JPS599041B2 - 薄膜ミラ− - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄膜ミラーに関する。

光ＩＣの基本的な構成要素として重要なものは、平面的
な基板上で光を任意に導波する導波路である。

このような導波路のうち、ＬｉＮｂ０３単結晶等表面か
ら金属を拡散させた金属拡散形光導波路は、伝搬損が小
さいことで知られている。

しかしながら、モノリシック化された光ＩＣは同一基板
上に種々の光学素子を組込み、これらを光学的に接続さ
せることから、各導波路内を伝搬する光量を所定値に設
定する必要が生じてくる。

それ故、本発明の目的は、光ＩＣ基板面の導波路部に所
定の光量を伝搬させる薄膜ミラーを提供するものである
。このような目的を達成するために本発明はＬｉＮｂ０
３あるいはＬｉＴａＯ３等の強誘電体結晶にＴｉあるい
はＮｂ等の金属を拡散して形成される光導波路が光進行
方向に対して所定の角度で屈曲され、この屈曲された部
分に金属濃度の異なる分岐路が設けられたもので、以下
実施例に基づいて本発明を説明する。

第１図は本発明に係る薄膜ミラーの要部斜視構成図であ
る。

同図においてＬｉＮｂ０３あるいはＬｉＴａ０３等の強
誘電体結晶１の上面にＴｉあるいはＮｂ等の金属を選択
拡散することによつて形成される光導波路２が設けられ
、この光導波路２は、光が入射される方向に対して角度
αの屈曲部を有する光導波路３と、前記屈曲部に接続し
て設けられかつ前記光導波路３と異なる金属濃度を有す
る光導波路４とから構成されている。このように構成す
ることによつて屈折率がそれぞれ異なる光導波路３およ
び４の境界部に薄膜ミラー５が形成される。

すなわち、光導波路３から入射される光は、その一部が
前記薄膜ミラー５で反射されそのまま光導波路３内を通
過し、また、他の一部は前記薄膜ミラー５を透過して光
導波路４内を通過する。したがつて、各光導波路３およ
び４の金属不純物濃度と、光導波路３の屈曲角αを任意
に設定することにより、また、このような薄膜ミラーを
所定の光導波路に複数個設けることによつて、各導波路
部に所定の光量を伝搬させることができる。例えば、Ｌ
ｉＮｂ０３の強誘電体結晶面にＴｉを蒸着して光導波路
３および４形成領域にそれぞれ膜厚４７０Ａ、１７０λ
のＴｉ膜を形成し、温度約９７０℃の熱処理を約７時間
行なつて拡散をした後に形成される光導波路３および４
に対して、光導波路３の屈曲角αの変化に伴い薄膜ミラ
ー５の反射率は第２図で示したグラフのようになる。

ここで使用した光は波長０．８７μｍのダイオードレー
ザで、反射率とは反射光強度１Ｒ、透過光強度１Ｔとし
たときにＩＲ／ＩＲ＋ＩＴであられされる値である。本
実施例では、反射率を変化させるのに各光導波路３，４
の金属濃度あるいは光導波路３の屈曲角度αによつて決
定しているものであるが、電気光学効果、つまり薄膜ミ
ラー５部に電界を発生させることによつて変化させるこ
ともできる。

すなわち、第３図に示すように薄膜ミラー５上に線状か
らなるＡｌ電極６，７を蒸着等により２個平行に設け、
このＡｌ電極６，Ｌ間に適当な電位差を加えるようにし
てもよい。以上、述べたように本発明に係る薄膜ミラー
によれば、光１Ｃの光導波路部の所望個所に形成でき、
これにより所定の光量を光導波路内に伝搬させることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る薄膜ミラーの一実施例を示す要部
斜視構成図、第２図は本発明に係る薄膜ミラーの角度変
化に対する反射率を示すグラフ、第３図は本発明に係る
薄膜ミラーの他の実施例を示す要部斜視構成図である。 １・・・・・・強誘電体結晶、２，３，４・・・・・・
光導波路、５・・・・・・薄膜ミラー、６，７・・・・
・・Ａｌ電極。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ ＬｉＮｂＯ＿３あるいはＬｉＴａＯ＿３等の強誘電
   体結晶にＴｉあるいはＮｂ等の金属を拡散して形成され
   る光導波路が光進行方向に対して所定の角度で屈曲され
   、この屈曲された部分に金属濃度の異なる分岐路が設け
   られたことを特徴とする薄膜ミラー。