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JPS6023097B2 - Method for producing 2,2'-methylenebis-(4,6-dialkylphenol) - Google Patents
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JPS6023097B2 - Method for producing 2,2'-methylenebis-(4,6-dialkylphenol) - Google Patents

Method for producing 2,2'-methylenebis-(4,6-dialkylphenol)

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Publication number
JPS6023097B2
JPS6023097B2 JP3692676A JP3692676A JPS6023097B2 JP S6023097 B2 JPS6023097 B2 JP S6023097B2 JP 3692676 A JP3692676 A JP 3692676A JP 3692676 A JP3692676 A JP 3692676A JP S6023097 B2 JPS6023097 B2 JP S6023097B2
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JP
Japan
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methylenebis
dialkylphenol
days
tertiary
reaction
Prior art date
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JP3692676A
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邦彦 藤原
政良 新井
俊郎 塩住
孝義 長井
恒明 上野
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Seiko Chemical Co Ltd
Original Assignee
Seiko Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は次の一般式で表わされる2・2′−メチレンビ
スー(4・6一ジアルキルフエノール)の製造法に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing 2,2'-methylenebis(4,6-dialkylphenol) represented by the following general formula.

但し式中R,はメチル基またはエチル基、R2は第3級
ーブチル基または第3級−アミル基を示す。一般に2・
2−メチレンビスー(4・6一ジアルキルフェノール)
(以下“該化合物”と略す)は天然・合成ゴム、合成樹
脂、潤滑油等の酸化防止剤として古くから使用されてい
る有用な化合物であり、その製造方法は従来から多くの
方法が提案されてきた。
However, in the formula, R represents a methyl group or an ethyl group, and R2 represents a tertiary-butyl group or a tertiary-amyl group. Generally 2.
2-methylene bis(4,6-dialkylphenol)
(hereinafter referred to as "the compound") is a useful compound that has been used for a long time as an antioxidant in natural and synthetic rubbers, synthetic resins, lubricating oils, etc., and many methods have been proposed for its production. It's here.

例えば米国特許第2538355号明細書によれば、塩
酸を触媒に使用し、nーヘプタンのような不活性有機溶
媒中60o0以下でホルマリンと反応させる方法が提案
された。しかしながらこの方法は、不均一系の反応のた
めの原料のジアルキルフェノールをホルマリンおよび塩
酸の存在する水層へ分散させるためHLBが高く、かつ
酸に安定な陰イオン系界面活性剤を分散剤として使用す
る必要がある。またこの方法は6000以下で反応させ
ているため生成される該化合物が析出してくれるので後
処理で酸を除去することが非常に困難である。その他の
方法としては、酸の存在下、反応媒体として水を使用し
ホルマリンと反応させる方法(米国特許第233021
7号、同第277310び号、同第2796444号各
明細書参照)が提案された。この方法も原料のジアルキ
ルフヱノール及び生成する該化合物が水に不落であり、
そのため前述の方法と同様に水への分散性を増すためH
LBの高い陰イオン界面活性剤を使用しているが、それ
でもなお多量の酸と長い反応時間を要している。さらに
この方法は反応生成物が大きな塊状に凝結し澄枠できな
くなることが多いので、繁雑な操作条件を厳守して初め
て小粒状として生成物を得ている。そこでこの改良法と
して提案された特公昭33一1877号公報の方法によ
れば、水を反応媒体としてHLBの高い陰イオン界面活
性剤と共にn−へブタン、クロルベンゼン、ナフサ等の
不活性有機溶媒を反応物に対し1〜3重量%加えれば得
られる生成物を小粒子にすることができ、生成物の純度
、色調もよくなると報告されている。しかしながらこの
方法はいずれも不均一系反応であるばかりでなく、生成
物が粒状に析出してくるので未反応のジアルキルフェノ
ールが粒子内部に包含されてしまい、反応の完結に長時
間を要する。この改良法として特公昭42−235び号
公報の方法が提案された。この方法は、反応溶媒として
ベンゼン、トルェン、キシレン等の芳香族系溶媒を用い
、ホルムアルデヒド源としてパラホルムアルデヒドを固
体のまま使用し、また反応中、生成する水を溶媒と共沸
させ除去することにより反応系を実質的に均一に保つこ
とができるので、反応時間を従来の1/2〜1/3に短
縮でき、さらに生成物は溶媒に溶解するため塊状化せず
、従って収率、純度が著しく向上したと報告されている
。しかしながらこの方法は生成水を共沸により除去する
ため共瀕する水−溶媒と共にホルムアルデヒドが留出し
分離された水層に逃げてしまい、このためパラホルムア
ルデヒドの利用率が非常に低く、理論量の2倍のパラホ
ルムァルデヒドを使用して初めて論理量の該化合物を得
ている状態である。さらにこの方法では、水と共沸しや
すい芳香族系の有機溶媒を使用しているため反応生成物
が溶解しやすく、そのため溶媒を留去しなければ目的物
が得られず、従って高純度の製品を得るには、さらに別
の溶媒で再結晶しなければならない。またこれらの方法
はいずれも硫酸、塩酸のような液状の酸触媒を使用して
いるため生成物から触媒の除去が非常に困難であった。
本発明者等は種々の検討を重ねた結果、この反応は水、
アルコール等のプロトン溶媒によって著しく反応が阻害
されること、また不活性有機溶媒中で反応させた時は生
成する水が反応の進向を妨げ生成水を除去しないと反応
率が80%以上進まないことに気付いた。
For example, US Pat. No. 2,538,355 proposes a method in which hydrochloric acid is used as a catalyst and reacted with formalin in an inert organic solvent such as n-heptane at 60°C or less. However, this method uses an anionic surfactant with a high HLB and acid stability as a dispersant in order to disperse dialkylphenol, which is a raw material for a heterogeneous reaction, into an aqueous layer containing formalin and hydrochloric acid. There is a need to. Furthermore, since this method uses a reaction temperature of 6,000 or less, the resulting compound precipitates out, making it extremely difficult to remove the acid in post-treatment. Another method is to use water as a reaction medium and react with formalin in the presence of an acid (US Pat. No. 233,021).
No. 7, No. 277310, and No. 2796444) were proposed. In this method, the dialkylphenol as a raw material and the compound produced are immiscible in water,
Therefore, as in the method described above, H
Although anionic surfactants with high LB are used, they still require large amounts of acid and long reaction times. Furthermore, in this method, the reaction product often coagulates into large lumps, making it impossible to form a clear frame, so the product can only be obtained in the form of small particles if complicated operating conditions are strictly observed. Therefore, according to the method proposed in Japanese Patent Publication No. 33-1877 as an improved method, water is used as a reaction medium and an anionic surfactant with a high HLB is used together with an inert organic solvent such as n-hebutane, chlorobenzene, or naphtha. It has been reported that by adding 1 to 3% by weight of the product to the reactant, the resulting product can be made into small particles, and the purity and color tone of the product can also be improved. However, all of these methods are not only heterogeneous reactions, but also the product precipitates in the form of particles, so that unreacted dialkylphenol is included inside the particles, and it takes a long time to complete the reaction. As an improved method of this, a method was proposed in Japanese Patent Publication No. 42-235. This method uses an aromatic solvent such as benzene, toluene, or xylene as a reaction solvent, uses paraformaldehyde as a solid as a formaldehyde source, and removes water produced during the reaction by azeotroping with the solvent. Since the reaction system can be kept substantially homogeneous, the reaction time can be shortened to 1/2 to 1/3 of the conventional time, and since the product is dissolved in the solvent, it does not form lumps, resulting in improved yield and purity. It is reported that there has been a significant improvement. However, since this method removes the produced water by azeotropy, formaldehyde distills out and escapes to the separated water layer together with the coexisting water-solvent, resulting in a very low utilization rate of paraformaldehyde, which is twice the theoretical amount. For the first time, theoretical quantities of the compound have been obtained using paraformaldehyde. Furthermore, since this method uses an aromatic organic solvent that easily azeotropes with water, the reaction product is easily dissolved, and the target product cannot be obtained unless the solvent is distilled off. To obtain the product, it must be further recrystallized in another solvent. Furthermore, since all of these methods use a liquid acid catalyst such as sulfuric acid or hydrochloric acid, it is extremely difficult to remove the catalyst from the product.
As a result of various studies, the present inventors found that this reaction is possible with water,
The reaction is significantly inhibited by proton solvents such as alcohol, and when the reaction is carried out in an inert organic solvent, the water produced impedes the progress of the reaction, and unless the water produced is removed, the reaction rate will not proceed by more than 80%. I realized that.

そこでこの反応生成水の除去方法について、さらに鋭意
研究を重ねた結果、有機溶媒中に非イオン系でHLBが
低くしかも酸に安定な界面活性剤を少量添加することに
より、反応生成水を有機溶媒中に分散でき反応が著しく
促進され定量的に目的物が得られることを見出した。さ
らにこの際、nーヘプタン、ィソオクタン、オクタン等
の脂肪族系の有機溶媒を使用し、固体酸触媒を用いれば
、反応終了後75o0以上で炉過して触媒を除き、炉液
を冷却することにより純粋な生成物が析出するので容易
に純粋な目的物を得ることができる。以上のように本発
明の方法によれば従来法の問題がすべて改善され効率よ
く該化合物を得ることができる。
Therefore, as a result of further intensive research on how to remove this reaction product water, we found that by adding a small amount of nonionic surfactant with low HLB and acid stability to the organic solvent, the reaction product water can be removed from the organic solvent. It was found that the reaction was significantly accelerated and the desired product could be obtained quantitatively. Furthermore, at this time, if an aliphatic organic solvent such as n-heptane, iso-octane, or octane is used and a solid acid catalyst is used, after the reaction is completed, the catalyst can be removed by filtration at 75o0 or higher, and the furnace liquid can be cooled. Since the pure product is precipitated, the pure target product can be easily obtained. As described above, according to the method of the present invention, all the problems of the conventional method are solved and the compound can be obtained efficiently.

尚本発明の方法で用いられる界面活性剤のHLBは11
以下であることが必須要件であり、11以上になると著
しく反応率が減少する。またその界面活性剤の使用量は
有機溶媒に対し0.5重量%以上が好適であり、0.5
重量%以下では著しく反応率が低下する。実際には1重
量%前後が経済面から見ても好適である。使用する不活
性有機溶媒は原料のジアルキルフェノール1モル当り8
0叫以上が適当であり、それ以下の量では反応中生成物
が析出するので好ましくない。
The HLB of the surfactant used in the method of the present invention is 11.
It is an essential requirement that it be below, and if it is 11 or more, the reaction rate will decrease significantly. In addition, the amount of the surfactant used is preferably 0.5% by weight or more based on the organic solvent, and 0.5% by weight or more based on the organic solvent.
If the amount is less than % by weight, the reaction rate decreases significantly. Actually, from an economic point of view, it is preferable to use about 1% by weight. The inert organic solvent used is 8 per mole of dialkylphenol as a raw material.
An amount of 0 or more is suitable, and an amount less than that is not preferable because products will precipitate during the reaction.

また反応温度も60q0以上が必要であり、それ以下の
温度では生成物が析出するので好ましくない。しかし高
温になるとホルムアルデヒドが系外に逸散して、パラホ
ルムアルデヒドの利用率を下げる原因になるので80〜
95qoの温度範囲が最も良い結果を与えることが分っ
た。以下に本発明の実施例を示す。
Further, the reaction temperature must be 60q0 or higher, and lower temperatures are not preferred because the product will precipitate. However, when the temperature rises, formaldehyde dissipates out of the system, causing a decrease in the utilization rate of paraformaldehyde.
A temperature range of 95 qo was found to give the best results. Examples of the present invention are shown below.

実施例 1 2−第3級−ブチル−4−メチルフェノール32.8夕
(0.2モル)、触媒としてアンバーリスト15(オル
ガノ社製)10夕、スパン80(花王アトラス社製造の
非イオン界面活性剤でHLBが4.3のもの)o.5夕
、nーヘプタン33夕、パラホルムアルデヒド3.3夕
を還流冷却器のついた200肌フラスコ‐に仕込み、鷹
拝しながら85〜9yoの温度範囲に保ち、1虫時間反
応させる。
Example 1 32.8 moles (0.2 mol) of 2-tertiary-butyl-4-methylphenol, 10 moles of Amberlyst 15 (manufactured by Organo) as a catalyst, and 10 moles of Span 80 (nonionic interface manufactured by Kao Atlas) activator with HLB of 4.3) o. After 5 days, 33 times of n-heptane and 3.3 times of paraformaldehyde were charged into a 200-degree flask equipped with a reflux condenser, kept in the temperature range of 85 to 9 years under cooling, and allowed to react for 1 hour.

反応終了後75q○以上の温度で炉過して触媒を分離し
た後、炉液を10こ0に冷却すると2・2メチレンビス
−(4ーメチルー6−第3級−ブチルフェノール)31
夕(融点131〜13y0)が析出し、溶媒を濃縮すれ
ばさらに2.7夕(融点130〜1320)が析出した
。その収得率は約99%である。実施例 2 2−第3級−ブチル−4−メチルフェノール32.8夕
、アンバーリスト15を10夕、ノニオンL−2(ニッ
サン化学社製造の非イオン界面活性剤でHLBが9.5
のもの)0.5夕、nーヘプタン33夕、パラホルムア
ルデヒド3.3夕を還流冷却器のついた200Mフラス
コに仕込み、実施例1と同様な操作を行うと、2・2ー
メチレンビスー(4ーメチル−6−第3級−プチルフェ
ノール)33.7夕(融点131〜1330C)が得ら
れた。
After the completion of the reaction, the catalyst was separated by passing through a furnace at a temperature of 75q○ or higher, and the furnace liquid was cooled to 10℃ to obtain 2.2methylenebis-(4-methyl-6-tertiary-butylphenol)31
A compound (melting point 131-13y0) was precipitated, and when the solvent was concentrated, an additional 2.7 particles (melting point 130-1320) were precipitated. The yield rate is about 99%. Example 2 2-tertiary-butyl-4-methylphenol 32.8 days, Amberlyst 15 10 days, Nonion L-2 (a nonionic surfactant manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. with an HLB of 9.5)
A 200M flask equipped with a reflux condenser was charged with 0.5 nights of n-heptane, 33 times of paraformaldehyde, and the same operation as in Example 1 was carried out to obtain 2,2-methylenebis(4-methyl- 6-tertiary-butylphenol) 33.7 hours (melting point 131-1330C) was obtained.

その収得率は約99%である。実施例 3 2−第3級ーブチル−4ーメチルフェ/−ル32.8夕
、実施例2で回収した触媒アンバーリスト15を10夕
、ノニオンL一2を0.5夕、nーヘフ。
The yield rate is about 99%. Example 3 2-Tertiary-butyl-4-methylphenyl 32.8 nights, catalyst Amberlyst 15 recovered in Example 2 for 10 nights, nonion L-2 for 0.5 nights, n-hef.

タン33夕、パラホルムアルデヒド3.3夕を実施例1
と同じ条件で2時間反応させると2・2ーメチレンビス
−(4ーメチルー6一第3級−ブチルフェノール)32
.3夕(融点131〜13yo)を得た。その収得率は
96.6%である。実施例 4 2−第3級−ブチルー4ーメチルフェノール32.8夕
、アンバーリスト15を5夕、ノニオンL−2を0.5
夕、nーヘフ。
Example 1
When reacted for 2 hours under the same conditions, 2,2-methylenebis-(4-methyl-6-tert-butylphenol)32
.. 3 yo (melting point 131-13yo) was obtained. The yield rate is 96.6%. Example 4 2-tertiary-butyl-4-methylphenol 32.8 days, Amberlyst 15 5 days, Nonion L-2 0.5 days
Evening, n-hef.

タン332、パラホルムアルデヒド3.3夕を実施例1
と同じ条件で2.虫時間反応させると、2・2′−メチ
レンビスー(4ーメチル−6一第3級ーブチルフヱノー
ル)33.5夕(融点131〜13yo)が得られた。
その収得率は98.3%である。実施例 5 2−第3級−プチル−4−メチルフェノール32.8夕
、アンバーリスト15を10夕、ノニオンL−2を0.
2夕、nーヘプタン33夕、パラホルムアルデヒド3.
3夕を実施例1と同じ条件で2.虫時間反応させると、
2・2ーメチレンビス−(4ーメチルー6−第3級−ブ
チルフェノール)32.3夕(融点131〜133qC
)が得られた。
Example 1
Under the same conditions as 2. After reacting for an hour, 33.5 hours of 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-tertiary-butylphenol) (melting point 131-13yo) was obtained.
The yield rate is 98.3%. Example 5 2-tertiary-butyl-4-methylphenol was added for 32.8 hours, Amberlyst 15 was added for 10 hours, and Nonion L-2 was added for 0.8 hours.
2 days, n-heptane 33 times, paraformaldehyde 3 times.
3 nights under the same conditions as Example 1. If you react for a long time,
2,2-methylenebis-(4-methyl-6-tertiary-butylphenol) 32.3 nights (melting point 131-133qC
)was gotten.

その収得率は95.6%である。実施例 6 2一第3級ーブチル−4−メチルフェノール32.8夕
、アンバーリスト15を10夕、ノニオンL−2を0.
5夕、イソオクタン33夕、パラホルムアルデヒド3.
3夕を実施例1と同じ条件で1.虫時間反応させると、
2・2′ーメチレンビスー(4−メチル−6−第3級−
ブチルフェノール)33.7夕(融点131〜13yo
)が得られた。
The yield rate is 95.6%. Example 6 2-tertiary-butyl-4-methylphenol 32.8 hours, Amberlyst 15 10 hours, Nonion L-2 0.8 hours.
5 days, isooctane 33 days, paraformaldehyde 3 days.
3 nights under the same conditions as Example 1. If you react for a long time,
2,2'-methylenebis(4-methyl-6-tertiary-
butylphenol) 33.7yo (melting point 131-13yo)
)was gotten.

その収得率は約99%である。実施例 7 2一第3級−プチルー4−エチルフェノール35.6夕
、アンバーリスト15を10夕、ノニオソL−2を0.
5夕、nーヘプタン33夕、パラホルムアルデヒド3.
3夕を実施例1と同じ条件で1.虫時間反応させると、
2・2ーメチレンビスー(4ーェチルー6−第3級−ブ
チルフェノール)35.7夕(融点121〜1240C
)が得られた。
The yield rate is about 99%. Example 7 2-tertiary-butyl-4-ethylphenol 35.6 hours, Amberlyst 15 10 hours, Nonioso L-2 0.
5 days, n-heptane 33 days, paraformaldehyde 3 days.
3 nights under the same conditions as Example 1. If you react for a long time,
2,2-methylenebis(4-ethyl-6-tertiary-butylphenol) 35.7 hours (melting point 121-1240C
)was gotten.

その収得率は約97%である。実施例 8 2一第3級ーブチルー4−メチルフェノール32.8夕
、アンバーリスト15を10夕、ノニオンL−2を0.
5夕、トルエン20夕、パラホルムアルデヒド3.3夕
を還流冷却器のついた200の‘フラスコに仕込み、8
0〜90oCで2.5時間反応させ、反応終了後トルヱ
ンを蟹去した後60%ィソプロパノール40夕を加え8
000に加熱し、生成物を溶解した後1000に冷却す
ると、2・2ーメチレンビスー(4−メチル−6−第3
級−ブチルフェノール)が析出してくる。
The yield rate is about 97%. Example 8 2-tertiary-butyl-4-methylphenol 32.8 days, Amberlyst 15 10 days, Nonion L-2 0.8 days.
5 days, 20 days of toluene and 3.3 days of paraformaldehyde were charged into a 200' flask equipped with a reflux condenser.
The reaction was carried out at 0 to 90oC for 2.5 hours, and after the reaction was completed, toluene was removed, and 60% isopropanol was added for 40 minutes.
000 to dissolve the product and then cool to 1000 to form 2,2-methylenebis(4-methyl-6-tertiary).
-butylphenol) will precipitate out.

これを炉過すると33.0夕(融点131〜133℃)
が得られた。その収得率は97%である。実施例 92
−第3級ーァミル−4−メチルフェノール35.6夕、
アンバーリスト15を10夕、ノニオンL−2を‐0.
5夕、n−へブタン33夕、パラホルムアルデヒド33
夕を実施例8と同じ条件で1.5時間反応させると2・
2ーメチレンビス−(4−メチル−6−第3級−アミル
フェノール)35.7夕(融点72.8〜75.000
)が得られた。
When this is passed through a furnace, it becomes 33.0 minutes (melting point 131-133℃).
was gotten. The yield rate is 97%. Example 92
- tertiary-amyl-4-methylphenol 35.6 hours,
Amber List 15 for 10 evenings, Nonion L-2 for -0.
5 days, n-hebutane 33 days, paraformaldehyde 33 days
When reacting for 1.5 hours under the same conditions as in Example 8, 2.
2-methylenebis-(4-methyl-6-tertiary-amylphenol) 35.7 hours (melting point 72.8-75.000
)was gotten.

その収得率は97%である。実施例 10 2−第3級−アミルー4−メチルフェノール35.6夕
、アンバーリスト15を10夕、ノニオンL−2を0.
5夕、n−へキサン33夕、パラホルムアルデヒド3.
3夕を実施例8と同じ条件で反応温度を65〜6800
に保ち3.5時間反応させると、2・2−メチレンビス
ー(4ーメチル−第3級−アミルフェノール)34.3
夕(融点72.8〜75.0℃)が得られた。
The yield rate is 97%. Example 10 2-tertiary-amy-4-methylphenol 35.6 hours, Amberlyst 15 10 hours, Nonion L-2 0.
5 days, n-hexane 33 days, paraformaldehyde 3 days.
The reaction temperature was 65-6800℃ for 3 nights under the same conditions as Example 8.
2,2-methylenebis(4-methyl-tertiary-amylphenol) 34.3
An aqueous solution (melting point 72.8-75.0°C) was obtained.

その収得率は93.2夕である。比較例 1 2一第3−ブチル−4−メチルフェノール32.8夕、
アンバーリスト15を10夕、ノニオンS一40〔日本
油脂社製造の非イオン界面活性剤でHLBが18.2の
もの)5夕、nーヘプタン33夕、パラホルムァルデヒ
ド3.3夕を実施例1と同じ条件で3時間反応させると
、2・2ーメチレンビス−(4ーメチル−6−第3級プ
チルフェノール)28.3夕(融点130〜1320)
が得られた。
The yield rate is 93.2 evenings. Comparative Example 1 2-3-tert-butyl-4-methylphenol 32.8 hours,
Example: Amberlyst 15 for 10 days, Nonion S-40 (a nonionic surfactant manufactured by NOF Corporation with HLB of 18.2) for 5 days, n-heptane for 33 days, and paraformaldehyde for 3.3 days. When reacted for 3 hours under the same conditions as in 1, 2,2-methylenebis-(4-methyl-6-tertiary butylphenol) was obtained for 28.3 hours (melting point 130-1320).
was gotten.

その収率は83%であった。比較例 2 2−第3−ブチル−4ーメチルフェノール32.89、
アンバーリスト15を10夕、ノニオンST−221(
日本油脂社製造の非イオン界面活性剤でHLBが14.
9のもの)0.5夕、n−へブタン33夕、パラホルム
アルデヒド3.3夕を実施例1と同じ条件で3時間反応
させると、2・2ーメチレンピスー(4ーメチル−6−
第3級ブチルフェノール)28.5夕(融点130〜1
32qo)が得られた。
The yield was 83%. Comparative example 2 2-tert-butyl-4-methylphenol 32.89,
Amber List 15 on 10th evening, Nonion ST-221 (
A nonionic surfactant manufactured by NOF Corporation with an HLB of 14.
9), 33 days of n-hebutane, and 3.3 days of paraformaldehyde were reacted for 3 hours under the same conditions as in Example 1, resulting in 2,2-methylene piso (4-methyl-6-
tertiary butylphenol) 28.5 hours (melting point 130-1
32qo) was obtained.

その収率は83.7%であった。比較例 3 2−第3ープチルー4ーメチルフェノール32.8夕、
アンバーリスト15を10夕、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ゾーダ0.5夕、nーヘプタン33夕、パラホルム
アルデヒド3.3夕を実施例1と同じ条件で3時間反応
させると、2・2ーメチレンビス−(4ーメチルー6一
第3級ブチルフヱノール)27夕(融点130〜13〆
0)が得られた。
The yield was 83.7%. Comparative Example 3 2-tert-butyl-4-methylphenol 32.8 hours,
When Amberlyst 15 was reacted for 10 days, zoda dodecylbenzenesulfonic acid 0.5 days, n-heptane 33 days, and paraformaldehyde 3.3 days were reacted for 3 hours under the same conditions as in Example 1, 2,2-methylenebis-(4-methyl- 6-tertiary butylphenol) (melting point 130-130) was obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 イオン交換樹脂を触媒に用い、不活性有機溶媒中で
ジアルキルフエノールをパラホルムアルデヒドでメチレ
ンビス化して2・2′−メチレンビス−(4・6−ジア
ルキルフエノール)を製造するに際し、HLB11以下
の非イオン界面活性剤を少量添加し65〜100℃の温
度範囲で反応させることを特徴とする2・2′−メチレ
ンビス−(4・6−ジアルキルフエノール)の製造法。 2 有機溶媒の量が原料のジアルキルフエノール1モル
当り80ml以上好ましくは80ml〜200mlであ
る特許請求の範囲第1項に記載の2・2′−メチレンビ
ス−(4・6−ジアルキルフエノール)の製造法。3
界面活性剤の量が有機溶媒に対し重量で0.5%以上好
ましくは0.75〜1.5%である特許請求の範囲第1
項に記載の2・2′−メチレンビス−(4・6−ジアル
キルフエノール)の製造法。 4 ジアルキルフエノールのアルキル基がo−位は第3
級−ブチル基または第3級−アミル基でありp−位はメ
チル基またはエチル基である特許請求の範囲第1項に記
載の2・2′−メチレンビス−(4・6−ジアルキルフ
エノール)の製造法。
[Claims] 1. When producing 2,2'-methylenebis-(4,6-dialkylphenol) by converting dialkylphenol to methylenebis with paraformaldehyde in an inert organic solvent using an ion exchange resin as a catalyst, A method for producing 2,2'-methylenebis-(4,6-dialkylphenol), which comprises adding a small amount of a nonionic surfactant having an HLB of 11 or less and reacting in a temperature range of 65 to 100C. 2. The method for producing 2,2'-methylenebis-(4,6-dialkylphenol) according to claim 1, wherein the amount of the organic solvent is 80 ml or more, preferably 80 ml to 200 ml, per mole of dialkyl phenol as a raw material. . 3
Claim 1, wherein the amount of surfactant is 0.5% or more, preferably 0.75 to 1.5% by weight based on the organic solvent.
A method for producing 2,2'-methylenebis-(4,6-dialkylphenol) as described in 2. 4 The o-position of the alkyl group of dialkylphenol is the 3rd
2,2'-methylenebis-(4,6-dialkylphenol) according to claim 1, which is a class-butyl group or a tertiary-amyl group, and the p-position is a methyl group or an ethyl group. Manufacturing method.
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