JPS599599B2 - 高純度ポリオキシエチレンエ−テル系界面活性剤の製造方法 - Google Patents
高純度ポリオキシエチレンエ−テル系界面活性剤の製造方法Info
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- JPS599599B2 JPS599599B2 JP1804574A JP1804574A JPS599599B2 JP S599599 B2 JPS599599 B2 JP S599599B2 JP 1804574 A JP1804574 A JP 1804574A JP 1804574 A JP1804574 A JP 1804574A JP S599599 B2 JPS599599 B2 JP S599599B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高純度ポリオキシエチレンエーテル系界面活性
剤に関するもので、詳しくは水酸基を有する化合物のア
ルカリ金属塩とポリエチレングリコールジハロゲン置換
体(構造式X(CH2CH20)n−1CH2CH2X
、、Xはハロゲン)とを縮合して得られるハロゲン置換
体をポリエチレングリコールのアルカリ塩(例えばナト
リウム塩、カリウム塩、リチウム塩など)と反応させる
ことを特徴とする高純度ポリオキシエチレンアルキル、
アルケニルおよびアルキルアリールエーテル界面活性剤
の製造方法である。
剤に関するもので、詳しくは水酸基を有する化合物のア
ルカリ金属塩とポリエチレングリコールジハロゲン置換
体(構造式X(CH2CH20)n−1CH2CH2X
、、Xはハロゲン)とを縮合して得られるハロゲン置換
体をポリエチレングリコールのアルカリ塩(例えばナト
リウム塩、カリウム塩、リチウム塩など)と反応させる
ことを特徴とする高純度ポリオキシエチレンアルキル、
アルケニルおよびアルキルアリールエーテル界面活性剤
の製造方法である。
従来、ポリオキシエチレンエーテル系界面活性剤の製造
方法は、高級アルコールあるいはアルキルフェノールな
どにアルカリ触媒(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなど)の存在下に酸化エチレンを加圧、加熱下に
縮重合せしめて製造する方法であり、市販のポリオキシ
エチレンエーテル系界面活性剤はほとんど全てこの方法
によるものである。
方法は、高級アルコールあるいはアルキルフェノールな
どにアルカリ触媒(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなど)の存在下に酸化エチレンを加圧、加熱下に
縮重合せしめて製造する方法であり、市販のポリオキシ
エチレンエーテル系界面活性剤はほとんど全てこの方法
によるものである。
しかしながら、これ等の一般的製造方法によると、未反
応物を含む酸化エチレンの重合度分布を有するポリオキ
シエチレンエーテル化合物が生成し、また少量のポリエ
チレングリコールの副生が避けられない。これ等の混合
物から単一物質を得るための分離精製は現在開発されて
いる最高技術を駆使したとしても、複雑で満足できる結
果を得ることは極めて困難である。
応物を含む酸化エチレンの重合度分布を有するポリオキ
シエチレンエーテル化合物が生成し、また少量のポリエ
チレングリコールの副生が避けられない。これ等の混合
物から単一物質を得るための分離精製は現在開発されて
いる最高技術を駆使したとしても、複雑で満足できる結
果を得ることは極めて困難である。
また、ポリオキシエチレンエーテル系界面活性剤はその
優れた物性のために可溶化剤、乳化剤、浸透剤、分散剤
、洗浄剤および染色助剤などとして、化粧品、医薬品な
どに広く使用されているが、従来、この種の界面活性剤
は不純物あるいは混合物と言われる物質が数多く存在し
、物理的、化学的あるいは皮膚科学的にも問題があつた
。
優れた物性のために可溶化剤、乳化剤、浸透剤、分散剤
、洗浄剤および染色助剤などとして、化粧品、医薬品な
どに広く使用されているが、従来、この種の界面活性剤
は不純物あるいは混合物と言われる物質が数多く存在し
、物理的、化学的あるいは皮膚科学的にも問題があつた
。
それ故この分野に属する業界では化学物質のファイン化
の傾向に伴ない、物性学的、あるいは生理学的研究を詳
細に行う際には、特にポリオキシエチレン重合度の単一
物質即ち高純度の原料がかなり大量に要求されている。
本発明の反応を次式で示せば、 R−0M+X(CH2CH2O)n−1CH2CH2X
→■拒℃(CH2CH20)n−1CH2CH2XMO
(CH2CH20)mHRHICH2CH2O)n−h
nH ただし、RはCxH2x+1(炭酸数Xは3〜30)の
アルキル基、CxH2x−1(炭酸数xは16〜20)
のアルケニル基、CxH2x+1+,(炭素数xは0〜
20)のアルキルテリール基を、Xは塩素、臭素、ヨウ
素などのハロゲン、Mはナトリウム、カリウム、リチウ
ムなどのアルカリ金属を、n=1〜8モルm=1〜4モ
ル、n+m二2〜12モルを示す。
の傾向に伴ない、物性学的、あるいは生理学的研究を詳
細に行う際には、特にポリオキシエチレン重合度の単一
物質即ち高純度の原料がかなり大量に要求されている。
本発明の反応を次式で示せば、 R−0M+X(CH2CH2O)n−1CH2CH2X
→■拒℃(CH2CH20)n−1CH2CH2XMO
(CH2CH20)mHRHICH2CH2O)n−h
nH ただし、RはCxH2x+1(炭酸数Xは3〜30)の
アルキル基、CxH2x−1(炭酸数xは16〜20)
のアルケニル基、CxH2x+1+,(炭素数xは0〜
20)のアルキルテリール基を、Xは塩素、臭素、ヨウ
素などのハロゲン、Mはナトリウム、カリウム、リチウ
ムなどのアルカリ金属を、n=1〜8モルm=1〜4モ
ル、n+m二2〜12モルを示す。
なお、アルカリ金属のなかでは価格、取り扱い易さ等の
点からナトリウムが最も好ましい。本発明の製造方法に
関連のあるものとしては、ウイリアムソン反応といわれ
る製造方法が実験室的な製造方法として知られている。
これは、R−cl+NaO(CH2CH2O)MH→R
−0(H2CH2O)MHからピリジンとチオニルクロ
ライド(SOcl2)の存在下でR−0(CH2CH2
O)n−1CH2CH2C1を生成し、これにNaO(
CH2CH2O)MHを反応させてR−0(CH2CH
2O)n七mlを生成する方法で公知である0しかしこ
の方法によると反応過程で塩酸ガス、亜硫酸ガスなどが
発生し、かつ未反応物が多く蒸留条件などの問題があり
、純度の高い、収率の多いものが得られないし、反応も
3段階必要であり複雑である。
点からナトリウムが最も好ましい。本発明の製造方法に
関連のあるものとしては、ウイリアムソン反応といわれ
る製造方法が実験室的な製造方法として知られている。
これは、R−cl+NaO(CH2CH2O)MH→R
−0(H2CH2O)MHからピリジンとチオニルクロ
ライド(SOcl2)の存在下でR−0(CH2CH2
O)n−1CH2CH2C1を生成し、これにNaO(
CH2CH2O)MHを反応させてR−0(CH2CH
2O)n七mlを生成する方法で公知である0しかしこ
の方法によると反応過程で塩酸ガス、亜硫酸ガスなどが
発生し、かつ未反応物が多く蒸留条件などの問題があり
、純度の高い、収率の多いものが得られないし、反応も
3段階必要であり複雑である。
本発明者等は上記欠点を除去するために、鋭意研究の末
、本発明を完成させたのである。即ち、反応過程が2段
階で、より簡単であり、製造も容易であること、特に種
々のガス発生もなく好条件化で反応が進み、工業的に有
益に製造できることである。
、本発明を完成させたのである。即ち、反応過程が2段
階で、より簡単であり、製造も容易であること、特に種
々のガス発生もなく好条件化で反応が進み、工業的に有
益に製造できることである。
このように公知の方法は例えば高級アルコールよりアル
キルハライドを合成し、これとポリエチレングリコール
(重合度n)のアルカリ塩とを反応させ、nモル付加体
を得て、更にハロゲン化によりnモル付加体のハロゲン
置換体を経て、ポリオキシエチレンアルキルエーテル化
合物を得る方法であるが、本発明は上記の反応過程を省
力化した製造方法で、水酸基を有する化合物のアルカリ
金属塩に、ポリエチレングリコールハロゲン置換体を反
応させ、nモル付加体のハロゲン置換体を得て、目的物
質のポリオキシエチレンエーテル系界面活性剤を製造す
る方法である。
キルハライドを合成し、これとポリエチレングリコール
(重合度n)のアルカリ塩とを反応させ、nモル付加体
を得て、更にハロゲン化によりnモル付加体のハロゲン
置換体を経て、ポリオキシエチレンアルキルエーテル化
合物を得る方法であるが、本発明は上記の反応過程を省
力化した製造方法で、水酸基を有する化合物のアルカリ
金属塩に、ポリエチレングリコールハロゲン置換体を反
応させ、nモル付加体のハロゲン置換体を得て、目的物
質のポリオキシエチレンエーテル系界面活性剤を製造す
る方法である。
実施例 1
還流冷却器及び撹拌装置を備えた三ツロフラスコに16
59のノニルフエノール、2009のトルエンを加え、
撹拌加熱しながら金属ナトリウム179を加えて、フェ
ノラードを合成した。
59のノニルフエノール、2009のトルエンを加え、
撹拌加熱しながら金属ナトリウム179を加えて、フェ
ノラードを合成した。
このフェノラードを、テトラエチレングリコール・シク
ロラード6409の中に加えていき、約3時間、100
〜130℃に保ら反応を行つた。ついで、反応液を冷却
し、多量のアセトンを加えて析出した塩化ナトリウムを
口別した。口液より、トルエン及び過剰のシクロラード
を留去後、分子蒸留により精製を行い、高純度のテトラ
エチレングリコール・ノニルフエニルエーテル●モノク
ロライド217.49(収率71%)を得た。次に同様
な三ツロフラスコに、テトラエチレングリコール489
.1gを加え、加熱撹拌しながら、金属ナトリウム14
.4f!を反応させた。
ロラード6409の中に加えていき、約3時間、100
〜130℃に保ら反応を行つた。ついで、反応液を冷却
し、多量のアセトンを加えて析出した塩化ナトリウムを
口別した。口液より、トルエン及び過剰のシクロラード
を留去後、分子蒸留により精製を行い、高純度のテトラ
エチレングリコール・ノニルフエニルエーテル●モノク
ロライド217.49(収率71%)を得た。次に同様
な三ツロフラスコに、テトラエチレングリコール489
.1gを加え、加熱撹拌しながら、金属ナトリウム14
.4f!を反応させた。
これに前に合成した、テトラエチレングリコール、ノニ
ルフエニルエーテル・モノクロライド217.49を除
々に加えていき、100〜130℃で、3時間反応させ
た。反応液を冷却後、中和し、生成した塩化ナトリウム
を口別し、蒸留でテトラエチレングリコールを蒸留後、
分子蒸留6ごより精製を行い、高純度のオクタエチレン
グリコール、ノニルフエニルエーテル224.89(収
率75%)を得た。1%水溶液の曇点は34.3〜34
。
ルフエニルエーテル・モノクロライド217.49を除
々に加えていき、100〜130℃で、3時間反応させ
た。反応液を冷却後、中和し、生成した塩化ナトリウム
を口別し、蒸留でテトラエチレングリコールを蒸留後、
分子蒸留6ごより精製を行い、高純度のオクタエチレン
グリコール、ノニルフエニルエーテル224.89(収
率75%)を得た。1%水溶液の曇点は34.3〜34
。
5℃であつた。
市販品のポリオキシエチレン(平均8モル)ノニルフエ
ニルエーテルの曇点を測定したところ24〜26℃であ
り、実施例1の高純度品に比べて102C程度低かつた
。これは市販品には未反応のノニルフエノールやポリオ
キシエチレン低モル付加体が含まれているためと考えら
れる。実施例 2 実施例1と同様な反応装置にβ、β5−ジクロルエチル
エーテル10019を加え、ジエチレングリコール10
69、30%苛性ソーダ水溶液1509を加え、70〜
100℃に保ら、約10時間反応を行つた。
ニルエーテルの曇点を測定したところ24〜26℃であ
り、実施例1の高純度品に比べて102C程度低かつた
。これは市販品には未反応のノニルフエノールやポリオ
キシエチレン低モル付加体が含まれているためと考えら
れる。実施例 2 実施例1と同様な反応装置にβ、β5−ジクロルエチル
エーテル10019を加え、ジエチレングリコール10
69、30%苛性ソーダ水溶液1509を加え、70〜
100℃に保ら、約10時間反応を行つた。
塩酸で中和後、脱水を行い、生成した塩化ナトリウムを
口別した。ついで蒸留により、過剰のβ、メージクロル
エチルエーテルを留去後、分子蒸留を行い、高純度のヘ
キサエチレングリコールジクロライド1859(収率5
8%)を得た。ついで実施例1と同様に、ノニルフエノ
ール42.59、ナトリウム4.459とから得られる
フェノラードとヘキサエチレングリコール・シクロラー
ド1859とを反応させヘキサエチレングリコールノニ
ルフエニルエーテルモノクロライド68.99を得た。
これと、テトラエチレングリコール117.09、金属
ナトリウム3,59から得られたモノナトリウム塩から
高純度のデカエチレングリコールノニルフエニルエーテ
ル61.49(収率68%)を得た。得られた1%水溶
液の曇点は72.3〜73℃であつた。市販品のポリオ
キシエチレン(平均10モル)ノニルフエニルエーテル
の曇点は57〜59℃と低かつた。
口別した。ついで蒸留により、過剰のβ、メージクロル
エチルエーテルを留去後、分子蒸留を行い、高純度のヘ
キサエチレングリコールジクロライド1859(収率5
8%)を得た。ついで実施例1と同様に、ノニルフエノ
ール42.59、ナトリウム4.459とから得られる
フェノラードとヘキサエチレングリコール・シクロラー
ド1859とを反応させヘキサエチレングリコールノニ
ルフエニルエーテルモノクロライド68.99を得た。
これと、テトラエチレングリコール117.09、金属
ナトリウム3,59から得られたモノナトリウム塩から
高純度のデカエチレングリコールノニルフエニルエーテ
ル61.49(収率68%)を得た。得られた1%水溶
液の曇点は72.3〜73℃であつた。市販品のポリオ
キシエチレン(平均10モル)ノニルフエニルエーテル
の曇点は57〜59℃と低かつた。
これも前述の理由によるものと考えられる。実施例 3
原料として、ラウリルアルコール139.59を使用す
る以外は実施例1と同様にして、反応を行い、オクタエ
チレングリコール・ラウリルエーテル178.99を得
た。
る以外は実施例1と同様にして、反応を行い、オクタエ
チレングリコール・ラウリルエーテル178.99を得
た。
1%水溶液の曇点は77〜78℃であつた。
市販品のポリオキシエチレン(平均8モル)ラウリルエ
ーテルの曇点は62〜64℃と低く、前記と同様に市販
品には未反応物等が多く含まれていることがわかる。
ーテルの曇点は62〜64℃と低く、前記と同様に市販
品には未反応物等が多く含まれていることがわかる。
実施例 4
原料としてラウリルアルコール139.59、及びテト
ラエチレングリコール・シクロラードの代りに、オクタ
エチレングリコールジクロライド12749を用いる以
外は、実施例1と同様に反応を行い、分子蒸留による精
製を行い、ドデカエチレングリコール・ラウリルエーテ
ル178.39を得た。
ラエチレングリコール・シクロラードの代りに、オクタ
エチレングリコールジクロライド12749を用いる以
外は、実施例1と同様に反応を行い、分子蒸留による精
製を行い、ドデカエチレングリコール・ラウリルエーテ
ル178.39を得た。
1%水溶液の曇点は100℃以上であつた。
実施例 5
原料としてオレイルアルコール164.09を使用する
以外は、実施例1と同様にして反応を行い、分子蒸留を
行い、オクタエチレングリコール・オレイルエーテル1
86.29を得た。
以外は、実施例1と同様にして反応を行い、分子蒸留を
行い、オクタエチレングリコール・オレイルエーテル1
86.29を得た。
1%水溶液の曇点は59〜60℃であつた。
市販品のポリオキシエチレン(平均8モル)オレイルエ
ーテルの曇点は52〜548Cと低く、前述の通り市販
品の純度が低いことを示している。
ーテルの曇点は52〜548Cと低く、前述の通り市販
品の純度が低いことを示している。
尚、本発明で得られたポリオキシエチレンエーテル系界
面活性剤のモル数は12モル以上の高付加モル数におい
ても製造可能である。更に、ポリオキシエチレンエステ
ル系界面活性剤にも本発明の反応過程は十分適用できる
ものである。
面活性剤のモル数は12モル以上の高付加モル数におい
ても製造可能である。更に、ポリオキシエチレンエステ
ル系界面活性剤にも本発明の反応過程は十分適用できる
ものである。
Claims (1)
- 1 水酸基を有する化合物のアルカリ金属塩とポリエチ
レングリコールジハロゲン置換体とを縮合して得られる
ハロゲン置換体をポリエチレングリコールのアルカリ塩
と縮合させることを特徴とする高純度ポリオキシエチレ
ンアルキル、アルケニルおよびアルキルアリールエーテ
ル界面活性剤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1804574A JPS599599B2 (ja) | 1974-02-14 | 1974-02-14 | 高純度ポリオキシエチレンエ−テル系界面活性剤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1804574A JPS599599B2 (ja) | 1974-02-14 | 1974-02-14 | 高純度ポリオキシエチレンエ−テル系界面活性剤の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS50111006A JPS50111006A (ja) | 1975-09-01 |
| JPS599599B2 true JPS599599B2 (ja) | 1984-03-03 |
Family
ID=11960704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1804574A Expired JPS599599B2 (ja) | 1974-02-14 | 1974-02-14 | 高純度ポリオキシエチレンエ−テル系界面活性剤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS599599B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6151896A (ja) * | 1984-08-21 | 1986-03-14 | 株式会社村田製作所 | 電子部品連 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS632962A (ja) * | 1986-01-24 | 1988-01-07 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | N−長鎖アシルアミノ酸型界面活性剤の製造方法および該活性剤を含有する液体洗浄剤組成物 |
-
1974
- 1974-02-14 JP JP1804574A patent/JPS599599B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6151896A (ja) * | 1984-08-21 | 1986-03-14 | 株式会社村田製作所 | 電子部品連 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS50111006A (ja) | 1975-09-01 |
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