JPS6010404B2 - 超伝導部材の製造方法 - Google Patents
超伝導部材の製造方法Info
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- JPS6010404B2 JPS6010404B2 JP50118745A JP11874575A JPS6010404B2 JP S6010404 B2 JPS6010404 B2 JP S6010404B2 JP 50118745 A JP50118745 A JP 50118745A JP 11874575 A JP11874575 A JP 11874575A JP S6010404 B2 JPS6010404 B2 JP S6010404B2
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、超伝導部材の製造方法に関する。
〔従釆技術〕超伝導部材は、その温度がその臨界温度以
下に下がると超伝導性を示す部村を意味する。
下に下がると超伝導性を示す部村を意味する。
この分野において特別な関0をもたれる材料は、比較的
高い臨界温度および比較的高い臨界磁界をもつ材料であ
る。そうした材料は、一般式A3B(但し、該式におい
てAはニオブまたはバナジウムからなり、また、Bは代
表的にはアルミニウム。ガリウム、インジウム、シリコ
ン、ゲルマニウムおよびすずの元素の中の1以上からな
る。)をもつA,5結晶構造の化合物である。本発明は
とくに、導電性、非超伝導性マトリックス中に支持され
た多数の微細な超伝導フィラメントからなる超伝導部材
の製造方法に関し、かつ英国特許明細書第133355
4号および特関昭49一46886号公報に記述された
発明の改良発明である。
高い臨界温度および比較的高い臨界磁界をもつ材料であ
る。そうした材料は、一般式A3B(但し、該式におい
てAはニオブまたはバナジウムからなり、また、Bは代
表的にはアルミニウム。ガリウム、インジウム、シリコ
ン、ゲルマニウムおよびすずの元素の中の1以上からな
る。)をもつA,5結晶構造の化合物である。本発明は
とくに、導電性、非超伝導性マトリックス中に支持され
た多数の微細な超伝導フィラメントからなる超伝導部材
の製造方法に関し、かつ英国特許明細書第133355
4号および特関昭49一46886号公報に記述された
発明の改良発明である。
多フィラメント超伝導複合体に、導電性および熱伝導性
の高い、たとえば純鋼や純アルミニウムのような純金属
の領域を設けて、さらに安定化させることが望ましい。
の高い、たとえば純鋼や純アルミニウムのような純金属
の領域を設けて、さらに安定化させることが望ましい。
この純金属は、磁束線の運動を減衰し、発生した熱の吸
込みとして働くことにより、動的安定化を与える。効果
的であるためには、この純金属は、超伝導フィラメント
にできる限り接近して配置されるべきである。ニオブー
チタン合金のような延性の超伝導体に、銅のような純金
属をフィラメントに隣接して設けることについてはほと
んど困難はない。
込みとして働くことにより、動的安定化を与える。効果
的であるためには、この純金属は、超伝導フィラメント
にできる限り接近して配置されるべきである。ニオブー
チタン合金のような延性の超伝導体に、銅のような純金
属をフィラメントに隣接して設けることについてはほと
んど困難はない。
何となれば、ニオブ−チタン超伝導体中に最適臨界電流
を得るための製造または熱処理のために実施される焼鈍
条件において銅がニオブまたはチタンを補集することは
ほとんどないからである。A,5結晶構造をもつA3B
化合物は時には超伝導性であり、超伝導状態から常伝導
状態への転位温度が高い。
を得るための製造または熱処理のために実施される焼鈍
条件において銅がニオブまたはチタンを補集することは
ほとんどないからである。A,5結晶構造をもつA3B
化合物は時には超伝導性であり、超伝導状態から常伝導
状態への転位温度が高い。
このような化合物は、非常に硬くかつ脆い材料なので、
延性超伝導体に適するような技術を用いて多フィラメン
ト超伝導体を製造することはできない。んB化合物の多
フィラメント超伝導体の製造に適する1つの方法は、イ
ギリス特許明細書第1333554号に記述されている
。たとえば、元素Aの綾または線を、元素Bを含む担体
金属のマトリックス中に埋め込む。銅は、この方法によ
りNbぶnまたはV3Gaを製造するための適当な担体
金属であり、該挺体金属と元素Bの合金は、“青銅”ま
たは“Cu−B合金”と便宜的に呼ばれる。該B元素は
一般に、それが延性合金を与えるので、担体金属中にお
いて固溶体であるが、この方法は、B元素が青銅中にお
いて他の相の中に存在する時にもうまく行く。元素Aお
よびCu−B合金はともに他の元素の添加物を含んでい
てもよい。青銅のマトリックス中の元素Aの棒の複合体
を、簡単な機械的変形法によって加工し、該青銅マトリ
ックス中に所要形状の元素Aの細フィラメントを製造す
る。それから、元素Aの該フィラメントは、元素Aと接
触している青銅が固体状態に保たれる温度範囲における
加熱により、青銅からの元素Bとの反応により化合物A
3Bに添加される。この方法により製造された化合物A
3Bは、また、若干の元素Bを固溶体中に含む銅合金中
に残されることになる。
延性超伝導体に適するような技術を用いて多フィラメン
ト超伝導体を製造することはできない。んB化合物の多
フィラメント超伝導体の製造に適する1つの方法は、イ
ギリス特許明細書第1333554号に記述されている
。たとえば、元素Aの綾または線を、元素Bを含む担体
金属のマトリックス中に埋め込む。銅は、この方法によ
りNbぶnまたはV3Gaを製造するための適当な担体
金属であり、該挺体金属と元素Bの合金は、“青銅”ま
たは“Cu−B合金”と便宜的に呼ばれる。該B元素は
一般に、それが延性合金を与えるので、担体金属中にお
いて固溶体であるが、この方法は、B元素が青銅中にお
いて他の相の中に存在する時にもうまく行く。元素Aお
よびCu−B合金はともに他の元素の添加物を含んでい
てもよい。青銅のマトリックス中の元素Aの棒の複合体
を、簡単な機械的変形法によって加工し、該青銅マトリ
ックス中に所要形状の元素Aの細フィラメントを製造す
る。それから、元素Aの該フィラメントは、元素Aと接
触している青銅が固体状態に保たれる温度範囲における
加熱により、青銅からの元素Bとの反応により化合物A
3Bに添加される。この方法により製造された化合物A
3Bは、また、若干の元素Bを固溶体中に含む銅合金中
に残されることになる。
この元素Bは銅の抵抗率を著しく大きくし、したがって
このようなA3Bフィラメントを含む残留青銅地は動的
安定化を与える最良の材料ではない。銅またはアルミニ
ウムのような純金属によって与えられる超安定化が必要
とされるぱあし、には、このような材料を何らかの方法
で複合超伝導体中に導入しなければならない。超伝導体
を反応条件(すなわち、存在するA3Bフィラメントと
の)において取扱くことができるようなある環境におい
ては、適当に低い抵抗率をもつ純金属を、ある室温作業
、たとえば電着により超伝導体の外部に付着させること
ができる。しかしながら、多くの環境においては、純金
属を複合超伝導体とともに加熱することが必要である。
このようなことは、次のようなぱあし、に起こり得る。
すなわち、純金属がある熱間加工法によって複合体に付
着されるぱあし、;純金属が、ある加工工程中に必然的
に存在しなければならないときに純金属が複合体内にお
かれらぱあし、;あるいはまた、超伝導体が非反応形態
で所要最終形(たとえばソレノィド巻)に巻かれ、それ
から反応が行われるぱあし、である。そうした場合、純
金属は青銅と接触し、かつ熱処理により元素Bが青銅か
ら純金属中に拡散する。このたもに、純金属の抵抗率が
増大して、純金属による安定化効果が減少することにな
る。純金属を超伝導体複合体中に組入れたままでこの問
題を解決するには、青銅から純金属中へB元素が拡散す
るのを防ぐような金属障壁によって純金属を隔離すれば
よい。
このようなA3Bフィラメントを含む残留青銅地は動的
安定化を与える最良の材料ではない。銅またはアルミニ
ウムのような純金属によって与えられる超安定化が必要
とされるぱあし、には、このような材料を何らかの方法
で複合超伝導体中に導入しなければならない。超伝導体
を反応条件(すなわち、存在するA3Bフィラメントと
の)において取扱くことができるようなある環境におい
ては、適当に低い抵抗率をもつ純金属を、ある室温作業
、たとえば電着により超伝導体の外部に付着させること
ができる。しかしながら、多くの環境においては、純金
属を複合超伝導体とともに加熱することが必要である。
このようなことは、次のようなぱあし、に起こり得る。
すなわち、純金属がある熱間加工法によって複合体に付
着されるぱあし、;純金属が、ある加工工程中に必然的
に存在しなければならないときに純金属が複合体内にお
かれらぱあし、;あるいはまた、超伝導体が非反応形態
で所要最終形(たとえばソレノィド巻)に巻かれ、それ
から反応が行われるぱあし、である。そうした場合、純
金属は青銅と接触し、かつ熱処理により元素Bが青銅か
ら純金属中に拡散する。このたもに、純金属の抵抗率が
増大して、純金属による安定化効果が減少することにな
る。純金属を超伝導体複合体中に組入れたままでこの問
題を解決するには、青銅から純金属中へB元素が拡散す
るのを防ぐような金属障壁によって純金属を隔離すれば
よい。
この障壁材料は、反応温度においてB元素に対して不透
過性であるだけでなく、純金属に不溶性でなければなら
ず、また、十分な延性をもち、超伝導体とともに加工さ
れ、そうした処理の後に青銅から純金属を隔離する連続
障壁を与えるようなものでなければならない。このよう
な障壁材料を使用することは、特関昭49−46886
号公報に記載されている。N広Snをニオブと銅すず青
銅との反応によって製造し、かつ鋼を安定化にために使
用した実施例においては、好ましい障壁材料はタンタル
であった。
過性であるだけでなく、純金属に不溶性でなければなら
ず、また、十分な延性をもち、超伝導体とともに加工さ
れ、そうした処理の後に青銅から純金属を隔離する連続
障壁を与えるようなものでなければならない。このよう
な障壁材料を使用することは、特関昭49−46886
号公報に記載されている。N広Snをニオブと銅すず青
銅との反応によって製造し、かつ鋼を安定化にために使
用した実施例においては、好ましい障壁材料はタンタル
であった。
超伝導複合体の製造において、変形が大きすぎないぱあ
し、にはタンタルは十分な障壁材料であるが、最適超伝
導性のために望ましい特に細いフィラメントを含む多フ
ィラメント・ワイヤを製造するために大規模な変形を行
うと、タンタル障壁層の破損を生じることが認められて
いる。このような条件における実験において、ニオブ、
フィラメントが連続して残留しかつ相当均一に変形され
ていることが観察された。本発明者は、この超伝導複合
体の機械的加工は、フィラメントおよび障壁が同一の機
械的性質をもつ場合、とくに、両老に同一の材料が使用
されている場合には、より容易になるであろうと結論し
た。A金属の障壁の使用は、特開昭49−46886号
公報に記載されている。
し、にはタンタルは十分な障壁材料であるが、最適超伝
導性のために望ましい特に細いフィラメントを含む多フ
ィラメント・ワイヤを製造するために大規模な変形を行
うと、タンタル障壁層の破損を生じることが認められて
いる。このような条件における実験において、ニオブ、
フィラメントが連続して残留しかつ相当均一に変形され
ていることが観察された。本発明者は、この超伝導複合
体の機械的加工は、フィラメントおよび障壁が同一の機
械的性質をもつ場合、とくに、両老に同一の材料が使用
されている場合には、より容易になるであろうと結論し
た。A金属の障壁の使用は、特開昭49−46886号
公報に記載されている。
固相反応によりAが化合物が形成されるような温度にお
いてA金属はいましばB元素に対して不透過性であるこ
とが指適されている。とくにニオブは、約900qo以
下で、固溶体中にすずをほとんど溶解しない。青銅を充
たされ、かつ純金属のマトリックスの中に埋められた金
属A(たとえばニオブ)の薄い管の使用を、該管の直径
がフィラメントの安定化に必要な範囲にある特定の場合
について説明する。しかしながら、より一般的な応用に
おいては、元素Aの障壁と青銅との間の界面にA3Bの
層が形成されること、これらの障壁は、該青銅と反応し
て高磁場超伝導化合物を形成することはない他の材料か
らなる障壁よりも、不適当なものになってしまうことが
ある。かくして、該障壁層におけるAが化合物の層は、
純金属を障壁外部の磁束のジャンプからしやへし、する
ため、純金属が効果的な安定化を与えるのを妨げること
になる。同様に該障壁におけるんB化合物の層は、それ
が一般に、んB化合物フィラメントよりも磁界に対して
横方向により大きな寸法を示すので、それ自体不安定性
を示すかも知れない。他方、このようなんB化合物層に
純金属を近接させると、磁束のジャンプに対して該層が
安定化する傾向をもつだろう。安定性の立場のおけるん
B生成に対するこのような難点とは別に、この生成は熱
処理中に障壁の破損をもたらし得る。該障壁は変形の際
に完全、均一に薄くはならない。該障壁の大部分は効果
を保つけれども、より薄い部分においてんB化合物層の
生成は該障壁を通って浸透し得る。一旦、んB化合物が
純金属と接触すると、純金属はB原子を橘集し始め、そ
の電気抵抗率が上昇し始めることになる。〔発明の目的
〕本発明は、純金属が効果的な安定化を与えるように、
Bを含む青銅のような複合材料と接触する金属A(銅の
ような純金属をBによる汚染から保護する)の障壁にお
ける超伝導性化合物A3Bの層の生成を防止または減少
させる方法を提供するものである。
いてA金属はいましばB元素に対して不透過性であるこ
とが指適されている。とくにニオブは、約900qo以
下で、固溶体中にすずをほとんど溶解しない。青銅を充
たされ、かつ純金属のマトリックスの中に埋められた金
属A(たとえばニオブ)の薄い管の使用を、該管の直径
がフィラメントの安定化に必要な範囲にある特定の場合
について説明する。しかしながら、より一般的な応用に
おいては、元素Aの障壁と青銅との間の界面にA3Bの
層が形成されること、これらの障壁は、該青銅と反応し
て高磁場超伝導化合物を形成することはない他の材料か
らなる障壁よりも、不適当なものになってしまうことが
ある。かくして、該障壁層におけるAが化合物の層は、
純金属を障壁外部の磁束のジャンプからしやへし、する
ため、純金属が効果的な安定化を与えるのを妨げること
になる。同様に該障壁におけるんB化合物の層は、それ
が一般に、んB化合物フィラメントよりも磁界に対して
横方向により大きな寸法を示すので、それ自体不安定性
を示すかも知れない。他方、このようなんB化合物層に
純金属を近接させると、磁束のジャンプに対して該層が
安定化する傾向をもつだろう。安定性の立場のおけるん
B生成に対するこのような難点とは別に、この生成は熱
処理中に障壁の破損をもたらし得る。該障壁は変形の際
に完全、均一に薄くはならない。該障壁の大部分は効果
を保つけれども、より薄い部分においてんB化合物層の
生成は該障壁を通って浸透し得る。一旦、んB化合物が
純金属と接触すると、純金属はB原子を橘集し始め、そ
の電気抵抗率が上昇し始めることになる。〔発明の目的
〕本発明は、純金属が効果的な安定化を与えるように、
Bを含む青銅のような複合材料と接触する金属A(銅の
ような純金属をBによる汚染から保護する)の障壁にお
ける超伝導性化合物A3Bの層の生成を防止または減少
させる方法を提供するものである。
本発明は、一般式んB
(式中、Aはニオブまたはバナジウムであり、Bは該金
属Aと反応して超伝導体を形成する1種または2種以上
の元素である)で表されるA,5結晶構造を有する超伝
導体を含む超伝導部材の製造方法であって、実質的に、
担体材料および1種または2種以上の元素Bから成る複
合材料を形成し、該複合材料を実質的に金属Aから成る
基本材料と接触させ、該接触させた複合材料と、最終的
に安定化を与える金属とを単一構造物に成形し、該単一
構造物においては金属Aの障壁層が、該単一構造物の全
長に沿って該安定化金属を該複合材料から分離する拡散
障壁として配置されており、次に該単一構造物を加熱処
理して基本材料と元素Bを反応させて超伝導性化合物A
3Bを形成させ、担体材料は、銅、銀および金から成る
群から選ゃれた元素を含夕み、この遠ゃれた元素は前記
熱処理の際に基本材料と実質的に反応することがなく、
また、選択された元素Bと基本材料との反応に悪影響を
及ぼすことがないものである上記万法において、金属A
の障壁層13と複合材料12との間の領0域に、追加障
壁層13a,13bまたは添加物を含有する領域13c
を設け、この追加障壁層13a,13bまたは添加物を
含有する領域13cが、前記熱処理の際に、金属Aの障
壁層13上に超伝導性化合物んBが生成するのを抑制す
るための保護を与えるようにしたことを特徴とする超伝
導部材の製造方法である一般にB元素は、アルミニウム
、ガリウム、インジウム、シリコン、ゲルマニウム、金
、白金、アンチモニイ、ロジウム、/ぐラジウム、オス
ミウム、ルテニウム、コバルト、タリウム、鉛、ひ素、
蒼鉛、イリジウムおよびすずからなる群の中の1以上の
元素である。
属Aと反応して超伝導体を形成する1種または2種以上
の元素である)で表されるA,5結晶構造を有する超伝
導体を含む超伝導部材の製造方法であって、実質的に、
担体材料および1種または2種以上の元素Bから成る複
合材料を形成し、該複合材料を実質的に金属Aから成る
基本材料と接触させ、該接触させた複合材料と、最終的
に安定化を与える金属とを単一構造物に成形し、該単一
構造物においては金属Aの障壁層が、該単一構造物の全
長に沿って該安定化金属を該複合材料から分離する拡散
障壁として配置されており、次に該単一構造物を加熱処
理して基本材料と元素Bを反応させて超伝導性化合物A
3Bを形成させ、担体材料は、銅、銀および金から成る
群から選ゃれた元素を含夕み、この遠ゃれた元素は前記
熱処理の際に基本材料と実質的に反応することがなく、
また、選択された元素Bと基本材料との反応に悪影響を
及ぼすことがないものである上記万法において、金属A
の障壁層13と複合材料12との間の領0域に、追加障
壁層13a,13bまたは添加物を含有する領域13c
を設け、この追加障壁層13a,13bまたは添加物を
含有する領域13cが、前記熱処理の際に、金属Aの障
壁層13上に超伝導性化合物んBが生成するのを抑制す
るための保護を与えるようにしたことを特徴とする超伝
導部材の製造方法である一般にB元素は、アルミニウム
、ガリウム、インジウム、シリコン、ゲルマニウム、金
、白金、アンチモニイ、ロジウム、/ぐラジウム、オス
ミウム、ルテニウム、コバルト、タリウム、鉛、ひ素、
蒼鉛、イリジウムおよびすずからなる群の中の1以上の
元素である。
B元素は、アルミニウム、ガリウム、インジウム、シリ
コン、ゲルマニウムおよびすずの元素の中の1以上であ
ることが好ましく、また、そうした群に示される一定の
B元素のみが、A金属およびその群の中の他の元素と3
成分結合する場合に該A金属と超伝導性化合物を形成す
ることに留意すべきである。
コン、ゲルマニウムおよびすずの元素の中の1以上であ
ることが好ましく、また、そうした群に示される一定の
B元素のみが、A金属およびその群の中の他の元素と3
成分結合する場合に該A金属と超伝導性化合物を形成す
ることに留意すべきである。
本発明が主に適用される製法においては、熱処理中のい
かなる段階においても、基本材料と接触する複合材料の
熔融を避けるように、熱処理が制御される。
かなる段階においても、基本材料と接触する複合材料の
熔融を避けるように、熱処理が制御される。
本発明による一つの具体例においては、A3B化合物の
生成を制御する手段は、単数または複数のB元素に対し
て不透過性でかつ複合材料と金属Aの上記障壁層との間
に挿入された材料の追加障壁層からなる。
生成を制御する手段は、単数または複数のB元素に対し
て不透過性でかつ複合材料と金属Aの上記障壁層との間
に挿入された材料の追加障壁層からなる。
本発明による他の具体例においては、A3母ヒ合物の生
成を制御するための手段は、金属Aの障壁層と複合材料
との間の界面における追加層または領域からなり、該追
加層または領域は、単数または複数のB元素に対して透
過性であるが、透過しているB原子と金属Aの間の反応
を制御する。
成を制御するための手段は、金属Aの障壁層と複合材料
との間の界面における追加層または領域からなり、該追
加層または領域は、単数または複数のB元素に対して透
過性であるが、透過しているB原子と金属Aの間の反応
を制御する。
この場合、熱処理中のいかなる段階においても、基本材
料と接触する複合材料の溶融を避けるように、該熱処理
を制御することが不可欠である。一般に、担体材料は主
として、銅、銀および金からなる群から選ばれる元素か
ら構成されるが、これらは該坦体材料を規定する、つぎ
の機能要件を満足するように選択する必要がある。○}
熱処理の際に基本材料とほとんど反応しないこと。
料と接触する複合材料の溶融を避けるように、該熱処理
を制御することが不可欠である。一般に、担体材料は主
として、銅、銀および金からなる群から選ばれる元素か
ら構成されるが、これらは該坦体材料を規定する、つぎ
の機能要件を満足するように選択する必要がある。○}
熱処理の際に基本材料とほとんど反応しないこと。
‘21 上司堺羊から選択された単数または複数の元素
および坦体材料中の単数または複数の元素の濃度ととも
に考慮する場合、反応処理の際の温度および元素濃度の
範囲において望ましくない化合物が形成されないこと。
および坦体材料中の単数または複数の元素の濃度ととも
に考慮する場合、反応処理の際の温度および元素濃度の
範囲において望ましくない化合物が形成されないこと。
“望ましくない化合物”とは、基本材料およびB元素か
らの超伝導材料の生成を著しく妨害するか、または、生
成マトリックスの超伝導性を、許容できない程度に妨害
する化合物を意味する。担体材料および上記群から選ば
れる少なくとも1種の元素から本質的に構成される複合
材料に関する説明は、少量の1種以上の他の合金形成元
素または許容しうる不純物または添加剤または存在する
希釈剤とともに、またはそれらを含まずに担0体材料お
よび/または単数または複数の元素(結局は固相におい
て基本材料と反応して超伝導化合物を形成する)の使用
を含むことを意図するものであることが理解されるべき
である。そうした他の合金形成元素、不純物、添加剤ま
たは希釈剤夕は、本質的に、基本材料と、結局は基本材
料と反応して超伝導化合物を形成する上記元素との間の
反応に、許容できないような影響を与えるべきではなく
、また、生成した超伝導化合物に超伝導性に許容できな
いような悪影響を与えるべきではない。同機に、基本材
料に関する説明は、最終的に基本材料と反応して超伝導
化合物を形成する元素との間の反応に許容できないよう
な影響を与えることのない許容される、不純物または添
加剤または、希釈剤と共にまたはそれらの不存在下で、
基本材料を使用することを含んでいる。
らの超伝導材料の生成を著しく妨害するか、または、生
成マトリックスの超伝導性を、許容できない程度に妨害
する化合物を意味する。担体材料および上記群から選ば
れる少なくとも1種の元素から本質的に構成される複合
材料に関する説明は、少量の1種以上の他の合金形成元
素または許容しうる不純物または添加剤または存在する
希釈剤とともに、またはそれらを含まずに担0体材料お
よび/または単数または複数の元素(結局は固相におい
て基本材料と反応して超伝導化合物を形成する)の使用
を含むことを意図するものであることが理解されるべき
である。そうした他の合金形成元素、不純物、添加剤ま
たは希釈剤夕は、本質的に、基本材料と、結局は基本材
料と反応して超伝導化合物を形成する上記元素との間の
反応に、許容できないような影響を与えるべきではなく
、また、生成した超伝導化合物に超伝導性に許容できな
いような悪影響を与えるべきではない。同機に、基本材
料に関する説明は、最終的に基本材料と反応して超伝導
化合物を形成する元素との間の反応に許容できないよう
な影響を与えることのない許容される、不純物または添
加剤または、希釈剤と共にまたはそれらの不存在下で、
基本材料を使用することを含んでいる。
好ましくは、複合材料は、担体材料中の上記群の単数ま
たは複数の元素の固溶体からなる。最終的に基本材料と
反応して超伝導化合物を形成する2種以上の元素は、担
体材料中にともに固溶体で存在する。たとえば、Snお
よびAそは、担体材料中に存在することができ、したが
ってニオブ(基本材料)と反応する場合に、基本的には
少量のアルミニウムを含むNb3Snである三元超伝導
化合物を形成する英国特許明細書第1333554号に
記述されているように、一定の環境においては添加剤が
望ましいことが観察される。
たは複数の元素の固溶体からなる。最終的に基本材料と
反応して超伝導化合物を形成する2種以上の元素は、担
体材料中にともに固溶体で存在する。たとえば、Snお
よびAそは、担体材料中に存在することができ、したが
ってニオブ(基本材料)と反応する場合に、基本的には
少量のアルミニウムを含むNb3Snである三元超伝導
化合物を形成する英国特許明細書第1333554号に
記述されているように、一定の環境においては添加剤が
望ましいことが観察される。
たとえば、重量で25%までのタンタルがニオブの中に
合されて、上記方法によって形成される化合物の超伝導
性に甚だしく影響を与えることなくニオブの機械的性質
を著しく改良する。本発明は、上記方法のいずれかによ
って製造される超伝導部材を含む。
合されて、上記方法によって形成される化合物の超伝導
性に甚だしく影響を与えることなくニオブの機械的性質
を著しく改良する。本発明は、上記方法のいずれかによ
って製造される超伝導部材を含む。
本発明の超伝導材料の製造および組立の具体的な方法を
、実施例および図面を参照して説明する。
、実施例および図面を参照して説明する。
第1図は、A金属のフィラメント11を含む複合材料(
青銅)12の中に埋め込まれたA金属の障壁層13によ
って囲まれた安定化金属(たとえば銅)の円柱14の簡
単な場合を説明する。
青銅)12の中に埋め込まれたA金属の障壁層13によ
って囲まれた安定化金属(たとえば銅)の円柱14の簡
単な場合を説明する。
A金属フィラメント11は熱処理の際に、青銅12中の
単数または複数のB元素と反応して麓伝管んB化合物フ
ィラメントを形成する。本発明の実施例は、第2図、第
3図および第5図において説明されかつ第1図の簡単な
基本形状について記述されている。
単数または複数のB元素と反応して麓伝管んB化合物フ
ィラメントを形成する。本発明の実施例は、第2図、第
3図および第5図において説明されかつ第1図の簡単な
基本形状について記述されている。
しかしながら、第2図ないし第5図においては、青銅1
2およびフィラメント11は示されていない。しかしな
がら、他のマトリックス形状も使用することができるこ
とが理解されるべきである。青銅12および安定化金属
14に関する障壁の他の可能性ある形状は特関昭49一
46886号公報に記述されているので、これを参照さ
れたい。本発明はそうした他の形状のいずれに対しても
容易に適用される。英国特許明細書第1333554号
に記載されている一実施例においては、銅−すず青銅の
ビレットに多くの穴があげられ、それらの穴の中にニオ
ブ棒が挿入される。
2およびフィラメント11は示されていない。しかしな
がら、他のマトリックス形状も使用することができるこ
とが理解されるべきである。青銅12および安定化金属
14に関する障壁の他の可能性ある形状は特関昭49一
46886号公報に記述されているので、これを参照さ
れたい。本発明はそうした他の形状のいずれに対しても
容易に適用される。英国特許明細書第1333554号
に記載されている一実施例においては、銅−すず青銅の
ビレットに多くの穴があげられ、それらの穴の中にニオ
ブ棒が挿入される。
それから該ビレットが引抜かれまたは押出されて、多く
のニオブ・フィラメントを支える銅−すずマトリックス
からなる伸長線が形成される。該線はとくに、ニオブと
接触している青銅は溶解しないが、すずとニオブとの間
に固相反応が生じてすずの減少した青銅マトリックス内
にN広Snフィラメントを形成するように制御条件下に
熱処理される。安定化用純金属が複合材料および基本材
料(ニオブまたはバナジウム)とともに機械的に処理さ
れること、A金属の障壁層が組入れられて他の成分のい
ずれかが該純金属の中に拡散するのが防止されることお
よび該障壁層中にんB化合物が生成するのを抑制するた
め、青銅12と接触している該障壁層の表面で作用する
手段が備えられることを除き、この一般的製造形式が本
発明の実施例において遵守される。
のニオブ・フィラメントを支える銅−すずマトリックス
からなる伸長線が形成される。該線はとくに、ニオブと
接触している青銅は溶解しないが、すずとニオブとの間
に固相反応が生じてすずの減少した青銅マトリックス内
にN広Snフィラメントを形成するように制御条件下に
熱処理される。安定化用純金属が複合材料および基本材
料(ニオブまたはバナジウム)とともに機械的に処理さ
れること、A金属の障壁層が組入れられて他の成分のい
ずれかが該純金属の中に拡散するのが防止されることお
よび該障壁層中にんB化合物が生成するのを抑制するた
め、青銅12と接触している該障壁層の表面で作用する
手段が備えられることを除き、この一般的製造形式が本
発明の実施例において遵守される。
第2図においては、障壁層13と青銅の間に、B原子に
対して不透過性の材料からなる追加障壁層13aが挿入
されている。
対して不透過性の材料からなる追加障壁層13aが挿入
されている。
一見して、この配置は、袴関昭49−46886号公報
で論ぜられているような不透過性材料からなる単一障壁
以上の利点をもたないように思われる。
で論ぜられているような不透過性材料からなる単一障壁
以上の利点をもたないように思われる。
該超伝導複合系のための完全な障壁材料を発見すること
ができるならば、そうしたことは真実である。しかしな
がら、若干の割れが障壁の中に発達する場合を除き、該
障壁材料がすべての点、たとえばB原子に対して不透過
性で、また熱処理温度において純金属中に不溶性で、か
つ青銅の成分または純金属と高磁場超伝導化合物を形成
しない、などの点で適当なものであっても割れが障壁を
貫通する場合に青銅が純金属と接触するのを防ぐために
はそうした障壁のみでは不十分である。しかしながら、
金属Aの内障壁層13と協力する外障壁層13aは、内
障壁層13a中のいかなる割れも内障肇層13の中にお
よびそれを通して広がらなければ十分である。というの
は、第2図の21に示すように、外障壁中の割れにおい
て青銅がA金属と接触するときにのみA3母ヒ合物が形
成されるからである。このようなんB化合物の領域は、
それらの寸法が小さく、かつ銅を完全に包囲していない
ので、銅の安定化効果を妨害する事はない。外障壁層は
初めから必らずしも連続的である必要はない。
ができるならば、そうしたことは真実である。しかしな
がら、若干の割れが障壁の中に発達する場合を除き、該
障壁材料がすべての点、たとえばB原子に対して不透過
性で、また熱処理温度において純金属中に不溶性で、か
つ青銅の成分または純金属と高磁場超伝導化合物を形成
しない、などの点で適当なものであっても割れが障壁を
貫通する場合に青銅が純金属と接触するのを防ぐために
はそうした障壁のみでは不十分である。しかしながら、
金属Aの内障壁層13と協力する外障壁層13aは、内
障壁層13a中のいかなる割れも内障肇層13の中にお
よびそれを通して広がらなければ十分である。というの
は、第2図の21に示すように、外障壁中の割れにおい
て青銅がA金属と接触するときにのみA3母ヒ合物が形
成されるからである。このようなんB化合物の領域は、
それらの寸法が小さく、かつ銅を完全に包囲していない
ので、銅の安定化効果を妨害する事はない。外障壁層は
初めから必らずしも連続的である必要はない。
たとえば、ストリップ13bまたは管のセグメントをA
金属管13の周囲に配置してもよい(第3図)。A3B
化合物は、それらのストリップまたはセグメントの間の
22に形成されるが、んB化合物のそうした領域と領域
の間の領域において、磁束は純金属14を貫通すること
ができる。外管のストリップまたはセグメントの寸法は
、長い熱処理によりんB化合物が厚くなるに従い、これ
とともに、隣接A3B化合物領域が成長するのを防ぐと
いう必要性により、また安定性を考慮して許容し得る該
んB化合物領域の寸法によって決定されるだろう。避け
られるべきこの前者の状況は第4図に説明されているが
、その場合、23および24におけるんB化合物の層は
ともに成長して13bにおける外障壁層のストリップを
包んでいる。固相青銅法により成長するNGSnの実施
例において、ニオブの内障壁層13は、上記のようにタ
ンタルの外障壁層により保護することができる。
金属管13の周囲に配置してもよい(第3図)。A3B
化合物は、それらのストリップまたはセグメントの間の
22に形成されるが、んB化合物のそうした領域と領域
の間の領域において、磁束は純金属14を貫通すること
ができる。外管のストリップまたはセグメントの寸法は
、長い熱処理によりんB化合物が厚くなるに従い、これ
とともに、隣接A3B化合物領域が成長するのを防ぐと
いう必要性により、また安定性を考慮して許容し得る該
んB化合物領域の寸法によって決定されるだろう。避け
られるべきこの前者の状況は第4図に説明されているが
、その場合、23および24におけるんB化合物の層は
ともに成長して13bにおける外障壁層のストリップを
包んでいる。固相青銅法により成長するNGSnの実施
例において、ニオブの内障壁層13は、上記のようにタ
ンタルの外障壁層により保護することができる。
第2図の障壁に関する他の実施例においては「複合超伝
導体が製造のために組立てられるまえに、ある表面処理
により、B原子に対して不透過性の薄層がA金属障壁管
の外部に形成される。この層が、製造の後に青銅と接触
して該A金属障壁上におけるA3B化合物の生成を妨げ
ることになる。んB化合物の生成をこのように防止する
ことは、該層の破片が該障壁に接着しかつ元素Aの障壁
内の純金属に対し磁束が貫通できるように、十分に大き
な領域にわたってA3母ヒ合物の生成が防止されるなら
ば、たとえ該層が製造の際に破壊されても十分に維持さ
れるであろう。外障壁層は必ずしもB原子に対して不透
過性である必要はないが、この場合、該外障壁層のため
の金属または合金は、該A金属との界面における熱力学
的条件がんB化合物を形成する反応をおこさないように
選択されるべきである。
導体が製造のために組立てられるまえに、ある表面処理
により、B原子に対して不透過性の薄層がA金属障壁管
の外部に形成される。この層が、製造の後に青銅と接触
して該A金属障壁上におけるA3B化合物の生成を妨げ
ることになる。んB化合物の生成をこのように防止する
ことは、該層の破片が該障壁に接着しかつ元素Aの障壁
内の純金属に対し磁束が貫通できるように、十分に大き
な領域にわたってA3母ヒ合物の生成が防止されるなら
ば、たとえ該層が製造の際に破壊されても十分に維持さ
れるであろう。外障壁層は必ずしもB原子に対して不透
過性である必要はないが、この場合、該外障壁層のため
の金属または合金は、該A金属との界面における熱力学
的条件がんB化合物を形成する反応をおこさないように
選択されるべきである。
外障壁層が満足すべき他の条件は、マトリックス青銅と
あまりに急速に相互拡散すべきでないことおよび青銅中
のフィラメント上に形成されたんB化合物に有害な影響
を与えないことである。たとえば、本発明者は固相線以
下の温度に加熱される場合、2原子%のすずを含む銀合
金中に埋められたニオブには反応が生じないことを認め
ている。
あまりに急速に相互拡散すべきでないことおよび青銅中
のフィラメント上に形成されたんB化合物に有害な影響
を与えないことである。たとえば、本発明者は固相線以
下の温度に加熱される場合、2原子%のすずを含む銀合
金中に埋められたニオブには反応が生じないことを認め
ている。
したがって、銀または希釈銀すず合金の層は、ニオブ障
壁上におけるNb3Snの生成を妨げる。しかしながら
、すずが銅−銀合金の融点を下げ、かつ銀と青銅の結晶
粒境界に溶雛が生じるので、多分低温における場合を除
きそうした障壁は完全な保護を与えないようである。さ
らに他の方法は、超伝導A3B化合物の生成が障壁にお
いて抑制または減少されるように、元素Aの障壁と接触
する青銅の薄層を改良することである。
壁上におけるNb3Snの生成を妨げる。しかしながら
、すずが銅−銀合金の融点を下げ、かつ銀と青銅の結晶
粒境界に溶雛が生じるので、多分低温における場合を除
きそうした障壁は完全な保護を与えないようである。さ
らに他の方法は、超伝導A3B化合物の生成が障壁にお
いて抑制または減少されるように、元素Aの障壁と接触
する青銅の薄層を改良することである。
そうしたことは、実際にはA金属の障壁と接触する青銅
の改良と考えられるけれども、第5図におけるように内
障壁管13のまわりに特殊な青銅13cを与えることが
より好都合である。
の改良と考えられるけれども、第5図におけるように内
障壁管13のまわりに特殊な青銅13cを与えることが
より好都合である。
この特殊な青銅13cは、変形および熱処理の際にA金
属のフィラメントを含むマトリックス青銅に接合される
。特殊青銅13cは次の3方式のうちの1つで作用する
。
属のフィラメントを含むマトリックス青銅に接合される
。特殊青銅13cは次の3方式のうちの1つで作用する
。
それは、障壁におけるんBの生成を抑制または鈍化する
ことができる;それは、B原子に乏しいものとすること
ができ、それによって、んBを生成する反応が、反応を
おこさせるために十分な、障壁の近くに拡散するBに依
存するようにすることができる;または、それは、生成
したんBの転移温度を降下し得る。後者の場合、該障壁
に形成されたんBは全く超伝導性ではなくなることがあ
るが、零磁界において超伝導を維持するならば、それは
より高い磁界においてまたは、んBフィラメントがまだ
超伝導性である時に、温度上昇の際に超伝導性でなくな
るだろう。多くの環境において、そうした効果が結合さ
れ、たとえば添加物がんBの生成を鈍化し、またはA3
Bの中に細入られてその転位温度を下げるが、この特殊
青銅もB元素が不十分である。元素Aの内障壁13は、
青銅13cの中の、純金属14の安定化性質に悪影響を
与えるようないかなる添加物に対しても不透過性でなけ
ればならない。
ことができる;それは、B原子に乏しいものとすること
ができ、それによって、んBを生成する反応が、反応を
おこさせるために十分な、障壁の近くに拡散するBに依
存するようにすることができる;または、それは、生成
したんBの転移温度を降下し得る。後者の場合、該障壁
に形成されたんBは全く超伝導性ではなくなることがあ
るが、零磁界において超伝導を維持するならば、それは
より高い磁界においてまたは、んBフィラメントがまだ
超伝導性である時に、温度上昇の際に超伝導性でなくな
るだろう。多くの環境において、そうした効果が結合さ
れ、たとえば添加物がんBの生成を鈍化し、またはA3
Bの中に細入られてその転位温度を下げるが、この特殊
青銅もB元素が不十分である。元素Aの内障壁13は、
青銅13cの中の、純金属14の安定化性質に悪影響を
与えるようないかなる添加物に対しても不透過性でなけ
ればならない。
超伝導複合体の製造および熱処理の際に、特殊青銅13
cがマトリックス青銅に接合されるので、特殊青銅中の
いかなる成分もマトリックス青銅中に拡散することがで
き、A障壁におけると同様の影響をAフィラメントにお
いて生じる。
cがマトリックス青銅に接合されるので、特殊青銅中の
いかなる成分もマトリックス青銅中に拡散することがで
き、A障壁におけると同様の影響をAフィラメントにお
いて生じる。
これによって、生成んBの量またはその超伝導転位温タ
度が低下することがあるので、特殊青銅の成分の最適濃
度、超伝導複合体中の成分の形状および寸法、および、
熱処理の時間および温度を選択することにより、このよ
うな影響をできるだけ制限することが重要であることは
明らかである。0 ニオブと、銅−すず青銅からのすず
との固相反応によりNQSnを生成する実施例において
、特殊青銅の使用し、よりニオブ障壁における超伝導N
広Snの生成量を少なくする方法とちて次のことが考え
られる。
度が低下することがあるので、特殊青銅の成分の最適濃
度、超伝導複合体中の成分の形状および寸法、および、
熱処理の時間および温度を選択することにより、このよ
うな影響をできるだけ制限することが重要であることは
明らかである。0 ニオブと、銅−すず青銅からのすず
との固相反応によりNQSnを生成する実施例において
、特殊青銅の使用し、よりニオブ障壁における超伝導N
広Snの生成量を少なくする方法とちて次のことが考え
られる。
タA 燐を含む特殊鋼すず青銅
鋼−すず青銅に溶解された燐は、青銅に埋め込まれたニ
オブ上におけるNb3Snの生成を完全に抑制し得る。
オブ上におけるNb3Snの生成を完全に抑制し得る。
これは、燐含有量が重量で約0.2%よりも大である場
合、すずを多く含む固溶体合金に0おし、て達成し得る
。NはSn以外の相の薄層が、ニオブと青銅の間の界面
に形成される。この層の微量試料分析は、燐45重量%
、ニオブ39重量%、銅1丸重量%およびすず3重量%
の組成を示した。しかしながら、この層が薄いために、
銅およびすずの値は、分析された区域において若干の青
銅の採取により過剰に見積られ、また、ニオブも同様に
過剰に見積られた。より低い機含有量においてはN広S
nの生成が生じるが、より純度の高い青銅におけるより
も遅速であり、また、常伝導状態から超伝導状態への転
位はより低い温度で生じる。かくして、約0.2重量%
よりも多くの燐を含む青銅を使用して、ニオブ障壁にお
けるNb3Snの生成を抑制することができる。克服す
べき問題は、最初に燐を含む層の厚さに対して燐の外向
きの流れを釣合わせることである。それが厚ければ、ニ
オブ障壁における反応は抑制されるが、特殊燐青鋼の容
積が保護される銅の容積をこえ、かつ相当の比率のへB
フィラメントが形成されて超伝導性を劣化する。該層が
薄すぎるならば、燐が急速に拡散しすぎてニオブ障壁に
おけるNbぶnの生成を防止することができなくなる。
しかしながら、後者の場合、該障壁に形成されたNGS
nは低い超伝導転位温度をもつ。マトリックス青銅が7
.8釘京子%のすず青銅であり、特殊青銅が0.59原
子%(0.2紅重量%)の燐を含む4原子%のすず青銅
である多フィラメント複合体の1実施例において、75
0℃における21時間の熱処理の後に、特殊青銅が0.
0023なし、し0.0030伽厚の時に該層がNCS
nの生成を完全に防止すること(光学的金属組織試験に
より判断される。
合、すずを多く含む固溶体合金に0おし、て達成し得る
。NはSn以外の相の薄層が、ニオブと青銅の間の界面
に形成される。この層の微量試料分析は、燐45重量%
、ニオブ39重量%、銅1丸重量%およびすず3重量%
の組成を示した。しかしながら、この層が薄いために、
銅およびすずの値は、分析された区域において若干の青
銅の採取により過剰に見積られ、また、ニオブも同様に
過剰に見積られた。より低い機含有量においてはN広S
nの生成が生じるが、より純度の高い青銅におけるより
も遅速であり、また、常伝導状態から超伝導状態への転
位はより低い温度で生じる。かくして、約0.2重量%
よりも多くの燐を含む青銅を使用して、ニオブ障壁にお
けるNb3Snの生成を抑制することができる。克服す
べき問題は、最初に燐を含む層の厚さに対して燐の外向
きの流れを釣合わせることである。それが厚ければ、ニ
オブ障壁における反応は抑制されるが、特殊燐青鋼の容
積が保護される銅の容積をこえ、かつ相当の比率のへB
フィラメントが形成されて超伝導性を劣化する。該層が
薄すぎるならば、燐が急速に拡散しすぎてニオブ障壁に
おけるNbぶnの生成を防止することができなくなる。
しかしながら、後者の場合、該障壁に形成されたNGS
nは低い超伝導転位温度をもつ。マトリックス青銅が7
.8釘京子%のすず青銅であり、特殊青銅が0.59原
子%(0.2紅重量%)の燐を含む4原子%のすず青銅
である多フィラメント複合体の1実施例において、75
0℃における21時間の熱処理の後に、特殊青銅が0.
0023なし、し0.0030伽厚の時に該層がNCS
nの生成を完全に防止すること(光学的金属組織試験に
より判断される。
)、特殊青銅層が0.0007ないし0.0010仇厚
の時にニオブ障壁にNbぶnが形成されることが認めら
れる。しかしながら後者の場合、Nb3Sn層は、ニオ
ブ・フィラメントに形成されたNbぶn層の厚さの約1
/4にすぎなかった。B 燐を含む鋼 この合金の作用は、最初に該層にすずが存在しないこと
を除き、燐を含む鋼すず青銅の作用と同様である。
の時にニオブ障壁にNbぶnが形成されることが認めら
れる。しかしながら後者の場合、Nb3Sn層は、ニオ
ブ・フィラメントに形成されたNbぶn層の厚さの約1
/4にすぎなかった。B 燐を含む鋼 この合金の作用は、最初に該層にすずが存在しないこと
を除き、燐を含む鋼すず青銅の作用と同様である。
それ故、すずは、ニオブ障壁に向ってNQSnを形成す
るまえに該肩を通って拡散することが必要である。所定
%の燐の添加については、銅におけるよりも銅すず固溶
体合金における固相線温度の低下がより大で、したがっ
て、そうした銅燐合金はおそらく、燐を含む青銅におけ
るよりも高い暁銘温度を使用することができる。燐を添
加しない銅の使用は、ニオブ障壁におけるN広Sn生成
の初速度をも低下するだろう。
るまえに該肩を通って拡散することが必要である。所定
%の燐の添加については、銅におけるよりも銅すず固溶
体合金における固相線温度の低下がより大で、したがっ
て、そうした銅燐合金はおそらく、燐を含む青銅におけ
るよりも高い暁銘温度を使用することができる。燐を添
加しない銅の使用は、ニオブ障壁におけるN広Sn生成
の初速度をも低下するだろう。
C すずを含まない他の鋼合金ニオブ障壁におけるNb
ぶn生成を鈍化または防止するために特殊青銅のこの層
に使用される多くの鋼合金がある。
ぶn生成を鈍化または防止するために特殊青銅のこの層
に使用される多くの鋼合金がある。
つぎのものが調査され、これらはある環境において障壁
に対する保護層としての使用の見込みもを示している。
(C,)鋼−アルミニウム合金 固相において燐鈍される場合、銅6原子%アルミニウム
合金中のニオブ挿入物には反応が生じない。
に対する保護層としての使用の見込みもを示している。
(C,)鋼−アルミニウム合金 固相において燐鈍される場合、銅6原子%アルミニウム
合金中のニオブ挿入物には反応が生じない。
このアルミニウムの若千がすずによって置換される場合
、固相における熱処理により超伝導NQSnを形成する
反応が生じる。この反応は、すず濃度が該青銅中のアル
ミニウム濃度の1/3にすぎないときに生じる。すずア
ルミニウム青銅中に形成されるNCSnの超伝導性は、
純すず青銅に形成されるものと著しく異なることはなく
、したがって、ニオブ障壁に接する層から主マトリック
ス青銅中へのアルミニウムの拡散は、フィラメントとし
てそこに形成されたNQSnにほとんど悪影響を与えな
いはずである。それぞれニオブ挿入物を含む、銅6原子
%アルミニウム合金および銅6原子%すず合金のストリ
ップが、各種の厚さ低減率で互に圧延されかつ800℃
までの温度で暁鈍された。ニオブの上の青銅の厚さが0
.0005狐以下に減少されるまで、アルミニウム青銅
中のニオブには反応が認められなかった。しかしながら
他の実験において、ニオブ棒を銅6原子%アルミニウム
合金地金の中心に置き、それから該地金を銅7.35原
子%すず合金地金の中にあげた穴の中に入れ、次いで該
地金から線を製造した。ニオブのまわりの銅アルミニウ
ム合金層の厚さが0.003ルネの時でも、固相におけ
る熱処理の後にニオブのまわりにNQSnの層が認めら
れた。しかしながら、N広Snの層は徴量試料分析によ
り約2重量%の燐を含むことが証明され、アルミニウム
が何らかの方法でNASn層への燐の移動を促進するこ
とを示しているので、ニオブ障壁のまわりの銅アルミニ
ウム合金層の使用がそこにおける超伝導NQSnの生成
を防ぐことができる。(C2)銅−ゲルマニウム合金鋼
6原子%ゲルマニウム合金中に埋め込まれたニオブが固
相線温度以下で競鈍される場合に、超伝導性でなく、ま
た、A,5結晶構造をもたない化合物が形成される。
、固相における熱処理により超伝導NQSnを形成する
反応が生じる。この反応は、すず濃度が該青銅中のアル
ミニウム濃度の1/3にすぎないときに生じる。すずア
ルミニウム青銅中に形成されるNCSnの超伝導性は、
純すず青銅に形成されるものと著しく異なることはなく
、したがって、ニオブ障壁に接する層から主マトリック
ス青銅中へのアルミニウムの拡散は、フィラメントとし
てそこに形成されたNQSnにほとんど悪影響を与えな
いはずである。それぞれニオブ挿入物を含む、銅6原子
%アルミニウム合金および銅6原子%すず合金のストリ
ップが、各種の厚さ低減率で互に圧延されかつ800℃
までの温度で暁鈍された。ニオブの上の青銅の厚さが0
.0005狐以下に減少されるまで、アルミニウム青銅
中のニオブには反応が認められなかった。しかしながら
他の実験において、ニオブ棒を銅6原子%アルミニウム
合金地金の中心に置き、それから該地金を銅7.35原
子%すず合金地金の中にあげた穴の中に入れ、次いで該
地金から線を製造した。ニオブのまわりの銅アルミニウ
ム合金層の厚さが0.003ルネの時でも、固相におけ
る熱処理の後にニオブのまわりにNQSnの層が認めら
れた。しかしながら、N広Snの層は徴量試料分析によ
り約2重量%の燐を含むことが証明され、アルミニウム
が何らかの方法でNASn層への燐の移動を促進するこ
とを示しているので、ニオブ障壁のまわりの銅アルミニ
ウム合金層の使用がそこにおける超伝導NQSnの生成
を防ぐことができる。(C2)銅−ゲルマニウム合金鋼
6原子%ゲルマニウム合金中に埋め込まれたニオブが固
相線温度以下で競鈍される場合に、超伝導性でなく、ま
た、A,5結晶構造をもたない化合物が形成される。
青銅の中のゲルマニウムの一部がすずりよって置換され
る場合、熱処理により該ニオブの上には同様の化合物が
形成される。すずの濃度がゲルマニウムの濃度の3倍で
ある場合でもそうしたことが生じる。したがって、鋼ゲ
ルマニウム合金は、ニオブ障壁にNGSnが生成するの
を妨げるだろう。該主マトリックス青銅中のフィラメン
トにおけるNはSn生成に対するそれらの悪影響は、非
常に薄い層の使用により、または、特殊青銅中のゲルマ
ニウムの濃度を低くすることにより制限することができ
る。(C3)銅シリコン合金 ここにおける状況は、銅6原子%シリコン合金中の固相
反応の後にニオブ上に形成された非一超伝導化合物が第
2の非一超伝導化合物の粒子を含むと考えられることを
除き、銅ゲルマニウム合金における状況と非常に類似し
ている。
る場合、熱処理により該ニオブの上には同様の化合物が
形成される。すずの濃度がゲルマニウムの濃度の3倍で
ある場合でもそうしたことが生じる。したがって、鋼ゲ
ルマニウム合金は、ニオブ障壁にNGSnが生成するの
を妨げるだろう。該主マトリックス青銅中のフィラメン
トにおけるNはSn生成に対するそれらの悪影響は、非
常に薄い層の使用により、または、特殊青銅中のゲルマ
ニウムの濃度を低くすることにより制限することができ
る。(C3)銅シリコン合金 ここにおける状況は、銅6原子%シリコン合金中の固相
反応の後にニオブ上に形成された非一超伝導化合物が第
2の非一超伝導化合物の粒子を含むと考えられることを
除き、銅ゲルマニウム合金における状況と非常に類似し
ている。
若干のシリコンがすずによって置換される場合に同様の
層が鋼シリコン合金中に形成され、そうしたことは、す
る濃度がシリコン濃度の3倍であるときに発生する。談
合金は、Nb3Sn生成からニオブ障壁を保護する層と
して使用するのに適し、また主青銅中のNb3Snフィ
ラメントに対する悪影響は、薄い層およびより低いシリ
コン濃度の使用により減少させることができる。A金属
の障壁層におけるA3乳ヒ合物の生成を制御するための
さらに他の方法は、超伝導公38の生成を抑制するよう
な添加物を、該障壁金属Aに添加することである。青銅
に接する表面層が、超伝導んB化合物の生成を抑制また
は鈍化するために十分な添加物を含むならば、そうした
添加物は該障壁金属Aの全体に均一に含まれる必要はな
い。
層が鋼シリコン合金中に形成され、そうしたことは、す
る濃度がシリコン濃度の3倍であるときに発生する。談
合金は、Nb3Sn生成からニオブ障壁を保護する層と
して使用するのに適し、また主青銅中のNb3Snフィ
ラメントに対する悪影響は、薄い層およびより低いシリ
コン濃度の使用により減少させることができる。A金属
の障壁層におけるA3乳ヒ合物の生成を制御するための
さらに他の方法は、超伝導公38の生成を抑制するよう
な添加物を、該障壁金属Aに添加することである。青銅
に接する表面層が、超伝導んB化合物の生成を抑制また
は鈍化するために十分な添加物を含むならば、そうした
添加物は該障壁金属Aの全体に均一に含まれる必要はな
い。
そうした表面添加物は、たとえばイオン注入または被覆
法(たとえば機械的、化合的、電気的または蒸着)に続
き、必要ならば拡散熱処理により導入することができる
。そうした添加物の効果は、青銅に対する添加物に関し
て論ぜられた効果と同様であり、それらは障壁における
Aあの生成を抑制または鈍化するか、または、超伝導転
位温度が低下するように、生成したんBの効果を減少す
る。
法(たとえば機械的、化合的、電気的または蒸着)に続
き、必要ならば拡散熱処理により導入することができる
。そうした添加物の効果は、青銅に対する添加物に関し
て論ぜられた効果と同様であり、それらは障壁における
Aあの生成を抑制または鈍化するか、または、超伝導転
位温度が低下するように、生成したんBの効果を減少す
る。
該障壁金属Aに対する添加物は、それと接触する純金属
を汚染したりその安定化効果を破壊したりしてはならず
、また、Aの延性を著しく減少すべきではない。そうで
なければ該障壁は製造中に破壊されてしまうであろう。
本発明は、前記実施例の詳細に限定されるものではない
。
を汚染したりその安定化効果を破壊したりしてはならず
、また、Aの延性を著しく減少すべきではない。そうで
なければ該障壁は製造中に破壊されてしまうであろう。
本発明は、前記実施例の詳細に限定されるものではない
。
したがって、前記実施例に論じられた金属Aの障壁層は
、Aのフィラメントと青銅からのB原子との反応によっ
てA3母ヒ合物が生成される場合、純金属の領域をB原
子による汚染から保護するためのものである。多フィラ
メントA3Bを製造するためのもう1つの方法がある。
この方法によると、他の金属のマトリックスの中にAフ
ィラメントが形成され、それから該マトリックスの中に
B元素が拡散されて該Aフィラメントと反応しんBが生
成する。上記の方法により保護されたA金属の障壁はま
た、それらが製造工程中に該マトリックスによるB原子
の捕集を妨げてはならないと云う制限をもって、この方
法においてAフィラメントをふくむマトリックスから純
金属の領域を隔離するために使用することができる。夕
〔発明の効果〕本発明によれば、金属Aの障壁層上にお
ける超伝導性化合物んBの生成が抑制され、超伝導性化
合物んBの生成は複合材料と基本材料が接触している領
域に実質的に制限され、純金属による安定0化効果が有
効に維持される。
、Aのフィラメントと青銅からのB原子との反応によっ
てA3母ヒ合物が生成される場合、純金属の領域をB原
子による汚染から保護するためのものである。多フィラ
メントA3Bを製造するためのもう1つの方法がある。
この方法によると、他の金属のマトリックスの中にAフ
ィラメントが形成され、それから該マトリックスの中に
B元素が拡散されて該Aフィラメントと反応しんBが生
成する。上記の方法により保護されたA金属の障壁はま
た、それらが製造工程中に該マトリックスによるB原子
の捕集を妨げてはならないと云う制限をもって、この方
法においてAフィラメントをふくむマトリックスから純
金属の領域を隔離するために使用することができる。夕
〔発明の効果〕本発明によれば、金属Aの障壁層上にお
ける超伝導性化合物んBの生成が抑制され、超伝導性化
合物んBの生成は複合材料と基本材料が接触している領
域に実質的に制限され、純金属による安定0化効果が有
効に維持される。
第1図ないし第5図は、各種マトリックスの形状の概略
拡大横断面図である。 11…フィラメント、12…複合材料(青タ鋼)、13
・・・A金属管、13a・・・追加障壁層、13b・・
・ストリップ、13c・・・特殊青銅、14・・・安定
化金属の円柱、21…割れ、22…A3B化合物、23
…んB化合物、24・・・んB化合物。 F′6.ZF′G.2. 斤俗.3 斤俗.4. F俗.5
拡大横断面図である。 11…フィラメント、12…複合材料(青タ鋼)、13
・・・A金属管、13a・・・追加障壁層、13b・・
・ストリップ、13c・・・特殊青銅、14・・・安定
化金属の円柱、21…割れ、22…A3B化合物、23
…んB化合物、24・・・んB化合物。 F′6.ZF′G.2. 斤俗.3 斤俗.4. F俗.5
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式A_3B (式中、Aはニオブまたはバナジウムであり、Bは該
金属Aと反応して超伝導体を形成する1種または2種以
上の元素である)で表されるA_1_5結晶構造を有す
る超伝導体を含む超伝導部材の製造方法であって、 実
質的に、担体材料および1種または2種以上の元素Bか
ら成る複合材料を形成し、該複合材料を実質的に金属A
から成る基本材料と接触させ、該接触させた複合材料と
、最終的に安定化を与える金属とを単一構造物に成形し
、該単一構造物においては金属Aの障壁層が、該単一構
造物の全長に沿って該安定化金属を該複合材料から分離
する拡散障壁として配置されており、次に該単一構造物
を加熱処理して基本材料と元素Bを反応させて超伝導性
化合物A_3Bを形成させ、担体材料は、銅、銀および
金から成る群から選ゃれた元素を含み、この選ばれた元
素は前記熱処理の際に基本材料と実質的に反応すること
がなく、また、選択された元素Bと基本材料との反応に
悪影響を及ぼすことがないものである上記方法において
、 金属Aの障壁層13と複合材料12との間の領域に
、追加障壁層13a,13bまたは添加物を含有する領
域13cを設け、この追加障壁層13a,13bまたは
添加物を含有する領域13cが、前記熱処理の際に、金
属Aの障壁層13上に超伝導性化合物A_3Bが生成す
るのを抑制するための保護を与えるようにしたことを特
徴とする超伝導部材の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| GB42651 | 1974-10-01 | ||
| GB42651/74A GB1499507A (en) | 1974-10-01 | 1974-10-01 | Superconducting members and methods of manufacturing thereof |
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| JPS5161794A JPS5161794A (en) | 1976-05-28 |
| JPS6010404B2 true JPS6010404B2 (ja) | 1985-03-16 |
Family
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Family Applications (1)
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