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JPS5953349B2 - 無電解銅めつき液 - Google Patents
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JPS5953349B2 - 無電解銅めつき液 - Google Patents

無電解銅めつき液

Info

Publication number
JPS5953349B2
JPS5953349B2 JP2758482A JP2758482A JPS5953349B2 JP S5953349 B2 JPS5953349 B2 JP S5953349B2 JP 2758482 A JP2758482 A JP 2758482A JP 2758482 A JP2758482 A JP 2758482A JP S5953349 B2 JPS5953349 B2 JP S5953349B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating solution
electroless copper
copper plating
silver
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP2758482A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58144465A (ja
Inventor
清 山野井
昭士 中祖
寿郎 岡村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2758482A priority Critical patent/JPS5953349B2/ja
Publication of JPS58144465A publication Critical patent/JPS58144465A/ja
Publication of JPS5953349B2 publication Critical patent/JPS5953349B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/38Coating with copper
    • C23C18/40Coating with copper using reducing agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無電解銅めつき液に関し、詳しくは高い引張り
強度とすぐれた耐折疲労強度とをもつめつき銅が得られ
る無電解銅めつき液に関する。
無電解銅めつきから得られる銅の機械的特性を向上させ
るための研究開発は、これまでにも盛んに行なわれてき
ており、又現在でも盛んな理由の1つは、この無電解銅
めつき技術をプリント配線板の回路形成に応用すると大
きな効果が生まれる可能性があるためである。すなわち
、プリント配線板の回路は年々高密度化しており、違つ
た面の回路を導通させるためのスルーホール径は増々小
さくなつてきている。このような状況の中で、電気めつ
き方法に較べて平面部分とスルーホール内壁面のめつき
厚さに差の生じにくい無電解銅めつきが期待されている
わけである。また、電気めつきをおこない、回路以外の
銅をエッチング除去する方法(サブトラクト法)におい
ては、エッチングによりアンダーカット(銅の厚さ方向
において、表面部分はエッチングレジストの膜で寸法が
保持されるものの、基板近傍ではエッチングがより進行
するために回路断面が逆台形になる。)が生じるため細
線回路をつくるのは難しい。これに対して、無電解銅め
つき(アディティブ法)では回路部分だけをめつきで付
与するのでアンダーカットの問題がなく回路の細線化に
有利である。
しかし、これまでの多くの無電解銅めつきは、一般にプ
リント配線板の回路形成に用いられているピロリン酸電
気めつきから得られる銅(ピロ銅)の物性、すなわち引
張り強さ、および後で述べる方法で測定した耐折疲労強
度に比べて劣つているために、製品の信頼性があまり高
くない。
すなわち、プリント配線板に部品搭載後の半田あげによ
る加熱などで回路が切断しやすいなどの欠点がある。ピ
ロ銅の引張り強度は50〜60kg/一、また耐折疲労
強度は25μmの厚さで2、000〜3、000回であ
る。これに対して、工業的なレベルで使用されている無
電解銅めつきから得られる銅の引張り強度は、約30k
g/一、また耐折疲労強度は800〜1,100回(2
5μm)である。配線回路が高密度な配線板では、同時
に高い接続信頼性が要求されるので、無電解銅めつきは
前記した理由で配線の高密度化には有利であつても、ほ
とんど使用されていないのが現状である。したがつて、
無電解銅めつきで得られる銅の物性が改善され、たとえ
ば、ピロ銅のそれに近づけば新しい道が開けるのである
。本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、銅塩
、錯化剤、還元剤およびPH調整剤を含む無電解銅めつ
き液に、銀イオン供給源とアミノアルコールを添加した
ことを特徴とする。
銀イオン供給源としては、金属銀、ヨウ化銀、臭化銀、
塩化銀、硝酸銀、硫酸銀、シアン化銀、酢酸銀、炭酸銀
等の銀化合物の少なくとも一種が使用される。
銀イオンは得られるめつき銅の機械強度、特に引張り強
度および耐折疲労強度を向上させる。
銀イオン供給源として、金属銀、ヨウ化銀を使用する場
合はその添加量は11ng/1もあれば充分で▲▲叔こ
れよりじくてもめつぎ液が不安定になり分解するという
とはない。これ1ま金属銀ミヨウ化銀の溶解度が極めて
小さいためである。水に対する溶解度は、金属銀の場合
、25℃で2.8×10−5g/l(2.6×10−J
ャc求^l)、ヨウ化銀の場合、20℃で3.4X10
−5g/l(1.4×10−Jャc求^1)である。これ
に対して、その他の銀の化合物(たとえば硝酸銀など)
の場合には、一般に溶解度が高いのである一定量以上加
えるとめつき液が不安定になり分解しやす〈なる。
これはめつき液中の韻イオン濃度が高くZ′iる一ため
である冫ごめ場合、安定剤を多く添加すればある程度分
解を抑えられるが、その場合においても限度がある。溶
解度の高い銀イオン供給源を使用する場合、それらの化
合物はめつき液中の銀イオン濃度が得られためつきの機
械強度の向上すなわち引張り強度および耐折疲労強度が
認められ、かつめつき液が不安定になり分解しない濃度
となるような量供給される。
一般にはめつき液中の銀イオンの濃度は10−1〜10
−3モル/1が好ましい。
10−3〜10−5モル/1が更に好ましい。
アミノアルコールは無電解めつき液の安定性を向上させ
る。
アミノアルコールは 一般式 H2N−R−0H で表わされる化合物で、例えば、エタノールアミン、3
−アミノ−1−プロパノール、5−アミノ−1−ペンタ
ノール、6−アミノ−1−ヘキサノール、1−アミノ−
2−プロパノール、2−アミノ−1−ブタノール、2−
アミノ−1−プロパノール、1−アミノ−2−ブタノー
ル等がある。
アミノアルコールの添加量は0.001g/1以上、好
ましくは0.01〜10g/1.最も好ましくは0.5
〜5gハである。添加量が0.001gハ未満の場合は
めつき液の安定性が低下し、めつき銅の物性、すなわち
、引張り強度および耐折疲労強度が低下する添加量が多
くても悪影響は与えないが、一般に10gハを超える添
加は不必要である。
ジオール、ヒドロキシカルボン酸、ジカノレボン酸、ジ
アミン、シアンヒドリン、エチレングリコールのモノあ
るいはジアルキルエーテル、ヒドロキシ基をもつ脂肪族
第二あるいは第三アミン、D−メチル−エタノールアミ
ン、P−ジオキサン、モルホリン、ピペラジンの少なく
とも一種を0.001gハ以上、好ましくは0.01〜
10g/1.最も好ましくは0.5〜5gハ更に添加す
ることが出来る。
本発明においてベースとなる無電解銅めつき液はとくに
特殊な配合のものではない。
銅塩、錯化剤、還元剤およびPH調整剤とから成る一般
の無電解銅めつき液が用いられる。銅塩としては、硫酸
銅、ハロゲン化銅、硝酸銅、酢酸銅等が、錯化剤として
は、エチレンジアミン四酢酸、ロツシエル塩等が還元剤
としてはホルマリン、パラホルムアルデヒド等が、PH
調整剤としては水酸化ナトリウム等が使用される。代表
的な無電解めつき液としては、硫酸銅3〜20g/1.
エチレンジアミン四酢酸、銅塩濃度の1.2〜3倍モル
濃度量、37%のホルマリン水溶液2〜25m1/1.
PHll.5〜13.0のものが好ましい。温度は90
℃以下で行うのが良い。以上説明したように本発明の無
電解めつき液により引張り強度、耐折疲労強度に優れた
めつき銅が得られた。
実施例 1〜5 硫酸銅0.04モル/1、エチレンジアミン四酢酸0.
05モル/l、ホルムアルデヒド0.03モル/l、P
Hll.8の溶液に次表の添加物を添加して無電解銅め
つき液を作成した。
これらのめつき液に活性化処理したステンレス板を浸漬
して70℃で無電解めつきをおこない、めつき膜厚25
〜35μmの銅箔を得た。
めつきの析出速度、得られた銅箔の引張り強度耐折疲労
強度は,次表のとうりである。尚、引張り強度は10m
m×70mmの試験片を用い東洋測器製のテンシロン形
万能試験機を用い、つかみ間隔15mm引張り速度1m
m/分で測定した。
又、耐折疲労強度の測定はJISP8ll5に準じた耐
折疲労試験器でおこなつた。折り曲げ点の曲率は半径2
mmのものを使用した。この試験器によれば耐折疲労強
度が試料破断までの折り曲げ回数で示される。比較例
1〜3 硫酸銅0.04モル/l、エチレンジアミン四酢酸0.
05モル/l、ホルムアルデヒド0.03モル/1、P
Hll.8の溶液に次表の添加物を添加して無電解銅め
つき液を作成し、実施例同様に特性の測定を行なつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 銅塩、錯化剤、還元剤およびpH調整剤を含む無電
    解銅めつき液に、銀イオン供給源とアミノアルコールを
    添加したことを特徴とする無電解銅めつき液。 2 銀イオン供給源を無電解銅めつき液中の銀イオンの
    濃度が、得られためつき銅の引張り強度および耐折疲労
    強度の向上が認められかつめつき液が分解しない濃度と
    なるように添加するとともに、アミノアルコールを0.
    001g/l以上添加する特許請求の範囲第1項記載の
    無電解銅めつき液。 3 銀イオン供給源が金属銀、ヨウ化銀である特許請求
    の範囲第1項又は第2項記載の無電解銅めつき液。
JP2758482A 1982-02-22 1982-02-22 無電解銅めつき液 Expired JPS5953349B2 (ja)

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JPS58144465A JPS58144465A (ja) 1983-08-27
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