JPS6014440B2 - Non-volatile semiconductor memory - Google Patents
Non-volatile semiconductor memoryInfo
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- JPS6014440B2 JPS6014440B2 JP55143949A JP14394980A JPS6014440B2 JP S6014440 B2 JPS6014440 B2 JP S6014440B2 JP 55143949 A JP55143949 A JP 55143949A JP 14394980 A JP14394980 A JP 14394980A JP S6014440 B2 JPS6014440 B2 JP S6014440B2
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- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はゲート絶縁膜中に電荷捕獲手段をもったIG一
FET(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)をメモリ
ーセルとする不揮発性半導体メモリーに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory in which a memory cell is an IG-FET (insulated gate field effect transistor) having charge trapping means in a gate insulating film.
従来、ゲート絶縁膜中に電荷捕獲手段(浮遊ゲート)を
有するIG−FETをメモリーセルとする不揮発性半導
体メモリーとしては、例えばEPROM(Erasab
le Progねmable ROM)がある。Conventionally, as a nonvolatile semiconductor memory whose memory cell is an IG-FET having a charge trapping means (floating gate) in a gate insulating film, for example, EPROM (Erasab
There is a programmable ROM).
上記浮遊ゲートを有するIG−FETに情報を書き込む
のは、例えばソースを接地レベルとし、ゲート及びドレ
ィンにプログラム電圧(例えば25V)を印放し、イン
パクト・アイオナイゼーションで浮遊ゲートに電子を注
入することによって行なう。第1図は上記のようなEP
ROMの構成を示すもので、4ビット出力の場合の例で
ある。Information can be written to the IG-FET having a floating gate by, for example, setting the source to the ground level, applying a program voltage (for example, 25 V) to the gate and drain, and injecting electrons into the floating gate by impact ionization. Let's do it. Figure 1 shows an EP like the one above.
This shows the configuration of the ROM, and is an example of 4-bit output.
即ちメモリーセル・アレイ1には、行線にゲートが、列
線にドレィンが接続されかつ接地VSにソースが共通接
続された浮遊ゲートを有するIG−FET(メモリーセ
ル)M,.〜Mmnがあり、これが4ビット分設けられ
ている。行線には、書き込み時談行線にプログラム電圧
を加える書き込み用負荷回路2、及びアドレス入力Ao
〜A5で選択される行デコーダ3が接続される。列線は
列選択ゲート4によって選択され、この列選択ゲートを
選ぶ列選択線には、書き込み時プログラム電圧を加える
書き込み用負荷回路5と、アドレス入力A6,A7によ
り選択される列デコーダ6が接続される。列選択ゲート
4を通った選択列線の出力は、書き込み回路7及び読み
出し時のみオンして列線の情報を伝えるトランスミッシ
ョン・ゲート8を介して出力回路9へ接続される。ここ
で信号R/W,R/Wはそれぞれ読み出し時“1”、“
0”、書き込み時“0”、“1”となる。またプログラ
ム電圧はプログラム電源より供給されプログラム電源電
圧VPは25V、電源電圧Vcは5Vである。第2図は
書き込み回路7の例えば入力部10,の詳細回路図で、
入力DIN,=“0”の時トランジスタT,,をオンと
して、プログラム電源電圧VPを列線に送るものである
。That is, the memory cell array 1 includes IG-FETs (memory cells) M, . ~Mmn, which is provided for 4 bits. The row line has a write load circuit 2 that applies a program voltage to the row line during writing, and an address input Ao.
The row decoder 3 selected at ~A5 is connected. A column line is selected by a column selection gate 4, and a write load circuit 5 that applies a program voltage during writing and a column decoder 6 selected by address inputs A6 and A7 are connected to the column selection line that selects this column selection gate. be done. The output of the selected column line that has passed through the column selection gate 4 is connected to an output circuit 9 via a write circuit 7 and a transmission gate 8 that is turned on only during reading to transmit column line information. Here, the signals R/W and R/W are “1” and “1” respectively at the time of reading.
0", and becomes "0" and "1" during writing. Also, the program voltage is supplied from the program power supply, and the program power supply voltage VP is 25V and the power supply voltage Vc is 5V. FIG. In the detailed circuit diagram of 10,
When the input DIN is "0", the transistor T is turned on and the program power supply voltage VP is sent to the column line.
上記のように構成されたEPROMに情報を書き込む場
合、書き込みモードにすると、書き込み制御回路(図示
せず)により信号R/Wが“1”(この場合25V)、
R/Wが“0”となり、負荷回路5,2のトランジスタ
T2,〜T2n,Tの〜T柳がオン状態となるが「選択
された行線及び列選択線にのみプログラム電源VPから
高電圧が印加される。When writing information to the EPROM configured as described above, when the write mode is set, the signal R/W is set to "1" (25V in this case) by the write control circuit (not shown).
R/W becomes "0", and the transistors T2, ~T2n, and ~Tyanagi of load circuits 5 and 2 are turned on, but "high voltage is applied only to the selected row line and column selection line from the program power supply VP. is applied.
また書き込み回路7の入力情報D,N,〜D,N4に応
じて動作する入力回路10.〜104の出力によりそれ
ぞれトランジスタT,.〜T,4がオンあるいはオフし
、選択された列線と電源VPが接続され、メモリーセル
に情報が書き込まれる。例ば行線R,及び列線CS,に
より列線C.が選択されると、メモリーセルM,,が選
択され、そのゲート及びドレィンに電源VPから高電圧
が印加されて浮遊ゲートへ電子が注入されることにより
、情報を書き込むことができる。以上のような書き込み
方法では、1出力(1ビット)当り1回に1セル(4ビ
ット構成では4セル)のみしか書き込みが行なえない。
ところが「この不揮発性メモリーセルに書き込みを行な
うのに必要な時間は略50msであるため、テスト時間
、特に半導体ウェハ段階でのダィソートテスト工程での
時間が大幅に増大する。例えば3狐(4096ワード×
8ビット)のメモリーの場合、100肋ぐのウェハでは
略200〜300個のチップがとれる。従って300チ
ップ/ウェハとして書き込み可能な(正常な)チップの
歩留を50%とすると、書き込みテストに必要な時間は
300×0.5×4096×50XIO−3=3072
の沙=8‐虫時間となり、膨大なテスト時間となってし
まうものである。Also, an input circuit 10 that operates according to input information D, N, -D, N4 of the write circuit 7. The outputs of transistors T, . ~T,4 is turned on or off, the selected column line and power supply VP are connected, and information is written into the memory cell. For example, by row line R and column line CS, column line C. is selected, the memory cell M, is selected, a high voltage is applied from the power supply VP to its gate and drain, and electrons are injected into the floating gate, thereby allowing information to be written. In the above writing method, only one cell (four cells in a 4-bit configuration) can be written at a time per one output (one bit).
However, since the time required to write to this nonvolatile memory cell is approximately 50 ms, the test time, especially the time in the die sort test process at the semiconductor wafer stage, increases significantly. 4096 words x
In the case of 8-bit) memory, approximately 200 to 300 chips can be obtained from a 100-side wafer. Therefore, assuming the yield of writable (normal) chips as 300 chips/wafer is 50%, the time required for the write test is 300 x 0.5 x 4096 x 50XIO-3 = 3072
Nosa=8-insect time, resulting in a huge amount of test time.
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、メモリーを
複数個のメモリーフロックに分割し、これらメモリーフ
ロツクのうちの任意複数個のメモリーフロックを同時に
選択し、これら選択されたメモリーフロツクでそれぞれ
書き込みを行なうことにより、テスト時間の短縮化が図
れる不揮発性半導体メモリーを提供しようとするもので
ある。The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and it divides the memory into a plurality of memory flocks, selects any plurality of these memory flocks at the same time, and processes the selected memory flocks. The object is to provide a non-volatile semiconductor memory that can shorten test time by writing data into each data.
以下図面を参照して本発明の一実施例を説明する。第3
図は同実施例を示す構成図であるが、第1図のものと対
応する個所には対応符号を用いている。本構成は、第1
図のメモリーアレイ11を例えば4分割して、メモリー
フロツク1 1・〜114とした点が大きな特徴である
。ここで1,〜14 は4分割されたメモリーセル・ア
レイ、21〜24は同じく4分割された書き込み用負荷
回路、3,〜34は同じく行デコーダ、4,〜44は同
じく列選択ゲ−ト、5,〜54は同じく書き込み用負荷
回路、6,〜64は同じく列デコーダ、7,〜74は同
じく書き込み回路、8,〜84は同じくトランスミッシ
ョンゲートであるが、各ブロック内の相互配線はそれぞ
れ従来と同様4ビット出力を得る構造である。各メモリ
ーフロックのいずれかを選択するのは、アドレス入力へ
,A,により選択されるメモリーフロック選択/非選択
ざ回路21からの信号MS,,MS,〜MS4,MS4
で制御される。書き込み用負荷回路21〜24,5,〜
54は書き込み用負荷回路の選択/非選択回路22で制
御される。各ブロックの列デコーダ6,〜64、行デコ
ーダ3,〜34はアドレス入力ん〜A7で出力が選択さ
れる。23〜30はアドレスバッファである。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Third
The figure is a block diagram showing the same embodiment, and corresponding symbols are used for parts corresponding to those in FIG. 1. In this configuration, the first
A major feature is that the memory array 11 shown in the figure is divided into four, for example, into memory blocks 11.about.114. Here, 1, to 14 are memory cell arrays divided into four, 21 to 24 are write load circuits, which are also divided into four, 3, to 34 are row decoders, and 4, to 44 are column selection gates. , 5, to 54 are the same write load circuits, 6, to 64 are the same column decoders, 7, to 74 are the same write circuits, and 8, to 84 are the same transmission gates, but the mutual wiring within each block is different from each other. The structure is similar to the conventional one to obtain a 4-bit output. To select one of the memory blocks, the memory block selection/non-selection circuit 21 sends a signal MS, , MS, ~MS4, MS4 to the address input, which is selected by A.
controlled by Write load circuits 21 to 24, 5, to
54 is controlled by the selection/non-selection circuit 22 of the write load circuit. The outputs of the column decoders 6, .about.64 and row decoders 3, .about.34 of each block are selected by address inputs .about.A7. 23 to 30 are address buffers.
メモリーフロツク11,〜114の出力は書き込み回路
7.〜74 に接続され、トランスミッションゲート8
,〜84を通して出力回路9に共通接続される。書き込
み回路7,〜74は、該書き込み回路の選択/非選択回
路31の出力WS,〜TS4及び入力回略32の出力D
,Nにより制御される。多重書き込み切換回路33は、
複数のメモリーフロックを選択して複数のメモリーセル
に同時書き込み(多重書き込み)を行なうため、アドレ
スバッファ23,24にそれぞれ信号MW,,MW2,
MW,.MW2を送り、多重書き込み状態とする。第4
図は前記アドレスバッファ23または24の具体例を示
す。The outputs of the memory blocks 11, - 114 are sent to the write circuit 7. ~74 and is connected to transmission gate 8
, to 84 are commonly connected to the output circuit 9. The write circuits 7, ~74 output the outputs WS, ~TS4 of the selection/non-selection circuit 31 of the write circuit, and the output D of the input circuit 32.
,N. The multiple write switching circuit 33 is
In order to select multiple memory blocks and perform simultaneous writing (multiple writing) to multiple memory cells, signals MW, MW2, MW2, and
MW,. Send MW2 to enter multiple write state. Fourth
The figure shows a specific example of the address buffer 23 or 24.
ここで41〜44はスレッショルド電圧が略零ボルトで
あるトランジスタ(以後i型トランジスタと称す。)4
5〜47はヂプレツション型トランジスタ、48〜56
はェンハンスメント型トランジスタである。信号MW,
またはMW2,MW,またはMW2は通常はそれぞれ“
0”、“1”となって、アドレスバッファ23または2
4はアドレス入力へまたはA,に応じた通常動作を行な
うが、多重書き込み状態となって信号MW,またはMW
2,MW,またはMW2がそれぞれ“1”、‘‘0”と
なると、アドレス出力父またはa,,もまたはa,はす
べて“0”とな。第5図に多重書き込み切換回路33の
具体例を示す。Here, 41 to 44 are transistors (hereinafter referred to as i-type transistors) whose threshold voltage is approximately zero volts.
5 to 47 are depression type transistors, 48 to 56
is an enhancement type transistor. Signal MW,
or MW2, MW, or MW2 are typically “
0”, “1”, and the address buffer 23 or 2
4 performs normal operation according to the address input or A, but a multiple write state occurs and the signal MW or MW
When 2, MW, or MW2 becomes "1" and "0", respectively, the address outputs, a, a, a, and a, are all "0". FIG. 5 shows a specific example of the multiple write switching circuit 33. shows.
ここで61〜64はデプレツション型トランジスタ、6
5〜68はェンハンスメント型トランジスタである。こ
の回路は、アドレス入力AoまたはA,が例えば10V
以上(多重書き込み状態)で“1”を感知し、それ以下
(通常状態)で“0”と感知するようなィンバータ69
に入力され、出力MW,またはMW2,MW,またはM
W2を得る。即ちアドレスへまたはA,が10V以下で
は出力MW.またはMW2が“0”、MW,またはMW
2が“1”となり、んまたはA,が10V以上ではMW
,またはMW2が“1”、MW,またはMW2が“0”
となって、第4図のアドレスバッファを制御する。第6
図にメモリーブロック選択/非選択回路21の具体回路
例を示す。ここで71〜74はデプレッション型トラン
ジスタ、75〜79はェンハンスメント型トランジスタ
である。この回路は入力ao及びa,,ao及びa,,
ao及びa,,ao及びa,についての4回路が設けら
れる。この回路は、アドレス出力aoないし念,a,な
いしa,を受けて出力MS,ないしMS4,MS,ない
しMS4を出力する。また通常は、アドレス出力の状態
によってそれぞれMS,〜MS4及びMS,〜MS4の
うちの1つが“1”及び“0”となる。多重書き込み時
には熱ないしa,,ろないしa,がすべて“0”となる
ため、出力MS,〜MS4はすべて“1”、MS,〜M
S4はすべて‘‘0”となり、メモリーブロック11,
〜114がすべて選択されて多重書き込みが可能となる
。第7図に行デコーダ(または列デコーダ)の具体回路
例を示す。ここで81はi型トランジスタ、82〜84
はデプレツション型トランジスタ、86〜89はェンハ
ンスメント型トランジスタである。この回路の通常動作
は、選択されたメモリーフロツクでは信号MSi=“1
”、MS,=“0’1(ISiミ4)であるから、アド
レス出力に応じた出力が得られる。非選択メモリーフロ
ックでは信号MSi=“0”、MS,=“1”となるか
ら、アドレス出力の如何に寄らず出力は“0”となり、
メモリーセルは選択されない。一方、多重書き込み時は
前述したように、MS,〜MS4はすべて“1”、MS
,〜MS4はすべて“0”になるのでメモリーフロック
11,〜114 はすべて選択され、すべてのメモリー
フロツクでアドレス出力に応じた出力が得られるもので
ある。第8図に書き込み用負荷回路の選択/非選択回路
22の具体回路例を示す。Here, 61 to 64 are depletion type transistors, 6
5 to 68 are enhancement type transistors. In this circuit, the address input Ao or A, for example, is 10V.
An inverter 69 that senses “1” above (multiple write state) and “0” below (normal state)
and the output MW, or MW2, MW, or M
Get W2. That is, when the voltage to the address or A is 10V or less, the output MW. or MW2 is “0”, MW, or MW
2 becomes “1”, and when N or A, is 10V or more, MW
, or MW2 is “1”, MW, or MW2 is “0”
and controls the address buffer shown in FIG. 6th
A specific circuit example of the memory block selection/non-selection circuit 21 is shown in the figure. Here, 71 to 74 are depletion type transistors, and 75 to 79 are enhancement type transistors. This circuit has inputs ao and a,, ao and a,,
Four circuits are provided for ao and a, , ao and a,. This circuit receives address outputs ao to nen, a to a, and outputs outputs MS to MS4, MS to MS4. Normally, one of MS, .about.MS4 and MS, .about.MS4 becomes "1" and "0", respectively, depending on the state of the address output. At the time of multiple writing, the outputs MS, ~MS4 are all "1", and the outputs MS, ~M are all "0" because heat and a, and heat and a are all "0".
S4 is all ``0'', and memory block 11,
.about.114 are all selected to enable multiple writing. FIG. 7 shows a specific circuit example of a row decoder (or column decoder). Here, 81 is an i-type transistor, 82 to 84
are depletion type transistors, and 86 to 89 are enhancement type transistors. The normal operation of this circuit is that for the selected memory block, the signal MSi="1".
”, MS,=“0'1 (ISi mi 4), so an output corresponding to the address output can be obtained. In the non-selected memory block, the signal MSi="0" and MS,="1", so the output will be "0" regardless of the address output.
No memory cells are selected. On the other hand, during multiple writing, as mentioned above, MS, ~MS4 are all "1", and MS
, -MS4 are all "0", so all memory blocks 11, -114 are selected, and outputs corresponding to the address outputs can be obtained from all memory blocks. FIG. 8 shows a specific circuit example of the selection/non-selection circuit 22 of the write load circuit.
ここで91〜93はデプレツション型トランジスタ、9
4〜98はェンハンスメント型トランジスタである。こ
の第8図の回路は入力も及びa,,父及びa,,も及び
a,,ろ及びa,についての4回路が設けられ、信号R
/Wから信号R/W,〜R/W4を得るものである。書
き込み回路の選択/非選択回路31は、メモリーフロッ
ク選択/非選択回路21と対応する構成である。従って
信号WS,=MS,、ないしWS4=MS4と考えてよ
い。第9図の書き込み回路例えば7,の具体回路例を示
す。Here, 91 to 93 are depletion type transistors, 9
4 to 98 are enhancement type transistors. The circuit of FIG. 8 is provided with four circuits for inputs and a, , father and a, , also and a, , and a, and has a signal R.
Signals R/W, to R/W4 are obtained from /W. The write circuit selection/non-selection circuit 31 has a configuration corresponding to the memory block selection/non-selection circuit 21. Therefore, it may be considered that the signal WS,=MS, or WS4=MS4. A specific circuit example of the write circuit 7, for example, in FIG. 9 is shown.
ここで101〜103はデプレツション型トランジスタ
、104〜108はェンハンスメント型トランジスタで
ある。この回路は、信号D…=“0”でかつWS,=“
1”の時、列線にプログラム電源電圧VPを送るトラン
ジスタ(第1図のトランジスタT,.に対応)を、出力
outでオンせしめる。書き込み回路72〜74は、書
き込み回路7,と同様の構成となるが、第9図のトラン
ジスター06のゲート入力がWS2〜WS4となる接点
が相異している。以上の如く構成された不揮発性メモリ
ーにあっては、第1図のメモリーアレイ11を4分割し
て、各メモリーフロツクで多重書き込みを行なえるよう
にしたため、書き込みテストに必要な時間は第1図の場
合の1′4に短縮されるものである。Here, 101 to 103 are depletion type transistors, and 104 to 108 are enhancement type transistors. In this circuit, the signal D...="0" and WS,="
1'', the transistor (corresponding to the transistor T, . in FIG. 1) that sends the program power supply voltage VP to the column line is turned on at the output OUT.The write circuits 72 to 74 have the same configuration as the write circuit 7. However, the contacts at which the gate inputs of transistor 06 in FIG. Since the memory block is divided so that multiple writing can be performed in each memory block, the time required for the write test is reduced to 1'4 compared to the case shown in FIG.
なお本発明は上記実施例のみに限定されるものではなく
、種々の応用が可能である。例えば実施例では、書き込
み回路7,〜74及びトランスミッションゲート8,〜
84を各メモリーフロツク毎に設けたが、トランスミッ
ションゲートのみを共通に、または書き込み回路及びト
ランスミッションゲートを共通に各々1個ずつ設けても
よい。この場合書き込み回路の選択/非選択回路31は
必要なくなる。また書き込み用負荷回路の選択/非選択
回路22を設けず、対応信号で書き込み用負荷回路を制
御してもよい。また多重書き込み切襖回路33はアドレ
スへ,A,毎に各々設けたが、共通に1個設けてもよい
。この場合全メモリーフロック選択のみ可能というよう
に、セル選択の自由度はなくなる。また多重書き込み切
換信号としてアドレス入力を用いたが、他の信号でもか
まわなく、テスト時のみに使用する専用の端子(パッド
)を設けても良い。また実施例では行デコーダ、列デコ
ーダ共に各々4個ずつ設けたが、書き込み用負荷回路を
含む行デコーダを共通にして列デコーダ及び書き込み用
負荷回路を各々4個分設けるようにしてもよい。第10
図には、行デコーダ及び列デコーダをそれぞれ共通接続
とした例を示す。即ち列選択デート4,〜44 にそれ
ぞれ書き込み回路7,〜74及びセンスアンプ1101
〜1104を設け、該センアンプ出力を共通接続して出
力回路9へ送り、またアドレス信号ん,A,によりメモ
リーフロック1 11 〜1 14の書き込み回路、セ
ンスアンプの1つを選択して通常動作を行ない、多重書
き込み時には多重書き込み切襖回路33により、アドレ
スバッファ23,24を制御して書き込み回路7,〜7
4を同時に選択するものである。また実施例では、すべ
て4セル(4ビット構成なので実際は16セル)同時書
き込みを行なったが、例えばアドレス信号へ,A,のう
ちどちらか一方を多重書き込み状態として、2セル(4
ビット構成では8セル)同時に書き込むようにしてもよ
い。また本発明においては、メモリーフロック数はアド
レス数を増やせばいくらでも可能であり、原理的に2セ
ル以上何セルでも同時書き込み可能である。以上説明し
た如く本発明によれば、従釆のメモリーアレイを複数個
のメモリーフロックに分割し、これらブロックのうちの
任意複数個のブロックを同時に選択し、これら選択され
たブロックでそれぞれ書き込みを行なうようにしたので
、テスト時間の短縮化が図れるものである。Note that the present invention is not limited to the above embodiments, and can be applied in various ways. For example, in the embodiment, write circuits 7, - 74 and transmission gates 8, -
84 is provided for each memory block, however, only one transmission gate may be provided in common, or one writing circuit and one transmission gate may be provided in common. In this case, the write circuit selection/non-selection circuit 31 is no longer necessary. Alternatively, the write load circuit selection/non-selection circuit 22 may not be provided, and the write load circuit may be controlled by a corresponding signal. Further, although the multiple write gate circuit 33 is provided for each address A, one circuit may be provided for each address. In this case, the degree of freedom in cell selection is lost, as only all memory blocks can be selected. Further, although the address input is used as the multiple write switching signal, other signals may be used, and a dedicated terminal (pad) used only during testing may be provided. Further, in the embodiment, four row decoders and four column decoders are provided, but four column decoders and four write load circuits may be provided by using a common row decoder including a write load circuit. 10th
The figure shows an example in which row decoders and column decoders are each commonly connected. That is, write circuits 7 and 74 and sense amplifier 1101 are connected to column selection dates 4 and 44, respectively.
~1104 are provided, and the sense amplifier outputs are commonly connected and sent to the output circuit 9, and one of the write circuits and sense amplifiers of the memory blocks 111 to 114 is selected by the address signal N,A, to perform normal operation. At the time of multiple writing, the multiple writing gate circuit 33 controls the address buffers 23 and 24 to write the write circuits 7, to 7.
4 are selected at the same time. In addition, in the embodiment, all 4 cells (actually 16 cells because of the 4-bit configuration) were written simultaneously, but for example, if one of the address signals, A, is in the multiple writing state, 2 cells (4 cells)
(8 cells in bit configuration) may be written simultaneously. Further, in the present invention, the number of memory blocks can be increased as long as the number of addresses is increased, and in principle, it is possible to write to any number of cells at the same time, ie, two or more cells. As explained above, according to the present invention, a subordinate memory array is divided into a plurality of memory blocks, arbitrary plurality of blocks are selected simultaneously, and writing is performed in each of these selected blocks. As a result, the test time can be shortened.
図面の簡単な説明第1図は従来のEPROMの構成を示
す回路図、第2図は同構成の一部詳細回路図、第3図は
本発明の一実施例を示す構成図、第4図ないし第9図は
同構成の一部詳細回路図、第10図は本発明の他の実施
例を示す構成図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a conventional EPROM, FIG. 2 is a partially detailed circuit diagram of the same configuration, FIG. 3 is a configuration diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 4 9 to 9 are partially detailed circuit diagrams of the same configuration, and FIG. 10 is a configuration diagram showing another embodiment of the present invention.
1,〜14……メモリーセル・アレイ、2,〜24,5
,〜54・・・・・・書き込み用負荷回牢路、3,〜3
4・・・・・・行デコーダ、4.〜44 …・・・列選
択ゲート、6,〜64…・・・列デコーダ、7,〜74
……書き込み回路、11.〜114…・・・メモリーフ
ロック、21・…・・メモリーフロック選択/非選択回
路、22・…・・書き込み用負荷回路の選択/‘選択回
路、23〜30・・・・・・アドレスバッファ、31・
・・・・・書き込み回路の選択/非選択回路、33・・
・・・・多重書き込み功襖回路。1,~14...Memory cell array, 2,~24,5
, ~54...Writing load circuit, 3, ~3
4... Row decoder, 4. ~44... Column selection gate, 6, ~64... Column decoder, 7, ~74
...Writing circuit, 11. ~114... Memory flock, 21... Memory flock selection/non-selection circuit, 22... Write load circuit selection/' selection circuit, 23-30... Address buffer, 31・
...Writing circuit selection/non-selection circuit, 33...
...Multiple writing successful fusuma circuit.
第1図 第2図 第3図 第5・、 第4図 第6図 第7図 第8図 第9図 第10図Figure 1 Figure 2 Figure 3 Fifth... Figure 4 Figure 6 Figure 7 Figure 8 Figure 9 Figure 10
Claims (1)
を蓄積する手段を有するIG−FETよりなるメモリー
セル、該メモリーセルに接続される列線、前記行線及び
列線をそれぞれ1本ずつ選択するデコーダ部、該デコー
ダ部により選択された1つのメモリーセルに外部入力デ
ータに従って情報を書き込む制御手段を有してなるメモ
リーブロツクを複数個そなえたメモリーブロツク群と、
情報書き込み時前記ブロツク群と、情報書き込み時前記
ブロツク群のうちの任意複数個のメモリーブロツクを同
時に選択する選択手段とを具備し、複数個のメモリーセ
ルに同時に情報を書き込むやり方は、1つのメモリーセ
ルに情報を書き込むメモリーブロツクを複数個選択する
ものであることを特徴とする不揮発性半導体メモリー。1. A row line, a memory cell consisting of an IG-FET driven by the row line and having means for storing charge in a gate insulating film, a column line connected to the memory cell, and one row line and one column line each. a memory block group comprising a plurality of memory blocks each having a decoder section that selects one memory cell at a time, and a control means for writing information into one memory cell selected by the decoder section according to external input data;
A method for simultaneously writing information into a plurality of memory cells is provided with the aforementioned block group when writing information and selection means for simultaneously selecting any plurality of memory blocks from the aforementioned block group when writing information. A nonvolatile semiconductor memory characterized by selecting a plurality of memory blocks for writing information into cells.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55143949A JPS6014440B2 (en) | 1980-10-15 | 1980-10-15 | Non-volatile semiconductor memory |
| EP19860201618 EP0214705B1 (en) | 1980-10-15 | 1981-10-07 | Semiconductor memory with improvend data programming time |
| DE8686201618T DE3177270D1 (en) | 1980-10-15 | 1981-10-07 | SEMICONDUCTOR MEMORY WITH DATA PROGRAMMING TIME. |
| DE8181304660T DE3176751D1 (en) | 1980-10-15 | 1981-10-07 | Semiconductor memory with improved data programming time |
| EP81304660A EP0050005B1 (en) | 1980-10-15 | 1981-10-07 | Semiconductor memory with improved data programming time |
| US06/310,822 US4477884A (en) | 1980-10-15 | 1981-10-13 | Semiconductor memory with improved data programming time |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55143949A JPS6014440B2 (en) | 1980-10-15 | 1980-10-15 | Non-volatile semiconductor memory |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5769585A JPS5769585A (en) | 1982-04-28 |
| JPS6014440B2 true JPS6014440B2 (en) | 1985-04-13 |
Family
ID=15350792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55143949A Expired JPS6014440B2 (en) | 1980-10-15 | 1980-10-15 | Non-volatile semiconductor memory |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPS6014440B2 (en) |
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| JPS6180597A (en) * | 1984-09-26 | 1986-04-24 | Hitachi Ltd | semiconductor storage device |
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| US6545913B2 (en) | 1987-06-29 | 2003-04-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Memory cell of nonvolatile semiconductor memory device |
| US5448517A (en) | 1987-06-29 | 1995-09-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electrically programmable nonvolatile semiconductor memory device with NAND cell structure |
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| JP2003051197A (en) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Semiconductor storage device |
-
1980
- 1980-10-15 JP JP55143949A patent/JPS6014440B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5769585A (en) | 1982-04-28 |
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