JPS597913B2 - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
- Publication number
- JPS597913B2 JPS597913B2 JP155476A JP155476A JPS597913B2 JP S597913 B2 JPS597913 B2 JP S597913B2 JP 155476 A JP155476 A JP 155476A JP 155476 A JP155476 A JP 155476A JP S597913 B2 JPS597913 B2 JP S597913B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- lid
- jig
- thermocouple
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Resistance Heating (AREA)
- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
- Furnace Housings, Linings, Walls, And Ceilings (AREA)
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体基板等に不純物拡散、気相化学成長、熱
酸化等の処理を行う熱処理炉に関するものである。
酸化等の処理を行う熱処理炉に関するものである。
IC(集積回路装置)、トランジスタなどの半導体装置
を製造するのに使用する拡散炉等の熱処理炉は横長石英
管からなる処理炉内部に処理すべき半導体ウエ・・(基
板)を保持する処理治具を有し、炉の一端開口部にはこ
れを閉塞するための蓋部(キャップ)を有する構造のも
のが広く採用された。
を製造するのに使用する拡散炉等の熱処理炉は横長石英
管からなる処理炉内部に処理すべき半導体ウエ・・(基
板)を保持する処理治具を有し、炉の一端開口部にはこ
れを閉塞するための蓋部(キャップ)を有する構造のも
のが広く採用された。
そして、拡散等q熱処理時の半導体ウェハの炉内部への
挿入及び引き出しは、その一端にある蓋部を取り外した
状態で、治具操作棒を外部から炉内に挿入し半導体ウェ
ハを支持する処理治具の出し入れにより行つている。
挿入及び引き出しは、その一端にある蓋部を取り外した
状態で、治具操作棒を外部から炉内に挿入し半導体ウェ
ハを支持する処理治具の出し入れにより行つている。
また、熱処理時の処理温度測定も蓋部(キャップ)を取
り外し熱電対を炉内に挿入することにより行われる。
り外し熱電対を炉内に挿入することにより行われる。
このように、上記熱処理炉は前記作業の必要のあるたび
毎に蓋を取り外さなければならず、半導体ウェハの挿入
及び引き出し、処理温度測定などの炉内部操作が極めて
複雑であつた。
毎に蓋を取り外さなければならず、半導体ウェハの挿入
及び引き出し、処理温度測定などの炉内部操作が極めて
複雑であつた。
また、熱処理中は炉内の内部が1000℃以上の高温に
なることもあり、その一端にある蓋部も約60℃に加熱
され、半導体ウェハの出し入れ、処理温度の測定などの
操作は蓋部を取り外して行われることから、かなり危険
を伴うものであつた。
なることもあり、その一端にある蓋部も約60℃に加熱
され、半導体ウェハの出し入れ、処理温度の測定などの
操作は蓋部を取り外して行われることから、かなり危険
を伴うものであつた。
さらに、上記蓋部を一般に透明な石英材が使用されるた
め、炉内部の熱が輻射の作用で透明石英蓋部を通過し炉
外部へ放射されるので、熱損失も大きいという欠点があ
つた。本発明は上記欠点を解消するためになされたもの
であり、その目的は熱処理炉への半導体ウエ・・等の処
理物の挿入及び引き出し、炉内部の温度測定などの炉内
部の操作を簡単にすること、他の目的は熱処理操作の危
険性を少くすること及び炉の熱損失を少くすること、適
切な処理条件のもとで熱処理が行えるようにすること等
にある。
め、炉内部の熱が輻射の作用で透明石英蓋部を通過し炉
外部へ放射されるので、熱損失も大きいという欠点があ
つた。本発明は上記欠点を解消するためになされたもの
であり、その目的は熱処理炉への半導体ウエ・・等の処
理物の挿入及び引き出し、炉内部の温度測定などの炉内
部の操作を簡単にすること、他の目的は熱処理操作の危
険性を少くすること及び炉の熱損失を少くすること、適
切な処理条件のもとで熱処理が行えるようにすること等
にある。
上記目的を達成するために本発明の要旨は、炉体と、治
具支持部と上記治具支持部と同時に可動可能な蓋部と、
上記蓋部に取り付けられ上記蓋部内の膨張する空気を排
気する圧力ぬき管とを有することを特徴とする熱処理炉
にある。以下本発明の一実施例を図面を参照しながら具
体的に説明する。実施例 I 第1図は本発明の熱処理炉を示すものである。
具支持部と上記治具支持部と同時に可動可能な蓋部と、
上記蓋部に取り付けられ上記蓋部内の膨張する空気を排
気する圧力ぬき管とを有することを特徴とする熱処理炉
にある。以下本発明の一実施例を図面を参照しながら具
体的に説明する。実施例 I 第1図は本発明の熱処理炉を示すものである。
同図において、1は炉本体で構長の石英管から構成され
る。2は炉本体1の一端開口部に設けられた開口部を閉
塞するための蓋部(キヤツプ)で石英の中空管体3と、
その内部に充填された石英ウール又はアルミナウール、
SiC,Si等からなる断熱材4とから構成される。
る。2は炉本体1の一端開口部に設けられた開口部を閉
塞するための蓋部(キヤツプ)で石英の中空管体3と、
その内部に充填された石英ウール又はアルミナウール、
SiC,Si等からなる断熱材4とから構成される。
5は炉内に載置する処理治具6の出し入れ操作を行う治
具操作棒、7は炉内の温度を測定する熱電対である。
具操作棒、7は炉内の温度を測定する熱電対である。
治具操作棒5はSiC又はSiO2を材料として形成し
た主軸8とこれを支持する足部9と処理治具6に引き掛
けるL字形(又はF字鍵形でもよい)の掛具10とから
構成されている。熱電対7は白金線又はアルメルクロメ
ルからなり、その導線11は蓋内部を通つて外部に導か
れている。なお、アルメルクロメルからなる熱電対は比
較的低い熱処理の場合に用いる。上記蓋部(キヤツブ)
2の外側にはその取り外しを容易にするための把手12
が取付けられるとともに中空管体蓋部内部の気圧を低下
させるための圧力ぬき管13が取付けられている。
た主軸8とこれを支持する足部9と処理治具6に引き掛
けるL字形(又はF字鍵形でもよい)の掛具10とから
構成されている。熱電対7は白金線又はアルメルクロメ
ルからなり、その導線11は蓋内部を通つて外部に導か
れている。なお、アルメルクロメルからなる熱電対は比
較的低い熱処理の場合に用いる。上記蓋部(キヤツブ)
2の外側にはその取り外しを容易にするための把手12
が取付けられるとともに中空管体蓋部内部の気圧を低下
させるための圧力ぬき管13が取付けられている。
蓋部2の内側には処理治具6の出し入れ操作を行う治具
操作棒5及び温度を測定する熱電対7が取付けられてい
る。すなわち、把手8と圧力ぬき管9を有する蓋部2に
治具操作棒5及び熱電対7が取付けられ、蓋部2と治具
操作棒5と熱電対7とからなる三者が一体になつている
。したがつて、蓋部2を炉の一端から取り外すことによ
つて同時に治具操作棒5及び熱電対7を炉内部から引き
出せ、一方蓋部2を炉の一端開口部に取り付けることに
よつて同時に治具操作棒5及び熱電対7を炉内部に挿入
できるようになつている。拡散等の熱処理時においては
、多数の半導体ウエハ14を処理治具6に支持させた状
態で、蓋部2と一体になつている治具操作棒5により半
導体ウエハ14を支持した処理治具6を炉内部に挿入す
る。
操作棒5及び温度を測定する熱電対7が取付けられてい
る。すなわち、把手8と圧力ぬき管9を有する蓋部2に
治具操作棒5及び熱電対7が取付けられ、蓋部2と治具
操作棒5と熱電対7とからなる三者が一体になつている
。したがつて、蓋部2を炉の一端から取り外すことによ
つて同時に治具操作棒5及び熱電対7を炉内部から引き
出せ、一方蓋部2を炉の一端開口部に取り付けることに
よつて同時に治具操作棒5及び熱電対7を炉内部に挿入
できるようになつている。拡散等の熱処理時においては
、多数の半導体ウエハ14を処理治具6に支持させた状
態で、蓋部2と一体になつている治具操作棒5により半
導体ウエハ14を支持した処理治具6を炉内部に挿入す
る。
この治具操作棒5が炉の奥に挿入されたとき、処理治具
6は炉内の所定位置に達し、同時に蓋部2により炉の一
端開口部が閉塞される。なお、蓋部2には一体となつて
いる熱電対rが取付けられているので、炉閉鎖と同時に
炉内部に熱電対7が設置される。そして、炉外部に設け
た加熱コイル(図示せず)により炉内の処理温度を30
0℃〜1200℃にして拡散等の熱処理が行われる。こ
のとき、処理温度を炉内部に設置した熱電対7により外
部から随時測定し適切な処理条件のもとで拡散等の熱処
理を行う。上記熱処理において、半導体ウエハ14の炉
内部への挿入及び引き出しは炉を加熱した状態で行われ
るので、炉の一端開口部に蓋部2を取付けたときに、中
空管体蓋部2の内部の空気が熱膨張し約5Kvの圧力が
加わるが、圧力空気は蓋部2に設けられた圧力ぬき管1
3を通つて大気に貫けるようになつているから、熱膨張
による危険を防止することができる。
6は炉内の所定位置に達し、同時に蓋部2により炉の一
端開口部が閉塞される。なお、蓋部2には一体となつて
いる熱電対rが取付けられているので、炉閉鎖と同時に
炉内部に熱電対7が設置される。そして、炉外部に設け
た加熱コイル(図示せず)により炉内の処理温度を30
0℃〜1200℃にして拡散等の熱処理が行われる。こ
のとき、処理温度を炉内部に設置した熱電対7により外
部から随時測定し適切な処理条件のもとで拡散等の熱処
理を行う。上記熱処理において、半導体ウエハ14の炉
内部への挿入及び引き出しは炉を加熱した状態で行われ
るので、炉の一端開口部に蓋部2を取付けたときに、中
空管体蓋部2の内部の空気が熱膨張し約5Kvの圧力が
加わるが、圧力空気は蓋部2に設けられた圧力ぬき管1
3を通つて大気に貫けるようになつているから、熱膨張
による危険を防止することができる。
このような構造の熱処理炉であれば、炉の一端開口部に
蓋部2を取付けることによつて蓋部2と一体になつてい
る治具操作棒8及び熱電対7も同時に炉内部へ挿入され
、蓋部2の取付け、処理治具6の炉内部への挿入及び処
理温度測定が一回の操作で同時に行うことができ、一方
炉の一端から蓋部2を取り外せば、同時に処理治具6の
引き出し及び熱電対7の引き出しができ、熱処理操作が
簡単になる。
蓋部2を取付けることによつて蓋部2と一体になつてい
る治具操作棒8及び熱電対7も同時に炉内部へ挿入され
、蓋部2の取付け、処理治具6の炉内部への挿入及び処
理温度測定が一回の操作で同時に行うことができ、一方
炉の一端から蓋部2を取り外せば、同時に処理治具6の
引き出し及び熱電対7の引き出しができ、熱処理操作が
簡単になる。
実施例
第2図は本発明の他の実施例で、治具操作棒内部に熱電
対が内在するようにして、蓋部と治具操作棒と熱電対と
一体になつたものを示すものである。
対が内在するようにして、蓋部と治具操作棒と熱電対と
一体になつたものを示すものである。
5は処理治具6の出し入れ操作を行うSiC又はSiO
2からなる治具操作棒で、この棒内部に炉内の温度を測
定する熱電対7が内蔵されている。
2からなる治具操作棒で、この棒内部に炉内の温度を測
定する熱電対7が内蔵されている。
この場合、治具操作棒5は内在する熱電対7により機械
的に補強されるので、熱による治具操作棒8の変形が避
けられる。また、この実施例においては、治具操作棒5
はその先端L字形の掛具10がその軸に対してあらゆる
角度に曲げることのできるユニバーサルジョイント構造
を有しており、処理治具6の出し入れ操作を行うとき、
炉の内壁が多少変形していてもそれにL字形の掛具10
が追従できるようになつている。
的に補強されるので、熱による治具操作棒8の変形が避
けられる。また、この実施例においては、治具操作棒5
はその先端L字形の掛具10がその軸に対してあらゆる
角度に曲げることのできるユニバーサルジョイント構造
を有しており、処理治具6の出し入れ操作を行うとき、
炉の内壁が多少変形していてもそれにL字形の掛具10
が追従できるようになつている。
したがつて、処理治具6がL字形の掛具10からはずれ
ることがない。実施例 1 第3図は本発明の他の実施例で、開口する炉の一端を閉
鎖する蓋部と熱電対を一体にしたものを示したものであ
る。
ることがない。実施例 1 第3図は本発明の他の実施例で、開口する炉の一端を閉
鎖する蓋部と熱電対を一体にしたものを示したものであ
る。
7は炉内の温度を測定する熱電対で、蓋部2の内側のほ
ぼ中央部に取付けられている。
ぼ中央部に取付けられている。
この場合、熱電対7は蓋部の中央部に取付けられている
ので、蓋部の上下位置を決めずに、あらゆる角度からで
も閉塞できるようになつている。
ので、蓋部の上下位置を決めずに、あらゆる角度からで
も閉塞できるようになつている。
なお、この場合、処理治具6を出し入れする治具操作棒
5は別に設ける。このような蓋部2と熱電対7とが一体
になつた熱処理炉であれば、処理温度測定のとき、いち
いち蓋を開放して測定しないでも、通常は随時測定する
ことができ、必要に応じて蓋部2を取り外すときは同時
に熱電対7を炉内から引き出すことができ、処理治具6
の出し入れ操作の邪魔にならない。
5は別に設ける。このような蓋部2と熱電対7とが一体
になつた熱処理炉であれば、処理温度測定のとき、いち
いち蓋を開放して測定しないでも、通常は随時測定する
ことができ、必要に応じて蓋部2を取り外すときは同時
に熱電対7を炉内から引き出すことができ、処理治具6
の出し入れ操作の邪魔にならない。
実施例
第4図及び第5図は本発明の他の実施例で、炉の一端開
口部を閉塞する蓋部と治具操作棒とを一体になつたもの
を示すものである。
口部を閉塞する蓋部と治具操作棒とを一体になつたもの
を示すものである。
治具操作棒5は炉の一端開口部を閉塞する蓋部2に取付
けられ、治具操作棒5と蓋部2とが一体になつている。
けられ、治具操作棒5と蓋部2とが一体になつている。
蓋部2と一体になつている治具操作棒5は蓋部近傍にお
いてユニバーサルジョイント構造を有しその先端にF字
鍵形の掛具10が取付けられ、この治具操作棒5は案内
支持部15に支持されその先端F字鍵形の掛具10が大
きくこま運動できるようになつている。
いてユニバーサルジョイント構造を有しその先端にF字
鍵形の掛具10が取付けられ、この治具操作棒5は案内
支持部15に支持されその先端F字鍵形の掛具10が大
きくこま運動できるようになつている。
この場合、炉内壁下面が凹凸していても、治具操作棒5
の先端が大きくこま運動をするから、処理治具6がF字
鍵形の掛具10からはずれることはなく、また、治具操
作棒5と蓋部2とが一体になつていることから、処理治
具6の出し入れ操作と炉の開閉操作を同時に行うことが
でき、処理治具6の出し入れ操作が極めて簡単になる。
の先端が大きくこま運動をするから、処理治具6がF字
鍵形の掛具10からはずれることはなく、また、治具操
作棒5と蓋部2とが一体になつていることから、処理治
具6の出し入れ操作と炉の開閉操作を同時に行うことが
でき、処理治具6の出し入れ操作が極めて簡単になる。
なお、第4図はユニバーサルジョイント構造の治具操作
棒5の下側にこれを補助的に支持する足部9が設けられ
るものを示し、第5図は治具操作棒5が蓋部2に直接ユ
ニバーサルジョイント構造で取付けられているものを示
している。
棒5の下側にこれを補助的に支持する足部9が設けられ
るものを示し、第5図は治具操作棒5が蓋部2に直接ユ
ニバーサルジョイント構造で取付けられているものを示
している。
本発明は上記実施例に限定されるものでなく、その構造
は必要に応じて変えられるものであり、拡散炉に限らず
、気相化学成長炉、熱酸化炉、その他の熱処理炉等広範
囲に利用できるものである。
は必要に応じて変えられるものであり、拡散炉に限らず
、気相化学成長炉、熱酸化炉、その他の熱処理炉等広範
囲に利用できるものである。
以上実施例で説明したような本発明によれば、蓋部と治
具操作棒と熱電対、蓋部と熱電対、蓋部と治具操作棒の
ように蓋部と他の操作具とが一体となつていることから
、処理治具の出し入れ及び処理温度測定が蓋部取付操作
と同時に行うことができ、処理治具の出し入れ操作及び
処理温度測定などの炉内操作を極めて簡単にすることが
できるものである。実施例,,…の場合、通常熱電対は
炉内に備えておくことから、処理温度を随時測定するこ
とができ、適切な条件のもとで熱処理が行えるものでぁ
る。本発明によれば、中空管体蓋部内部には石英ウール
、アルミナウール等の断熱材が充填されていることから
、炉外部へ熱が伝達されず蓋部開閉の危険は極めて少な
く、また断熱材による副射を遮断することから、炉の熱
損失も極めて少ない。
具操作棒と熱電対、蓋部と熱電対、蓋部と治具操作棒の
ように蓋部と他の操作具とが一体となつていることから
、処理治具の出し入れ及び処理温度測定が蓋部取付操作
と同時に行うことができ、処理治具の出し入れ操作及び
処理温度測定などの炉内操作を極めて簡単にすることが
できるものである。実施例,,…の場合、通常熱電対は
炉内に備えておくことから、処理温度を随時測定するこ
とができ、適切な条件のもとで熱処理が行えるものでぁ
る。本発明によれば、中空管体蓋部内部には石英ウール
、アルミナウール等の断熱材が充填されていることから
、炉外部へ熱が伝達されず蓋部開閉の危険は極めて少な
く、また断熱材による副射を遮断することから、炉の熱
損失も極めて少ない。
さらに本発明によれば、炉内部操作を炉遮閉と同時に行
うことによる蓋開閉回数が減少し、これによる熱損失も
少なくなるなどの種々の顕著な効果を奏するものである
。
うことによる蓋開閉回数が減少し、これによる熱損失も
少なくなるなどの種々の顕著な効果を奏するものである
。
第1図は本発明の一実施例の断面図、第2図乃至第5図
は本発明の他の実施例のそれぞれ要部を示す断面図であ
る。 1・・・炉本体、2・・・蓋部、3・・仲空管体、4・
・・断熱材、5・・・治具操作棒、6・・・処理治具、
7・・・熱電対、8・゛・・主軸、9・・・足部、10
・・・掛具、11・・・導線、12・・・把手、13・
・・圧力ぬき管、14・・・半導体ウエ・・ 15・・
・案内支持部。
は本発明の他の実施例のそれぞれ要部を示す断面図であ
る。 1・・・炉本体、2・・・蓋部、3・・仲空管体、4・
・・断熱材、5・・・治具操作棒、6・・・処理治具、
7・・・熱電対、8・゛・・主軸、9・・・足部、10
・・・掛具、11・・・導線、12・・・把手、13・
・・圧力ぬき管、14・・・半導体ウエ・・ 15・・
・案内支持部。
Claims (1)
- 1 炉体と治具支持部と、上記治具支持部と同時に可動
可能な蓋部と、上記蓋部に取り付けられ上記蓋部内の、
膨張する空気を排気する圧力ぬき管とを有することを特
徴とする熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP155476A JPS597913B2 (ja) | 1976-01-09 | 1976-01-09 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP155476A JPS597913B2 (ja) | 1976-01-09 | 1976-01-09 | 熱処理炉 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57226153A Division JPS58130519A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 熱処理炉用蓋部 |
| JP57226154A Division JPS58130520A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 熱処理炉用操作部 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5285731A JPS5285731A (en) | 1977-07-16 |
| JPS597913B2 true JPS597913B2 (ja) | 1984-02-21 |
Family
ID=11504734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP155476A Expired JPS597913B2 (ja) | 1976-01-09 | 1976-01-09 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS597913B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5636129A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-09 | Hitachi Ltd | Method and device for heat treatment of semiconductor thin plate |
| JPS61100141U (ja) * | 1984-12-07 | 1986-06-26 |
-
1976
- 1976-01-09 JP JP155476A patent/JPS597913B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5285731A (en) | 1977-07-16 |
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