JPS6018758B2 - アルカリ金属ハロゲン化物水溶液電解用陰極の製造法 - Google Patents
アルカリ金属ハロゲン化物水溶液電解用陰極の製造法Info
- Publication number
- JPS6018758B2 JPS6018758B2 JP54055242A JP5524279A JPS6018758B2 JP S6018758 B2 JPS6018758 B2 JP S6018758B2 JP 54055242 A JP54055242 A JP 54055242A JP 5524279 A JP5524279 A JP 5524279A JP S6018758 B2 JPS6018758 B2 JP S6018758B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- powder
- plating
- alkali metal
- titanium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 title claims description 6
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 title claims description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 title claims description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 29
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 25
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 5
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 2
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 platinum group metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNPLRYRWJLTVAE-UHFFFAOYSA-N Cloperastine hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(Cl)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)OCCN1CCCCC1 UNPLRYRWJLTVAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012255 powdered metal Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルカリ金属ハロゲン化物水溶液の電解用陰極
の製造法に関する。
の製造法に関する。
更に詳しくはこの電解において従釆よりも水素過電圧を
著しく低くすることのできる新しい陰極の製造法を提供
するものである。
著しく低くすることのできる新しい陰極の製造法を提供
するものである。
ここにいう新しい陰極とはチタンまたはチタン合金から
なる基体金属にラネーニッケル成分を含む粉末が表面に
保持されたメッキ層を有する陰極を意味する。電解槽を
用いて例えば水素、塩素、および苛性ソーダを製造する
ための食塩水溶液の電解を行う場合陰極における水素過
電圧により生ずる電力効率の損失は重大な問題である。
この陰極における水素過電圧は、陰極の素地、表面材質
、あるいはその表面状態等により著しく異なることが知
られている。即ち素地としては、チタン、チタン合金、
鉄、ステンレス鋼、ニッケル、白金族金属等を用いると
水素過電圧は低くなり、また、表面状態は粗である程、
水素過電圧が低い事が知られている。
なる基体金属にラネーニッケル成分を含む粉末が表面に
保持されたメッキ層を有する陰極を意味する。電解槽を
用いて例えば水素、塩素、および苛性ソーダを製造する
ための食塩水溶液の電解を行う場合陰極における水素過
電圧により生ずる電力効率の損失は重大な問題である。
この陰極における水素過電圧は、陰極の素地、表面材質
、あるいはその表面状態等により著しく異なることが知
られている。即ち素地としては、チタン、チタン合金、
鉄、ステンレス鋼、ニッケル、白金族金属等を用いると
水素過電圧は低くなり、また、表面状態は粗である程、
水素過電圧が低い事が知られている。
これらの知見から水素過電圧の低い材料の粉末を陰極表
面に付着させる各種の方法が提案されている。例えば鉄
板等に焼結法によりニッケル粉末あるいはラネーニッケ
ルの粉末を被覆した陰極、溶射法によりニッケル、コバ
ルト、白金、鉄等の粉末状金属を基体金属の素地に密着
させた陰極(特開昭52一32832)、鉄板等に粒子
状コバルトと粒子状ジルコニアからなる溶触頃霧混合物
の被覆を有するアルカリ金属ハロゲン化物水溶液電解用
陰極(侍関昭52−36球2)の他、粒子状ニッケル、
コバルトもしくはこれらの両者と粒子状アルミニウムと
からなる混合物の溶高蝉質霧された被覆からアルミニウ
ムを除去した被覆をもつ電解用陰極(特閥昭52−36
斑3)等がそれである。
面に付着させる各種の方法が提案されている。例えば鉄
板等に焼結法によりニッケル粉末あるいはラネーニッケ
ルの粉末を被覆した陰極、溶射法によりニッケル、コバ
ルト、白金、鉄等の粉末状金属を基体金属の素地に密着
させた陰極(特開昭52一32832)、鉄板等に粒子
状コバルトと粒子状ジルコニアからなる溶触頃霧混合物
の被覆を有するアルカリ金属ハロゲン化物水溶液電解用
陰極(侍関昭52−36球2)の他、粒子状ニッケル、
コバルトもしくはこれらの両者と粒子状アルミニウムと
からなる混合物の溶高蝉質霧された被覆からアルミニウ
ムを除去した被覆をもつ電解用陰極(特閥昭52−36
斑3)等がそれである。
しかしこれらの陰極の製造法は、金網板状体あるいは箱
型に成形した金網等複雑な表面形状をもつ陰極基板に対
しては均一な被覆が困難であり、且つ金属粉末の損失も
多く高価になる等の問題が多い。
型に成形した金網等複雑な表面形状をもつ陰極基板に対
しては均一な被覆が困難であり、且つ金属粉末の損失も
多く高価になる等の問題が多い。
そこで我々は、各種形状の陰極素地にも容易に適用でき
る水素過電圧低下に有効な陰極の製造法について鋭意研
究した結果、チタンまたはチタン合金からなる基体金属
の素地の少くとも一部に、少なくとも一部分禾展開のラ
ネーニツケル合金粉末を含有する複合ニッケル〆ツキ浴
を用いてメッキを行って後前記合金粉末を含有しないニ
ッケルメッキ格を用いてメッキを行う前または後に該粉
末に含有するアルミニウムを除去する方法が有効である
ことを見出した。
る水素過電圧低下に有効な陰極の製造法について鋭意研
究した結果、チタンまたはチタン合金からなる基体金属
の素地の少くとも一部に、少なくとも一部分禾展開のラ
ネーニツケル合金粉末を含有する複合ニッケル〆ツキ浴
を用いてメッキを行って後前記合金粉末を含有しないニ
ッケルメッキ格を用いてメッキを行う前または後に該粉
末に含有するアルミニウムを除去する方法が有効である
ことを見出した。
次に本発明に係る陰極の製造法を詳細に説明する。陰極
基体としては電気伝導性材料で、陰極として必要な機械
的性質と食塩電解格における耐薬品性を有するチタンま
たはチタン合金が用いられる。
基体としては電気伝導性材料で、陰極として必要な機械
的性質と食塩電解格における耐薬品性を有するチタンま
たはチタン合金が用いられる。
ここでチタン合金にはチタンとジルコニウム、タンタル
、ニオブ、モリブデン、クロム、鉄、バナジウムまたは
マンガン等との合金が用いられる。チタン以外の成分は
一般に数重量%含有されたものが適当である。メッキは
電気メッキ法でも無電解〆ツキ法でもよいが電気メッキ
法が粉末をメッキ層に多量に且つ均一に含有させ得る点
でより秀れている。
、ニオブ、モリブデン、クロム、鉄、バナジウムまたは
マンガン等との合金が用いられる。チタン以外の成分は
一般に数重量%含有されたものが適当である。メッキは
電気メッキ法でも無電解〆ツキ法でもよいが電気メッキ
法が粉末をメッキ層に多量に且つ均一に含有させ得る点
でより秀れている。
素地のメッキ処理の前処理は通常の慣用手段即ち脱脂、
エッチング、ブラスト処理等粗面化または清浄化処理を
適宜単独または組合わせて実施することが好ましい。メ
ッキ裕中に懸濁されて用いられる少なくとも一部分未展
開のラネーニツケル合金粉末はアルミニウムとニッケル
の合金のラネーニツケル合金の少なくとも一部分が展開
されていないものである。
エッチング、ブラスト処理等粗面化または清浄化処理を
適宜単独または組合わせて実施することが好ましい。メ
ッキ裕中に懸濁されて用いられる少なくとも一部分未展
開のラネーニツケル合金粉末はアルミニウムとニッケル
の合金のラネーニツケル合金の少なくとも一部分が展開
されていないものである。
ここに用いられる粉末の大きさは細かい方が有効であり
懸濁も容易である。直径500〃以上の紛末は懸濁状態
の維持が困難であり、実用的でない。好適には100一
前後以下である。メッキ格はニッケルメッキ格、鉄メッ
キ裕等の通常の電気メッキまたは無電解〆ッキ格に上記
少なくとも一部分は未展開のラネーニッケル合金粉末を
懸濁したものが使用できるが、当該粉末含有量は、付着
量、懸濁液の維持、付着の均一性、経済性等の点から1
〜500夕/そで、好ましくは10〜200タノそであ
る。
懸濁も容易である。直径500〃以上の紛末は懸濁状態
の維持が困難であり、実用的でない。好適には100一
前後以下である。メッキ格はニッケルメッキ格、鉄メッ
キ裕等の通常の電気メッキまたは無電解〆ッキ格に上記
少なくとも一部分は未展開のラネーニッケル合金粉末を
懸濁したものが使用できるが、当該粉末含有量は、付着
量、懸濁液の維持、付着の均一性、経済性等の点から1
〜500夕/そで、好ましくは10〜200タノそであ
る。
上記メッキ裕中ニッケルメッキ格としてはワット格、ホ
ウフツ化ニッケルの〆ッキ浴、スルフアミン酸ニッケル
のメッキ裕等が用いられうる。格pHは4以上好ましく
は5以上である。メッキ格には通常の電気メッキ、無電
解〆ッキの場合と同じく界面活性剤例えばポリオキシェ
チレンアルキルアミン、アルキルイミダゾリウムクロリ
ド等の添加は表面の平滑化に有効である。
ウフツ化ニッケルの〆ッキ浴、スルフアミン酸ニッケル
のメッキ裕等が用いられうる。格pHは4以上好ましく
は5以上である。メッキ格には通常の電気メッキ、無電
解〆ッキの場合と同じく界面活性剤例えばポリオキシェ
チレンアルキルアミン、アルキルイミダゾリウムクロリ
ド等の添加は表面の平滑化に有効である。
一方、メッキ量及び粉末付着量は電流密度により左右さ
れ、電流密度が大である程メッキ量及び粉末付着量は大
となる。実用的には私/dのが好適である。〆ッキ浴温
度は通常の場合のメッキ温度(40〜70qo)でよく
、特に限定されるものではない。
れ、電流密度が大である程メッキ量及び粉末付着量は大
となる。実用的には私/dのが好適である。〆ッキ浴温
度は通常の場合のメッキ温度(40〜70qo)でよく
、特に限定されるものではない。
前記少なくとも一部分未展開のラネーニツケル合金粉末
の〆ッキ浴への懸濁方法としては、機械的燈拝、ガス気
泡燈拝、液循還鷹梓等の方法が適用可能である。前記諸
条件により複合メッキが達成されるが前記粉末を有する
陰極表面は、粉末濃度の低いメッキ格によるものはその
高いものよりも付着強度が大である。
の〆ッキ浴への懸濁方法としては、機械的燈拝、ガス気
泡燈拝、液循還鷹梓等の方法が適用可能である。前記諸
条件により複合メッキが達成されるが前記粉末を有する
陰極表面は、粉末濃度の低いメッキ格によるものはその
高いものよりも付着強度が大である。
付着強度が低い場合には更に重ねて、前記粉末を懸濁せ
しめていない通常のメッキ俗にて好ましくは10仏(厚
み)以下のニッケルメッキ層を作ることにより付着強度
を大にする事が可能である。次に前記未展開ないし一部
展開のラネーニッケル合金粉末を含めて複合メッキされ
た表面からは、アルミニウム成分がアルカリ性溶液によ
り除去されるが前記粉末を含有しないメッキ処理の前後
を問わない。
しめていない通常のメッキ俗にて好ましくは10仏(厚
み)以下のニッケルメッキ層を作ることにより付着強度
を大にする事が可能である。次に前記未展開ないし一部
展開のラネーニッケル合金粉末を含めて複合メッキされ
た表面からは、アルミニウム成分がアルカリ性溶液によ
り除去されるが前記粉末を含有しないメッキ処理の前後
を問わない。
このアルカリ性溶液の種類、組成、濃度、温度及び浸債
時間等については特に制限は無いが通常代表的に用いら
れる水酸化ナトリウム又はカリウムの10〜25重量%
水溶液による温度25〜8000、浸出時間1時間以上
の条件で実用上適している。浸出時間は長くなればなる
ほど残存アルミニウムは少なくなり、電解操作時に電解
製品へのアルミニウムの混入が減少し好ましいことは勿
論である。本製造法により製造される陰極は単極として
の用途以外にその耐薬品性、耐酸化性等の点で複極式用
電極として用いうる特徴がある。
時間等については特に制限は無いが通常代表的に用いら
れる水酸化ナトリウム又はカリウムの10〜25重量%
水溶液による温度25〜8000、浸出時間1時間以上
の条件で実用上適している。浸出時間は長くなればなる
ほど残存アルミニウムは少なくなり、電解操作時に電解
製品へのアルミニウムの混入が減少し好ましいことは勿
論である。本製造法により製造される陰極は単極として
の用途以外にその耐薬品性、耐酸化性等の点で複極式用
電極として用いうる特徴がある。
実施例1及び2
第1表に示した条件で作成した陰極金網上にアスベスト
を沈着させてアスベスト隔膜法陰極とし、チタン金網上
に酸化ルテニウムを被覆した陽極と対置し、温度50q
o電流密度17Amp/d〆にて飽和食塩水の電解を行
った結果、欧鋼金網陰極を使用した場合に比べ全槽電圧
は0.14ないし0.15V(実施例1)0.14V(
実施例2)下ることがわかった。
を沈着させてアスベスト隔膜法陰極とし、チタン金網上
に酸化ルテニウムを被覆した陽極と対置し、温度50q
o電流密度17Amp/d〆にて飽和食塩水の電解を行
った結果、欧鋼金網陰極を使用した場合に比べ全槽電圧
は0.14ないし0.15V(実施例1)0.14V(
実施例2)下ることがわかった。
第 1 表
また前記軟鋼金網陰極はワイヤブラシにて研磨して用い
た。
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 チタンまたはチタン合金からなる基体金属の素地の
少なくとも一部分に、少なくとも一部分未展開のラネー
ニツケル合金粉末を含有した複合ニツケルメツキ浴を用
いてメツキ処理をして後含有アルミニウムの少なくとも
一部分を除去することを特徴とするアルカリ金属ハロゲ
ン化物水溶液電解用陰極の製造法。 2 チタンまたはチタン合金からなる基体金属の素地の
少なくとも一部分に、少なくとも一部分未展開のラネー
ニツケル合金粉末を含有した複合ニツケルメツキ浴を用
いてメツキ処理をして後更に上記粉末を含有しないニツ
ケルメツキ浴を用いてメツキ処理する前または後に該粉
末に含有するアルミニウムの少なくとも一部分を除去す
ることを特徴とするアルカリ金属ハロゲン化物水溶液電
解用陰極の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54055242A JPS6018758B2 (ja) | 1979-05-08 | 1979-05-08 | アルカリ金属ハロゲン化物水溶液電解用陰極の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54055242A JPS6018758B2 (ja) | 1979-05-08 | 1979-05-08 | アルカリ金属ハロゲン化物水溶液電解用陰極の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55148784A JPS55148784A (en) | 1980-11-19 |
| JPS6018758B2 true JPS6018758B2 (ja) | 1985-05-11 |
Family
ID=12993118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54055242A Expired JPS6018758B2 (ja) | 1979-05-08 | 1979-05-08 | アルカリ金属ハロゲン化物水溶液電解用陰極の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6018758B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1094807C (zh) * | 1998-04-21 | 2002-11-27 | 冶金工业部钢铁研究总院 | 镍基合金粉的表面化学镀镍方法 |
-
1979
- 1979-05-08 JP JP54055242A patent/JPS6018758B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55148784A (en) | 1980-11-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5948872B2 (ja) | 電解用陰極及びその製造法 | |
| JPS5917197B2 (ja) | 溶融噴霧および浸出処理したニツケルまたはコルバト被覆を有する電解用電極 | |
| JPH01139785A (ja) | 電極触媒及びその製造方法 | |
| US3350294A (en) | Electrodes | |
| JPS6136591B2 (ja) | ||
| CN101643928B (zh) | 镁合金表面阴极电沉积磷酸盐/金属复合膜的方法 | |
| JPS5944392B2 (ja) | コバルト/二酸化ジルコニウム溶融噴霧被覆を有する電解陰極 | |
| US4250004A (en) | Process for the preparation of low overvoltage electrodes | |
| CA1072915A (en) | Cathode surfaces having a low hydrogen overvoltage | |
| US4221643A (en) | Process for the preparation of low hydrogen overvoltage cathodes | |
| CA1260427A (en) | Low hydrogen overvoltage cathode and method for producing the same | |
| JPS6018758B2 (ja) | アルカリ金属ハロゲン化物水溶液電解用陰極の製造法 | |
| JP4115575B2 (ja) | 活性化陰極 | |
| JPS6015712B2 (ja) | 苛性ソ−ダ製造用陰極及びその製造法 | |
| JPS6018759B2 (ja) | アルカリ金属ハロゲン化物水溶液電解用陰極の製造方法 | |
| JPS6015713B2 (ja) | 水電解方法 | |
| KR940010101B1 (ko) | 전해조용 음극 및 이의 제조방법 | |
| JPH10330998A (ja) | 電気めっき方法 | |
| JPS6045710B2 (ja) | 電解槽 | |
| EP0100777A1 (en) | Process for electroplating metal parts | |
| KR820000885B1 (ko) | 전극의 제조법 | |
| US3373092A (en) | Electrodeposition of platinum group metals on titanium | |
| JPS6029487A (ja) | 低水素過電圧陰極の製法 | |
| JPS6123278B2 (ja) | ||
| JP3712220B2 (ja) | イオン交換膜電解方法 |