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JPS6011930B2 - Energy beam-curable epoxy resin composition - Google Patents
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JPS6011930B2 - Energy beam-curable epoxy resin composition - Google Patents

Energy beam-curable epoxy resin composition

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Publication number
JPS6011930B2
JPS6011930B2 JP15147077A JP15147077A JPS6011930B2 JP S6011930 B2 JPS6011930 B2 JP S6011930B2 JP 15147077 A JP15147077 A JP 15147077A JP 15147077 A JP15147077 A JP 15147077A JP S6011930 B2 JPS6011930 B2 JP S6011930B2
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JP
Japan
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epoxy resin
hexafluorophosphate
hydroxy
resin composition
weight
Prior art date
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Expired
Application number
JP15147077A
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Japanese (ja)
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JPS5483999A (en
Inventor
直明 端
正彦 中沢
時夫 上野
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Adeka Corp
Original Assignee
Asahi Denka Kogyo KK
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Filing date
Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は紫外線等のエネルギー線を吸収しエネルギー線
に対し障壁として作用すると同時に酸化防止機能を有す
るエネルギー線硬化性ェポキシ樹脂組成物に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an energy ray-curable epoxy resin composition that absorbs energy rays such as ultraviolet rays, acts as a barrier to energy rays, and at the same time has an antioxidant function.

更に詳しくは塗料又はインキからなるエネルギー線硬化
性ヱポキシ樹脂組成物を塗布し素材上で硬化させエネル
ギー線の存在下で安定な障壁として作用すると同時に空
気の存在下でも酸化を防止し素材を保護するために用い
るエネルギー線硬化性ェポキシ樹脂組成物に関するもの
である。プラスチック、合成ゴム、合成繊維、印刷物な
どの紫外線及び空気中の酸素によって劣化する。
More specifically, an energy ray-curable epoxy resin composition consisting of paint or ink is applied and cured on the material to act as a stable barrier in the presence of energy rays and at the same time prevent oxidation and protect the material even in the presence of air. The present invention relates to an energy ray-curable epoxy resin composition used for this purpose. Plastics, synthetic rubber, synthetic fibers, printed matter, etc. are degraded by ultraviolet rays and oxygen in the air.

例えば強度が低下し弾性を失ない電気的性質が劣化し更
にはクラックを生じたり着色したりして便用にたえなく
なる。又印刷物に見られるように太陽光線、なかんずく
紫外線による黄変、顔料の退色などよく見られる現象で
あり、このような品質劣化は非常に重大である。現在こ
のような品質劣化を防止するための手段が研究されてい
るが、一般的な方法の一つとしては、素材に予め紫外線
吸収剤酸化防止剤を添加する方法が知られている。
For example, strength decreases, elasticity is lost, electrical properties deteriorate, and furthermore, cracks occur or become discolored, making it unusable. Also, as seen in printed matter, yellowing and discoloration of pigments caused by sunlight, especially ultraviolet rays, are common phenomena, and such quality deterioration is very serious. Currently, methods for preventing such quality deterioration are being researched, and one of the common methods is to add an ultraviolet absorber and an antioxidant to the material in advance.

しかしこの方法は素材全量に添加するため絶対量が多く
、かつプラスチックス、ゴムなどのロール線込み中に昇
華及び熱分解などで損失するばかりでなく、本来紫外線
防止に必要な表面に近接した状態での有効利用が不足し
ている。紫外線劣化及び酸化は表面より進行するもので
表面により多くの吸収剤が存在することが望ましい。
However, in this method, the absolute amount is large because it is added to the entire amount of the material, and not only is it lost due to sublimation and thermal decomposition during the roll wire of plastics, rubber, etc. There is a lack of effective use of Ultraviolet deterioration and oxidation progress from the surface, so it is desirable that more absorbent be present on the surface.

しかし現在の態様では吸収剤を選択的に表面へ集合させ
ることは不可能なことである。又別の方法としては揮発
性有機溶媒に紫外線防止能を有するポリマーを溶解し塗
布後、溶媒を揮発させ透明なフィルムを形成させる方法
があるが素材を損傷しない有機溶媒の選択、有機溶媒除
去のための加熱による素材の熱劣化などの欠点を有し実
用性に乏しいきらいがありいまだ充分ではない。一方、
エネルギー線硬化性ェポキシ樹脂に紫外線吸収剤を加え
る事は触媒の活性化を阻害するのではないかとの考えか
ら従来全く行なわれて来なかつた。本発明の目的は現用
の欠点を基本的に解決するものであり、紫外線吸収剤及
び酸化防止剤をヱネルギー線硬化性ェポキシ樹脂に添加
し素材に塗布し紫外線下で短時間に硬化させフィルム状
腹を形成させ素材を保護するもので、揮発性有機溶媒に
よる素材の損傷や、熱劣化などの影響を受けず、かつ紫
外線防止、酸化防止に有効な表面に塗布されるため品質
保護に著しい効果をもたらす。
However, in current embodiments it is not possible to selectively aggregate the absorbent onto the surface. Another method is to dissolve a polymer with UV protection ability in a volatile organic solvent, apply it, and then evaporate the solvent to form a transparent film. However, it is still not sufficient because it has disadvantages such as thermal deterioration of the material due to heating, and it tends to be impractical. on the other hand,
Adding an ultraviolet absorber to an energy beam-curable epoxy resin has not been done in the past because of the idea that it might inhibit the activation of the catalyst. The purpose of the present invention is to basically solve the shortcomings of the current technology, and to create a film-like material by adding ultraviolet absorbers and antioxidants to energy ray-curable epoxy resin, applying it to the material, and curing it under ultraviolet light in a short period of time. It forms and protects the material, and is not affected by material damage due to volatile organic solvents or thermal deterioration, and is effective in preventing ultraviolet rays and oxidation, so it has a remarkable effect on quality protection. bring.

本発明の組成物は必須の構成成分として、ヱポキシ樹脂
帆、照射によりヱポキシ樹脂のカチオン重合を引起こす
触媒を放出する触媒前駆体(B}及び紫外線吸収剤にー
、及び酸化防止剤‘功を含有するエネルギー線硬化性ェ
ポキシ樹脂組成物である。本発明によるエネルギー線硬
化性ェポキシ樹脂は紫外線照射によりェポキシ樹脂のカ
チオン重合を引き起こす触媒を放出する触媒前駆体例え
ばアリルジアゾニウムルィス酸塩等のルイス酸オニウム
塩が分解し発生したルイス酸がカチオン重合触媒として
作用するもので、従来より知られているラジカル重合型
であるビニール化合物とは重合形式が異なる。例えば紫
外線照射による硬化時間はラジカル重合型ビニール化合
物は20秒〜数分を必要とするが、本発明に使用される
カチオン重合型ェポキシ樹脂は0.1〜5秒の照射で硬
化し大中な時間短縮が可能であり、又、耐候性、密着性
、可操性、耐薬品性、屈曲性、耐摩耗性などに優れ、か
つ無溶媒型として用いられるので溶剤による作業環境の
悪化のない特徴を有し、前述の諸法にみられる問題点、
欠点をすべて完全に克服し工業的経済的価値が大で広範
な用途が期待される。
The composition of the present invention contains, as essential components, an epoxy resin membrane, a catalyst precursor (B) that releases a catalyst that causes cationic polymerization of an epoxy resin upon irradiation, an ultraviolet absorber, and an antioxidant. The energy beam curable epoxy resin composition according to the present invention contains a catalyst precursor such as allyl diazonium quartz which releases a catalyst that causes cationic polymerization of the epoxy resin upon irradiation with ultraviolet rays. The Lewis acid generated when the acid onium salt decomposes acts as a cationic polymerization catalyst, and the polymerization type is different from that of conventionally known radical polymerization type vinyl compounds.For example, the curing time by ultraviolet irradiation is longer than that of the radical polymerization type. Vinyl compounds require 20 seconds to several minutes, but the cationically polymerized epoxy resin used in the present invention cures with 0.1 to 5 seconds of irradiation, making it possible to shorten the time considerably. It has excellent properties such as flexibility, adhesion, maneuverability, chemical resistance, flexibility, and abrasion resistance, and since it is used as a solvent-free type, it does not deteriorate the working environment due to solvents. problems,
It completely overcomes all the drawbacks, has great industrial economic value, and is expected to have a wide range of applications.

本発明に使用されるェポキシ樹脂凶とは従来公知の芳香
族ェポキシ樹脂(A−1)、脂環族ェポキシ樹脂(A−
2)、脂肪族ェポキシ樹脂(A−3)が挙げられる。
The epoxy resins used in the present invention are conventionally known aromatic epoxy resins (A-1), alicyclic epoxy resins (A-1), and alicyclic epoxy resins (A-1).
2) and aliphatic epoxy resin (A-3).

ここで芳香族ヱポキシ樹脂(A−1)として特に好まし
いものは、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェ
ノール又はそのアルキレンオキサィド付加体のポリグリ
シジルェーテルであって、例えばビスフェノールA又は
そのアルキレンオキサイド付加体とェピクロルヒドリン
との反応によって製造されるグリシジルェーテル、ェポ
キシノボラック樹脂が挙げられる。また脂環族ェポキシ
樹脂(A−2)として特に好ましいものとしては少なく
とも1個の脂環を有する多価アルコールのポリグリシジ
ルェーテル(A−2一1)又はシクロヘキセン又はシク
ロベンテン環含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な
酸化剤でヱポキシ化することによって得られるシクロヘ
キセンオキサイド又はシクロベンテンオキサィド含有化
合物(A−2−2)がある。ポリグリシジェーテル(A
−2−1)の代表例としては、水素添加ビスフヱノール
A又はそのアルキレンオキサィド付加体とェピクロルヒ
ドリンとの反応によって製造されるグリシジルェーテル
が挙げられる。又、シクロヘキセンオキサイド又はシク
ロベンテンオキサィド含有化合物(A−2一2)の代表
例としては下記の式で表わされるものが挙げられる。さ
らに脂肪族ェポキシ樹脂(A−3)として特に好ましい
ものは脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサ
ィド付加物のポリグリシジルェーテルがあり、その代表
例としては、1・6−へキサンジオールのジグリシジル
エーテル、グリセリンのトリグリシジルエ−テル、ポリ
エチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロ
ピレングリコールのジグリシジルエーテル、エチレング
リコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪
族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキ
サイド(エチレンオキサイド、プロピレンオキサィド)
を付加することにより得られるポリエーテルポリオール
のポリグリシジルエーテルが挙げられる。
Particularly preferable aromatic epixy resins (A-1) are polyglycidyl ethers of polyhydric phenols having at least one aromatic nucleus or alkylene oxide adducts thereof, such as bisphenol A Alternatively, examples thereof include glycidyl ether and epoxy novolak resin produced by reacting an alkylene oxide adduct thereof with epichlorohydrin. Particularly preferred as the alicyclic epoxy resin (A-2) are polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols having at least one alicyclic ring (A-2-1), or compounds containing cyclohexene or cyclobentene rings. There is a cyclohexene oxide or cyclobentene oxide-containing compound (A-2-2) obtained by epoxidation with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Polyglycyether (A
A typical example of -2-1) is glycidyl ether produced by reacting hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adduct with epichlorohydrin. Further, representative examples of the cyclohexene oxide or cyclobentene oxide containing compound (A-2-2) include those represented by the following formula. Particularly preferred as the aliphatic epoxy resin (A-3) are aliphatic polyhydric alcohols or polyglycidyl ethers of alkylene oxide adducts thereof; a typical example thereof is 1,6-hexanediol. diglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of glycerin, diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polypropylene glycol, aliphatic polyhydric alcohol such as ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, and one or more alkylenes. Oxide (ethylene oxide, propylene oxide)
Examples include polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding .

本発明に用いられる照射によりェポキシ樹脂のカチオン
重合を引起こす触媒を放出する触媒前駆体‘B’として
はたとえばルイス酸のオニゥム塩を挙げる事が出来、具
体例としてはハロゲン化物の芳香族ジアゾニウム塩鈴体
、即ち一般式(式中MXn、mはテトラフルオロボレー
ト、ヘキサク。
Examples of the catalyst precursor 'B' used in the present invention, which releases a catalyst that causes cationic polymerization of epoxy resin upon irradiation, include onium salts of Lewis acids, and specific examples include aromatic diazonium salts of halides. Rin, that is, the general formula (where MXn, m is tetrafluoroborate, hexac.

ロスタネート(N)、テトラクロロフエレート(皿)、
ヘキサフルオロホスフエート、ヘキサフルオロアルセネ
ート(V)、ヘキサフルオロアンチモネート(V)およ
びビスマス(m)塩化物からなる群から選らばれたハロ
ゲンを含有する鍵体アニオンであり、Yはニトロ、ハロ
ゲン、N−モルホリノ、アルキル、アルコキシ、アリー
ル、アミノ「アリールアミノ、アルキルアミノおよびア
リールメルカプト基からなる群から選ばれる置換基であ
る。またmはMXmmで示されるハロゲン化物鍵体アニ
オンの電荷数であり、nは上記の塩が分解して生成する
ルイス酸が含有するハロゲン原子の数を示す)で示され
る化合物が例示される。かかる化合物としては例えばp
ーメトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフ
エート、pーニトロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオ
ロホスフエート、o−ニトロベンゼンジアゾニウムヘキ
サフルオロホスフエート、2・5−ジクロロベンゼンジ
アゾニウムヘキサフルオロホスフエート、pークロロベ
ンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフエート、p一
Nーモルホリノフエニルジアゾニウムヘキサフルオロホ
スフヱート、2・5−ジエトキシー4一(pートリル)
ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフエート、2
−クロロー4ージメチルアミノ−5−メトキシーベンゼ
ンジアゾニウムヘキサフルオロホスフエート、2・5−
ジエトキシー4−(pートリルメルカプト)ベンゼンジ
アゾニウムヘキサフルオロホスフエート、2・5ージメ
トキシー4一Nーモルホリノベンゼンジアゾニウムヘキ
サフルオロホスフエート、2・5ージエトキシ−4ーエ
トキシフエニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホ
スフエート、2・4・6−トリクロロベンゼソジアゾニ
ウムヘキサフルオロホスフエート、2・4・6ートリプ
ロモベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフエート
、4−ニトロ一p−トルエンジアゾニウムヘキサフルオ
ロホスフエート、2ーニトロ−P−トルエンージアゾニ
ウムヘキサフルオ。
rostanate (N), tetrachloropherate (plate),
is a halogen-containing key anion selected from the group consisting of hexafluorophosphate, hexafluoroarsenate (V), hexafluoroantimonate (V) and bismuth (m) chloride, and Y is nitro, halogen, N-morpholino, alkyl, alkoxy, aryl, amino is a substituent selected from the group consisting of arylamino, alkylamino, and arylmercapto groups. m is the number of charges of the halide key anion represented by MXmm, n indicates the number of halogen atoms contained in the Lewis acid produced by decomposition of the above salt. Examples of such compounds include p
-methoxybenzenediazonium hexafluorophosphate, p-nitrobenzenediazonium hexafluorophosphate, o-nitrobenzenediazonium hexafluorophosphate, 2,5-dichlorobenzenediazonium hexafluorophosphate, p-chlorobenzenediazonium hexafluorophosphate, p- N-morpholinophenyl diazonium hexafluorophosphate, 2,5-diethoxy 4-(p-tolyl)
Benzenediazonium hexafluorophosphate, 2
-chloro-4-dimethylamino-5-methoxybenzenediazonium hexafluorophosphate, 2,5-
Diethoxy 4-(p-tolylmercapto)benzenediazonium hexafluorophosphate, 2,5-dimethoxy 4-N-morpholinobenzenediazonium hexafluorophosphate, 2,5-diethoxy-4-ethoxyphenylbenzenediazonium hexafluorophosphate, 2・4,6-Trichlorobenzenediazonium hexafluorophosphate, 2,4,6-tripromobenzenediazonium hexafluorophosphate, 4-nitro-p-toluenediazonium hexafluorophosphate, 2nitro-P-toluenediazonium Hexafluo.

ホスフエート、6ーニトロー2・4ーキシレンジアゾニ
ウムヘキサフルオロホスフエート、4ークロロー2・5
ージメトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホス
フエート、2・5ージメトキシ−4−モルホリノベンゼ
ンジアゾニウムヘキサフルオロホスフヱート「2・5−
ジメトキシー4′ーメチルー4ービフエニルジアゾニウ
ムヘキサフルオロホスフエート、2・4・5ートリエト
キシー4ービフヱニルジアゾニウムヘキサフルオロフオ
スフエート、4−(ジメチルアミノ)一1ーナフタレン
ジアゾニウムヘキサフルオロフオスフエート、p−ニト
ロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアルセネート、
p一Nーモルホリノフエニルジアゾニウムヘキサフルオ
ロアルセネート、2・5ージクロロベンゼンジアゾニウ
ムヘキサフルオロアルセネート、pーニトロベンゼンジ
アゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、pーモルホ
リノベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、2・4ージクロロベンゼンジアゾニウムヘキサクロ
ロアンチモネート、2・5ージクロロベンゼンジアゾニ
ウムヘキサクロロアンチモネート、2・5ージクロロベ
ンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、2
・4−ジクロロベンゼ・ンジアゾニウムビスマスクロラ
イド、oーニトロベンゼンジアゾニウムビスマスクロラ
イド、p一Nーモルホリノベンゼンジアゾニウムビスマ
スクロライド、2・4ージクロロベンゼンジアゾニウム
テトラクロロフエレート、pーニトロベンゼンジアゾニ
ウムテトラクロロフエレート、P−N−モルホリノベン
ゼ、ンジアゾニウムテトラクロロフエレート、2・4ー
ジクロロベンゼンジアゾニウムヘキサクロロスタネート
、p−ニトロベンゼンジアゾニウムヘキサクロロスタネ
ート、2・4ージクロロベンゼンジアゾニウムテトラフ
ルオロボレート、pーニトロベンゼンジアゾニウムテト
ラフルオロボレート、2・5−ジエトキシー4−(pー
トリルメルカプト)ベンゼンジアゾニウムテトラフルオ
ロボレート、2・6ージエトキシ−4一(p−トリルメ
ルカプト)ベンゼンジアゾニウムテトラフルオロボレー
ト、2・5ージメトキシ−4−(ベンゾイルアミノ)−
ベンゼンジアゾニウムテトラフルオロボレート、p−ア
ニリ/フェニルジアゾニウムテトラフルオロポレート等
があげられる。本発明で触媒前駆体‘B}として使用さ
れる上記ハロゲン化物の芳香族ジアゾニウム塩鍔体は種
々の方法によって製造され、例えばアリールジアゾニウ
ムヘキサフルオロホスフエートは相当するアニリンをN
OPF6(これはHOIとNaN02の混合物にHPF
6またはへキサフルオロホスフェート塩を添加して製造
できる)でジアゾ化するか、または他のジアゾニウム塩
にHPF6またはその塩を添加し、生成する塩を沈殿さ
せて製造することができ、その他のハロゲン化物の芳香
族ジアゾニウム塩鎧体も同様にして製造できる。
Phosphate, 6-nitro 2,4-xylene diazonium hexafluorophosphate, 4-chloro 2,5
-dimethoxybenzenediazonium hexafluorophosphate, 2,5-dimethoxy-4-morpholinobenzenediazonium hexafluorophosphate "2,5-
Dimethoxy-4'-methyl-4-biphenyldiazonium hexafluorophosphate, 2,4,5-triethoxy-4-biphenyldiazonium hexafluorophosphate, 4-(dimethylamino)-1-1-naphthalenediazonium hexafluorophosphate, p - nitrobenzenediazonium hexafluoroarsenate,
p-N-morpholinophenyldiazonium hexafluoroarsenate, 2,5-dichlorobenzenediazonium hexafluoroarsenate, p-nitrobenzenediazonium hexafluoroantimonate, p-morpholinobenzenediazonium hexafluoroantimonate, 2,4-dichlorobenzene Diazonium hexachloroantimonate, 2,5-dichlorobenzenediazonium hexachloroantimonate, 2,5-dichlorobenzenediazonium hexafluoroantimonate, 2
・4-dichlorobenzenediazonium bismuth chloride, o-nitrobenzenediazonium bismuth chloride, p-N-morpholinobenzenediazonium bismuth chloride, 2,4-dichlorobenzenediazonium tetrachloropherate, p-nitrobenzenediazonium tetrachloroferate, P -N-morpholinobenze, diazonium tetrachloropherate, 2,4-dichlorobenzenediazonium hexachlorostanaate, p-nitrobenzenediazonium hexachlorostanaate, 2,4-dichlorobenzenediazonium tetrafluoroborate, p-nitrobenzenediazonium tetrafluoroborate , 2,5-diethoxy-4-(p-tolylmercapto)benzenediazonium tetrafluoroborate, 2,6-diethoxy-4-(p-tolylmercapto)benzenediazonium tetrafluoroborate, 2,5-dimethoxy-4-(benzoylamino) −
Examples include benzenediazonium tetrafluoroborate and p-anili/phenyldiazonium tetrafluoroporate. The aromatic diazonium salt body of the halide used as the catalyst precursor 'B} in the present invention can be produced by various methods. For example, aryldiazonium hexafluorophosphate is prepared by converting the corresponding aniline into N
OPF6 (This is a mixture of HOI and NaN02 with HPF
6 or a hexafluorophosphate salt), or by adding HPF6 or its salt to other diazonium salts and precipitating the resulting salt. Aromatic diazonium salt armor bodies can also be produced in the same manner.

またその他の方法によって上記のハロゲン化物の芳香族
ジアゾニゥム塩鈴体は製造でき、その製造法によって本
発明で使用されるハロゲン化物の芳香族ジアゾニウム塩
錆体は何ら限定されるものでないことは言うまでもない
。その他にもルイス酸のオニウム塩でェポキシ樹脂のカ
チオン重合を開始する能力のあるものは何でも用いる事
が出来、たとえば特関昭50一158680、同50一
158698、同50一i51990同50−1519
97、同51一56885、同51−133256、同
52−30420及び同52−3089計号各公報に例
示されている。
Furthermore, the aromatic diazonium salts of halides can be produced by other methods, and it goes without saying that the aromatic diazonium salts of halides used in the present invention are not limited in any way by the manufacturing method. . In addition, any onium salt of a Lewis acid that has the ability to initiate cationic polymerization of epoxy resin can be used.
97, No. 51-56885, No. 51-133256, No. 52-30420, and No. 52-3089.

又、本発明の組成物は必須の成分ではないが希釈剤を含
有していてもよく、かかる希釈剤として例えばブチルグ
リシジルヱーテル、アリルグリシジルエーテル、フエニ
ルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、
エピクロルヒドリン、スチレンオキサイド、オクチレン
オキサイドトドデセンオキサイド、ブタンジオールジグ
リシジルエーテル、1・6ーヘキサンジオールグリシジ
ルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ジベ
ンテンジオキサィド、ェポキシ化植物油、グリシジルメ
タクリレート等の反応性希釈剤、アセトン、アセトニト
リル、ブチロニトリル、ベンゾニトリル、トルエン、キ
シレン、メチルエチルケトン、セロソルブエーテル、モ
ノクロロベンゼン、テトラクロロエタン、o−ジクロロ
ベンゼン、プロピレンカーボネートの如き非反応性希釈
剤が使用できるが、反応性希釈剤を使用した方が好まし
い物性の硬化物を与える。
Although the composition of the present invention is not an essential component, it may contain a diluent, such as butyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether,
Reactive dilution of epichlorohydrin, styrene oxide, octylene oxide tododecene oxide, butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol glycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, dibentene dioxide, epoxidized vegetable oil, glycidyl methacrylate, etc. Although non-reactive diluents such as acetone, acetonitrile, butyronitrile, benzonitrile, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cellosolve ether, monochlorobenzene, tetrachloroethane, o-dichlorobenzene, propylene carbonate can be used, reactive diluents can be used. When used, it provides a cured product with preferable physical properties.

また上記に例示の非反応性希釈剤は触媒前駆体【B’を
組成物中に均一に分散させるための溶媒としても使用し
うる。本発明に使用される紫外線吸収剤‘C’としては
サリチル酸議導体(C−1)、ベンゾフェノン誘導体(
C−2)、ベンゾトリアゾール誘導体(C−3)、アク
リ。
The non-reactive diluent exemplified above can also be used as a solvent for uniformly dispersing the catalyst precursor [B' in the composition. Examples of the ultraviolet absorber 'C' used in the present invention include salicylic acid converter (C-1), benzophenone derivative (
C-2), benzotriazole derivative (C-3), acrylic.

ニトリル議導体(C−4)、安息香酸誘導体(C−5)
、有機金属鍵塩(C一6)等が挙げられる。ここでサリ
チル酸誘導体(C−1)としては、サリチル酸フェニル
、4−tert−ブチルフェニルサリチル酸、pーオク
チルフェニルサリチル酸等が例示され、ベンゾフェ/ン
叢導体(C−2)とは2・4ージ/・ィドロオキシベン
ゾフエノン、2ーハイドロオキシー4−〆トキシベンゾ
フエノン、2・2ージーハイドロオキシ−4ーメトキシ
ベンゾフエノン、2−ハイドロオキシ−4ーメトキシ−
2−カルボキシベンゾフエノン、2−ハイドロオキシー
4−メトキシー5一スルホベンゾフェノン3水塩、4ー
ハイドロオキシー4−n−オクトキシベンゾフエノン、
2−ハイドロオキシー4−オキシベンジルベンゾフエノ
ン、2−ハイドロオキシー4ーステアリルオキシベンゾ
フエノン、2・2−ジハイドロオキシー4・4ージメト
キシベンゾフェノン等が例示される。ペンゾトリアゾー
ル誘導体(C−3)としては、2−(2′ーハイドロオ
キシー5′ーメチルフエニル)ーベンゾトリアゾール、
2一(2′ーハイドロオキシー3′・5−ジーten−
ブチルフエニル)一5ークロロベンゾトリアゾール、2
一(2′ーハイドロオキシー5一把rtープチルフエニ
ル)ペンゾトリアゾール、2一(2′ーハイドロオキシ
ー3・5−ジーにrtープチルフエニル)ペンゾトリア
ゾール、2一(2′ーハイドロオキシー3′一にrtー
ブチルー5′ーメチルフエニル)ペンゾトリアゾール、
2一(2′ーハイドロオキシー3′・6一ジイソアミル
フエニル)ペンゾトリアゾール、2一(2ーハイドロオ
キシー4′ーオクトオキシフエニル)ペンゾトリアゾー
ルが例示され、アクリロニトリル誘導体(C−4)とし
ては2ーヱチルヘキシルー2−シアノー3・3ージフエ
ニルアクリレート、エチル一2ーシア/−3・3ージフ
エニルアクリレート、メチル−Q−シアノー8ーメチル
ーP一(pーメトキシフエニル)アクリレートが例示さ
れ、安息香酸誘導体(C−5)としてはしゾルシノール
ーモノベンゾエート、2。4′−ジーにrtーブチルフ
エニルー3・5−ジーにrtーブチルー4−ハイドロオ
キシベンゾェートが例示され、有機金属錆塩(C−6)
としてはニッケルビスーオクチルフエニルサルフアミド
、〔2・2′−チオビス(4−ten一オクチルフエノ
レート)〕一n一ブチルアミンニツケル、エチル−3‘
5ージ−ねrtーブチルー4ーハイドロオキシベンジル
リン酸のニッケル塩が例示される。
Nitrile conductor (C-4), benzoic acid derivative (C-5)
, organometallic key salt (C-6), and the like. Examples of the salicylic acid derivative (C-1) include phenyl salicylate, 4-tert-butylphenyl salicylic acid, p-octylphenyl salicylic acid, and the benzophene plexi conductor (C-2) /・hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-toxybenzophenone, 2,2-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-
2-carboxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy 5-sulfobenzophenone trihydrate, 4-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone,
Examples include 2-hydroxy-4-oxybenzylbenzophenone, 2-hydroxy-4-stearyloxybenzophenone, and 2,2-dihydroxy-4,4-dimethoxybenzophenone. As the penzotriazole derivative (C-3), 2-(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)-benzotriazole,
21 (2'-hydroxy-3', 5-G-ten-
butylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2
1 (2'-hydroxy-5-rt-butylphenyl) penzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3,5-di-rt-butylphenyl) penzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3'-1) rt-butyl-5'-methylphenyl)penzotriazole,
Examples include 2-(2'-hydroxy-3'-61-diisoamyl phenyl)penzotriazole, 2-(2-hydroxy-4'-octoxyphenyl)penzotriazole, and acrylonitrile derivatives (C-4 ) are 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, ethyl-2-cya/-3,3-diphenyl acrylate, and methyl-Q-cyano-8-methyl-P-(p-methoxyphenyl) acrylate. is exemplified, and examples of the benzoic acid derivative (C-5) include zorcinol-monobenzoate, 2,4'-di-rt-butyl phenyl-3,5-di-rt-butyl-4-hydroxybenzoate and organometallic rust salt (C-6)
Examples include nickel bis-octyl phenyl sulfamide, [2,2'-thiobis(4-ten monooctyl phenolate)]1n-butylamine nickel, ethyl-3'
A nickel salt of 5-di-nert-butyl-4-hydroxybenzyl phosphate is exemplified.

本発明に使用される酸化防止剤皿とは、ヒンダードフェ
ノール誘導体(D−1)、チオジブロピオン酸誘導体(
D−2)「ホスフアイト譲導体(D−3)等であり、ヒ
ンダードーフェノール議導体(D−1)としては4・4
−チオビス(6−にrt一3一メチルフェノール入40
4ープチリデンビス(6−tert−ブチル−3ーメチ
ルフエノール)、212−チオピス(6−tenーブチ
ルー4−メチルフェノール)、206−ジー史rt−ブ
チルフエノール、414−メチレンビス(6−企rtー
ブチルフヱノール)、4・4′ーピス(2・6−ジーに
rt−ブチルフエノール)、404−メチレンビス(6
−teれ−ブチルーo−クレゾ−ル)、404′−チオ
ビス(6−tertーブチル−o−クレゾール)、1・
103−トリス(5一にrt−ブチルー4ーハイドロオ
キシ−2−メチルフエニール)ブタン、2・4・6ート
リス(3・5ージー企てt−ブチルー4ーハイドロオキ
シベンジル)メシチレン、1・3・5−トリス(3・5
−ジー笹rt−プチル−4ーハイド0オキシベンジル)
イソシアヌレート、113ービス(315−ジーにrt
−ブチルー4−ハイドロオキシフエニル)−2.2−ビ
ス(2ードデシルチオエトキシカルボニール)プロパン
、116−ビス(3・5−ジーにrtーブチルー4ーハ
イドロオキシフエニールアセトオキシ)へキサン、6一
(4−ハイドロオキシ−3・5ージ−にrtーブチルア
ニリノ)一2・4ービス(nーオクチルチオ)、1・3
・5−トリアジン、テトラビス〔8−(315ージーt
eれープチルー4一ハイドロオキシフエニ−ル)プ。
The antioxidant dish used in the present invention includes hindered phenol derivative (D-1), thiodibropionic acid derivative (
D-2) "Phosphite conductor (D-3), etc., and hindered phenol conductor (D-1) is 4.4
-thiobis(6- to rt-31 methylphenol 40
4-butylidenebis(6-tert-butyl-3-methylphenol), 212-thiopis(6-ten-butyl-4-methylphenol), 206-di-butylphenol, 414-methylenebis(6-tert-butylphenol) 4,4'-pis (2,6-di-rt-butylphenol), 404-methylenebis (6
-tert-butyl-o-cresol), 404'-thiobis(6-tert-butyl-o-cresol), 1.
103-tris(5-rt-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butane, 2,4,6 tris(3,5-t-butyl-4-hydroxybenzyl)mesitylene, 1,3,5 -Tris (3.5
-G-sasa rt-butyl-4-hyde 0 oxybenzyl)
Isocyanurate, 113-bis (rt to 315-bis)
-butyl-4-hydroxyphenyl)-2,2-bis(2dodecylthioethoxycarbonyl)propane, 116-bis(3,5-dirt-butyl-4-hydroxyphenylacetoxy)hexane, 6-(4-hydroxy-3,5-di-rt-butylanilino)-2,4-bis(n-octylthio), 1,3
・5-triazine, tetrabis[8-(315-Gt
e-Repetyl-4-Hydroxyphenylene).

ピオニールオキシメチル〕メタン、nーオクタデシル3
−(4′ーハイドロオキシ−3′・ラージ一にrtーブ
チルフエニール)プロピオネート、ジーオクタデシルー
4ーハイドロオキシ−3・5ージ一tertーブチルベ
ンジルホスホネート、ジーエチル4ーハイドロオキシー
3・5ージ−にrtーブチルベンジールホスホネート等
が例示され、チオジプロピオン酸誘導体(D−2)とし
てはジーラウリルチオージープロピオネート、ジーステ
アリルチオージープロピオネート、がホスフアィト誘導
体(D−3)としては、トリーフェニールホスフアイト
、トリスノニルフエニールホスフアイト、ジーフエニー
ルデシルホスフアイト、ジークレジールホスフアィト等
が例示される。本発明の硬化性組成物は例えば水銀燈、
キセノン燈、カーボンアーク燈又はタングステンフィラ
メントランプ等から発せられる紫外線、可視光線、電子
線等を照射することによって、組成物中に触媒前駆体{
B’として含まれるところの、上記一般式で示されるハ
ロゲン化物の芳香族ジアゾニウム塩が分解し、一般式:
MKnで示されるところの、例えばBF3、PF5、F
eC13、AsF5、SbF5、SnC14、BiC1
3の如きルイス酸を生成し、これによってェポキシ樹脂
風の重合が開始され、該組成物は硬化される。
pionyloxymethyl]methane, n-octadecyl 3
-(4'-hydroxy-3'-large-butyl phenyl) propionate, di-octadecyl-4-hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzylphosphonate, di-octadecyl-4-hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphonate, di-octadecyl-4-hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphonate, di-octadecyl-4-hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphonate, Examples include rt-butylbenzyl phosphonate, etc. Examples of the thiodipropionic acid derivative (D-2) include dilaurylthiodipropionate and distearylthiodipropionate, and examples of the phosphite derivative (D-3). Examples include triphenyl phosphite, trisnonyl phenyl phosphite, diphenyl decyl phosphite, and dicresyl phosphite. The curable composition of the present invention includes, for example, mercury lamp,
By irradiating the composition with ultraviolet rays, visible light, electron beams, etc. emitted from xenon lamps, carbon arc lamps, tungsten filament lamps, etc., catalyst precursors can be added to the composition.
The aromatic diazonium salt of the halide represented by the above general formula, which is included as B', decomposes to form the general formula:
For example, BF3, PF5, F as indicated by MKn.
eC13, AsF5, SbF5, SnC14, BiC1
3, which initiates the polymerization of the epoxy resin and cures the composition.

この場合、使用される照射源は使用される触媒前駆体{
Bーの分解レベルに達する充分なエネルギーを与えるに
充分なものでなければならないし、照射線の波長範囲は
好ましい分解を刺激するに充分なエネルギー吸収がなさ
れるように選択されなければならない。本発明の硬化性
組成物は触媒前駆体‘B)として含有されているハロゲ
ン化物の芳香族ジアゾニウム塩鍔体の感光性を増進する
ために、例えばアンスラキノン、1−クロロアンスラキ
ノン、プリムリン、アセナフチレン、ナフタレン、アン
スラセンの如き感光増進剤を含有せしめてもよく、また
運搬、貯蔵中の安定化剤として例えば1−ビニルー2ー
ピロリジノンの重合体、1ーアルキル−2−ピロリジノ
ン、1ーアルキル−2−ピロリン−5ーオン、1ーアル
キルー3−ピロリンー2−オンの如き環式アミド、例え
ばプロピオニトリル、フチロニトリル、イソブチロニト
リル、アジポニトリル、フエニルアセトニトリル、ベン
ゾニトリルの如きニトリル化合物、例えばN・N−ジメ
チルアセトアミド、N・N−ジエチルアセトアミドの如
き非環式アミド、例えば111・3・3−テトラメチル
尿素、1・1・3・3−テトラオクタデシル尿素の如き
尿素誘導体、例えばジメチルスルホキサィド、スルホラ
ン等のイオウ化合物等を含有せしめてもよい。
In this case, the irradiation source used is dependent on the catalyst precursor used {
It must be sufficient to provide sufficient energy to reach a level of B-decomposition, and the wavelength range of the radiation must be selected to provide sufficient energy absorption to stimulate the desired decomposition. The curable composition of the present invention can be used to enhance the photosensitivity of the aromatic diazonium salt of halide contained as the catalyst precursor 'B), such as anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, purimulin, acenaphthylene. , naphthalene, anthracene, and stabilizers during transportation and storage, such as 1-vinyl-2-pyrrolidinone polymers, 1-alkyl-2-pyrrolidinone, 1-alkyl-2-pyrrolidinone, Cyclic amides such as 5-one, 1-alkyl-3-pyrrolin-2-one, nitrile compounds such as propionitrile, phthyronitrile, isobutyronitrile, adiponitrile, phenylacetonitrile, benzonitrile, such as N·N-dimethylacetamide, Acyclic amides such as N.N-diethylacetamide, urea derivatives such as 111,3,3-tetramethylurea, 1,1,3,3-tetraoctadecylurea, dimethylsulfoxide, sulfolane, etc. It may also contain a sulfur compound or the like.

本発明に用いられるエネルギー線硬化性ェポキシ樹脂組
成物の成分比はェポキシ樹脂の10の重量部に対し触媒
前駆体【B}を0.1〜2の重量部、好ましくは0.5
〜6重量部であり、紫外線吸収剤■は0.01〜2の重
量部、好ましくは0.1〜1の重量部であり、酸化防止
剤【D}は0.01〜15重量部、好ましくは0.1〜
8重量部である。
The component ratio of the energy beam-curable epoxy resin composition used in the present invention is 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 parts by weight, of catalyst precursor [B} to 10 parts by weight of epoxy resin.
~6 parts by weight, the ultraviolet absorber {circle over (2)} is 0.01 to 2 parts by weight, preferably 0.1 to 1 part by weight, and the antioxidant [D} is 0.01 to 15 parts by weight, preferably is 0.1~
It is 8 parts by weight.

以上の組成においてェポキシ樹脂■は一種類にこだわる
ものではなく(A−1)、(A−2>、(A−3)の二
種類以上の場合でもよく、このことは触媒前駆体脚、紫
外線吸収剤(q、酸化防止剤(肌こついても同様に二種
類以上の場合でも何んらさしつかえない。以上の組合せ
によって得られるエネルギー線硬化性ェポキシ樹脂組成
物を例えばポリオレフィン、ABS、ポリアセタール、
ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルアルコ−ル、ポ
リ塩化ビニール、不飽和ポリエステル、ポリ塩化ビニリ
デン、ェポキシ樹脂、ポリスチレン、セルロースなどの
各種プラスチックス成型品や天然紙、合成紙などの印刷
物、缶などの印刷物上にハケ塗り、スプレー塗り、浸債
塗布、ロールコータ一塗布、カーテンフローコーター塗
布等、既に公知なるその他の塗付方法で塗布すれば、先
に記述したごとく種々の利点および特徴を兼備し硬化時
間が著しく短かく、しかも無溶媒塗装の工程上の利点の
ある塗膜が得られ、しかも紫外線硬化による塗膜は各種
素材に対しての優れた密着性、可携性、屈曲性、耐摩耗
性、耐溶剤性などの物性向上と共に紫外線及び酸化に基
づく耐膜性が著しく改良され実用上の価値は極めて大き
いものである。
In the above composition, the epoxy resin ■ is not limited to one type, but may be two or more types (A-1), (A-2>, and (A-3)). Absorbent (q), antioxidant (even if it irritates the skin, there is no problem even if two or more types are used.The energy ray-curable epoxy resin composition obtained by the above combination can be used for example, polyolefin, ABS, polyacetal,
On various plastic molded products such as polyurethane, polyamide, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, unsaturated polyester, polyvinylidene chloride, epoxy resin, polystyrene, cellulose, printed materials such as natural paper and synthetic paper, and printed materials such as cans. If the coating is applied by other known coating methods such as brush coating, spray coating, dipping coating, roll coater coating, curtain flow coating, etc., it will have the various advantages and characteristics as described above, and the curing time will be reduced. It is possible to obtain a coating film that is extremely short and has the advantages of a solvent-free coating process, and the coating film cured by UV rays has excellent adhesion to various materials, portability, flexibility, abrasion resistance, It not only improves physical properties such as solvent resistance, but also significantly improves film resistance against ultraviolet rays and oxidation, and has extremely great practical value.

以下実施例によって本発明を具体的に示すが、これによ
って本発明の範囲が限定されるものではない。
The present invention will be specifically illustrated by examples below, but the scope of the present invention is not limited thereby.

実施例 1 脂環式ェポキシ樹脂CX−201(UCC製ェポキシ当
量152〜156)10■重量部に対し紫外線吸収剤2
一(2ーヒドロキシ−5ーメチルフエニル)ペンゾトリ
アゾール2重量部、酸化防止剤2・6ージーにrtーブ
チルー4−メチルフェノール1重量部を添加溶解し、硬
化触媒1重量部を添加混合したのちマイヤー(Nねye
r)qッドの如きドローバーによって膜厚5ミクロンを
ポリ塩化ビニルフィルム上に塗布し高圧水銀燈(岩崎電
気製UOII−222型80W′柳1本)より8伽の距
離の下を毎分15肌の速度で通過させ紫外線を照射した
Example 1 10 parts by weight of alicyclic epoxy resin CX-201 (epoxy equivalent: 152-156 manufactured by UCC), 2 parts by weight of ultraviolet absorber
1 part by weight of rt-butyl-4-methylphenol was added and dissolved in 2 parts by weight of 1-(2-hydroxy-5-methylphenyl)penzotriazole and the antioxidant 2.6-di, 1 part by weight of curing catalyst was added and mixed, and Mayer (N Hey yeah
r) A film thickness of 5 microns is applied onto a polyvinyl chloride film using a drawbar such as a qd, and a high-pressure mercury lamp (Iwasaki Electric UOII-222 type 80W' 1 willow) is applied at a distance of 8 to 15 skins per minute. The ultraviolet rays were irradiated through the lens at a speed of .

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 必須の構成成分として、エポキシ樹脂(A)100
重量部に対し、照射によりエポキシ樹脂のカチオン重合
を引起こす触媒を放出する触媒前駆体(B)0.1〜2
0重量部、紫外線吸収剤(C)0.01〜20重量部及
び酸化防止剤(D)0.01〜15重量部を含有するエ
ネルギー線硬化性エポキシ樹脂組成物。
1 Epoxy resin (A) 100 as an essential component
0.1 to 2 parts by weight of a catalyst precursor (B) that releases a catalyst that causes cationic polymerization of an epoxy resin upon irradiation;
An energy beam-curable epoxy resin composition containing 0.01 to 20 parts by weight of an ultraviolet absorber (C) and 0.01 to 15 parts by weight of an antioxidant (D).
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