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JPS596866B2 - 5−((2− アルキルアミノ −1− ヒドロキシ ) アルキル ) カルボスチリルユウドウタイノセイゾウホウ - Google Patents
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JPS596866B2 - 5−((2− アルキルアミノ −1− ヒドロキシ ) アルキル ) カルボスチリルユウドウタイノセイゾウホウ - Google Patents

5−((2− アルキルアミノ −1− ヒドロキシ ) アルキル ) カルボスチリルユウドウタイノセイゾウホウ

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JPS596866B2
JPS596866B2 JP6162175A JP6162175A JPS596866B2 JP S596866 B2 JPS596866 B2 JP S596866B2 JP 6162175 A JP6162175 A JP 6162175A JP 6162175 A JP6162175 A JP 6162175A JP S596866 B2 JPS596866 B2 JP S596866B2
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hydroxy
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alkyl
reaction
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司郎 吉崎
重晴 玉田
薫 谷村
量之 中川
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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【発明の詳細な説明】 本発明は5−〔(2一アルキルアミノー1−ヒドロキシ
)アルキル〕カルボスチリル誘導体の製造法に関する。
本発明により得られる5−〔(2一アルキルアミノー1
−ヒドロキシ)アルキル〕カルボスチリル誘導体は一般
式〔式中R1、R2及びR3は同一又は異なつて水素原
子、C1〜C3の低級アルキル基を示す。
R4及びR5は同一又は異なつて水素原子、C1〜C4
の低級アルキル基、四員環、五員環若しくは六員環の環
状アルキル基又は低級アラルキル基を示すか、或いは酸
素原子を介しまたは介することなく共有する窒素原子と
共に互に結合してピロリジノ基、ピペリジノ基又はモル
ホリノ基を示す。3.4位の点線は飽和結合または二重
結合を示す。
〕で表わされる化合物である。本発明の上記化合物は新
規化合物であり、ベーターアドレナリン作動神経刺激作
用を有するので気管支拡張剤、血管拡張剤、降圧剤とし
て有用である。本発明に係る5−〔(2−アルキルアミ
ノ−1一ヒドロキシ)アルキル〕カルボスチリル誘導体
は、一般式〔式中R1、R2、R3及び3・4位の点線
は上記に同じ、Xはハロゲン原子を示す。
〕で表わされる5−〔(2−ハロゲノ一1−ヒドロキシ
)アルル〕カルボスチリル誘導体と一般式,、A 〔式中R4及びR5は上記に同じ。
〕で表わされるアミンとを反応させることにより製造さ
れる。本発明の出発物質即ち式()で表わされる化合物
は新規化合物であり、該化合物は例えば次のようにして
得られる。即ち第1工程は一般式〔式中R1、R2及び
3・4位の点線は上記に同じ〕で表わされる公知のカル
ボスチリル誘導体と一般式〔式中R3は上記に同じ、X
7はハロゲン原子を示す。
〕で表わされる公知の酸ハライドとを公知のフリーデル
ークラフツ触媒の存在下で反応させる。次いで第2工程
は、ハロゲン分子又はハロゲン化剤を用いて第1工程で
得られた一般式〔式中R1、R2、R3及び3.4位の
点線は上記に同じ。
〕で表わされる5−アルカノイルカルボスチリル誘導体
を・・ロゲン化する。最後に第3工程では、第2工程で
得られた一般式〔式中R1、R2、R3、3・4位の点
線及びXは上記に同じ。
〕で表わされる5−α−ハロゲノアルカノイルカルボス
チリル誘導体を還元する。以下第1工程、第2工程、第
3工程について詳しく説明する。第1工程の出発物質で
ある式()で表わされる化合物は公知のカルボスチリル
誘導体である。
第1工程の他の1方の出発物質である式(V)で表わさ
れる化合物も公知の酸ハライドであつて、具体例として
は例えばハロゲン化アセチル、ハロゲン化プロピオニル
、ハロゲン化−n−ブチリル等が挙げられ、ハロゲン原
子としては塩素、臭素等が挙げられる。式()で表わさ
れる化合物及び(V)で表わされる化合物の使用割合は
、通常前者に対して後者を等モル〜5倍モル、好ましく
は等モル〜3倍モル用いるのが望ましい。第1工程に用
いられるフリーデルークラフツ触媒としては公知のもの
が使用され例えば無水塩化アルミニウム、チタンクロラ
イド等が挙げられる。
式()で表わされる化合物及びフリーデルークラフツ触
媒の使用割合は、通常前者に対して後者を等モル〜5倍
モル、好ましくは等モル〜4倍モル用いるのが望ましい
。第1工程に於ける反応はジクロロエタン、ジクロロメ
タン等のハロゲン化アルキル、二硫化炭素、ニトロベン
ゼン等の溶媒の存在下あるいは過剰の酸ハライドを溶媒
として行なわれる。第1工程に於て反応温度は通常室温
〜120゜C、好ましくは50〜80℃であり、反応時
間は通常1〜15時間、好ましくは3〜10時間でよい
次に第2工程に於て上記式()で表わされる5−アルカ
ノールガスボスチル誘導体のハロゲン化反応はハロゲン
分子またはN−ハロゲノコ一・ク酸イミド等のハロゲン
化剤を用いて行なうことができる。式()で表わされる
化合物とハロゲン分子若しくは・・ロゲン化剤との使用
割合は、通常前者に対して後者を等モル〜10倍モル、
好ましくは等モル〜5倍モル用いるのが望ましい。ハロ
ゲンとしては塩素、臭素等が挙げられる。第2工程に於
ける反応に用いられる溶媒はジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化アル
キル溶媒が適当である。第2工程に於て反応温度は通常
氷冷下〜反応溶媒の沸点、好ましくは室温〜4『Cであ
り、この温度で反応は容易に進む。反応時間は通常1〜
10時間である。第2工程の反応に於て過酸化ベンゾイ
ル、アゾビスイソブチロニトリル等のようなラジカル反
応開始剤を用いても差支えはない。第3工程に用いられ
る還元剤としては公知のものが使用され例えば水素化ホ
ウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等が挙げ
られる。
式()で表わされる化合物及び還元剤の使用割合につい
ては、通常は前者に対して後者を等モルなにし大過剰用
いられるが、好ましくは2〜5倍モル用いるのが望まし
い。第3工程の反応に於ける溶媒としては、還元剤とし
て水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合にはカセイソー
ダ等の塩基性水溶液、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等の低級アルコール及び塩基性水溶液と低級
アルコールとの混合溶媒が適当であり、還元剤として水
素化アルミニウムリチウムを用いる場合にはテトラヒド
ロフラン、ジグライム等の溶媒を用いるのがよい。
第3工程の反応温度については通常−15℃〜70℃で
行なえるが、好ましくはO℃〜30℃で行なうのがよい
反応時間は通常1〜5時間である。第3工程の反応によ
つて2種の化合物が得られる。
即ち第3工程の目的化合物である5−〔(2一ハロゲノ
一1−ヒドロキシ)アルキル〕カルボスチリル誘導体と
少量の5−(1・2−エポキシアルキル)カルボスチリ
ル誘導体である。5一(1・2−エポキシアルキル)カ
ルボスチリル誘導体は一般式〔式中R1、R2及びR3
は上記に同じ〕で表わされる化合物である。
式()で表わされる本発明の目的化合物がエーテルに不
溶であるのに対し、式()で表わされる化合物はエーテ
ルに可溶である為、エーテルに対する溶解性の違いを利
用して例えば再結晶等で十分に両者を分離できる。又式
()で表わされる化合物を塩酸、臭化水素酸等のハロゲ
ン化水素酸中で還流温度まで加熱することによつて容易
に式()で表わされる目的化合物にすることができる。
従つて本反応を行なつた後、ハロゲン化水素酸中で加熱
して目的化合物を有利に製造することができる。式()
で表わされる出発物質は上記の如くして得ることができ
る。
本発明の他の1方の出発物質である式()で表わされる
アミンとしてはメチルアミン、エチルアミン、プロピル
アミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン等の低級ア
ルキルアミンのほか、メルエチルアミン、メチルプロピ
ルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチル
アミン等のジ低級アルキルアミン、シクロブチルアミン
、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン等のシ
クロアルキルアミン、シンクロペンチルアミン、シンク
ロヘキシルアミン等のシンクロアルキルアミン、あるい
はピロリジン、ピペリジン、モルホリン等が挙げられる
出発原料の式()で表わされる化合物と式()で表わさ
れる化合物との使用割合は通常前者に対して後者を等モ
ルないし大過剰である。本発明の反応に於いては原料と
してのアミンが過剰量用いられる場合は溶媒として使用
される為無溶媒でもよく、又適当な溶媒を用いて反応を
行なつてもよい。
この際溶媒としては水、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、アセトニトリル、酢酸エチル、ベンゼン
、テトラヒドロフラン等が用いられる。本発明に於いて
反応温度は通常室温ないし加熱還流下、好ましくは室温
ないし70′Cである、この温度で反応は容易に進行し
好収率で本発明の目的化合物である5−〔(2−アルキ
ルアミノ−1−ヒドロキシ)アルキル〕カルボスチリル
誘導体が得られる。
本発明の反応時間は通常1〜10時間、好ましくは2〜
6時間がよい。なお本発明の目的化合物(1)は、エタ
ノール、イソプロパノール等のアルコールに溶解した後
、塩酸、硫酸、燐酸等の無機塩あるいはマレイン酸、酒
石酸、シユウ酸、フマール酸、リンゴ酸、乳酸等の有機
酸を加えて酸付加塩にすることができる。
次の上記式()で表わされる公知のカルボスチリル誘導
体と式()で表わされている酸ハライドとを反応させて
式()で表わされ5−アルカノイルカルボスチリル誘導
体を製造する第1工程の一実施態様、式()で表わされ
る5−アルカノイルカルボスチリル誘導体をハロゲン化
して式()で表わされる5−α−ハロゲノアルカノイル
カルボスチリル誘導体を製造する第2工程の一実施態様
及び式))で表わされる5−α−ハロゲノアルカノイル
カルボスチリル誘導体を還元して式()で表わされる5
−〔(2−ハロゲノー1−ヒドロキシ)アルキル〕カル
ボスチリル誘導体を製造する第3工程の一実施態様をそ
れぞれ参考例1、参考例2、参考例3に示し、さらに本
発明の実施例を示す。参考例 1 8−ヒドロキシカルボスチリル10V(0.062モル
)に二硫化炭素20m1及び塩化n−ブチリル187(
0.17モル)を加えて氷冷攪拌下、塩化アルミニウム
25t(0619モル)を少量ずつ加え十分混合する。
次に浴温80℃で10時間加熱した後傾斜して二硫化炭
素層を除き、砕氷を加えて残留物を結晶化させる。析出
した結晶を沢取し水洗、乾燥後メタノールより再結晶し
て融点225℃(分解点)の5−n−ブチリル一8−ヒ
ドロキシカルボスチリル12.77を得る。参考例 2
5−n−ブチリル一8−ヒドロキシカルボスチリル23
.1y(0,1モル)にクロロホルム500m2を加え
、室温撹拌下臭素16t(0.1モル)を徐々に適下し
、臭素の色が消えるまで攪拌を続ける。
濃縮乾固した後残留物をメタノールより再結晶して、融
点218〜219℃(分解点)の5一(α−ブロモ−n
−ブチリル)−8−ヒドロキシカルボスチリル24.6
tを得る。参考例 3 5−(α−プロモブチリル)−8−ヒドロキシカルボス
チリル3.2y(0.01モル)をメタノール100m
1に懸濁させ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム1.0t
(0.026モル)を攪拌しながら少量ずつ加える。
還元剤添加とともに反応系は均一系となる。そのまま同
温度で15分間撹拌し、さらに室温にて1時間撹拌を行
なう。反応終了後臭化水素酸を加えてPHl〜2とし減
圧下濃縮乾固する。残渣をメタノール抽出し、メタノー
ル溶液を減圧下濃縮乾固する。次いでエタノールを加え
て不溶物を▲別し、エタノール溶液に氷冷下エーテルを
加えて結晶化し、さらにエタノール−エーテルから再結
晶して融点189〜190℃の淡黄色針状結晶5−〔(
2−ブロモ−1−ヒドロキシ)ブチル〕−8−ヒドロキ
シカルボスチリル1.27を得る。実施例 1 5−〔(2−ブロモ−1−ヒドロキシ)ブチル〕一8−
ヒドロキシカルボスチリル2.07をメタノール50m
1捉溶解しイソプロピルアミン30m1を加え60℃で
2時間反応させる。
反応終了後減圧下で濃縮乾固しエタノール20m1を加
えさらに濃凝乾固を繰り返した後、塩酸飽和エタノール
を加え冷却下結晶化させる。さらにエタノールより再結
晶して融点213〜215℃(分解)の白色粉末状結晶
の5−〔(2−イソプロピルアミノ−1一ヒドロキシ)
ブチル〕−8−ヒドロキシカルボスチリル塩酸塩0.9
7を得る。実施例 2 5−〔(2−クロロ−1−ヒドロキシ)エチル〕5一8
−ヒドロキシ−1−メチルカルボスチリル2.37をイ
ソプロパノール30m1に溶解し、イソプロピルアミン
10m1を加え60℃で5時間攪拌する。
反応終了後減圧下で濃縮乾固し、残渣にエタノール20
m1を加え濃縮乾固を繰り返す。その 4後イソプロパ
ノール35m1に溶解し、濃塩酸を加えてPH2〜3と
し冷却下結晶化させる。水より再結晶して融点202〜
203.5℃の白色粉末状結晶5−〔(2−イソプロピ
ルアミノ−1−ヒドノロキシ)エチル〕−8−ヒドロキ
シ−1−メチルカルボスチリル塩酸塩0.77を得る。
実施例 3 5−〔(2−クロロ−1−ヒドロキシ)エチル〕一8−
メトキシ−1−メチルカルボスチリル2.37をイソプ
ロパノール50m1に溶解し、イソプロピルアミン10
m1を加え60℃で5時間攪拌する。
反応終了後減圧下で濃縮乾固し残渣にエタノール30m
1を加えて濃縮乾固を繰り返した後、アセトン30m1
を加えさらにアセトン溶液に濃塩酸を加えてPHを2〜
3とし冷却下結晶化させる。析出する結晶を沢取しエタ
ノールより再結晶して融点178〜180℃の5−〔(
2−イソプロピルアミノ−1−ヒドロキシ)エチル〕−
8−メトキシー1−メチルカルボスチリル塩酸塩0.8
7を得る。実施例 45−〔(2−クロロ−1−ヒドロ
キシ)エチル〕−8−ヒドロキシカルボスチリル3.0
tをメタノール50m1に溶解し、イソプロピルアミン
30m1を加え60℃で5時間攪拌する。
反応終了後減圧下で濃縮乾固し残渣にエタノール30m
1を加えて濃縮乾固を繰り返した後、イソプロパノール
30m1に溶解し濃塩酸を加えてPH2〜3とし冷却下
結晶化させる。さらにエタノール−アセトンより再結晶
して融点210〜212℃(分解)の白色粉末結晶5−
〔(2−イソプロピルアミノ−1一ヒドロキシ)エチル
〕−8−ヒドロキシカルボスチリル塩酸塩1,2yを得
る。実施例 5 5−〔(2−クロロ−1−ヒドロキシ)エチル〕−8−
ヒドロキシカルボスチリル3.0yを70%エチルアミ
ン水溶液50m1に加え60℃で5時間撹拌する。
反応終了後減圧下で濃縮乾固し残渣にエタノール30m
1を加え、更に濃縮乾固を繰り返す。その後塩化水素飽
和エタノール30m1を加え冷却下エーテルを加えて結
晶化させる。さらにメタノール−エーテルより再結晶し
て融点192〜194℃(分解)の白色粉末状結晶の5
−〔(2一エチルアミノ一1−ヒドロキシ)エチル〕−
8−ヒドロキシカルボスチリル塩酸塩1,37を得る。
実施例 65−〔(2−クロロ−1−ヒドロキシ)エチ
ル〕−8−ヒドロキシカルボスチリル3.0yをベンジ
ルアミン30m1に加え30℃で2時間攪拌する。
反応液に石油エーテルを加えて析出する結晶を沢取し、
さらに結晶を希塩酸に溶解し希塩酸層を減圧下濃縮乾固
する。残渣をエタノール−アセトンから再結晶して融点
120〜121℃の白色粉末状結晶5−〔(2−ベンジ
ルアミノ一1−ヒドロイキシ)エチル〕−8−ヒドロキ
シカルボスチリル1.6fを得る。実施例 7〜24 上記の各実施例と同様にして得られた本発明の目的化合
物(1)を表1に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1、R^2及びR^3は同一又は異なつて水
    素原子、C_1〜C_3の低級アルキル基を示す。 Xはハロゲン原子を示す。3・4位の点線は飽和結合ま
    たは二重結合を示す。 〕で表わされる5−〔(2−ハロゲノ−1−ヒドロキシ
    )アルキル〕カルボスチリル誘導体と一般式▲数式、化
    学式、表等があります▼ 〔式中R^4及びR^5は同一又は異なつて水素原子、
    C_1〜C_4の低級アルキル基、四員環、五員環若し
    くは六員環の環状アルキル基又は低級アラルキル基を示
    すか、或いは酸素原子を介しまたは介することなく共有
    する窒素原子と共に互に結合してピロリジノ基、ピペリ
    ジノ基又はモルホリノ基を示す。 〕で表わされるアミンとを反応させることを特徴とする
    、一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1、R^2、R^3、R^4、R^5及び3
    ・4位の点線は上記に同じ。 〕で表わされる5−〔(2−アルキルアミノ−1−ヒド
    ロキシ)アルキル〕カルボスチリル誘導体の製造法。
JP6162175A 1975-05-22 1975-05-22 5−((2− アルキルアミノ −1− ヒドロキシ ) アルキル ) カルボスチリルユウドウタイノセイゾウホウ Expired JPS596866B2 (ja)

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