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JPS5947420B2 - cathode ray tube - Google Patents
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JPS5947420B2 - cathode ray tube - Google Patents

cathode ray tube

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Publication number
JPS5947420B2
JPS5947420B2 JP57191732A JP19173282A JPS5947420B2 JP S5947420 B2 JPS5947420 B2 JP S5947420B2 JP 57191732 A JP57191732 A JP 57191732A JP 19173282 A JP19173282 A JP 19173282A JP S5947420 B2 JPS5947420 B2 JP S5947420B2
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JP
Japan
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mask
screen
center
tube
cathode ray
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Application number
JP57191732A
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Japanese (ja)
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JPS5893146A (en
Inventor
アルバ−ト・マツクスウエル・モレル
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RCA Corp
Original Assignee
RCA Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by RCA Corp filed Critical RCA Corp
Publication of JPS5893146A publication Critical patent/JPS5893146A/en
Publication of JPS5947420B2 publication Critical patent/JPS5947420B2/en
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • HELECTRICITY
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
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    • HELECTRICITY
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0727Aperture plate
    • H01J2229/0788Parameterised dimensions of aperture plate, e.g. relationships, polynomial expressions

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、平坦なフェースプレートを有し有孔シャド
ウマスクを内蔵する型の陰極線管に、特に、管のウオー
ムアツプ時に、シャドウマスクが球面状に盛上る現象(
以下ドーミングとする)によって生じる管のスクリンの
螢光体素子と電子ビームとの重なシ位置の不整合(以下
位置ずれという)を減少し得るシャドウマスクの構成に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a cathode ray tube having a flat face plate and a built-in perforated shadow mask, in particular to a phenomenon in which the shadow mask bulges into a spherical shape during warm-up of the tube.
The present invention relates to a configuration of a shadow mask capable of reducing misalignment (hereinafter referred to as positional deviation) between a phosphor element of a tube screen and an electron beam caused by doming (hereinafter referred to as doming).

カラー映像を発生するためのシャドウマスク型陰極線管
では、多数の孔を持つ色選択シャドウマスクを通して、
複数の集束された電子ビームが、モザイク状の螢光スク
リンへ投射される。
In a shadow mask type cathode ray tube for producing color images, a color selection shadow mask with a large number of holes is used to produce color images.
Multiple focused electron beams are projected onto a mosaic of fluorescent screens.

それらのビームの進路は、マスクを通って、各1つのビ
ームが、それぞれスクリン上の発色螢光体の1種類だけ
に突き轟たり、これを衝撃して励起させるように定めら
れている。
The beams are directed through the mask so that each beam impinges upon or excites only one type of color-forming phosphor on the screen.

一般に、シャドウマスクは、強固な枠に取付けられ、こ
の枠は映像管の外囲器の中に支持されている。
Generally, the shadow mask is mounted on a rigid frame that is supported within the picture tube envelope.

カラー陰極線管の動作時に、シャドウマスクは、電子衝
撃を受けて発熱する。
During operation of a color cathode ray tube, the shadow mask receives electron bombardment and generates heat.

シャドウマスクの周縁は少々重量のある枠にと9つけら
れ、この枠がヒートシンク(熱愛入場)として働くから
、マスクの中心部分と周辺部分との間にはある温度差が
発生する。
The periphery of the shadow mask is attached to a somewhat heavy frame, and this frame acts as a heat sink, creating a certain temperature difference between the center and peripheral parts of the mask.

この温度差のせいで、マスクの周辺部分と中心部分と枠
とが異なった割合で膨張する。
This temperature difference causes the periphery, center, and frame of the mask to expand at different rates.

この膨張度の差によって、マスクのいくつかの部分に、
スクリンに向かうドーミングが発生する。
Due to this difference in expansion degree, some parts of the mask
Doming occurs towards the screen.

スクリンの中央部分では、マスクとスクリンとの間の間
隔に変化があったとしても、螢光体素子へのビームの直
線的な進行には影響がないから、このドーミングは、ス
クリン中央部での電子ビームと螢光体素子との位置の重
なりにほとんど影響を及ぼさない。
This doming is due to the fact that in the central part of the screen, changes in the spacing between the mask and the screen do not affect the linear progression of the beam to the phosphor element. It has little effect on the positional overlap between the electron beam and the phosphor element.

また、マスクの周辺部分では、枠に固定されているので
、この部分にはドーミングが生じない。
Further, since the peripheral portion of the mask is fixed to the frame, doming does not occur in this portion.

そこで、ドーミングによる最大の位置ずれは、マスクの
中心と、マスクの周縁とのだいたい中央付近に現われる
ことになる。
Therefore, the maximum positional deviation due to doming appears near the center between the center of the mask and the periphery of the mask.

ここで「位置ずれ(misregister) Jは、
電子ビームが、それに対応する螢光体素子から偏心する
量と定義する。
Here, "misregister J" is
It is defined as the amount by which an electron beam is eccentric from its corresponding phosphor element.

上述のドーミングが現われるために、マスクを通り抜け
た電子ビームは、スクリンの螢光体素子との間に位置ず
れを生じる。
Because of the above-mentioned doming, the electron beam passing through the mask is misaligned with the phosphor elements of the screen.

このドーミングによる位置ずれは、管が動作を始めてか
ら、3から5分でピークに達するが、さらに10から1
5分間は、減衰しながらも、管の性能に影響を与える。
This misalignment due to doming reaches its peak within 3 to 5 minutes after the tube starts operating, but it also reaches its peak within 10 to 1 minute.
The 5 minute period affects tube performance, albeit attenuated.

管が安定した温度状態に達すると、マスクの膨張によっ
て生じた電子ビームの位置ずれは、全体として、マスク
とフレーム組立をスクリンに向けて移動させる温度感知
性を持つ枠支持手段によって補償される。
Once the tube reaches a stable temperature condition, the electron beam misalignment caused by the expansion of the mask is compensated for by the temperature sensitive frame support means which moves the mask and frame assembly as a whole towards the screen.

このような温度補償支持手段は、モレル(IVitrr
ell )氏の米国特許3,803,436号に開示さ
れている。
Such temperature-compensated support means are suitable for morel (IVitrr
U.S. Pat. No. 3,803,436 to John E.

ドーミングにいくらかの関係のある別の問題として、火
ぶくれ(biister)様のマスクの部分的な反りが
ある。
Another problem that has some bearing on doming is partial warping of the mask, like a blister.

この「火ぶくれ」ば、管の動作中に、ビデオのバタンた
とえばTV映像中の持続的な白色スポットによってマス
クの一部に局部的な加熱が与えられることによって生じ
るものである。
This "blister" is caused by localized heating of a portion of the mask during operation of the tube by a video slam, such as a persistent white spot in a TV picture.

この発明の陰極線管は平坦なフェースプレートを持ち、
且つ、スクリンの螢光体素子上に電子ビームを位置合せ
するために有孔シャドウマスクを利用するものである。
The cathode ray tube of this invention has a flat face plate,
Additionally, a perforated shadow mask is utilized to align the electron beam onto the phosphor elements of the screen.

そして、この発明の陰極線管は、上記マスクと上記スク
リンとの間隔の変化率の極性が上記マスクの中心と上記
マスクの周縁との間で少なくとも1回変わるように構成
され、且つ、上記マスクと上記スクリンとの間隔の変化
は上記マスクの隣接する孔同士の間隔の変化に比例した
変化を含むように構成されている。
The cathode ray tube of the present invention is configured such that the polarity of the rate of change in the distance between the mask and the screen changes at least once between the center of the mask and the periphery of the mask; The change in the distance from the screen is configured to include a change proportional to the change in the distance between adjacent holes of the mask.

この発明によって、マスクのドーミングと「火ぶくれ」
現象が低減され、これらの問題に起因する電子ビームの
位置ずれも減少する。
With this invention, mask doming and "blister"
phenomena are reduced, and the misalignment of the electron beam due to these problems is also reduced.

第1図は、従来の長方形映像面を持つカラー映像管を示
し、長方形パネルあるいはキャップ22と、これに、フ
ァンネル部26を介して結合された管状のネック部24
とから成る排気されたガラス外囲器20を備えている。
FIG. 1 shows a conventional color picture tube with a rectangular picture surface, including a rectangular panel or cap 22 and a tubular neck part 24 connected thereto via a funnel part 26.
and an evacuated glass envelope 20 consisting of.

パネル22は、フェースプレート28と、これを囲むフ
ランジまたは側壁30を有し、この側壁30によってフ
ァンネル部26に封着されている。
Panel 22 has a faceplate 28 and a surrounding flange or sidewall 30 by which it is sealed to funnel portion 26 .

フェースプレート28の内面には、モザイク状の3色の
螢光体から成るスクリン32が設けられている。
A screen 32 made of mosaic-shaped phosphors of three colors is provided on the inner surface of the face plate 28.

このスクリン32は、線スクリンすなわち、管のスクリ
ンの垂直軸に事実上平行な螢光体線から成る平行螢光体
線群あるいは縞から成る配列を持つものである。
The screen 32 is a line screen, ie, an array of parallel phosphor lines or stripes of phosphor lines substantially parallel to the vertical axis of the screen of the tube.

隣接する螢光体線と螢光体線の間は、光吸収性物質で埋
められている。
The space between adjacent phosphor lines is filled with light-absorbing material.

このスクリン32と所定の間隔関係をもって、多数の孔
があけられた色選択電極板すなわちシャドウマスク34
が、取外し可能に取付けられている。
A color selection electrode plate, that is, a shadow mask 34 having a large number of holes formed therein at a predetermined distance from the screen 32.
is removably attached.

ネック24の中にはインライン型電子銃36が設けられ
ている。
An in-line electron gun 36 is provided within the neck 24.

電子銃36は、第1図に破線で示されているように、3
本の電子ビーム38B、38Rおよび38Gを発生し、
これらの電子ビームが、共通平面にある集中進路に沿っ
て、マスク34を通り抜け、スクリン32まで導かれる
The electron gun 36 has three
generating book electron beams 38B, 38R and 38G;
These electron beams are directed through a mask 34 to a screen 32 along a coplanar focused path.

ヨーク40に適切な電圧が与えられると、これら3本の
ビーム38B、38Rおよび38Gは、垂直および水平
の磁場の影響を受けて、スクリン32の全面に亘って、
長方形のマスクを作るように、水平と垂直方向の走査を
行なう。
When a suitable voltage is applied to the yoke 40, these three beams 38B, 38R and 38G, under the influence of vertical and horizontal magnetic fields, span the entire surface of the screen 32.
Perform horizontal and vertical scanning to create a rectangular mask.

第1図では、簡略化のために、偏向領域における偏向さ
れたビームの進路の現実の曲線は示されてない。
In FIG. 1, for the sake of simplicity, the actual curve of the path of the deflected beam in the deflection region is not shown.

その代9に、これらのビームが、偏向面P−Pで、突然
に折れ曲っているように示されている。
At 9, these beams are shown as being bent abruptly at the plane of deflection P--P.

ここでは、インライン型電子銃を持つ線スクリン型の陰
極線管について、この発明の説明を進めるが、一般的に
言って、この発明の考え方は、デルタ配置の電子銃を持
つドツト螢光体スクリン型陰極線管あるいはその他の型
の陰極線管にも適用可能であるものと理解されたい。
Here, this invention will be explained with reference to a line screen type cathode ray tube with an inline type electron gun, but generally speaking, the idea of this invention is to use a dot phosphor screen type cathode ray tube with an electron gun in a delta arrangement It should be understood that cathode ray tubes or other types of cathode ray tubes are also applicable.

この発明を充分に理解するには、電子ビームの「位置ず
れ」とは何かを知ることが望ましい。
In order to fully understand this invention, it is desirable to know what "misalignment" of an electron beam is.

第2図、第3図および第4図に、スクリン32の一部に
突き当たる電子ビーム38Gが示されている。
2, 3, and 4, electron beam 38G is shown impinging on a portion of screen 32. FIG.

各螢光体線(42R142Gおよび42B)は、隣合う
ものと互に隔てられ、その間隙は光吸収性物質44で埋
められている。
Each phosphor line (42R142G and 42B) is separated from its neighbor, and the gap is filled with light absorbing material 44.

ビーム38Gの幅は、その対応する螢光体線42Gの幅
よシ、僅かに広くされている。
The width of beam 38G is slightly wider than the width of its corresponding phosphor line 42G.

このような構成は、一般に、負公差マトリックスと呼ば
れ、この発明を実施するのに好ましいスクリン構造であ
る。
Such a configuration is commonly referred to as a negative tolerance matrix and is the preferred screen configuration for practicing this invention.

しかし、この発明は、正公差マ) IJツクス管(光吸
収性物質で隔てられている螢光体線の幅が、対応するビ
ーム幅より広いもの)および無マトリックス管にも同じ
ように適用可能である。
However, the invention is equally applicable to IJ tubes (in which the width of the phosphor lines separated by light-absorbing material is wider than the corresponding beam width) and matrix-less tubes. It is.

第2図で、電子ビーム38Gは、対応する螢光体線42
Gと、正確に中心が合っている。
In FIG. 2, the electron beam 38G has a corresponding phosphor line 42.
The center is exactly aligned with G.

これが、正確なカラー出力(発色)を得るために望まれ
るビーム位置である。
This is the desired beam position for accurate color output.

管のウオームアツプが始まると、シャドウマスクのドー
ミングが現われて、マスクの中心部分をスクリンに向け
て移動させ、第3図に示されるように、ビーム38Gと
螢光体線42Gとの位置ずれが始まる。
As the tube begins to warm up, doming of the shadow mask appears, causing the central portion of the mask to move toward the screen, causing the misalignment of beam 38G and phosphor line 42G, as shown in FIG. It begins.

この例では、緑螢光体線は充分な励起が得られなくなり
、緑色出力の強さが落ちる。
In this example, the green phosphor line is no longer sufficiently excited and the intensity of the green output is reduced.

第4図は、さらに極端な場合を示し、ここでは、電子ビ
ーム38Gは、隣の螢光体線42Bをたたく範囲まで位
置ずれを生じておシ、色純度に係る問題を起こす。
FIG. 4 shows a more extreme case, in which the electron beam 38G is misaligned to the extent that it strikes the adjacent phosphor line 42B, causing a problem with color purity.

前に指摘した如く、ドーミング現象は、シャドウマスク
構体の不均一な加熱によって生じる。
As previously pointed out, the doming phenomenon is caused by non-uniform heating of the shadow mask structure.

第5図のグラフは、スクリンの中心部と周縁部との中間
にある螢光体線に対する電子ビームの時間の関数として
の位置ずれを示す。
The graph in FIG. 5 shows the displacement of the electron beam as a function of time for a phosphor line intermediate the center and periphery of the screen.

実線で描かれた曲線50は、従来の管についての位置ず
れを、捷た破線の曲線は、この発明の1つの実施例を利
用した管での位置ずれを表わしている。
The solid curve 50 represents the displacement for a conventional tube, and the broken dashed curve represents the displacement for a tube utilizing one embodiment of the present invention.

曲線50と52のピークは、ともに、管が付勢されてか
ら、3から5分後に現われている。
The peaks of curves 50 and 52 both appear 3 to 5 minutes after the tube is energized.

その後、マスクのウオームアツプが持続されるに伴って
位置ずれが減少している。
Thereafter, as the mask continues to warm up, the positional deviation decreases.

ドーミングは、マスクの周縁部が固定保持されていると
き、マスクの一部がスクリンに向って移動する現象であ
ることに注目すべきである。
It should be noted that doming is a phenomenon in which a portion of the mask moves toward the screen when the peripheral edge of the mask is held stationary.

この移動の効果が第6図に描かれている。The effect of this movement is depicted in Figure 6.

シャドウマスクは、加熱されず従ってドーミングを生じ
ていない符号34で示される位置と、加熱されてドーミ
ングが生じている飄符号34′で示される位置と、2つ
の位置で示されている。
The shadow mask is shown in two positions, one at 34 where it is unheated and therefore not doming, and the other at 34' where it is heated and doming occurs.

加熱されていないマスク34の孔の1つを通り抜けるビ
ーム38Gの境界が破線39で示され、また、ドーミン
グを生じているマスク34′の同じ孔を通り抜けるビー
ムの境界が鎖線39′で示されている。
The boundary of a beam 38G passing through one of the holes in the unheated mask 34 is shown by a dashed line 39, and the boundary of a beam passing through the same hole in the mask 34' which is doming is shown by a dashed line 39'. There is.

第6図での距離\\X“は、ドーミングのために現われ
る位置ずれc量を表わす。
The distance \\X" in FIG. 6 represents the amount of positional deviation c that appears due to doming.

ドーミングによる位置ずれの結果は、スクリン上でのビ
ームの到着位置の、スクリン32の中心に向かう移動と
して現われる。
The result of misalignment due to doming appears as a movement of the beam arrival position on the screen toward the center of the screen 32.

マスクのウオームアツプの進行に伴なって、マスク内で
の温度分配が減少するので、ドーミング効果も減少する
As the mask warms up, the doming effect also decreases because the temperature distribution within the mask decreases.

さらに、マスクの加熱によってマスクが膨張して拡がシ
、これによって、マスクの孔位置が、元の位置から側方
に、外向きに(すなわち、スクリンに平行に)移動させ
られる。
Additionally, heating the mask causes the mask to expand and expand, thereby moving the aperture positions in the mask laterally and outwardly from their original positions (ie, parallel to the screen).

このような外向きの移動によって、スクリンの中心から
遠ざかる向きの新たな位置ずれが生じる。
This outward movement creates a new displacement away from the center of the screen.

そこで、このドーミングの減少とマスクの加熱の組合せ
によって、マスクの孔が、対応する螢光体線と一致する
向きに戻ることになる。
This reduction in doming, in combination with heating the mask, then causes the mask holes to be oriented back into alignment with the corresponding phosphor lines.

しかし、マスクの膨張は、スクリンの周辺部において、
さらにきびしい位置ずれの問題を生じる。
However, the expansion of the mask at the periphery of the screen
This causes a more serious problem of misalignment.

この、スクリンの周縁部での位置ずれを修正するために
、マスク・枠構体を熱感知支持体上に支え、このマスク
・枠構体をスクリンに向けて移動させ、マスクの膨張に
よる位置ずれを除去し、あるいは少なくとも減少するこ
とが一般に行なわれる。
In order to correct this misalignment at the periphery of the screen, the mask/frame assembly is supported on a heat-sensing support, and the mask/frame assembly is moved toward the screen to eliminate misalignment due to mask expansion. It is common practice to increase or at least reduce

この方法で得られる補償は、支持体中のマスクの各部分
の間に温度分配が存在しない場合にのみ正しいので、中
間の点では、第5図の曲線で示されるような、いくらか
の残留ずれが存在する。
Since the compensation obtained in this way is only correct if there is no temperature distribution between the parts of the mask in the support, at intermediate points there will be some residual deviation, as shown by the curve in Figure 5. exists.

また、マスクは、その周縁すなわち枠に、大きなヒート
シンクを持つ形をしているから、管の動作中、マスクに
は常にいくらかの熱の移動と温度変化が存在し、従って
、いくらかのドーミングが常に存在する。
Also, since the mask is shaped with a large heat sink at its periphery or frame, there is always some heat transfer and temperature change across the mask during operation of the tube, and therefore there is always some doming. exist.

第7図にあるシャドウマスク管の各部の幾可学的関係が
示されている。
The geometrical relationships of the parts of the shadow mask tube in FIG. 7 are shown.

線P−Pは、第1図と同様に偏向面(零個向での)を表
わす。
The line P--P represents the deflection plane (in zero orientation) as in FIG.

平面P−Pとスクリン32との間の距離はNL〃で、ま
た、シャドウマスク34とスクリン32との間の間隔(
軸線A−Aに平行に測って)はSS q//で示されて
いる。
The distance between the plane PP and the screen 32 is NL〃, and the distance between the shadow mask 34 and the screen 32 (
(measured parallel to axis A-A) is designated SS q//.

さらに、距離SS S“は、中心軸線A−Aから軸外れ
位置にある電子ビームの中心54までの偏向面P−Pに
おける距離を、またSS a//は、マスク34の2つ
の孔の中心−中心間隔を表わすものとする。
Furthermore, the distance SS S" is the distance in the deflection plane P-P from the center axis A-A to the center 54 of the electron beam located off-axis, and SS a// is the distance between the centers of the two holes in the mask 34. - shall represent the center spacing.

以上に述べた寸法は、だいたい次の式で表示されるよう
な関係を持っている。
The dimensions described above have a relationship roughly expressed by the following formula.

この発明では、ドーミングの効果を減少する目的で、シ
ャドウマスク56に対して、従来の、同様構造の管で見
られるより大きい曲率を与えてNq“により大きい変化
を与えている。
In the present invention, in order to reduce the effect of doming, the shadow mask 56 is given a greater curvature than that seen in conventional tubes of similar construction, resulting in a greater change in Nq.

同時に、亀a“の値もXX q“に比例して変更される
At the same time, the value of the curve a" is also changed in proportion to XX q".

このことは、マスク全体に亘ってSS a”の値が一様
とされ、XX q〃が、SS I、“およびSS S
//だけの変化に伴って変化できるようになっている、
従来の線スクリン型陰極線管とは異なっている。
This means that the value of SS a'' is uniform throughout the mask, and XX q〃 is equal to SS I, "and SS S
It is possible to change according to the change of // only,
This is different from the conventional screen-type cathode ray tube.

第8図、第8A図、第8B図および第8C図に。In Figures 8, 8A, 8B and 8C.

曲率半径1000mの従来のシャドウマスクが示されて
いる。
A conventional shadow mask with a radius of curvature of 1000 m is shown.

このマスクのNa“の値と、スリット(縦長の孔)の幅
は、調単位で表わされている。
The value of Na'' of this mask and the width of the slit (vertical hole) are expressed in units of tone.

マスクの中心部60、周辺部62および中心と周辺との
中間の部分64における六a“の値は定数0.77rr
anであることが示されている。
The value of 6a'' at the center 60, periphery 62, and intermediate portion 64 between the center and periphery of the mask is a constant 0.77rr.
It is shown that an.

スリット幅は、マスク34の中心部60から周辺部62
へ向って、次第に寸法が短くなるように変化させられて
いる。
The slit width is from the center 60 to the periphery 62 of the mask 34.
The dimensions are gradually becoming shorter towards the end.

第9図、第9A図、第9B図および第9C図に示された
、この発明に関連した例である曲率半径850tran
のシャドウマスク56では、孔(との場合スリット)の
中心間距離六a“は中心部66で0、77 rrrms
中間点68で0.885咽、周辺部70で1.000m
店いう具合に次第に大きくなっている。
The radius of curvature is 850 tran as shown in FIGS. 9, 9A, 9B and 9C.
In the shadow mask 56, the distance 6a'' between the centers of the holes (slits in the case of 2) is 0.77 rrrms at the center 66.
0.885m at intermediate point 68, 1.000m at peripheral part 70
The store is gradually getting bigger.

第8図の従来のマスク34で用いられたものと同一のス
リット幅が、第9図のマスク56でも用いられるならば
、マスクの透過率が所望レベルよシも減少されよう。
If the same slit width used in conventional mask 34 of FIG. 8 were used in mask 56 of FIG. 9, the transmission of the mask would be reduced to the desired level.

従って、マスクの所望の透過率を維持するために、この
スリット幅は従来のマスクのスリット幅に比べて大きく
されている。
Therefore, in order to maintain the desired transmittance of the mask, this slit width is increased compared to the slit width of conventional masks.

実際に、XXa“の値が、マスク中心部の0.77rr
rmから周辺部の1.14mまで変化させられるなら、
スリット幅は、所定の透過率を得るためには、マスク全
体に亘って一定値0.15:rarLに保ってもよい。
In fact, the value of XXa" is 0.77rr at the center of the mask.
If it can be changed from rm to 1.14m at the periphery,
The slit width may be kept at a constant value of 0.15:rarL over the entire mask in order to obtain a predetermined transmittance.

スリット幅の増大は、これによってマスクの製作が容易
になるので、太いに望ましいことである。
Increasing the slit width is desirable as it facilitates mask fabrication.

2つの従来の管と、2つの、この発明に関連した管につ
いて、マスクからスクリンまでの距離(q−管の主軸線
に平行に測った)の比が、表Aに示されている。
The ratio of the mask-to-screen distance (measured parallel to the major axis of the q-tube) is shown in Table A for two conventional tubes and two tubes related to the present invention.

第1の列は、マスクの中心部でのqに対する、マスク面
の長軸上での縁辺部におけるqの比を示す。
The first column shows the ratio of q at the edge on the long axis of the mask surface to q at the center of the mask.

また、第2列は、マスク面の対角線上における同じ比を
示す。
The second column also shows the same ratio on the diagonal of the mask surface.

この発明に関連した管では、周辺対中心q間隔比が、従
来管での同じ比より可成り大きいことがわかる。
It can be seen that in the tubes associated with this invention, the peripheral to central q-spacing ratio is significantly greater than the same ratio in conventional tubes.

また、この発明に関連した管の2例について、周辺対中
心q間隔比の値はすべて1.15より大きいこともわか
る。
It can also be seen that for the two examples of tubes associated with this invention, the values of the peripheral to center q-spacing ratio are all greater than 1.15.

シャドウマスクの曲率を、半径1000wmから半径8
50 mmt’で大きくすると、ドーミングと「火ぶく
れ」ひずみと、これらに基づく位置ずれがそれぞれ少な
くなる。
Change the curvature of the shadow mask from radius 1000wm to radius 8
A larger value of 50 mmt' reduces doming and "blister" distortions, as well as the misalignment caused by these.

曲率を増加させると強度が増加する。Increasing curvature increases strength.

そこで、マスクのひずみ(反り)を減少させることが可
能である。
Therefore, it is possible to reduce distortion (warpage) of the mask.

さらに、管が作動しマスクが加熱されるときの各部分の
間の幾可学的関係のせいで、一定のマスクの膨張に対し
て、より大きい曲率を持つマスク上の1点は−より小さ
い曲率を持つマスクの、同様の位置にある点に比べて、
スクリンに向けて移動する距離が短い。
Furthermore, because of the geometric relationships between the parts when the tube is actuated and the mask is heated, for a given mask expansion, one point on the mask with a greater curvature is - less than Compared to a point at a similar position on a mask with curvature,
The distance traveled towards the screen is short.

以上で示したマスクの曲率について、ドーミングあるい
はマスクの一部分のヌク。
Regarding the curvature of the mask shown above, doming or nudging of a part of the mask.

リンに向かっての移動は、1000mの曲率半径を持つ
マスクでの約48ミクロンから、850rMLの曲率半
径を持つマスクで約30ミクロンと小さくなる。
The shift toward phosphorus decreases from about 48 microns for a mask with a radius of curvature of 1000 m to about 30 microns for a mask with a radius of curvature of 850 rML.

Na“の増加によって、中心をはずれた位置にある螢光
体線の位置ずれ公差を増すことが可能になる。
Increasing Na" allows increasing the misalignment tolerance of the phosphor lines at off-center positions.

再び、前に述べた如く、スクリン上での線間隔は、あま
り大きくできない、これが大きすぎれば、画面の粗さが
目立つようになる。
Again, as mentioned before, the line spacing on the screen cannot be too large; if it is too large, the roughness of the screen will become noticeable.

従って、選ばれる間隔は、3本組をなす線状螢光体とし
て許し得る粗さと、可能な公差の増大との間の妥協点と
いうことになる。
The spacing chosen is therefore a compromise between the allowable roughness of the linear phosphor triplet and the possible increased tolerance.

スクリンの中心部分ではXX a“を小さな値に維持し
ながら、周辺部分に近いところでは、SS a “を大
きくすることによって、スクリンに見える画面の様相は
、微細な画素の配列を持つものと感じられるようになる
By keeping XX a" to a small value in the center of the screen and increasing SS a" near the periphery, the appearance of the screen appears to be one with a fine pixel arrangement. You will be able to do it.

表Bに、従来の管と、従来の管のマスクより大きい曲率
(半径850M対100100Oを持つシャドウマスク
を備えるとの発明に関連した管について、スクリンの中
心部と周辺部との中間の点における公差とドーミングに
よる位置ずれの測定結果が示されている。
Table B shows, at a point midway between the center and the periphery of the screen, for a conventional tube and a tube associated with the invention comprising a shadow mask with a radius of 850M vs. 100100O greater than the mask of the conventional tube. Measurements of misalignment due to tolerances and doming are shown.

これらの値は、すべて閣単位である。All these values are per cabinet.

この発明に関連した管での公差の増大は、間隔SS a
“の増大によるものであシ、位置ずれの減少は、シャド
ウマスクの曲率の増加によるものである。
The increased tolerance in the tubes associated with this invention is that the spacing SS a
The decrease in displacement is due to an increase in the curvature of the shadow mask.

従って、マスクの曲率と間隔% a“を増すことによっ
て、スクリン上の、ドーミングによる影響が最も大きく
現われる位置における位置ずれが著しく減少する(たと
えば、表Bの0.027anだけ)ことになる。
Therefore, by increasing the mask curvature and spacing % a", the displacement on the screen where the effects of doming are most pronounced will be significantly reduced (eg, by 0.027 an in Table B).

以上の説明では、発明の理解を助けるために、この発明
に関連した管の具体例をあげて、その管が有する曲面を
持つフェースプレートを対象として、曲率が増大されか
つ間隔SS B“が変化させられたマスクについて述べ
たが、この発明は、平面状のフェースプレートに対して
適用されるものである。
In the above description, in order to help the understanding of the invention, a specific example of a pipe related to the invention will be given, and the curvature of the face plate of the pipe will be increased and the interval SS B" will be changed. Although the mask has been described above, the present invention is applied to a flat face plate.

これまで、線スクリンに組合わせて用いられるシャドウ
マスクは、フェースプレートの曲率と正確に同じ曲率を
持つものではなかったにしても、それらマスクとフェー
スプレートはほぼ平行であったと言うことができる。
Historically, shadow masks used in conjunction with line screens have been approximately parallel to the faceplate, even though they have not had exactly the same curvature as the faceplate.

平坦なフェースプレートが好ましいのは、画面の一部に
ひずみを伴なわないで、より大きい視角を持つことがで
きるからである。
A flat faceplate is preferred because it allows for a larger viewing angle without distorting portions of the screen.

第10図に、曲面状のシャドウマスク74と平面的なフ
ェースプレート76を・備える陰極線管72が示されて
いる。
FIG. 10 shows a cathode ray tube 72 including a curved shadow mask 74 and a planar face plate 76.

この管では、間隔XXq“はマスクの中心から周縁へ進
むに従って事実上増大し、また、マスク孔の間隔SS
a“も、スクリン上に、満足すべき螢光体線パターンを
維持できるように同様に増大されている。
In this tube, the spacing XXq'' increases virtually from the center of the mask to the periphery, and the mask hole spacing SS
a'' has been similarly increased to maintain a satisfactory phosphor line pattern on the screen.

この発明の陰極線管は、例えば、第11図に示されるよ
うに、平らなフェースプレートを持つ陰極線管80に用
いられるマスク78に、マスクを強化する目的で、逆の
曲面の曲率を持たせて構成されている。
In the cathode ray tube of the present invention, for example, as shown in FIG. 11, a mask 78 used in a cathode ray tube 80 having a flat face plate is given an opposite curvature for the purpose of strengthening the mask. It is configured.

この場合は、マスクの中心から周縁へ進むに従って、間
隔XXq“が、一旦増加したのち減少している。
In this case, the interval XXq'' increases once and then decreases as it progresses from the center of the mask to the periphery.

そこで、% B“の値も、間隔Nq“の変化に比例して
変更され、従って、Na″の値も、マスクの中心部から
周縁へ進むとともに、一旦大きくされ、次に小さくされ
る。
Therefore, the value of %B'' is also changed in proportion to the change in the interval Nq'', and therefore the value of Na'' is also increased once and then decreased as it progresses from the center to the periphery of the mask.

この発明の構成の基本的な考え方は、シャドウマスクの
曲率を増大することと、管の中心部から外へ進むに従っ
て、間隔SS B“を変化させることとの組合せにある
The basic idea of the inventive arrangement lies in the combination of increasing the curvature of the shadow mask and varying the spacing SS B'' as one moves outward from the center of the tube.

在来管のあるものでは、マスクとスクリンの間隔Nq“
が、マスクの中心部より周縁で大きくされている。
In some conventional tubes, the distance between the mask and the screen is Nq“
is larger at the periphery than at the center of the mask.

そのような管に、この発明を適用する場合には、マスク
−スクリン間隔に、よシ大きい変更が与えられる。
When applying the present invention to such tubes, a significant change in mask-to-screen spacing is provided.

しかし、周縁部でのNq“が中心部でのSS q“より
小さい従来の管構造にも、この発明を適用することは可
能である。
However, it is also possible to apply the present invention to conventional tube structures in which Nq" at the periphery is smaller than SS q" at the center.

そのような管構造に、この発明を適用する場合には、間
隔SS q“が、在来の他の点で同様々管におけるより
広範囲に変更されることになる。
When applying the invention to such tube structures, the spacing SS q'' will be varied more extensively in otherwise conventional tubes.

しかし、このような変更によって、現実に、管が、中心
部の′Xq“より大きいks q“を周縁部で持つこと
に限られるわけで彦く、中心部のXXq“よシ僅かでは
あるが小さいSk q“を持つ周縁部を持つ管、あるい
は、一様なSS q“を持つ管も得られよう。
However, such a change does not actually limit the tube to having a larger ks q at the periphery than at the center; A tube with a periphery with a small Sk q" or a uniform SS q" could also be obtained.

すなわち、この発明は、1つの管の周辺でのNq“対中
心でのSS q“の相対的大きさを問題とするのではな
く、他の点では同様の従来の管でのXXq“に比べて、
中心と周縁でのXXq“の相対的大きさと、その変更と
に関係する。
That is, the present invention does not address the relative magnitude of Nq at the periphery of a tube versus SSq at the center, but rather hand,
It concerns the relative size of XXq'' at the center and the periphery and its changes.

また、同じ考え方が、Nq“の変化に比例して変化させ
られる寸法Na“についての表現にも適用される。
Furthermore, the same idea is applied to the expression of the dimension Na'' which is changed in proportion to the change in Nq''.

a 前に示したq=38の関係によりて・幻り7上に螢光体
素子群を正しくモザイク状に組込むことができる。
a Due to the relationship of q=38 shown above, it is possible to correctly incorporate the phosphor elements on the illusion 7 in a mosaic pattern.

ここで「モザイク状に組込む(nes−ti■)」は、
3つ組(トリオ)を作る螢光体素子間の関係を表わし、
1つの3つ組内でのドラ)または線間の間隔が、別の3
つ組に属する隣のドツトまたは線との間の間隔と等しく
なるようにすることを言う。
Here, “Incorporate in a mosaic pattern (nes-ti■)” means
Represents the relationship between phosphor elements that form a trio,
(within one triplet) or the spacing between lines is different from another triplet.
This refers to making the distance equal to the distance between adjacent dots or lines belonging to a set.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、一部を主軸に沿って断面とした、従来のシャ
ドウマスク型陰極線管の平面図、第2図から第4図まで
は、線状螢光体素子を持つスクリンの一部と、そこに入
射する電子ビームとを示す拡大図、第5図は、シャドウ
マスクの中心と周縁との中間の位置に生じる電子ビーム
の位置すれか、時間の経過とともに変化する状態を示す
グラフ、第6図は、第1図で符号6で示される部分にお
けるマスクとスクリンを示す拡大図、第7図は、電子ビ
ームとマスクとスクリンとの間の幾可学的関係を示す線
図、第8図は、従来のシャドウマスクを内蔵する管のフ
ェースプレートの、一部を取除いた、背面図、第8A図
、第8B図、第8C図は、マスクの第8図に符号で示さ
れた位置に対応する部分の拡大図、第9図は、この発明
に関連した例であるシャドウマスクを持つ陰極線管につ
いての、第8図と同様の図、第9A図、第9B図、第9
c図は、第9図の陰極線管についての、第8A図、第8
B図、第8C図に相当する拡大図、第10図は、平坦な
フェースプレートを持つ陰極線管の、一部を除いた、平
面図、第11図は、この発明の一実施例である、平坦な
フェースプレートを持つ陰極線管の、一部を除いた、平
面図である。 32・・・・・・スクリン、78・・・・・・シャドウ
マスク、a・・・・・・マスクの孔の中心間隔、q・・
・・・・マスクとスクリンとの間の間隔。
Fig. 1 is a plan view of a conventional shadow mask cathode ray tube, with a portion taken in cross section along the main axis, and Figs. 2 to 4 show a portion of the screen with linear phosphor elements. FIG. 5 is an enlarged view showing the electron beam incident thereon, and FIG. 6 is an enlarged view showing the mask and screen in the part indicated by 6 in FIG. 1, FIG. 7 is a diagram showing the geometrical relationship between the electron beam, the mask, and the screen, and FIG. Figures 8A, 8B, and 8C are the partially removed rear views of the faceplate of a tube incorporating a conventional shadow mask; FIG. 9 is an enlarged view of a portion corresponding to the position, and FIG. 9 is a similar view to FIG. 8, FIG. 9A, FIG. 9B, and FIG.
Figure c shows Figures 8A and 8 for the cathode ray tube in Figure 9.
FIG. 10 is a partially removed plan view of a cathode ray tube with a flat face plate; FIG. 11 is an embodiment of the present invention. 1 is a partially cut-away plan view of a cathode ray tube with a flat faceplate; FIG. 32... Screen, 78... Shadow mask, a... Center distance between mask holes, q...
...The distance between the mask and the screen.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 スクリンの螢光体素子上に電子ビームを位置合せす
るために有孔シャドウマスクを利用する、平坦なフェー
スプレートを持つ陰極線管であって、上記マスクと上記
スクリンとの間隔の変化率の極性は上記マスクの中心と
上記マスクの周縁との間で少なくとも1回変わるように
構成され、且つ、上記マスクと上記スクリンとの間隔の
変化は上記マスクの隣接する孔同士の間隔の変化に比例
した変化を含むように構成された陰極線管。
1 A cathode ray tube with a flat faceplate that utilizes a perforated shadow mask to align the electron beam onto the phosphor elements of a screen, the polarity of the rate of change of the spacing between the mask and the screen is configured to change at least once between the center of the mask and the periphery of the mask, and the change in the distance between the mask and the screen is proportional to the change in the distance between adjacent holes in the mask. A cathode ray tube configured to contain changes.
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