JPS5950244B2 - How to clean polymeric substances - Google Patents
How to clean polymeric substancesInfo
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- JPS5950244B2 JPS5950244B2 JP6332681A JP6332681A JPS5950244B2 JP S5950244 B2 JPS5950244 B2 JP S5950244B2 JP 6332681 A JP6332681 A JP 6332681A JP 6332681 A JP6332681 A JP 6332681A JP S5950244 B2 JPS5950244 B2 JP S5950244B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、芳香族ビニル−アクリロニトリル共重合体の
製造又は成形装置に付着する高分子物質の洗浄方法に関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for cleaning a polymeric substance adhering to equipment for producing or molding an aromatic vinyl-acrylonitrile copolymer.
芳香族ビニル−アクリロニトリル共重合体の製造又は成
形時に、単量体や重合溶媒に不溶若しくは難溶な高分子
物質が、装置内に付着することが知られている。It is known that during the production or molding of aromatic vinyl-acrylonitrile copolymers, polymeric substances that are insoluble or sparingly soluble in monomers and polymerization solvents adhere to the inside of the apparatus.
この高分子物質は、反応槽内や伝熱装置等の壁面に付着
し、伝熱性能の低下や配管の閉塞を起こす。This polymer substance adheres to the inside of the reaction tank and the walls of heat transfer devices, causing a decrease in heat transfer performance and clogging of piping.
これに伴ない、反応の制御性の低下、生産性の低下が起
こり、安定操業の大きな障害となつている。また更には
、付着する高分子物質の一部が製品中へ混入し、製品外
観や色相の悪化が発生する。このためしばしば操業を停
止してこの高分子物質を除去する必要があつた。この高
分子物質の除去方法としては、入力による除去作業も実
施されているが多大な人手と時間とを要し、また装置の
破損や作業者の残存化学物質による汚染等も発生し、好
ましい方法とは言えない。This has led to a decrease in reaction controllability and a decrease in productivity, which has become a major obstacle to stable operation. Furthermore, a part of the attached polymer substance mixes into the product, causing deterioration of the product appearance and color. Therefore, it was often necessary to shut down operations and remove this polymeric material. As a method for removing this polymer substance, removal work by inputting information has been carried out, but it requires a large amount of manpower and time, and also causes damage to the equipment and contamination by residual chemical substances from the operator, so this is the preferred method. It can not be said.
また高圧流体を用いて剥離除去する方法も知られている
が、装置の構造上高圧流体を直接吹き付けられない個所
が存在する場合や、強度が不足している場合には適用で
きない。A method of peeling and removing using high-pressure fluid is also known, but this cannot be applied when there are locations where high-pressure fluid cannot be directly sprayed due to the structure of the device, or when the strength is insufficient.
このため、溶剤による洗浄除去法が一般に行な’ われ
ている。For this reason, a cleaning removal method using a solvent is generally used.
単量体での洗浄は、低温では溶解能力が劣り、高温では
単量体の重合が起こりやすく洗浄の効果が小さいので、
重合体を溶解し得る溶媒が用いられる。ジメチルホルム
アマイドなどのアルキルアマイ、 ド及びジメチルスル
ホキシドなどのアルキルスルホキシドは、芳香族ビニル
−アクリロニトリル共重合体に対して良好な溶媒である
が、製造装置内に付着する高分子物質は架橋若しくは変
性により溶解の不能なものもあるため、これら溶媒を用
いて製造装置の洗浄を行なつても完全には溶解除去する
ことはできない。When cleaning with monomers, the dissolving ability is poor at low temperatures, and polymerization of the monomers tends to occur at high temperatures, making the cleaning effect small.
A solvent that can dissolve the polymer is used. Alkyl amides such as dimethylformamide and alkyl sulfoxides such as dimethyl sulfoxide are good solvents for aromatic vinyl-acrylonitrile copolymers; Since some solvents cannot be dissolved, they cannot be completely dissolved and removed even if the manufacturing equipment is cleaned using these solvents.
この除去できない高分子物質が装置内に少量残ると、こ
れが核となつて新たに高分子物質が生成不着する原因と
なることが知られている。高二トリル劃旨製造時のゲル
化物には対しては、アルカリ金属及びアルカリ土類金属
の水酸化物等を含有する溶媒を用いて溶解除去する方法
が知られている(特公昭55−8087号)。It is known that if a small amount of this unremovable polymeric material remains in the device, it becomes a nucleus and causes new polymeric material to be formed and not deposited. A method is known in which the gelled product produced during the production of high nitrile gas is dissolved and removed using a solvent containing hydroxides of alkali metals and alkaline earth metals (Japanese Patent Publication No. 55-8087). ).
しかし、この方法は低二トリル樹脂製造時に生成する高
分子物質に適用しても溶解力が劣ることが判明した。本
発明者らは、芳香族ビニル−アクリロニトリル重合体の
製造装置に付着する高分子物質を、従来法に比して短時
間で容易かつほぼ完全に除去する溶剤系を発見し、本発
明を完成した。すなわち、本発明は、芳香族ビニル−ア
クリロニトリル共重合体の製造又は成形時に装置内に付
着する高分子物質を洗浄するについて、アルキルアマイ
ド及びアルキルスルホキシドから選ばれる一種以上の溶
媒及び少くとも一種の金属アルコレートを同時に用いる
ことを特徴とする高分子物質の洗浄方法である。However, it has been found that this method has poor dissolving power even when applied to polymeric substances produced during the production of low nitrile resins. The present inventors have discovered a solvent system that can easily and almost completely remove polymeric substances adhering to aromatic vinyl-acrylonitrile polymer manufacturing equipment in a shorter time than conventional methods, and have completed the present invention. did. That is, the present invention provides a method for cleaning polymeric substances that adhere to the inside of an apparatus during production or molding of an aromatic vinyl-acrylonitrile copolymer using at least one solvent selected from alkylamides and alkyl sulfoxides and at least one metal. This is a method for cleaning polymeric substances characterized by using an alcoholate at the same time.
本発明を適用しうる芳香族ビニル−アクリロニトリル共
重合体は、重合体中にアクリロニトリルを5重量弊以上
含むものであり、アクリロニトリルの代りにメタアクリ
ロニトリル、のニトリル単量体を含むものでも良く、芳
香族ビニル単量体としてはスチレン、α−メチルスチレ
ン等が挙げられ、製造方法としては懸濁重合、溶液重合
、塊状重合等の方法にも適用が可能である。The aromatic vinyl-acrylonitrile copolymer to which the present invention can be applied is one that contains 5 weight or more of acrylonitrile in the polymer, and may also contain a nitrile monomer such as methacrylonitrile instead of acrylonitrile. Examples of group vinyl monomers include styrene, α-methylstyrene, etc., and methods such as suspension polymerization, solution polymerization, and bulk polymerization can also be applied as production methods.
本発明に用いるアルキルアマイド及びアルキルスルホキ
シドから選ばれる溶媒には、例えばジメチルホルムアマ
イド、ジメチルアセトアマイド、ジメチルスルホキシド
等の溶媒及びその混合物があり、アクリロニトリル、メ
タアクリロニトリル、スチレン及びα−メチルスチレン
などの単量体やベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水
素やアセトン、メチルエチルケトン等の他の溶媒や水等
を少量含むものであつても良い。Examples of the solvent selected from alkylamides and alkylsulfoxides used in the present invention include solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and mixtures thereof, and monomers such as acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, and α-methylstyrene. It may also contain a small amount of water, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, other solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and water.
特に水分については、数Ppnから1重量%の範囲で含
有されても洗浄効果に影響を与えない。また、上記溶媒
と同時に存在させる金属アルコレートは、式(1)で表
わされる化合物である。Particularly regarding water, even if it is contained in the range of several Ppn to 1% by weight, the cleaning effect is not affected. Further, the metal alcoholate that is present simultaneously with the above solvent is a compound represented by formula (1).
(R−0)XM・・・・・・・・・(1)但し、Rはメ
チル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等のアルキ
ル基であり、Mはアルカリ金属(X−1)、アルカリ土
類金属(X−2)又はアルミニウム(X−3)であり、
X−2及びX=3の場合にはRは異種のアルキル基であ
つてもよい。(R-0) an alkaline earth metal (X-2) or aluminum (X-3),
In the case of X-2 and X=3, R may be a different alkyl group.
より具体的には、ナトリウムメチラート、ナトリウムエ
チラート、カリウムメチラート、カリウムエチラート、
カリウムt−ブチラート、マグネシウムメチラート、マ
グネシウムエチラート及びアルミニウムエチラート等が
好適な金属アルコレートとして挙げられる。More specifically, sodium methylate, sodium ethylate, potassium methylate, potassium ethylate,
Suitable metal alcoholates include potassium t-butylate, magnesium methylate, magnesium ethylate, and aluminum ethylate.
溶晩と同時に存在させる金属アルコレートの量は1×1
0−4〜1.0グラム当量/lが好ましく、1X10−
3〜1×10−2グラム当量/lが好適である。The amount of metal alcoholate to be present at the same time as the melting stage is 1 x 1
0-4 to 1.0 gram equivalent/l is preferred, 1X10-
3 to 1×10 −2 gram equivalents/l are preferred.
金属アルコレートを溶媒と同時に存在させる方法として
は、予め溶媒中に添加しておく方法や、溶媒での洗浄の
途中に添加する方法などの方法を用いても良い。As a method for making the metal alcoholate exist simultaneously with the solvent, methods such as adding it to the solvent in advance or adding it during washing with the solvent may be used.
例えば、重合装置内を溶媒で満たし、その後金属アルコ
レートを添加し加温攪拌する方法が行なわれる。また前
もつて付着する高分子物質の一部を単量体や適当な溶媒
で除去した後に、本発明の金属アルコレートを含む溶媒
を使用することも可能である。本発明の洗浄方法では、
洗浄の温度には特に限定はなく、高分子物質が付着する
場所や装置に応じて選ぶことができる。For example, a method is used in which the interior of the polymerization apparatus is filled with a solvent, and then a metal alcoholate is added and the mixture is heated and stirred. Furthermore, it is also possible to use a solvent containing the metal alcoholate of the present invention after removing a portion of the previously attached polymeric substance with a monomer or a suitable solvent. In the cleaning method of the present invention,
The cleaning temperature is not particularly limited and can be selected depending on the location and equipment to which the polymeric substance is attached.
しかし高分子物質のガラス転移温度付近、又はそれ以上
の温度を選定することにより洗浄の効果を一層増加する
ことができる。本発明の高分子物質の洗浄方法は、従来
知られていた溶剤系を使用する方法に比較すると、溶解
時間が極めて短かくてすみ、かつ高分子物質の除去が完
全であるため、工業的規模の共重合体製造装置あるいは
成形装置の洗浄にあたつては、多大な効果を発揮するも
のである。However, by selecting a temperature near or above the glass transition temperature of the polymer material, the cleaning effect can be further increased. The method for cleaning polymeric substances of the present invention requires extremely short dissolution time compared to conventional methods using solvent systems, and the polymeric substances are completely removed, so it can be applied on an industrial scale. It is highly effective in cleaning copolymer manufacturing equipment or molding equipment.
以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
実施例 1〜5
スチレン−アクリロニトリル共重合体を製造する装置に
おいて、アクリロニトリル含有率の異なるスチレン−ア
クリロニトリル共重合体を、各々1ケ月間連続塊状重合
法で製造した。Examples 1 to 5 In an apparatus for producing styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers having different acrylonitrile contents were each produced by a continuous bulk polymerization method for one month.
この装置内に、予め3(V!×3cw1のステンレス製
の試験片を取付けておき、高分子物質の付着した試験片
を得た。この試験片には各々約19の高分子物質が付着
していた。この試験片を容量1000ゴのフラスコ内に
入れ、CH3ONaを4.0×10−3グラム当量/l
含むジメチルホルムアマイド500m1を加え、130
℃で攪拌しながら洗浄を行なつた。Stainless steel test pieces of 3 (V! This test piece was placed in a flask with a capacity of 1000 g, and CH3ONa was added at 4.0 x 10-3 gram equivalent/l.
Add 500ml of dimethylformamide containing 130ml
Washing was carried out at .degree. C. with stirring.
この洗浄試験の結果を表1の実施例1〜5に示す。比較
例 1〜5
実施例1〜5と同様にして得た試験片に対し、CH3O
Naを含むジメチルホルムアマイドの代りに、NaOH
を4.0×10−3グラム当量/l含むジメチルホルム
アマイドを用いて洗浄試験を行なつた。The results of this cleaning test are shown in Examples 1 to 5 in Table 1. Comparative Examples 1 to 5 For test pieces obtained in the same manner as Examples 1 to 5, CH3O
NaOH instead of dimethylformamide containing Na
A cleaning test was carried out using dimethylformamide containing 4.0 x 10-3 gram equivalents/l.
この結果を、表1の比較例1〜5に示す。比較例 6
実施例3と同様にして得た試験片に対し、CH3ONa
を含むジメチルホルムアマイドの代りに、ジメチルホル
ムアマイドのみを用いて洗浄試験を行なつた結果を、表
1に示す。The results are shown in Comparative Examples 1 to 5 in Table 1. Comparative Example 6 For a test piece obtained in the same manner as in Example 3, CH3ONa
Table 1 shows the results of a cleaning test using only dimethylformamide instead of dimethylformamide containing .
実施例 6〜18
実施例3で用いたものと同じ試験片、すなわちアクリロ
ニトリル含有量が24重量弊のスチレン−アクリロニト
リル共重合体を製造する装置内に取付けておき得られた
高分子物質の付着した試験片を、実施例1〜6と同様の
方法により洗浄試験を行なつた。Examples 6 to 18 The same test pieces as used in Example 3, i.e., the acrylonitrile content was 24% by weight, were installed in an apparatus for producing a styrene-acrylonitrile copolymer, and the obtained polymeric substance was attached. The test pieces were subjected to a cleaning test in the same manner as in Examples 1-6.
溶媒としてジメチルホルムアマイド、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルアセトアマイド及びジメチルホルムアマ
イドとジメチルスルホキシドの混合液並びに、金属アル
コレートとしてCH3ONa,C2H,OK,( CH
3)3C0K,(CH2())2kg及び(C2H5O
)3A1を種々組み合わせ使用した。結果を表2に示す
。実施例 19〜20
実施例6〜18で示した溶媒の代りに、アクリロニトリ
ル、エチルベンゼン、及びスチレンなどが混合した溶媒
を用い、金属アルコレートとしてCH2ONaと4.0
×103グラム当量/lを添加し、130℃で洗浄試験
を行なつた。Dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dimethylacetamide and a mixture of dimethylformamide and dimethylsulfoxide were used as solvents, and CH3ONa, C2H, OK, (CH
3) 3C0K, (CH2())2kg and (C2H5O
) 3A1 were used in various combinations. The results are shown in Table 2. Examples 19-20 Instead of the solvents shown in Examples 6-18, a mixed solvent of acrylonitrile, ethylbenzene, styrene, etc. was used, and CH2ONa and 4.0
A washing test was carried out at 130° C. by adding 103 gram equivalents/l.
結果を表3に示す。実施例 23アクリロニトリルを2
3〜32重量?を含むスチレン−アクリロニトリル共重
合体の製造を、2ケ月間行なつた重合槽(内容量50w
1′)に本発明の洗浄方法を適用した。The results are shown in Table 3. Example 23 Acrylonitrile 2
3-32 weight? A polymerization tank (inner capacity 50w) was used for two months to produce a styrene-acrylonitrile copolymer containing
The cleaning method of the present invention was applied to 1').
この重合槽に、CH3ONaの濃度が1X10−2グラ
ム当量/lのジメチルホルムアマイドを4.5イ仕込み
、攪拌を行ないながら130℃まで加熱し、5時間洗浄
を行なつた。その後、溶媒を排出し内部を点検したとこ
ろ、重合槽内面は金属光沢が認められ、高分子物質の付
着は全く見られなかつた。比較例 7
実施例23と同様な高分子物質の付着している重合槽に
、アクリロニトリル単量体を仕込み、攪拌を行ないなが
ら70℃まで加熱し、40時間洗浄を行なつた。This polymerization tank was charged with 4.5 times of dimethylformamide having a CH3ONa concentration of 1.times.10@-2 gram equivalent/l, heated to 130 DEG C. with stirring, and washed for 5 hours. Thereafter, when the solvent was discharged and the inside was inspected, metallic luster was observed on the inner surface of the polymerization tank, and no polymeric substance was observed to be attached at all. Comparative Example 7 Acrylonitrile monomer was charged into a polymerization tank similar to that in Example 23 to which a polymeric substance was attached, heated to 70° C. with stirring, and washed for 40 hours.
Claims (1)
は成形時に、装置に付着する高分子物質を洗浄除去する
について、アルキルアマイド及びアルキルスルホキシド
から選ばれる一種以上の溶媒及び少くとも一種の金属ア
ルコレートを同時に用いることを特徴とする高分子物質
の洗浄方法。 2 金属アルコレートが一般式( I )で表わされる特
許請求の範囲第1項記載の方法。 (R−O)_XM・・・・・・・・・( I )但し、R
はメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基などの
アルキル基であり、Mはアルカリ金属(X=1)、アル
カリ土類金属(X=2)又はアルミニウム(X=3)で
あり、X=2及びX=3の場合には、Rは異種のアルキ
ル基であつてもよい。[Scope of Claims] 1. One or more solvents selected from alkylamides and alkyl sulfoxides and at least one solvent for cleaning and removing polymeric substances adhering to equipment during production or molding of aromatic vinyl-acrylonitrile copolymers. 1. A method for cleaning a polymeric substance, characterized by simultaneously using a metal alcoholate. 2. The method according to claim 1, wherein the metal alcoholate is represented by general formula (I). (R-O)_XM・・・・・・・・・(I) However, R
is an alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group or butyl group, M is an alkali metal (X=1), alkaline earth metal (X=2) or aluminum (X=3), and X= 2 and when X=3, R may be a different alkyl group.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6332681A JPS5950244B2 (en) | 1981-04-28 | 1981-04-28 | How to clean polymeric substances |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6332681A JPS5950244B2 (en) | 1981-04-28 | 1981-04-28 | How to clean polymeric substances |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57179208A JPS57179208A (en) | 1982-11-04 |
| JPS5950244B2 true JPS5950244B2 (en) | 1984-12-07 |
Family
ID=13226013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6332681A Expired JPS5950244B2 (en) | 1981-04-28 | 1981-04-28 | How to clean polymeric substances |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950244B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63128855U (en) * | 1987-02-15 | 1988-08-23 |
-
1981
- 1981-04-28 JP JP6332681A patent/JPS5950244B2/en not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63128855U (en) * | 1987-02-15 | 1988-08-23 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57179208A (en) | 1982-11-04 |
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