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JPS6026125B2 - photosensitizer - Google Patents
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JPS6026125B2 - photosensitizer - Google Patents

photosensitizer

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JPS6026125B2
JPS6026125B2 JP52080148A JP8014877A JPS6026125B2 JP S6026125 B2 JPS6026125 B2 JP S6026125B2 JP 52080148 A JP52080148 A JP 52080148A JP 8014877 A JP8014877 A JP 8014877A JP S6026125 B2 JPS6026125 B2 JP S6026125B2
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JP
Japan
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bis
photosensitizer
penzophenone
acid
dialkylamino
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与一 森
満 末沢
昌也 浅野
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高感度でしかも貯蔵安定性にすぐれた光増感剤
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a photosensitizer with high sensitivity and excellent storage stability.

従来から紫外線の照射によってラジカルを発生し、ラジ
カル重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物の重
合開始剤になりうる光増感剤に関しては多くのものが知
られており、なかでもペンゾインメチルエーテル,ベン
ゾインエチルエー7ル,ベンゾインイソプロピルエーテ
ル,ベンゾイン等のペンゾィン系増感剤、ベンゾフェノ
ン,ミヘラー氏ケトン等の芳香族ケトン系増感剤が良く
知られている。
Many photosensitizers have been known that generate radicals when irradiated with ultraviolet light and can act as polymerization initiators for radically polymerizable compounds with ethylenically unsaturated bonds. Penzoin sensitizers such as methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin, and aromatic ketone sensitizers such as benzophenone and Michler's ketone are well known.

しかしながら、これらの化合物を感光性被覆用組成物の
光増感剤として用いる場合に、ベンゾィン系増感剤では
感度はすぐれているが、貯蔵安定性が十分でない場合が
あり、又芳香族ケトン系増感剤では貯蔵安定性はすぐれ
ているが、感度の点で劣るという問題点がある。
However, when these compounds are used as photosensitizers in photosensitive coating compositions, benzoine-based sensitizers have excellent sensitivity but may not have sufficient storage stability, and aromatic ketone-based sensitizers Although sensitizers have excellent storage stability, they have the problem of poor sensitivity.

本発明者らは、かかる問題点を解決すべく鋭意検討した
結果、ビス(ジアルキルアミノ)ペンゾフェノンと特定
の芳香族カルボニル化合物とを絹合せることによって、
各々単独に使用した場合に比較して飛躍的に感度が上昇
し、貯蔵安定性にもすぐれた光増感剤が得られることを
見出し、本発明に到達した。
As a result of intensive studies to solve these problems, the present inventors found that by combining bis(dialkylamino)penzophenone and a specific aromatic carbonyl compound,
The present invention was achieved by discovering that a photosensitizer with dramatically increased sensitivity and excellent storage stability can be obtained compared to when each of these is used alone.

すなわち、本発明はビス(ジアルキルアミノ)ペンゾフ
ェノンと下記一般式(1)で表わされる芳香族カルポニ
ル化合物の少なくとも一種とからなる光増感剤である。
That is, the present invention is a photosensitizer comprising bis(dialkylamino)penzophenone and at least one aromatic carbonyl compound represented by the following general formula (1).

(ただし、Arは置換もしくは非置換の芳香核、×は−
NR−またはSであって、Rは日、低級アルキル基また
はアシル基を示す。)(1)式において、Arは置換も
しくは非置換の芳香核であるが、置換芳香核とは、芳香
核の水素原子が低級アルキル基、ハロゲン、水酸基、ア
ルコキシ基、カルポキシル基、アルコキシカルボニル基
、シアノ基、ニトロ基などで置換されたものを云う。
(However, Ar is a substituted or unsubstituted aromatic nucleus, × is -
NR- or S, R represents a lower alkyl group or an acyl group. ) In formula (1), Ar is a substituted or unsubstituted aromatic nucleus, and a substituted aromatic nucleus means that the hydrogen atom of the aromatic nucleus is a lower alkyl group, halogen, hydroxyl group, alkoxy group, carpoxyl group, alkoxycarbonyl group, Refers to those substituted with cyano groups, nitro groups, etc.

本発明の一成分であるビス(ジアルキルアミノ)ペンゾ
フエノンとしては、4,4′ービス(ジメチルアミノ)
ペンゾフェノン〔ミヘラー氏ケトン〕4,4′ービス(
ジエチルアミノ)ペンゾフエノン、4,4−ビス(ジプ
ロビルアミ/)ペンゾフェノン等があげられる。
Bis(dialkylamino)penzophenone, which is a component of the present invention, includes 4,4'-bis(dimethylamino)
Penzophenone [Michler's ketone] 4,4′-bis (
Examples include diethylamino)penzophenone and 4,4-bis(diprobilami/)penzophenone.

また、前記一般式(1)で表わされる化合物としては、
9−アクリドン、チオキサントン、2ークロルチオキサ
ントン、N−メチル−9−アクリドン等があげられるが
、これらに限定されるものではない。ビス(ジアルキル
アミノ)ペンゾフェノンと前記一般式(1)で表わされ
る化合物との混合比率は、重量比で1:10〜10:1
、好ましくは1:5〜5:1の範囲である。
Further, as the compound represented by the general formula (1),
Examples include, but are not limited to, 9-acridone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and N-methyl-9-acridone. The mixing ratio of bis(dialkylamino)penzophenone and the compound represented by the general formula (1) is 1:10 to 10:1 by weight.
, preferably in the range of 1:5 to 5:1.

ビス(ジアルキルアミノ)ペンゾフェノンと前記一般式
(1)で類わされる芳香族カルボニル化合物との組合せ
による光増感剤系によって予想外の高感度が得られるの
は、ビス(ジアルキルアミノ)ペンゾフェノンが紫外線
に対し大きな吸収強度を有していて、照射された紫外線
を効率よく吸収し、この紫外線を吸収して励起されたビ
ス(ジアルキルアミノ)ペンゾフェノンと一般式(1)
で表わされる芳香族カルボニル化合物とが、励起状態で
分子化合物を形成し、この励起分子化合物が効率よくラ
ジカルを発生するためと考えられる。
The unexpectedly high sensitivity obtained by the photosensitizer system consisting of a combination of bis(dialkylamino)penzophenone and an aromatic carbonyl compound similar to the above general formula (1) is because bis(dialkylamino)penzophenone It has a large absorption intensity for ultraviolet rays, efficiently absorbs the irradiated ultraviolet rays, and bis(dialkylamino)penzophenone which is excited by absorbing the ultraviolet rays and the general formula (1)
This is thought to be because the aromatic carbonyl compound represented by the formula forms a molecular compound in an excited state, and this excited molecular compound efficiently generates radicals.

本発明の光増感剤系は、上記のような機構ですぐれた光
増感効果を示すため、ラジカル重合性のエチレン性不飽
和結合を有するモノマー、プレポリマーおよびポリマー
の一種もしくは二種以上を成分とする薄膜性感光性被覆
用組成物の光増感剤成分とした場合に特にすぐれた効果
を示す。
The photosensitizer system of the present invention exhibits an excellent photosensitizing effect through the mechanism described above, and therefore contains one or more radically polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomers, prepolymers, and polymers. It exhibits particularly excellent effects when used as a photosensitizer component in a thin-film photosensitive coating composition.

ここでいう薄膜性とは、感光性被膜の膜厚が0.1山〜
50仏のものを意味する。薄膜性感光性被覆用組成物の
必須構成成分であるラジカル重合性のエチレン性不飽和
結合を有するモノマー、プレポリマー、ポリマーとして
は、公知の沸点10び○以上のアクロィル基又はメタク
ロィル基を有する化合物ならいずれでも良く、代表的な
例を次にあげる。
Thin film property here means that the film thickness of the photosensitive film is 0.1 mm or more.
It means 50 Buddhas. The radically polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomers, prepolymers, and polymers that are essential constituents of the thin-film photosensitive coating composition include known compounds having an acroyl group or methacroyl group with a boiling point of 10 or more. Either is fine, and a typical example is given below.

‘11 次に示すアルコール類のアクリル酸又はメタク
リル酸ェステル。
'11 Acrylic acid or methacrylic acid ester of the following alcohols.

メタノール、エタノール、プロ/ゞノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、シクロヘキサノール、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、ベンタエリスリ
トール等。
Methanol, ethanol, pro/enol, hexanol, octanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol,
Glycerin, trimethylolpropane, bentaerythritol, etc.

■ 次に示すアミン類、カルボン酸類とアクリル酸グリ
シジルェステル又はメタクリル酸グリシジルェスルとの
反応生成物。
(2) Reaction products of the following amines or carboxylic acids with glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate.

メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、ベンジル
アミン、エチレンジアミン、ジヱチレントリアミン、ヘ
キサメチレンジアミン、Pーキシリレンジアミン、mー
キシリレンジアミン、エタノールアミン、ジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、アニリン等
Methylamine, ethylamine, butylamine, benzylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, hexamethylenediamine, P-xylylenediamine, m-xylylenediamine, ethanolamine, dimethylamine, diethylamine, diethanolamine, aniline, etc.

酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリ
ル酸、コハク酸、マレィン酸、フタル酸、酒石酸、クエ
ン酸。
Acetic acid, propionic acid, benzoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, succinic acid, maleic acid, phthalic acid, tartaric acid, citric acid.

糊 次に示すようなアミド誘導体。Glue Amide derivatives as shown below.

アクリルアミド、メタクリルアミド、Nーメチロールア
クリルアミド、メチレンピスアクリルアミド、ジアセト
ンアクリルアミド等。
Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, methylenepisacrylamide, diacetone acrylamide, etc.

{4’ェポキシ化合物とアクリル酸又はメタクリル酸と
の反応物。
{Reaction product of 4' epoxy compound and acrylic acid or methacrylic acid.

{5} ィソシアネート含有化合物と8−ヒドロキシェ
チルアクリレート又は8−ヒドロキシエチルメタクリレ
ートとの反応物。
{5} A reaction product of an isocyanate-containing compound and 8-hydroxyethyl acrylate or 8-hydroxyethyl methacrylate.

これらの化合物の一種又は二種以上を構成成分とし、さ
らに必要があれば、これらの化合物と混合し得る有機高
分子化合物を添加することも可能である。
One or more of these compounds can be used as a constituent component, and if necessary, it is also possible to add an organic polymer compound that can be mixed with these compounds.

このような有機高分子化合物としては、次に示すような
ポリマー、コポリマーをあげることができる。
Examples of such organic polymer compounds include the following polymers and copolymers.

{1} アクリル酸ェステル、メタクリル酸ェステル、
アクリロニトリルのポリマー、たとえばポリアクリル酸
エチル、ポリメタクリル酸メチル、ポリァクリル酸ブチ
ルなど、およびそれらのコポリマー。
{1} Acrylic acid ester, methacrylic acid ester,
Polymers of acrylonitrile, such as polyethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polybutyl acrylate, etc., and copolymers thereof.

‘21 未加硫ゴム、たとえばボリブタジェン、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロブレン、スチレンーブタジェン
ゴム等。
'21 Unvulcanized rubber, such as polybutadiene, polyisobutylene, polychloroprene, styrene-butadiene rubber, etc.

‘3} ピニルポリマー、たとえばポリ酢酸ピニル、ポ
リビニルアルコール、ボリビニルブチラ−ル、ポリ塩化
ビニルなど、およびそれらのコポリマー。
'3} Pinyl polymers, such as polypynylacetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyvinyl chloride, and copolymers thereof.

■ ボリエーテル、たとえばポリエチレンオキシドなど
■ Polyethers, such as polyethylene oxide.

■ ポリエステル、たとえばフタル酸、ィソフタル酸、
マレィン酸、アジピン酸等とエチレングリコール、1,
4−ブタンジオール、1,6−へキサンジオール、ネオ
ベンチルグリコール等の反応生成物。
■ Polyesters, such as phthalic acid, isophthalic acid,
Maleic acid, adipic acid, etc. and ethylene glycol, 1,
Reaction products such as 4-butanediol, 1,6-hexanediol, neobentyl glycol, etc.

‘6} ポリウレタン、たとえばトルエンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジ
ィソシアネート等と1,4ーブタンジオール、1,6ー
ヘキサンジオール、‘4’のポリエーテルポリオール、
{5}で得られるポリエステルポリオール等との反応生
成物。
'6} Polyurethane, such as toluene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, etc. and 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, '4' polyether polyol,
Reaction product with polyester polyol etc. obtained in {5}.

‘7} ェポキシ樹脂 (8’ポリアミド 薄膜性感光性被覆用組成物は、前記のラジカル重合性の
エチレン性不飽和結合を有するモノマ−、プレポリマー
およびポリマーの一種もしくは二種以上を10〜98重
量部、必要あれば有機高分子化合物を1〜8の重量部添
加し、ビス(ジアルキルアミノ)ペンゾフェノンと前記
一般式(1)で表わされる芳香族カルボニル化合物とを
重量比で1;10〜10:1好まし〈は1:5〜5;1
で混合したものを0.5〜1の重量部加えることによっ
て得られる。
'7} Epoxy resin (8' Polyamide thin film photosensitive coating composition contains 10 to 98% by weight of one or more of the radically polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomers, prepolymers, and polymers). If necessary, 1 to 8 parts by weight of an organic polymer compound is added, and the weight ratio of bis(dialkylamino)penzophenone to the aromatic carbonyl compound represented by the general formula (1) is 1:10 to 10: 1 preferably < is 1:5 to 5; 1
It can be obtained by adding 0.5 to 1 part by weight of the mixture.

前述の諸成分に加えて、必要に応じて染料、重合禁止剤
等の添加物を加えることも可能である。
In addition to the above-mentioned components, additives such as dyes and polymerization inhibitors may be added as necessary.

本発明のビス(ジアルキルァミノ)ペンゾフェノンと前
記一般式(1)表わされる芳香族カルポニル化合物との
組合せを光増感剤成分として用いる好ましい適用例とし
て、前述のようにして得られる薄膜性感光性被覆の上層
または下層にシリコーンゴム層を0.5〜50山の膜厚
で設けることにより得られる湿し水不要平版用感光性版
村をあげることができる。ここで用いられるシリコーン
ゴムは、適当な分子量を有する線状ジオルガノポリシロ
キサン(好ましくはジメチルポリシロキサン)を、まば
らに架橋することにより得られる。
As a preferred application example of using the combination of the bis(dialkylamino)penzophenone of the present invention and the aromatic carbonyl compound represented by the general formula (1) as a photosensitizer component, the thin film photosensitivity obtained as described above is A photosensitive printing plate for lithography that does not require dampening water can be obtained by providing a silicone rubber layer with a thickness of 0.5 to 50 m thick on the upper or lower layer of the coating. The silicone rubber used here is obtained by sparsely crosslinking a linear diorganopolysiloxane (preferably dimethylpolysiloxane) having an appropriate molecular weight.

この架橋密度は、下の図におけるR/Si比で表現でき
、有用なシリコーンゴムでは1.90〜2.10である
。代表的なシリコーンゴムは、次のようなくり返し単位
を有する。ここでnは2以上の整数である。
This crosslinking density can be expressed by the R/Si ratio in the figure below, and is 1.90 to 2.10 for useful silicone rubbers. A typical silicone rubber has the following repeating units. Here, n is an integer of 2 or more.

Rは日、炭素数1〜10のアルキル、アIJール、ビニ
ル基である。
R is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group, or a vinyl group.

このようなシリコーンゴムは、有機過酸化物の添加によ
りまばらに努封葱させることができるが、次に示すよう
な縮合型の架橋を行なうシリコーンゴム(RTV,LT
V型シリコーンゴム)を用いることにより、さらに好ま
しいシリコーンゴム膜が得られる。縮合型の場合はジオ
ルガノポリシロキサン鎖のRの一部がH‘こ置換されて
ものも用いられるが、通常は次のような末端基同志の縮
合によって架橋する。ここでRは先に説明したRと同じ
意味であり、R′はメチル、エチルなどの1価のアルキ
ルであり、Acはアセチル基である。
Such silicone rubbers can be sparsely sealed by adding organic peroxides, but silicone rubbers that perform condensation type crosslinking (RTV, LT) as shown below
A more preferable silicone rubber film can be obtained by using V-type silicone rubber). In the case of a condensed type, a diorganopolysiloxane chain in which a portion of R is substituted with H' is also used, but crosslinking is usually achieved by condensation of terminal groups as described below. Here, R has the same meaning as R explained above, R' is a monovalent alkyl such as methyl or ethyl, and Ac is an acetyl group.

以下実施例をあげて本発明を詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below with reference to Examples.

実施例 1次の組成を有する感光性被覆用組成物を、ブ
リキ板上にアプリケーターを用い9ミクロンの厚さで塗
布した。
Example 1 A photosensitive coating composition having the following composition was applied onto a tin plate using an applicator to a thickness of 9 microns.

‘a’ 「テイサンレジンSBIIIC−1」(帝国化
学産業(株)製アクリル酸ブチルとァクリロニトリルと
のコポリマーの固型分 6の重量%(b} N
,N,N′,N′ーテトラキス−2ーヒドロキシー3ー
メタクロイルオキシプロピルエチレンジアミン(グリシ
ジルメタクリレートとエチレンジアミンの4′1モル比
反応物) 3亀重量%‘cー 光増感剤
4重量%この被膜に、空気下で、桃W高圧水
銀燈の光を1肌の距離から照射し、被膜の粘着性がなく
なった秒数をもって感度とした。
'a'"Teisan Resin SBIIIC-1" (manufactured by Teikoku Kagaku Sangyo Co., Ltd.) Solid content of copolymer of butyl acrylate and acrylonitrile 6% by weight (b} N
,N,N',N'-tetrakis-2-hydroxy-3-methacroyloxypropylethylenediamine (4'1 molar ratio reaction product of glycidyl methacrylate and ethylenediamine) 3% by weight'c- Photosensitizer
4% by weight This film was irradiated with light from a pink W high-pressure mercury lamp from a distance of 1 skin in the air, and the sensitivity was defined as the number of seconds until the film lost its tackiness.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

光増感剤を単独で使用した場合は、比率の欄に100%
と記載し、混合した場合には、光増感剤全体に対する各
々の比率を%で記載した。第1表 表から明らかなように、4,4′−ビス(ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、芳香族カルボニル化合物をそれぞれ
単独で使用した場合には、感度が低く(粘着性がなくな
るまでに要する時間が長い)、4,4′−ビス(ジメチ
ルアミノ)ペンゾフェノンと芳香族カルボニル化合物と
を総合せて使用した場合には感度が高い。
If a photosensitizer is used alone, enter 100% in the ratio column.
When mixed, the ratio of each to the total photosensitizer is described in %. As is clear from Table 1, when 4,4'-bis(dimethylaminobenzophenone or aromatic carbonyl compound) is used alone, the sensitivity is low (it takes a long time for the stickiness to disappear). , 4,4'-bis(dimethylamino)penzophenone and an aromatic carbonyl compound are used in combination, the sensitivity is high.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフエノンと下記一
般式(I)で表わされる芳香族カルボニル化合物の少な
くとも一種とから成る光増感剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただしArは置
換もしくは非置換の芳香核、Xは−NR−又はSであつ
て、RはH、低級アルキル基又はアシル基を示す。
[Scope of Claims] 1. A photosensitizer comprising bis(dialkylamino)benzophenone and at least one aromatic carbonyl compound represented by the following general formula (I). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (However, Ar is a substituted or unsubstituted aromatic nucleus, X is -NR- or S, and R is H, a lower alkyl group, or an acyl group.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3926643A (en) * 1974-05-16 1975-12-16 Du Pont Photopolymerizable compositions comprising initiator combinations comprising thioxanthenones
US4017652A (en) * 1974-10-23 1977-04-12 Ppg Industries, Inc. Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same

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