。疎水性を有するアミンの適当な選択物と共
に特に攻撃が極大の条件で、この求核攻撃により、本発
明プロセスは異常なそして価値ある特性を有する界面活
性剤を製造するための商業的に実施可能な手順となる。
次の条件は好ましい操作条件を表わす: (1)反応は、全溶液に対し反応体30〜50%(残り
は水である)濃度で水性環境下で行なわれるべきであり
:最も好ましくは、反応体は全反応体/水混合物の約4
0%を構成する。
(2)使用される燐酸塩は、エピクロルヒドリン添加前
PH9.5〜10.5を有すべきである。
この場合には、最大の環状燐酸ジエステルの形成がなさ
れるであろう。(3)反応は、共沸混合物が還流するの
を防止するため、ある圧力下、例えば窒素5psig下
80〜85℃の温度で最初に、好ましく行なわれる。
温度を次第に100℃までに昇温させそして理論量の無
機塩化物が発生するまで保持される。燐酸二ナトリウム
および燐酸三ナトリウムとエピクロルヒドリンとの反応
は、文献;0.Bai11y,C0mpt.Remd.
しL3,689−91頁(1921);C.A.l5,
l884(1921)および0.Bai11y,Bu1
1.S0c.Chim.(4)31,848〜62頁(
1922):C.A.l7,264(1923)に記述
もしくは報告されている。エピクロルヒドリンと燐酸水
素二ナトリウムとの報告された反応において、ジグリセ
ロ燐酸ジエステルが得られたことが教示されている。し
かし先に述べた如く、この系のPHは、得られる製品に
対し大なる効果を有していることが分かつた。例えば、
エピクロルヒドリンとNaHPO4との反応により、次
の二つの生成物が、二つの反応体のモル比に応じて得ら
れる。もしもエピクロルヒドリン1モルが反応すれば、
製品は3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルホスフエー
ト(中間反応体Aは以下に示される)である。
もしも2モルが反応すれば、ビス(3−クロロ−2−ヒ
ドロキシプロピルホスフエート)が得られる:中間反応
体6D1は以下に示される。これらの反応体はPFI4
〜5で行なわれる。これらの条件下、得られる製品から
分かる如く、燐酸部分がエポキシ環を攻撃する。燐酸二
塩を形成するため、…を高めると、求核攻撃が、塩素イ
オンの重要量の置換を伴つて起こる。このことは、添附
図面に示される。第1図は塩化物発生に関するPHの効
果を示す曲線である。この曲線は、次の結果をプロツト
したものである。PH9.5〜10.5で理論量の塩化
物発生が達成される。
同時攻撃がエポキシ部分に起こつたと仮定した場合、驚
くべきことにエポキシ基が本質的にそのまま保持されて
いることが分かつた。これらの条件下で得られた生成物
は2,3−エポキシーモノナトリウムプロピルホスフエ
ート(中間反応体6C″は以下に示される)であつた。
エポキシ基の存在は、種々のアミン化合物との反応によ
つて続いて確認された。種々の中間体が、最終の両性ホ
スホベタイン化合物を形成するため種々の第一級、第二
級および第三級アミンとの反応に用いられた。
中間反応体AおよびCを使用する場合、同様の生成物が
得られることが期待されたが、これら二つの中間体から
製造される生成物に対し明らかに異つた性質が見出され
た。中間反応体Cの場合は、非常に高い泡立性を有する
化合物が得られそしてこのことは使用された最初のホス
フエート塩のPHによることが後に示される:この効果
は添附図面に画かれる。第2図は、1泡立ち模様(0.
4%活性)1とタイトルをつけられたグラフであり、使
用される最初のホスフエート塩のPHに対し泡立ち高さ
をプロツトしたグラフである。このグラフは次の結果に
基づく。
従つて、これらの化合物の興味ある現象の一つは、それ
らのPH依存溶解性である。
製品はPH一依存性であるばかりでなく、非常に希薄濃
度は曇りの至る傾向があるという点で該生成物はまた濃
度依存性でもある。この曇り現象がおこる濃度は最初の
ホスフエート塩のPHによつて影響される。このことは
、添附図面に示される。第3図は、曇りが生じる濃度に
対するPHをプロツトしたグラフである。
このグラフは次の結果に基づく。PH9.5〜10.5
で溶解性が一定になる。
先に述べた如く、プロセスのパラメータは、燐酸エステ
ル反応体中の反応性有機塩素原子を保持するため、そし
てこれらの燐酸エステルの加水分解を避けるため制御さ
れねばならない。それ故、用いられるホスフエート塩の
PHl反応温度および反応時間は、所望の中間生成物を
生成するに際し全て重要であることが分かつた。一方、
中間生成物の性質は最終製品の性質に関し重要な効果を
有している。環状燐酸エステル中間反応体の驚くべき反
応は、同様にそれらの不安定な塩素含有同族体の同様の
反応性、一方同時に加水分解に対する該反応体の安定性
は、最終の界面活性剤に製造するための本発明の基本的
プロセスにおいてその使用を大いに好ましいものとする
界面活性に対し十分に疎水性であるアミン反応体を用い
ると、十分効力ある界面活性の製品が製造される。
しかし、非界面活性同族体は、低分子量のもしくは親水
性のアミンを使用することによつて製造することができ
る。先の反応手続16ないし22に従つて製造されそし
て第三級アミン反応体と共に後の実施例中使用される特
別な燐酸エステル中間体は以下に示される:燐酸エステ
ル中間反応体 反応手順に従つて製造される反応体゛A’’反応手順に
従つて製造される反応体゛B’’反応手順に従つて製造
される反応体゛C’’反応手順に従つて製造される反応
体″D”反応手順に従つて製造される反応体゛E’’反
応手順に従つて製造される反応体゛F”反応手順に従つ
て製造される反応体゛G”本発明の最終化合物に導く先
に述べた如き反応1から13までを行なうに際し、アミ
ン中間反応体( R,R’もしくはR″)を適当な燐酸
エステル中間反応体と反応させそしてこれらの反応は一
般に80〜100℃で水系中で行なわれる。
反応手順に従つて製造される反応体゛H”反応1ないし
13において水溶液中の反応体の最適濃度範囲は30な
いし50%でありそして好ましくは反応体は水性反応混
合物の約40%を構成する。
この点に関して、好ましい濃度はいくつかの中間体の反
応に対し先に述べた反応に類似する。例えば反応16な
いし18に従つて環状中間体の製造において、活性反応
体の約40%を好ましく含有する生成反応物の混合体は
、最終の燐酸含有界面活性剤に導びく最終反応を行う際
、そのように使用される。燐酸エステル反応体は、アミ
ン添加前約5ないし6のPHを有すべきでありそして該
アミン添加後はPHは7と9の間で維持されるべきであ
る;PH7以下では第4級化の速度は非常に遅くそして
勿論使用されるアミンのPHは約PH9でのアルカリ側
上でのPHにそれ自身限定される。
先に述べた如く、反応1から13は一般に約80〜10
0℃の温度で行なわれる。
反応は、最初80〜100℃の温度で行うのが好ましく
そしてある圧力のもと、例えば窒素の5psig下で行
なわれる。しかし、圧力下、高温度例えば約130℃ま
での温度が使用可能でありそして最高温度は反応体、例
えばアミン反応体の感度によつて決定される。何故なら
ば不当に高い温度ではカラー損失および他の分解の形跡
が見出されるからである。最適なホスホベタイン製造の
多くの特別な実施例があとに述べられる。
最適な反応製品は良好な界面活性剤でありそして商業的
に入手可能な両性および双性イオン界面活性剤に比較し
て全く予期しない程良好な泡容積および秀れた泡安定性
を示す。
このことは、次の方法により、周知のロスーマイルス(
ROss−Miles)起泡力試験原理じ0iIand
S0ap゛18,99−102頁(1941)〕を採用
して決定された。ラノリン(無水、化粧品級)をジオキ
サンとラノリン2.59およびジオキサン1009の割
合で混合する。生ずラノリンをジオキサン25CCと混
合する。この混合物を、ジオキサン中のラノリンを溶解
させるため蒸気浴上45℃までの温度に加熱する。次い
でジオキサンの残りを添加しそして混合する。こはく色
のピンに貯蔵されるラノリンージオキサン溶液は試験が
行なわれる田こ新しく調製されるべきである。試験され
るべき組成物は、組成物49に蒸留水376CCを添加
し次いで先にのべたラノリンージオキサン溶液20CC
を撹拌しながら添加することによつて希釈される。
ラノリンージオキサン溶液を水中の組成物の溶液に添加
すると熱が発生するそしてこの溶液温度を24〜25℃
に調整することに、注意が払われなければならない。そ
れ故、これらの中間体溶液の双方は、混合前23℃に調
整されるべきである。ラノリンージオキサン溶液の冷却
は、ラノリンの沈殿を避けるためゆるやかになされるべ
きである。これにより24〜25℃の温度を有する最終
溶液を得る。試験されるべき組成物、水、ジオキサンお
よび先に説明したラノリンの最終溶液を、修正されたロ
スーマイルス起泡力試験のカラム中で通常の方法により
操作する。全ての試験は2回行なわれ、2回の結果の平
均が採られる。泡安定性(起泡力)は2分後の泡の高さ
の減少を測定することにより決定され、元の高さのパー
セントで表わされる。アルキルアミドホスホベタイン、
アルキルアミドベタインおよびアルキルアミドスルタイ
ン(AlkyIamidOsultdine)に対し上
の手順を利用して得られた型形的な泡の値が以下に掲げ
られる:上記結果から理解される如く、本発明方法によ
つて製造されたホスホベタインは秀れた泡容量および泡
の安定性を示し、一方、ベタインおよびスルタインの安
定性は著しく低い。
他のシリーズの試験において、本発明のホスホベタイン
化合物の別の種を、起泡特性の評価に対しシリンダー振
とう試験(Cylindershaketest)によ
つて試験した。
この試験において、100ppmの硬度の水中(〜に対
するCaの割合3:2)選ばれた界面活性剤01重量%
を含む試験液が使用されそして水が未破壊膜状でシリン
ダー壁を流れ落ちるように予じめ洗浄された100rI
L1のストツパ一付シリンダー内に該試験液が置かれた
試験液で満たされた各シリンダーを規格方法で20回振
とうしそして振とう後1分後および再度5分後の全泡量
(d)が記録される。試験を3回くりかえして行つた。
結果は下記の如くである:加えて、本発明の化合物は、
商業的に入手可能な両性および双性イオンの界面活性剤
と比較したとき、驚くほど低い目の刺激ポテンシヤルを
有している。
用いられる試験は修正ドウレイズ(Draize)試験
(J.H.Draizeetal.TOiletgOO
dsAssn../F6l7,3月、1952./I6
lPrOc.Sci.Sect.)である。
この試験においては、開発中の化合物の中性溶液のサン
プル0.1dを白兎の一方に目に滴下し、片方の目はコ
ントロールとして用いる。
六匹の兎を各化合物に対し用いる。最初の滴加後、1,
24,48,72および96時間後に観測がなされる:
第二回および第三回の滴下は24時間および48時間記
録後に行う。結果は、実質的に変化がない状態、もしく
は7日後の兎の眼の外観にわずかの刺激のみの状態から
重大な刺激および/又は完全な角膜混濁まで変化する。
目の損症が、角膜虹彩および結膜に対し記録され、より
高い数値のものはより大なる目の刺激を示し、そしてス
コアが加えられて、六匹の兎に対する各読みに対する全
数値および平均値が与えられる。平均スコアは試験中の
組成物の刺激ポテンシヤルの指標である。平均スコアに
基づいて、記述した刺激評価が、例えば、無、軽度、中
等度、重度等で与えられる。上記試験手順を行つた場合
、ベタイン、スルタ{イン並びに本発明に係るホスホベ
タインに対する典型的な結果は以下の如くである:全て
の試験は3重量%/Wt.の濃度で行なわれた。
土述の如く更に一連の試験を行なつた。
しかし1化合物当たり1試験兎のみを行つた。以下の如
き結果を得た。容易に理解される如く、本発明に係るホ
スホベタインはわずかに軽度の目に対する刺激を示し、
一方ベタインおよびスルタインは重度刺激を示す。
以下、実施例により本発明方法およびその中で使用され
る新規中間体について説明する。比較例 1 反応体゛A” 脱イオン水60.00部を、NaH2PO,2258部
およびNaOHO.7O部が装入されている適当な反応
器に良好な撹拌下装入する。
溶液を得るまで十分混合する。エピクロルヒドリン17
42部を、良好に撹拌しながら投入する。反応器をシー
ルし次いで5PSIG(7)N2を適用する。パツチが
明澄になつた後、80−85℃までに加熱し、この温度
で2時間加熱された混合物を保持する(合計3時間)。
酸価における理論量の減少が得られるとき、反応は完全
である。無機の塩化物は0.50%未満である。生成物
は次の構造式: を有する新規化合物の水溶液である。
比較例 2 反応体゛B” 脱イオン水60.00部を、Na2HPO4l7.37
部が装入されている適当な反応器に装入する。
溶液を得るまで十分混合する。エピクロルヒドリン22
.63部を、良好に撹拌しながら投入する。反応器をシ
ールし次いで5PSIGのN2を適用する。80−85
℃までに加熱し、バツチが明澄になつた後、この温度で
2時間加熱された混合物を保持する(合計約3時間)。
酸価における理論量の減少がなされるとき、反応は完全
である。生成物は次の構造式: を有する新規化合物の水溶液である。
比較例 3 反応体゛C” 脱イオン水60.00部を、Na2HPO424.22
部が装入されている適当な反応器に装入する。
溶液を得るまで十分混合する。エピクロルヒドリン15
.78部を、良好に撹拌しながら投入する。反応器をシ
ールし次いで5PSIG(7)N2を適用する。80−
85℃までに加熱し、バツチが明澄になつた後、この温
度で2時間加熱された混合物を保持する(合計約3時間
)。
酸価における理論量の減少および理論量の無機塩化物の
量が得られるとき、反応は完全である。生成物は次の構
造式: を有する新規化合物の水溶液である。
比較例 4 反応体゛D” 脱イオン水60.00部を、NaH2PO4l7.O9
部およびNaOHO.7O部が装入されている適当な反
応器に装入する。
溶液を得るまで十分混合する。エピクロルヒドリン22
.91部を、良好に攪拌しながら投入する。反応器をシ
ールし次いで5PSIGのN2を適用する。80−85
℃までに加熱し、バツチが明澄になつた後、この温度で
3時間加熱された混合物を保持する(合計約5時間)。
酸価が理論量までに減少するとき、反応は完全である。
無機の塩化物は0.50%未満である。生成分は次の構
造式;を有する新規化合物の水溶液である。
比較例 5 反応体゛E” 脱イオン水60.00部を、NaH2PO42l.l7
部が装入されている適当な反応器に装入する。
溶液を得るまで十分混合する。エピクロルヒドリン18
.83部を、良好に撹拌しながら投入する。反応器をシ
ールし次いで5PSIG(:!)N2を適用する。80
−85℃までに加熱し、バツチが明澄になつた後、この
温度で約3時間反応混合物を保持する(合計約5時間)
酸価が理論量まで減少したとき、反応は完全である。生
成物は次の構造式: を有する新規化合物の水溶液である。
比較例 6 反応体゛[” 適当な反応器中の軟水60.00部に、Na2HPO3
l6.2O部を十分攪拌しながら徐々に添加する。
40〜50℃までに添加する。
十分攪拌しながらエピクロルヒドリン23.79部を徐
々に添加する。反応器をシールし次いで5PSIG窒素
を適用する。90〜95℃に加熱し次いで3〜4時間保
持する。
酸価の理論量の減少が起こりそして無機塩化物が理論量
の50%に達するとき、反応は完全である。比較例 7 反応体″G7 適当な反応器中の軟水60.00部に、Na2HPO3
l2.28部を十分撹拌しながら徐々に添加する。
40〜50℃までに加熱する。
十分攪拌しながらエピクロルヒドリン27.72部を徐
々に添加する。反応器をシールし次いで5PSIG窒素
を適用する。90〜95℃に加熱し次いで3〜4時間保
持する。
酸価がないとき、反応は完全である。(式中R1は70
%のCl,アルキノレ、30%のCl3アルキルである
)を有する新規化合物の水溶液である。
【比較例 8 反応体3H1 適当な反応器中、水60.00部に、燐酸−ナトリウム
21.1部を十分攪拌しながら添加する。
50〜55℃に加熱する。
十分攪拌しながらエピクロルヒドリン27.9部を徐々
に添加する。反応器をシールし次いで5PSIG窒素を
適用する。80〜85℃までにゆつくり加熱し次いで2
〜3時間保持する。
酸価が観察できない程に小レベルに至つた時、反応は完
全である。製品は次の構造式: を有する新規生成物の水溶液である。
実施例 1 反応体6Aゝ20.5部および水60.0部を、十分攪
拌しながら反応容器中に装入する。
50℃までに加熱する。
溶融した3−ココアミドプロピルジメチルアミン19.
5部を、良好な撹拌下徐々に加える。加熱を90〜95
℃までに継続しそして該温度にて3ないし4時間保持す
る。無機塩化物および第三級アミン分析により、前記時
間中反応が97%に達していることがわかる。生成物は
、次の構造式: (式中、R1はC7ないしCl7のアルキルである)を
有する新規化合物の水溶液である。
実施例 2 反応体″A72O.8部および水60.0部を、十分攪
拌しながら反応容器中に装入する。
約50℃までに加熱する。ラウルアミドプロピルジメチ
ルアミンおよびミリストアミドプロピルジメチルアミン
の70/30混合物の19.2部を、良好な撹拌下上記
溶液に徐々に加える。加熱を90〜95℃までに継続し
そして該温度にて3ないし4時間保持する。無機塩化物
および第三級アミン分析により、前記時間中反応が97
%に達していることがわかる。生成物は、次の構造式: までに加熱する。
1−ヒドロキシエチル−2−アルキル−2−イミダリン
(アルキルは7から17の炭素原子を有する)17.1
2部を、良好な撹拌下徐々に加える。
加熱を90〜95℃までに継続しそして加熱された混合
物を該温度にて4時間保持する。無機塩化物および第Ξ
級アミン分析により、前記時間中反応が97%に達して
いることがわかる。生成物は、次の構造式: (式中、RはC7〜Cl7アルキルである)を有する新
規化合物の水溶液である。
実施例 4 反応体゛A”20.8部および水60.0部を、十分撹
拌しながら反応容器中に装入する。
50℃までに加熱する。
1−ヒドロキシエチル−2−アルキル−2−イミダゾリ
ン(C,7である)19.2部:を、良好な撹拌下徐々
に加える。
加熱を90〜95℃までに継続しそして加熱された混合
物を該温度にて4時間保持する。無機塩化物および第三
級アミン分析により、前記時間中反応が97%に達して
いることがわかる。生成物は、次の構造式: (式中、RはCl7アルキルである) を有する新規化合物の水溶液である。
実施例 5 反応体゛B”26.8部および水60.0部を、十分撹
拌しながら反応容器中に装入する。
約50℃までに加熱する。3−ココアミドプロピルジメ
チルアミン13.2部を、良好な撹拌下前記溶液に徐徐
に加える。
加熱を90〜95℃までに継続しそして加熱された混合
物を該温度にて3なιル4時間保持する。無機塩化物お
よび第Ξ級アミン分析により、前記時間中反応が97%
に達していることがわかる。生成物は、次の構造式: (式中、RはC7〜C,,アルキルである)を有する新
規化合物の水溶液である。
実施例 6 反応体゛B”26.4部および水60.0部を、十分撹
拌しながら反応容器中に装入する。
約50℃までに加熱する。3−ラウルアミドプロピルジ
エチルアミンおよび3−ミリストアミドプロピルジエチ
ルアミンの70/30混合物13.6部を、良好な撹拌
下上記溶液に徐々に加える。
加熱を90〜95℃までに継続しそして加熱された混合
物を該温度にて3なιル4時間保持する。無機塩化物お
よび第三級アミン分析により、前記時間中反応が97%
に達していることがわかる。実施例 7 反応体゛C”22.4部および水60.0部を、十分撹
拌しながら反応容器中に装入する。
約50℃までに加熱する。3−コマミドプロピルジメチ
ルアミン176部を、良好な撹拌下上記溶液に徐々に加
える。
加熱を90〜95℃に継続しそしてこの温度で3〜4時
間保持する。無機塩化物および第三級アミン分析により
前記時間中反応は97%に達していることがわかる。生
成物は、次の構造式: (式中、R1はC7〜Cl7アルキルである)を有する
新規化合物の水溶液である。
実施例 8 反応体″C”25.7部および水60.0部を、十分攪
拌しながら反応容器中に装入する。
約50℃までに加熱する。ラウルアミドプロピルジメチ
ルアミンおよびミリストアミドジメチルアミン70/3
0混合物14.3部を、良好な撹拌下上記溶液に徐々に
加える。加熱を90〜95℃までに継続しそして該温度
にて3なιル4時間保持する。無機塩化物および第三級
アミン分析により、前記時間中反応が97%に達してい
ることがわかる。生成物は、次の構造式:(式中、R1
は70%Cllアルキルおよび30%Cl3アルキルで
ある)を有する新規化合物の水溶液である。
実施例 9 反応体゛D”14.4部および水60.0部を、十分撹
拌しながら反応容器中に装入する。
50℃までに加熱する。
溶融した3−ココアミドプロピルジメチルアミン25.
6部を、良好な撹拌下徐々に加える。加熱を90〜95
℃までに継続しそして加熱された混合物を該温度にて3
ないし4時間保持する。無機塩化物および第三級アミン
分析により、前記時間中反応が97%に達していること
がわかる。生成物は、次の構造式: (式中、RはC7〜Cl7アルキルである)を有する新
規化合物の水溶液である。
実施例 10 反応体゛D”15.3部および水60.0部を、十分撹
拌しながら反応容器中に装入する。
約50℃までに加熱する。3−ラウルアミドプロピルジ
メチルアミンおよび3−ミリストアミドプロピルジメチ
ルアミンの70/30混合物24.7部を、良好な撹拌
下前記溶液に徐々に加える。
加熱を90〜95℃までに継続しそして加熱された混合
物を該温度にて3ないし4時間保持する。無機塩化物お
よび第三級アミン分析により、前記時間中反応が98%
に達していることがわかる。生成物は、次の構造式: (式中、Rは70%のCllアルキルおよび30%のC
l3アルキルである)を有する新規化合物の水溶液であ
る。
実施例 11 1: [ しN3 υ▲▲3 ※りの第三級窒素レベルが観察できる程度に小さくなつ
たとき反応は完成する。
生成物は上記物質の水溶液である。
Rは炭素数7ないし17である。実施例 12 υr1 υI *時そして残りの第三級窒素レベルが観察できる程度に
小さくなつたとき反応は完成する。
生成物は上記物質の水溶液である。
Rは炭素数11である。実施例 13 ÷た時そして残りの第三級窒素レベルが観察できる程度
に小さくなつたとき反応は完成する。
生成物は上記物質の水溶液である。
Rは炭素数7である。実施例 14 !時間保持する。
理論量の無機塩化物が発生した時そして残りの第三級窒
素レベルが観察できる程度に小さくなつたとき反応は完
成する。生成物は上記物質の水溶液である。
Rは炭素数7ないし17である。実施例 15 40〜50℃に加熱しそして3−コカミドプロピルジメ
チルアミン18.88部を十分攪拌しながら添加する。
90〜95℃に加熱し次いで4〜5時間保持する。
理論量の無機塩化物が発生した時そして残りの第Ξ級窒
素レベルが観察できる程度に小さくなつたとき反応は完
成する。生成物は上記物質の水溶液である。
Rは炭素数7ないし17である。実施例 16 適当な反応器中の軟水60.00部に、反応体゛E’’
20.06部を十分撹拌しながら添加する。
40〜50℃に加熱しそして3−ラウルアミドプロピル
ジメチルアミンおよび3−ミリストアミドプロピルジメ
チルアミン70/30の混合物13.94部を十分撹拌
しながら添加する。
90〜95℃に加熱し次いで4〜5時間保持する。
理論量の無機塩化物が発生した時そして残りの第三級窒
素レベルが観察できる程度に小さくなつたとき反応は完
成する。生成物は上記物質の水溶液である。
Rは70%−C,l/30%− C,3である。実施例
17 適当な反応器中の軟水60.00部に、反応体゛E”2
0.82部を十分撹拌しながら添加する。
40〜50℃に加熱しそして3−ラウルアミドプロピル
ジメチルアミン19.18部を十分撹拌しながら添加す
る。
90〜95℃に加熱し次いで4〜5時間保持する。
理論量の無機塩化物が発生した〕時そして残りの第三級
窒素レベルが観察できる程度に小さくなつたとき反応は
完成する。生成物は上記物質の水溶液である。
Rは炭素数11である。実施例 18 適当な反応器中の軟水60.00部に、反応体゛E”2
3.10部を十分撹拌しながら添加する。
40〜50℃に加熱しそして3−カプリルアミドプロピ
ルジメチルアミン16.9部を十分撹拌しながら添加す
る。
90〜95℃に加熱し次いで4〜5時間保持する。
理論量の無機塩化物が発生した・・時そして残りの第三
級窒素レベルが観察できる程度に小さくなつたとき反応
は完成する。生成物は上記物質の水溶液である。
Rは炭素数7である。実施例 19 適当な反応器中の軟水60.00部に、反応体゛E”2
4.45部を十分撹拌しながら添加する。
40〜50℃に加熱しそして3−カプラミドプロピルジ
メチルアミン( 3 − CaprdmidOprOp
yldimethylamine)15.55部を十分
撹拌しながら添加する。
90〜95℃に加熱し次いで4〜5時間保持する。
理論量の無機塩化物が発生した時そして残りの第Ξ級窒
素レベルが観察できる程度に小さくなつたとき反応は完
成する。生成物は上記物質の水溶液である。
Rは炭素数5である。実施例 20 適当な反応器中の軟水60.00部に、反応体゛H’’
12.01部を十分撹拌しながら添加する。
40〜50℃に加熱しそしてコカミドプロピルジメチル
アミン27.99部を十分撹拌しながら添加する。
90〜95℃に加熱し次いで4〜5時間保持する。
理論量の無機塩化物が発生した時そして残りの第Ξ級窒
素レベルが観察できる程度に小さくなつたとき反応は完
成する。生成物は以下に示す物質: (式中、Rは炭素数7ないし17である)の水溶液であ
る。
実施例 21 適当な反応器中の軟水60.00部に、反応体゛H”1
2.17部を十分撹拌しながら添加する。
40〜50℃に加熱しそして1−ヒドロキシエチル−2
−アルキルイミダゾリン(アルキルはC,〜Cl7であ
る)27.83部を十分撹拌しながら添加する。
90〜95℃に加熱し次いで4〜5時間保持する。
理論量の無機塩化物が発生した時そして残りの第三級窒
素レベルが観察できる程度に小さくなつたとき反応は完
成する。生成物は以下に示す物質: (式中、Rは炭素数7ないし17である)の水溶液であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、発生する無機塩化物とホスフエート塩のPH
を示すグラフであり、第2図は、泡立ち高さとホスフエ
ート塩のPHを示すグラフであり、第3図は、曇りが生
じる濃度とホスフエート塩のPHを示すグラフである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、Rは6〜40個の炭素原子を有する第三級アミ
    ンであり;Yは3個までの酸素原子によつて中断されて
    いてもよい、炭素原子数12個までのアルキレンであり
    、該アルキレン鎖は、それぞれ炭素原子数以下の低級ア
    ルキル、アルコキシ、ヒドロキシもしくはヒドロキシア
    ルキルから選ばれる置換基を含有してもよく;AはOM
    又はOYR^+から選ばれ、 BはH、OM^+およびOYR′から選ばれ(但し、M
    ′は有機基である)、MおよびM′は次の群:(a)水
    素、(b)炭素原子数6までのアルキルもしくはヒドロ
    キシアルキル、炭素原子数10までのポリヒドロキシア
    ルキル、グリセリル、炭素原子数6までのシクロアルキ
    ル、炭素原子数10までのアリールもしくはアリールア
    ルキルから選ばれる有機基、又は(c)アルカリ金属(
    例えばナトリウムもしくはカリウム)、アルカリ土類金
    属(例えばマグネシウムもしくはカルシウム)およびモ
    ノ−、ジ−、もしくはトリエタノールアミンから選ばれ
    る塩の基から個々に選ばれ、Xはアニオンであり;更に zは1ないし3の整数である(但し、AがOMでありB
    が水素である場合、zは1であり、AがOMでありBが
    OYB′である場合zは2であり、更にAおよびBがO
    YR′である場合zは3である)}で表わされる少なく
    とも一種の第四級化合物を含んでなる燐含有界面活性剤
    の製造方法において、次式1a▲数式、化学式、表等が
    あります▼(1a){式中、Halはハロゲンであり; AはOMおよびOYHalから選ばれ; BはH、OM′およびOYHalから選ばれ(但しMは
    有機基である):Yは3個までの酸素原子によつて中断
    されていてもよい、炭素原子数12個までのアルキレン
    であり、該アルキレン鎖は、例えばそれぞれ炭素原子数
    10以下の低級アルキル、アルコキシ、ヒドロキシもし
    くはヒドロキシアルキルから選ばれる置換基を含有して
    もよくMおよびM′は次の群:(a)水素、(b)炭素
    原子数6までのアルキルもしくはヒドロキシアルキル、
    炭素原子数10までのポリヒドロキシアルキル、グリセ
    リル、炭素原子数6までのシクロアルキル、炭素原子数
    10までのアリールもしくはアリールアルキルから選ば
    れる有機基、又は(c)アルカリ金属(例えばナトリウ
    ムもしくはカリウム)、アルカリ土類金属(例えばマグ
    ネシウムもしくはカルシウム)およびモノ−、ジ−、も
    しくはトリエタノールアミンから選ばれる塩の基から個
    々に選ばれる)で表わされる燐エステル反応体(この燐
    エステル反応体は燐酸ジエステルおよびトリエステル並
    びに亜燐酸第二エステルから選ばれる)を次式:▲数式
    、化学式、表等があります▼(式中、R_1、R_2、
    およびR_3の各々はアルキル、アルケニル、アルキニ
    ル、アリール又はアルカリールであり更に所望によりヘ
    テロ原子例えば酸素、窒素、又はイオウにより中断され
    ていてもよく、更に他の官能基、例えばエステル又はア
    ミド部分を含有できる)を有するアミン、又は次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_4はC_7〜C_1_7アルキルであり、
    R_5はヒドロキシエチルである)で表わされるイミダ
    ゾリン基である置換アミンと反応せしめることを含んで
    なる前記方法。 2 前記燐エステル反応体が次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、Halはハロゲンであり、 AはOMおよびOYHalから選ばれ、 BはH、OM′およびOYHalから選ばれ(但しM′
    は有機基であるものとする)、Yは3個までの酸素原子
    によつて中断されていてもよい、炭素原子12個までの
    アルキレンであり、該アルキレン鎖は、例えばそれぞれ
    炭素原子10以下の低級アルキル、アルコキシ、ヒドロ
    キシもしくはヒドロキシアルキルによつて置換されてい
    てもよく;MおよびM′は次の群:(a)水素、(b)
    炭素原子数6までのアルキルもしくはヒドロキシアルキ
    ル、炭素原子数10までのポリヒドロキシアルキル、グ
    リセリル、炭素原子数6までのシクロアルキル、炭素原
    子数10までのアリールもしくはアリールアルキルから
    選ばれる有機基、又は(c)アルカリ金属(例えばナト
    リウムもしくはカリウム)、アルカリ土類金属(例えば
    マグネシウムもしくはカルシウム)およびモノ−、ジ−
    、もしくはトリエタノールアミンから選ばれる塩の基か
    ら個々に選ばれる}を有する、特許請求の範囲第1項記
    載の方法。 3 前記燐エステル反応体が、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1a){式中、H
    alはハロゲンであり、 AはOMおよびOYHalから選ばれ、 BはH、OM′およびOYHalから選ばれ(但しM′
    は有機基であるものとする)、MおよびM′は次の群:
    (a)水素、(b)炭素原子数6までのアルキルもしく
    はヒドロキシアルキル、炭素原子数10までのポリヒド
    ロキシアルキル、グリセリル、炭素原子数6までのシク
    ロアルキル、炭素原子数10までのアリールもしくはア
    リールアルキルから選ばれる有機基、又は(c)アルカ
    リ金属(例えばナトリウムもしくはカリウム)、アルカ
    リ土類金属(例えばマグネシウムもしくはカルシウム)
    およびモノ−、ジ−、もしくはトリエタノールアミンか
    ら選ばれる塩の基から個々に選ばれ、そしてYは▲数式
    、化学式、表等があります▼である}を有する特許請求
    の範囲第2項記載の方法。 4 前記燐エステル反応体が次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、AはOMであり、BはOM′であり、MはNa
    であり、M′はグリセリルである)を有する特許請求の
    範囲第3項記載の方法。 5 前記燐エステル反応体が次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、AはOMであり、BはOM′であり、Mはグリ
    セリルであり、M′は▲数式、化学式、表等があります
    ▼である)を有する、特許請求の範囲第3項記載の方法
    。 6 前記燐エステル反応体が次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、AはOMであり、BはHであり、M′はグリセ
    リルである)を有する特許請求の範囲第3項記載の方法
    。 7 前記燐エステル反応体が次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、AはOMであり、Bは水素であり、Mは▲数式
    、化学式、表等があります▼である)を有する特許請求
    の範囲第3項記載の方法。 8 前記燐エステル反応体が次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、AおよびBは基▲数式、化学式、表等がありま
    す▼である)を有する特許請求の範囲第3項記載の方法
    。 9 前記燐エステル反応体が次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、AはOM、BはOYHal、MはNaである)
    を有する特許請求の範囲第3項記載の方法。 10 次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは6〜40個の炭素原子を有する第三級アミ
    ンであり;Yは3個までの酸素原子によつて中断されて
    いてもよい、炭素原子数12個までのアルキレンであり
    、該アルキレン鎖は、それぞれ炭素原子数10以下の低
    級アルキル、アルコキシ、ヒドロキシもしくはヒドロキ
    シアルキルから選ばれる置換基を含有してもよく;Aは
    OM又はOYR^+(両式中、YおよびRは先に定義し
    た意味を有する)から選ばれ、BはH、OM′(但しM
    ′は有機基である)又はOYR′から選ばれ、Mおよび
    M′は次の群:(a)水素、(b)炭素原子数6までの
    アルキルもしくはヒドロキシアルキル、炭素原子数10
    までのポリヒドロキシアルキル、グリセリル、炭素原子
    数6までのシクロアルキル、炭素原子数10までのアリ
    ールもしくはアリールアルキルから選ばれる有機基又は
    (c)アルカリ金属、アルカリ土類金属およびモノ−、
    ジ−、もしくはトリエタノールアミンから選ばれる塩の
    基から個々に選ばれXはアニオンであり、 zはAがOMでありBが水素である場合zは1であり、
    AがOMでありBがOYR′である場合Zは2でありA
    およびBがOYR′である場合zは3であることを条件
    として1から¥3¥の整数である。 )で表わされる、少なくとも一種の第四級化合物を含ん
    でなる燐含有界面活性剤。11 次の式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは第4級アンモニウム基である)を有する特
    許請求の範囲第10項記載の界面活性剤。 12 特許請求の範囲第11項記載の式中、Rが次式、
    ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′はC_7ないしC_1_7のアルキルであ
    る)である特許請求の範囲第11項記載の界面活性剤。 13 特許請求の範囲第11項記載の式中、Rが次式、
    ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′はC_7ないしC_1_7のアルキルであ
    る)である特許請求の範囲第11項記載の界面活性剤。 14 次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは第4級アンモニウム基である)を有する特
    許請求の範囲第10項記載の界面活性剤。 15 特許請求の範囲第14項記載の式中、Rが次式、
    ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′はC_7ないしC_1_7のアルキルであ
    る)である特許請求の範囲第14項記載の界面活性剤。 16 特許請求の範囲第14項記載の式中、Rが次式、
    ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′はC_7ないしC_1_7のアルキルであ
    る)である、特許請求の範囲第14項記載の界面活性剤
    。 17 次の式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素原子数6ないし40の第三級アミンで
    あり;そしてXはアニオンである)を含有する、燐含有
    界面活性剤。 18 前記燐含有界面活性剤が次の構造式:▲数式、化
    学式、表等があります▼(式中、RはC_7ないしC_
    1_7のアルキルである)を有する特許請求の範囲第1
    7項記載の燐含有界面活性剤。 19 前記燐含有活性剤が次の構造式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは70%のC_1_1アルキルである)を有
    する特許請求の範囲第17項記載の燐含有界面活性剤。
JP54155473A 1978-11-30 1979-11-30 燐含有界面活性剤の製造方法 Expired JPS594478B2 (ja)

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