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JPS60235766A - 炭化ケイ素の製造法 - Google Patents
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JPS60235766A - 炭化ケイ素の製造法 - Google Patents

炭化ケイ素の製造法

Info

Publication number
JPS60235766A
JPS60235766A JP59090892A JP9089284A JPS60235766A JP S60235766 A JPS60235766 A JP S60235766A JP 59090892 A JP59090892 A JP 59090892A JP 9089284 A JP9089284 A JP 9089284A JP S60235766 A JPS60235766 A JP S60235766A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sic
silicon carbide
powder
raw material
carbon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59090892A
Other languages
English (en)
Inventor
昌孝 山本
守 阿諏訪
岩岡 賢元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP59090892A priority Critical patent/JPS60235766A/ja
Publication of JPS60235766A publication Critical patent/JPS60235766A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は炭化ケイ素、特に焼結性のよい炭化ケイ素の製
造2人に関する。
炭化ケイ素は耐熱性、高熱伝導性、高強度等の特f[を
右する材料であり、耐火材等の外、近年は高温における
構造材料として注目されている。
構造44Flとするには炭化ケイ素を微粉末とし、これ
を焼結することが必要であるが、炭化ケイ素はそれ自体
では焼結しにくいため、C,B、Ai等の焼結助剤を少
山加え、焼結している。
焼結助剤を添加する場合、これらが1%前後と少めであ
るため、炭化ケイ素粉末中に均一に分散させることが極
めてむづかしい。そのために焼結体製品に強度等のムラ
が生じ易い。
本発明は焼結性の良い炭化ケイ素(Si C)を提供づ
ることを目的とし、そのためにSiC中にAlを固溶さ
せておく方法を開発したものである。
固溶であるので、AiはSiC中に均一に存在している
SiC中にAffiが含有(固溶と思われる。)してい
ることにより、焼結性がよくなることは窯業協会誌87
 (11) 1979、ページ36〜42に記載され(
いる。これによるとA9.によるSiCの易焼結Mの効
果は2Hの固相内移転に伴4Tう原子の移動度の増大(
いわゆるHedvall効宋)あるいは液相の存在によ
ってもたらされると言われている。
。ト記文献ではSICにAlを含有させる方法としてカ
ーボンブラックをSl、S1Oあるいは5SiO2でケ
イ化する時に金属八交あるいはA文化合物を添加してい
る。12化合物は具体的にはA文(NO3)3 ・9日
20を水溶液にして用いCいる。
ここrは実験室的規模で生成させたものと思われるが、
工業的にSiCを生産づるには通常直接原料に通電する
いわゆるアチソン法が用いられる。
本発明はこのような工業的生産規模においてΔ久をSi
Cに効率よく固溶させる方法を研究ψに結果到達した方
法であって、特徴はSiC製造原料中にへ交203等と
炭素粉末を混合してベレッ]・にしたものを配合し、焼
成することにある。
ノ7チソン法等でSiCを製造する場合、Aiや低温で
分解するようなA文化合物を原料中に単に添加したので
は多くは蒸発してしまい、添加効率が悪く、経済的に成
り立たない。
またA交203粉末あるい番よそのペレットを配合づる
方法も、A久203とSiC製造原料中の炭素どの反応
が十分に進まず、SiC中にA4eを固溶させることは
むずかしい。
本発明はへ〇−203等と炭素粗分とをペレットにして
、反応性をよくし、これをSIC製造原料中に配合分散
させてa3 <方法である。
SiC生成反応はSiO2とCより先ずガス状のSiO
が生じ、さらにこれがCと反応してSiCになると言わ
れている。これらの反応温度は1500〜2300℃程
度である。へ父203とCの反応においても中間におい
て、ガス状のA120が生じ、これがざらにCと反応し
てA13G4等が生じる。このA交20生成反応シよ1
700〜2500℃程度である。このガス状のA久20
をSiOからSiCが生成する反応に関与させることが
Al1をSiCに固溶させる場合に重要である。それに
はSiC生成温度において同時にA120ガスが原料中
にできるだ(ノ一様に存在させることが必要ぐある。
A又203からのA交20生成反応は上記のようにSi
C生成反応と同程度の温度範囲であり、これが本発明の
作用効果を一層人ぎなものとしている。
本発明において、ΔfL203粉末はパイヤーノ1ルミ
ブーが適当であり、A久201含有化合物としてはへ交
203 ・3l−120(ギブサイト)、Δ愛203 
・l−120(ベーマイト)などの外、ボー4−リーク
1へなども使用可能′C−ある。これらは反応性をよく
ηるため、10μm以下Pi!度に粉砕することが好ま
しい。
炭素粉末は〕−クス、無煙炭、カーボンブラック、黒鉛
などを用いることができ、これも10ull+以−ト程
度に粉砕するのがよい。
炭素1)末とへ交203等のa合割合は次式による化学
m論量の0.9〜1.5倍程度が適する。
A文2C)++2C−)A交20+2CO八〇−203
含有化合物を用い、その中にA又20生成温度範囲でA
文203以外にCと反応する物質が含まれる場合は、C
の配合量としてそれに要7るCmを余分に加えることが
必要である。
これらを混合してベレットに覆るには皿型造粒機のよう
な装置を使用し、澱粉やCMC等の結合剤を用いて行な
う。ベレットの大きさは特に制限ないがSiCの原料と
の混合性等より0.2〜2cm程度の大きさが適当であ
る。
SiC製造原料は通常のしのぐよく、ケイも、ケイ砂等
のシリカ、コークス、無eft、カーボンブラック等の
l132素材が用いられる。これらの原料は粉末とし、
造粒して用いることもできる。
Δ文203等のペレツ1へ配合量はSiC製造原料中の
8102分に対し、Al2O3分として0.2〜2.5
重量%が好ましい。これより少いと固溶Mが不足し、多
過ぎても効果1よ変らない。
加熱焼成はアチソン法が適する外、たて望炉を用い、炉
の外側より加熱し、原料を上部から供給し、下部から生
成物を取り出づ方法のものし使用ぐきる。
焼成の温度は+500へ・2500℃の範囲が適する。
焼度固溶させることが好ましい。固溶しているへ斐の形
態はその確認がむずかしいが、A文。
△り203 、 A久3G4等の形ぐあると相定される
。本発明においてはこれらのいづれの形であってもよく
、前記Auの%は化合物の場合はモの中のへ愛分を表わ
づ。
実 施 例 通常のアチソン法によりSiCを製造し、その原料中に
△9203とコークス粉末との混合ベレットを配合した
。SiC製造原料は約5〜2011111のケイ石(S
 i−02分〉99%)、約2〜15a+mの粒状丁1
−クスを用いlこ。
ペレツ蕗\イヤーアルミナ(10μm以下、ΔA203
 >99%)とカーボンブラックを前記した化学争論量
に配合し一澱粉水溶液を用い、平均10IIIllのベ
レットに造粒した。
ベレットの配合偵はSiC原料中の5i02100ψW
部に対し、八女2032.0重量部どした。
これらの原料をよく配合し、アブソン炉に装入し、常法
に従っ“【通電焼成した。SiC生成帯域の渇庶は■定
1800〜2300℃と考えられる。
得られた生成物を粉砕し、 105μm以下にしてから
HC交水溶液で処理し、表面に付着している不純物を除
き、酸化性雰囲気で700℃に加熱して不着カーボンを
除いて製品とした。
ていることが判明した。
この粉末をざらに1μm以下に微粉砕し、酸洗により、
他の金属は50ppm+以下にした。/lは代 理 人
 菊 地 精 −

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. AKL203粉末又はA文203含有化合物粉末と炭素
    粉末とを混合してペレットとなし、これをシリカと炭素
    拐の混合原料中に配合し、非酸化性雰囲気中、1500
    ℃・〜2500℃で焼成づることを特徴ど1Jる炭化ケ
    イ素の製造法。
JP59090892A 1984-05-09 1984-05-09 炭化ケイ素の製造法 Pending JPS60235766A (ja)

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JP59090892A JPS60235766A (ja) 1984-05-09 1984-05-09 炭化ケイ素の製造法

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JPS60235766A true JPS60235766A (ja) 1985-11-22

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ID=14011058

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JP59090892A Pending JPS60235766A (ja) 1984-05-09 1984-05-09 炭化ケイ素の製造法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015089862A (ja) * 2013-11-06 2015-05-11 東海高熱工業株式会社 電気抵抗の低い常圧焼結SiCセラミックス

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015089862A (ja) * 2013-11-06 2015-05-11 東海高熱工業株式会社 電気抵抗の低い常圧焼結SiCセラミックス

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