JPS6029387B2 - ヒドロキシベンジルマロン酸エステル誘導体、及び該化合物によるプラスチックの安定化方法 - Google Patents
ヒドロキシベンジルマロン酸エステル誘導体、及び該化合物によるプラスチックの安定化方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はヒドロキシベンジルマロン酸の新規ェステル、
それらの製造方法及びプラスチックに対する安定剤とし
ての使用方法ならびに上言己ェステルで安定化された材
料に関する。
それらの製造方法及びプラスチックに対する安定剤とし
ての使用方法ならびに上言己ェステルで安定化された材
料に関する。
本発明に関する化合物は次式1:
{式中、
nは1または2を表わし、
Raは炭素原子数1なし、し6のアルキル基を表わし、
Rbは炭素原子数1なし、し6のアルキル基を表わし、
Rcは炭素原子数1ないし9のアルキル基を表わし、R
dは炭素原子数1なし、し6のアルキル基を表わし、R
eは水素原子、または炭素原子数1なL・し5のアルキ
ル基を表わし、Rfは水素原子、または炭素原子数1な
し、し5のアルキル基を表わし、但しRe及びRfは相
互に交換可能であり、×は酸素原子または一NR−基(
基中、Rは水素原子を表わす。
Rbは炭素原子数1なし、し6のアルキル基を表わし、
Rcは炭素原子数1ないし9のアルキル基を表わし、R
dは炭素原子数1なし、し6のアルキル基を表わし、R
eは水素原子、または炭素原子数1なL・し5のアルキ
ル基を表わし、Rfは水素原子、または炭素原子数1な
し、し5のアルキル基を表わし、但しRe及びRfは相
互に交換可能であり、×は酸素原子または一NR−基(
基中、Rは水素原子を表わす。
)を表わし、RIは水素原子、−○・、炭素原子数1な
し、し12のアルキル基、炭素原子数3または4のアル
ケニル基を表わし、またはRIがA−CO一基を表わし
、但しAは炭素原子数1なし、し12のアルキル基を表
わし、R2は次式囚: (式中、 R6及びR7は互いに独立して炭素原子数1なし、し9
のアルキル基を表わし、そしてR8は水素原子またはメ
チル基を表わす。
し、し12のアルキル基、炭素原子数3または4のアル
ケニル基を表わし、またはRIがA−CO一基を表わし
、但しAは炭素原子数1なし、し12のアルキル基を表
わし、R2は次式囚: (式中、 R6及びR7は互いに独立して炭素原子数1なし、し9
のアルキル基を表わし、そしてR8は水素原子またはメ
チル基を表わす。
)で表わされるヒドロキシベンジル基を表わし、R3は
、nが1のとき、炭素原子数1なし・し20の非置換ァ
ルキル基または次式:−C(0)−OR12、一○−C
(0)R13または一P(0)(OR14)2〔基中、
R12は炭素原子数1なし、し18のアルキル基、また
は次式皿:(基中、Ra、Rb、Rc、Rd、Re及び
Rfは上記ですでに表わした意味を有し、そしてR17
はRIで与えた意味の1つを有する。
、nが1のとき、炭素原子数1なし・し20の非置換ァ
ルキル基または次式:−C(0)−OR12、一○−C
(0)R13または一P(0)(OR14)2〔基中、
R12は炭素原子数1なし、し18のアルキル基、また
は次式皿:(基中、Ra、Rb、Rc、Rd、Re及び
Rfは上記ですでに表わした意味を有し、そしてR17
はRIで与えた意味の1つを有する。
)で表わされる基を表わし、R13は非置換もしくは炭
素原子数1ないし4のアルキル基及び/または水酸基で
置換されていてもよいフェニル基を表わし、そしてR1
4は炭素原子数1なし、し8のアルキル基を表わす。
素原子数1ないし4のアルキル基及び/または水酸基で
置換されていてもよいフェニル基を表わし、そしてR1
4は炭素原子数1なし、し8のアルキル基を表わす。
〕で表わされる基の1個以上で置換される炭素原子数1
なし、し10のアルキル基を表わし、そしてR3は更に
炭素原子数3なし、し18のアルケニル基、炭素原子数
7なし、し19のアラルキル基、フェニル基を表わし、
またはR3は−○−C(0)R16(基中、R16は炭
素原子数1なし、し12のアルキル基、各々炭素原子数
1なし、し4のアルキル基2個及び水酸基で置換されて
いてもよいフェニル基を表わす。
なし、し10のアルキル基を表わし、そしてR3は更に
炭素原子数3なし、し18のアルケニル基、炭素原子数
7なし、し19のアラルキル基、フェニル基を表わし、
またはR3は−○−C(0)R16(基中、R16は炭
素原子数1なし、し12のアルキル基、各々炭素原子数
1なし、し4のアルキル基2個及び水酸基で置換されて
いてもよいフェニル基を表わす。
)、NHC(0)R16(基中、R16は炭素原子数1
なし、し12のアルキル基を表わす。)で表わされる基
を表わし、そして更に加えるに、R3は、nが2のとき
、直接結合、炭素原子数1なし、し20のアルキレン基
を表わす。
なし、し12のアルキル基を表わす。)で表わされる基
を表わし、そして更に加えるに、R3は、nが2のとき
、直接結合、炭素原子数1なし、し20のアルキレン基
を表わす。
}で表わされる化合物及びそれらの酸付加塩である。R
a、Rb及びRdは炭素原子数1なし、し6の直鏡また
は枝分れ鎖アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、プチル、イソブチル、イソベンチルまたはn−へキ
シル基である。
a、Rb及びRdは炭素原子数1なし、し6の直鏡また
は枝分れ鎖アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、プチル、イソブチル、イソベンチルまたはn−へキ
シル基である。
Rcは炭素原子数1なし、し9の直鎖もしくは枝分れ鎖
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、n−ブ
チル、イソプチル、イソベンチル「nーヘキシル、2ー
エチルヘキシル、nーノニルもしくはイソーノニル基で
ある。
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、n−ブ
チル、イソプチル、イソベンチル「nーヘキシル、2ー
エチルヘキシル、nーノニルもしくはイソーノニル基で
ある。
Re及びRfは炭素原子数5までのアルキル基で、但し
Reは好ましくはRbより炭素原子数を1つ少なく含み
、そしてRe及びRfの位置は交換可能である。
Reは好ましくはRbより炭素原子数を1つ少なく含み
、そしてRe及びRfの位置は交換可能である。
好ましいRa、Rb、Rc及びRdはメチル基であり、
そしてRe及びRfは水素原子である。
そしてRe及びRfは水素原子である。
炭素原子数1なし、し12のアルキル基であるR1、R
16及びAは第一アルキル基、例えばメチル、エチル、
nープロピル、nーブチル、nーヘキシル、n−オクチ
ル、nーデシルもしくはn−ドデシル基である。炭素原
子数18までのアルキル基であるR15は更に次のもの
を追加できる:例えばトリデシル、ヘキサデシルもしく
はオクタデシル基である。
16及びAは第一アルキル基、例えばメチル、エチル、
nープロピル、nーブチル、nーヘキシル、n−オクチ
ル、nーデシルもしくはn−ドデシル基である。炭素原
子数18までのアルキル基であるR15は更に次のもの
を追加できる:例えばトリデシル、ヘキサデシルもしく
はオクタデシル基である。
アルケニル基であるRI及びR16は例えばアリル、メ
タリルもしくはプテニル基でもよい。RIがA−CO−
基を表わす場合は、該基はAの意味によるが、カルボソ
酸基、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリル、カプ
ロニル、カプリロール、ラウロイル基である。前記式ロ
での定義に従って、R2はパラーもしくはメターヒドロ
キシベンジル基である。
タリルもしくはプテニル基でもよい。RIがA−CO−
基を表わす場合は、該基はAの意味によるが、カルボソ
酸基、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリル、カプ
ロニル、カプリロール、ラウロイル基である。前記式ロ
での定義に従って、R2はパラーもしくはメターヒドロ
キシベンジル基である。
ペンジル基にある置換基次6及びR7は、炭素原子数1
なし・し9の直鏡または枝分れ鎖アルキル基であり、例
えばメチル、エチル、イソプロピル、第三ブチル、n−
へキシル、1・1・3・3−テトラメチルブチルもしく
は第三ノニル基である。R6及びR7は好ましくは炭素
原子数1なし、し4のアルキル基、特にメチルもしくは
第三ブチル基である。nの値によって、R3は一価もし
くは二価有機基である。炭素原子数1ないし20のアル
キル基であるR3は例えば上記RIで与えたアルキル基
の1つであり;そしてまた枝分れ鎖アルキル基、例えば
イソプロピル、イソベンチル、2−エチルブチル、2−
エチルヘキシルもしくはイソーノニル基、またはより高
級アルキル基、例えばn−へキサデシル、nーオクタデ
シルもしくはn−エイコシル基を表わす。置換されたま
たは中断されたアルキル基として、R3は例えば以下の
基の1つである:2−フエノキシエチル、2ーベンゾイ
ルオキシヱチル、2−p一トリルオキシプロピル、シク
ロヘキシルオキシメチル、2・3ージ(フエノキシ)プ
ロピル、2−フェニルチオェチル、2一(4一第三ブチ
ルフヱニルチオ)ーエチル、2ーアセチルエチル、2−
イソブチリルエチル、2−(ドデシルカルボニル)−エ
チル、2−シアノエチル、シアノメチル、3ーシアノプ
ロピル、メトキシカルポニルメチル、ドデシルオキシカ
ルボニルメチル、2ーエトキシカルボニルエチル、1・
2ージ(メトキシカルボニル)エチル、2・3ージ(エ
トキシカルポニル)プロピル、2一(プチルアミノカル
ボニル)エチル、2−(シクロヘキシルオキシカルボニ
ル)ーェチル、2一(第三ブチルオキシ−力ルボニル)
エチル、2−(オクタデシルオキシカルボニル)ープロ
ピル、4一(プロポキシーカルボニル)−ブチル、2ー
アセトキシエチル、1・2一ジアセトキシーヱチル、2
−(イソーオクタ/イルオキシ)ープロピル、2一(オ
クタデ力ノイルオキシ)ーエチル、2一(シクロベンチ
ルカルボニルオキシ)ーヱチル、3ーベンゾイルオキシ
ブロピル、2一(p−第三ブチル−ペンゾイルオキシ)
ーエチル、2ーサリチロイルオキシ−エチル、2−(3
・5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)ーエチル、2ーフエニルアセチルオキシエチル、2
−(3・5−ジー第三ブチルー4ーヒドロキシフェニル
プロピオニルオキシ)ープロピル、ジエチルーホスホノ
メチル、2−ジメチルホスホノーエチル、2一(ジオク
チルホスホ/)−エチル、ジフエニルホスホノメチル、
3一(ジアリルホスホノ)プロピル、メトキシメチル、
2ーブトキシエチル、2ーオクタデシルオキシエチル、
イソプロポキシメチル、3一ブチルチオープロピル、2
ードデシルチオ−エチル、2−(イソヘキシルスルフイ
ニル)−エチル、2ーオクタデシルスルホニルーエチル
、2−エチルスルホニループロピル、2一(2・2・6
・6−テトラメチルピベリジンー4−イルオキシカルボ
ニル)ーエチル、2一(1・2.2.6・6ーベンタメ
チルピベリジンー4−イルアミ/力ルボニル)ーエチル
、2一(2・2・6・6−テトラメチルピベリジンー4
一イルオキシカルボニル)一2一(メトキシカルポニル
)ーヘキシルまたは2・2ービスー(2・2・6・6−
テトラメチルピベリジン−4ーイルアミノカルボニル)
ーヘキシル。
なし・し9の直鏡または枝分れ鎖アルキル基であり、例
えばメチル、エチル、イソプロピル、第三ブチル、n−
へキシル、1・1・3・3−テトラメチルブチルもしく
は第三ノニル基である。R6及びR7は好ましくは炭素
原子数1なし、し4のアルキル基、特にメチルもしくは
第三ブチル基である。nの値によって、R3は一価もし
くは二価有機基である。炭素原子数1ないし20のアル
キル基であるR3は例えば上記RIで与えたアルキル基
の1つであり;そしてまた枝分れ鎖アルキル基、例えば
イソプロピル、イソベンチル、2−エチルブチル、2−
エチルヘキシルもしくはイソーノニル基、またはより高
級アルキル基、例えばn−へキサデシル、nーオクタデ
シルもしくはn−エイコシル基を表わす。置換されたま
たは中断されたアルキル基として、R3は例えば以下の
基の1つである:2−フエノキシエチル、2ーベンゾイ
ルオキシヱチル、2−p一トリルオキシプロピル、シク
ロヘキシルオキシメチル、2・3ージ(フエノキシ)プ
ロピル、2−フェニルチオェチル、2一(4一第三ブチ
ルフヱニルチオ)ーエチル、2ーアセチルエチル、2−
イソブチリルエチル、2−(ドデシルカルボニル)−エ
チル、2−シアノエチル、シアノメチル、3ーシアノプ
ロピル、メトキシカルポニルメチル、ドデシルオキシカ
ルボニルメチル、2ーエトキシカルボニルエチル、1・
2ージ(メトキシカルボニル)エチル、2・3ージ(エ
トキシカルポニル)プロピル、2一(プチルアミノカル
ボニル)エチル、2−(シクロヘキシルオキシカルボニ
ル)ーェチル、2一(第三ブチルオキシ−力ルボニル)
エチル、2−(オクタデシルオキシカルボニル)ープロ
ピル、4一(プロポキシーカルボニル)−ブチル、2ー
アセトキシエチル、1・2一ジアセトキシーヱチル、2
−(イソーオクタ/イルオキシ)ープロピル、2一(オ
クタデ力ノイルオキシ)ーエチル、2一(シクロベンチ
ルカルボニルオキシ)ーヱチル、3ーベンゾイルオキシ
ブロピル、2一(p−第三ブチル−ペンゾイルオキシ)
ーエチル、2ーサリチロイルオキシ−エチル、2−(3
・5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)ーエチル、2ーフエニルアセチルオキシエチル、2
−(3・5−ジー第三ブチルー4ーヒドロキシフェニル
プロピオニルオキシ)ープロピル、ジエチルーホスホノ
メチル、2−ジメチルホスホノーエチル、2一(ジオク
チルホスホ/)−エチル、ジフエニルホスホノメチル、
3一(ジアリルホスホノ)プロピル、メトキシメチル、
2ーブトキシエチル、2ーオクタデシルオキシエチル、
イソプロポキシメチル、3一ブチルチオープロピル、2
ードデシルチオ−エチル、2−(イソヘキシルスルフイ
ニル)−エチル、2ーオクタデシルスルホニルーエチル
、2−エチルスルホニループロピル、2一(2・2・6
・6−テトラメチルピベリジンー4−イルオキシカルボ
ニル)ーエチル、2一(1・2.2.6・6ーベンタメ
チルピベリジンー4−イルアミ/力ルボニル)ーエチル
、2一(2・2・6・6−テトラメチルピベリジンー4
一イルオキシカルボニル)一2一(メトキシカルポニル
)ーヘキシルまたは2・2ービスー(2・2・6・6−
テトラメチルピベリジン−4ーイルアミノカルボニル)
ーヘキシル。
アルケニル基であるR3は、例えばアリル、メタリル、
2ーブテンー1−イル、3ーヘキセン−1−ィル、ウン
デセニルまたはオレィル基である。
2ーブテンー1−イル、3ーヘキセン−1−ィル、ウン
デセニルまたはオレィル基である。
アラルキル基であるR3の例は、ベンジル、2ーフエニ
ルエチル、2ーフエニルプロピル、8ーナフチルメチル
、4ーメチルベンジル、4一第三ブチルベンジルもしく
は4ーメチルーナフチルー1ーメチル基である。
ルエチル、2ーフエニルプロピル、8ーナフチルメチル
、4ーメチルベンジル、4一第三ブチルベンジルもしく
は4ーメチルーナフチルー1ーメチル基である。
一〇一CO−R16もしくは−NH一CO一R16であ
るR3は、例えばアセトキシ、プロピオノキシ、ブチロ
キシ、オクタノイロキシ、ドデカノイロキシ、ベンゾィ
ルオキシ、3・5ージー第三ブチル−4ーヒドロキシベ
ンゾイルオキシ、アセトアミノ、ブチリルアミノもしく
はデメノィルアミノ基である。
るR3は、例えばアセトキシ、プロピオノキシ、ブチロ
キシ、オクタノイロキシ、ドデカノイロキシ、ベンゾィ
ルオキシ、3・5ージー第三ブチル−4ーヒドロキシベ
ンゾイルオキシ、アセトアミノ、ブチリルアミノもしく
はデメノィルアミノ基である。
nが2の場合、R3は直接結合を表わすか、また二価の
有機基である。
有機基である。
そのような基はアルキレン、例えばメチレン、エチレン
もしくは炭素原子数20までのポリメチレン基である。
式1で表わされる化合物は、熱酸化による老化、例えば
光で起こる老化に対して優れた保護作用をプラスチック
に与える。
もしくは炭素原子数20までのポリメチレン基である。
式1で表わされる化合物は、熱酸化による老化、例えば
光で起こる老化に対して優れた保護作用をプラスチック
に与える。
プラスチックは酸化防止剤または光安定剤またはそれら
両者の混合物を添加することによって安定化され、その
結果プラスチックの有効寿命が相当延長することは知ら
れている。最近では酸化防止及び光一安定作用を同時に
有する安定剤もまた知られるようになった。ドイツ公開
公報第2456864号には、酸化防止剤として公知で
あるヒドロキシベンジルマロネート及び光安定剤として
公知の4−ピベリジノール誘導体の相当する混合物より
優れた安定作用を有するモノ−及びジ−(ヒドロキシベ
ンジル)ーマロン酸の4ーピベリジノールェステルが記
載されている。ドイツ公開公報第2456864号に記
載の化合物において、ヒドロキシベンジル基または水素
原子をアルキル基または不活性であるとして知られる他
の基(例えばR3で定義した基の1つ)で置換された場
合、そこでは酸化防止及び光安定性効果の驚くべき増加
が得られる。式1で表わされる幾つかの化合物は、ある
種のプラスチックにおける効果において、現在知られて
いる全ての安定剤を越えるので、それ故本発明はプラス
チック技術に非常に重要である。式1で表わされる好ま
しい化合物は、式中RaないしRdがメチル基であり、
そしてRe及びRfが水素原子であるか、またはRa及
びRcはエチル基であり、Rb、Rd及びReはメチル
基であり、そしてRfが水素原子であるものである。
両者の混合物を添加することによって安定化され、その
結果プラスチックの有効寿命が相当延長することは知ら
れている。最近では酸化防止及び光一安定作用を同時に
有する安定剤もまた知られるようになった。ドイツ公開
公報第2456864号には、酸化防止剤として公知で
あるヒドロキシベンジルマロネート及び光安定剤として
公知の4−ピベリジノール誘導体の相当する混合物より
優れた安定作用を有するモノ−及びジ−(ヒドロキシベ
ンジル)ーマロン酸の4ーピベリジノールェステルが記
載されている。ドイツ公開公報第2456864号に記
載の化合物において、ヒドロキシベンジル基または水素
原子をアルキル基または不活性であるとして知られる他
の基(例えばR3で定義した基の1つ)で置換された場
合、そこでは酸化防止及び光安定性効果の驚くべき増加
が得られる。式1で表わされる幾つかの化合物は、ある
種のプラスチックにおける効果において、現在知られて
いる全ての安定剤を越えるので、それ故本発明はプラス
チック技術に非常に重要である。式1で表わされる好ま
しい化合物は、式中RaないしRdがメチル基であり、
そしてRe及びRfが水素原子であるか、またはRa及
びRcはエチル基であり、Rb、Rd及びReはメチル
基であり、そしてRfが水素原子であるものである。
そしてまた好ましくは式中Xが酸素またはNH基であり
、RIが水素原子、一〇・、炭素原子数1なし、し4の
アルキル基、アリル、プロパルギル、アセチル、アクリ
ロィルもしくはクロトノィル基を表わし、R2が次式o
a及びロb: で表わされるヒドロキシベンジル基を表わし、R6及び
R7は各々独立して炭素原子数1ないし4のアルキル基
を表わし、R8は水素原子またはメチル基を表わし、R
3は、nが1の場合炭素原子数1なし、し18のアルキ
ル基、または次式:−C(0)−OR12、一○一C(
0)R13または一P(0)(OR14)2〔基中、R
12は炭素原子数1なし、し4のアルキル基または次式
m:(式中、RaないしRfは上記ですでに表わした意
味を有し、R17はRIですでに表わした意味の1つを
有する。
、RIが水素原子、一〇・、炭素原子数1なし、し4の
アルキル基、アリル、プロパルギル、アセチル、アクリ
ロィルもしくはクロトノィル基を表わし、R2が次式o
a及びロb: で表わされるヒドロキシベンジル基を表わし、R6及び
R7は各々独立して炭素原子数1ないし4のアルキル基
を表わし、R8は水素原子またはメチル基を表わし、R
3は、nが1の場合炭素原子数1なし、し18のアルキ
ル基、または次式:−C(0)−OR12、一○一C(
0)R13または一P(0)(OR14)2〔基中、R
12は炭素原子数1なし、し4のアルキル基または次式
m:(式中、RaないしRfは上記ですでに表わした意
味を有し、R17はRIですでに表わした意味の1つを
有する。
)で表わされる基を表わし、R13はフェニル基を表わ
し、R14は炭素原子数1なし、し4のアルキル基を表
わす。
し、R14は炭素原子数1なし、し4のアルキル基を表
わす。
〕で表わされる基の1つもしくは2つで置換されている
炭素原子数1なし、し4のアルキル基、炭素原子数3な
し、し6のアルケニル基、フェニル基、炭素原子数7な
し、し15のアラルキル基を表わす。)で表わされる基
、または一〇−COR16(式中、R16は炭素原子数
1なし、し12のアルキル基、フェニル基、3・5ージ
−第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル基または2−(
3・5−ジー第三プチル−4−ヒドロキシフェニル)一
エチル基を表わす。)で表わされる基、一NHC(0)
R16(式中、R16は炭素原子数1なし、し12のア
ルキル基を表わす。)を表わすか、またはnが2の場合
、直接結合、炭素原子数1ないし12のアルキル基を表
わす式1で表わされる化合物である。
炭素原子数1なし、し4のアルキル基、炭素原子数3な
し、し6のアルケニル基、フェニル基、炭素原子数7な
し、し15のアラルキル基を表わす。)で表わされる基
、または一〇−COR16(式中、R16は炭素原子数
1なし、し12のアルキル基、フェニル基、3・5ージ
−第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル基または2−(
3・5−ジー第三プチル−4−ヒドロキシフェニル)一
エチル基を表わす。)で表わされる基、一NHC(0)
R16(式中、R16は炭素原子数1なし、し12のア
ルキル基を表わす。)を表わすか、またはnが2の場合
、直接結合、炭素原子数1ないし12のアルキル基を表
わす式1で表わされる化合物である。
特に好ましくは、前記式1中nが1もしくは2であり、
Ra、Rb、Rc及びRdがメチル基であり、そしてR
e及びRfが水素原子であり、×が酸素原子であり、そ
してR,は水素原子、一○・、炭素原子数1ないし4の
アルキル基、アリル基またはアセチル基を表わし、R2
は前記式ロaまたはロb(式中、R6が第三ブチル基を
表わし、R7はメチルもしくは第三ブチル基を表わしそ
してR8は水素原子またはメチル基を表わす。
Ra、Rb、Rc及びRdがメチル基であり、そしてR
e及びRfが水素原子であり、×が酸素原子であり、そ
してR,は水素原子、一○・、炭素原子数1ないし4の
アルキル基、アリル基またはアセチル基を表わし、R2
は前記式ロaまたはロb(式中、R6が第三ブチル基を
表わし、R7はメチルもしくは第三ブチル基を表わしそ
してR8は水素原子またはメチル基を表わす。
)で表わされるヒドロキシベンジル基であり、そしてR
3は次式:−C(0)−OR12〔式中、R12は炭素
原子数1なし、し4のアルキル基または次式ma:(式
中、RIは前記ですでに表わした意味を有する。
3は次式:−C(0)−OR12〔式中、R12は炭素
原子数1なし、し4のアルキル基または次式ma:(式
中、RIは前記ですでに表わした意味を有する。
)で表わされる基を表わす。〕で表わされる基の1つま
たは2つで置換されるか、または次式:−P(0)(O
R14)2(式中、R14は炭素原子数1なし、し4の
アルキル基を表わす。)で表わされる基で置換される炭
素原子数1なし・し18のァルキル基、またはアリル、
ベンジル、フェニル、炭素原子数1なし、し8のアルキ
レンもしくはキシリレン基を表わすような化合物である
。本発明はまた多くてもピベリジン基と等量で酸を添加
して形成される。前記式1で表わされる化合物の塩をも
含む。そのような酸は、無機酸例えば硫酸、塩酸、リン
酸、有機カルボン酸例えば蟻酸、酢酸、シュウ酸、マレ
ィン酸、安息香酸またはサリチル酸、有機スルホン酸例
えばメタン一もしくはp−トルェンスルホン酸または有
機リン含有酸例えばジフェニルリン酸、メタンスルホン
酸またはジフェニルホスフイン酸である。前記式1で表
わされる化合物は、順次変化している幾つかの別々の段
階からなる種々の方法で製造される。
たは2つで置換されるか、または次式:−P(0)(O
R14)2(式中、R14は炭素原子数1なし、し4の
アルキル基を表わす。)で表わされる基で置換される炭
素原子数1なし・し18のァルキル基、またはアリル、
ベンジル、フェニル、炭素原子数1なし、し8のアルキ
レンもしくはキシリレン基を表わすような化合物である
。本発明はまた多くてもピベリジン基と等量で酸を添加
して形成される。前記式1で表わされる化合物の塩をも
含む。そのような酸は、無機酸例えば硫酸、塩酸、リン
酸、有機カルボン酸例えば蟻酸、酢酸、シュウ酸、マレ
ィン酸、安息香酸またはサリチル酸、有機スルホン酸例
えばメタン一もしくはp−トルェンスルホン酸または有
機リン含有酸例えばジフェニルリン酸、メタンスルホン
酸またはジフェニルホスフイン酸である。前記式1で表
わされる化合物は、順次変化している幾つかの別々の段
階からなる種々の方法で製造される。
個々の段階は公知の反応、特にマロン酸誘導体の化学か
ら公知の反応から成る。合成は以下で示す反応式のよう
に、マロン酸低級アルキルェステル例えばジェチルマロ
ネートを式Vで表わされる4−ピベリジノールまたは4
−アミノピベリジンと反応させて、相当するビスーピベ
リジニルマロン酸誘導体のへ変換することから始まる:
RIはすでに前記式1中で所望された置換基であり:ま
たは窒素原子上未置換のピベリジン誘導体(式V中、R
I=H)を用い、そして置換基RIを上記反応後または
合成している間の後の方の段階で導入してもよい。
ら公知の反応から成る。合成は以下で示す反応式のよう
に、マロン酸低級アルキルェステル例えばジェチルマロ
ネートを式Vで表わされる4−ピベリジノールまたは4
−アミノピベリジンと反応させて、相当するビスーピベ
リジニルマロン酸誘導体のへ変換することから始まる:
RIはすでに前記式1中で所望された置換基であり:ま
たは窒素原子上未置換のピベリジン誘導体(式V中、R
I=H)を用い、そして置換基RIを上記反応後または
合成している間の後の方の段階で導入してもよい。
RIの導入は、Nーアルキル化またはN−アシル化の一
般的方法、例えばアルキルハラィド、アルケニルハラィ
ドまたはカルボン酸クロラィドを、好ましくは塩基1モ
ル量の存在下で反応させる方法で行われ得る。
般的方法、例えばアルキルハラィド、アルケニルハラィ
ドまたはカルボン酸クロラィドを、好ましくは塩基1モ
ル量の存在下で反応させる方法で行われ得る。
ビドロキシアルキル基をェポキシド、例えばエチレンオ
キシドまたはプロピレンオキシドと反応させて導入;そ
して該基をカルボン酸クロライドまたは無水力ルボン酸
と反応させて相当するNーアシロキシアルキル基へ変換
する。RIが−○・である時、そのようなNーオキシル
化合物はパーオキシ酸または過酸化水素で酸化すること
によりNH化合物から製造される。そのようなN−オキ
シル化合物の還元、例えば接触水素添加を用いると、R
IがOHを表わす化合物を製造することができる。次の
段階としては、式ので表わされる化合物へ最初に置換基
R2そして続いて置換基R3、もしくは好ましくは最初
に置換基R3それからR2を導入する。
キシドまたはプロピレンオキシドと反応させて導入;そ
して該基をカルボン酸クロライドまたは無水力ルボン酸
と反応させて相当するNーアシロキシアルキル基へ変換
する。RIが−○・である時、そのようなNーオキシル
化合物はパーオキシ酸または過酸化水素で酸化すること
によりNH化合物から製造される。そのようなN−オキ
シル化合物の還元、例えば接触水素添加を用いると、R
IがOHを表わす化合物を製造することができる。次の
段階としては、式ので表わされる化合物へ最初に置換基
R2そして続いて置換基R3、もしくは好ましくは最初
に置換基R3それからR2を導入する。
ヒドロキシベンジル基R2の導入は、次式:R2一S−
CS−N(R21)2(式中、R21は炭素原子数1な
いし5のアルキル基を表わし、または窒素原子と共に両
方のR21基はモルホリン、ピロリジンまたはピベリジ
ン環を表わす。
CS−N(R21)2(式中、R21は炭素原子数1な
いし5のアルキル基を表わし、または窒素原子と共に両
方のR21基はモルホリン、ピロリジンまたはピベリジ
ン環を表わす。
)で表わされるヒドロキシベンジルジチオカルバメート
と反応させて行う。そのようなジチオカルバメートはフ
ェノールをホルムアルデヒド、二硫化炭素及び第二級ア
ミンと反応させることで得られる。式ので表わされる化
合物とジチオカルバメートとの反応は1:1のモル比で
塩基性試薬、例えばアルカリ水酸化物、アルカリアルコ
ラート、アルカリ水素化物またはアルカリ士類水素化物
、またはアルカリアミドの存在下で行われる。
と反応させて行う。そのようなジチオカルバメートはフ
ェノールをホルムアルデヒド、二硫化炭素及び第二級ア
ミンと反応させることで得られる。式ので表わされる化
合物とジチオカルバメートとの反応は1:1のモル比で
塩基性試薬、例えばアルカリ水酸化物、アルカリアルコ
ラート、アルカリ水素化物またはアルカリ士類水素化物
、またはアルカリアミドの存在下で行われる。
これらの塩基は好ましくはモル量で用いられる、即ちジ
チオカルバメート1モルにつき塩基1当量を加える。反
応は溶液中、例えばアルコール、エーテルまたは炭化水
素中で行なわれ得る。また極性中性溶媒、例えばジメチ
ルホルムアミドまたはジメチルスルホキシドも適してい
る。反応は好ましくは塩基としてアルカリ水酸化物を使
用してアルコール性溶液中で行う。式ので表わされる化
合物へヒドロキシベンジル基R2を導入する他の適当な
方法は、該化合物はヒドロキシベンジルアミンR2一N
(R21)2と反応*させることからなる。
チオカルバメート1モルにつき塩基1当量を加える。反
応は溶液中、例えばアルコール、エーテルまたは炭化水
素中で行なわれ得る。また極性中性溶媒、例えばジメチ
ルホルムアミドまたはジメチルスルホキシドも適してい
る。反応は好ましくは塩基としてアルカリ水酸化物を使
用してアルコール性溶液中で行う。式ので表わされる化
合物へヒドロキシベンジル基R2を導入する他の適当な
方法は、該化合物はヒドロキシベンジルアミンR2一N
(R21)2と反応*させることからなる。
そのようなアミンはフェノールをいわゆるマンニッヒ反
応でホルムアルデヒド及び第二級アミンと反応させるこ
とによって得られうる。式ので表わされる化合物とそれ
らの反応は塩基性触媒、好ましくはアルカリアミドまた
はアルカリアルコラートで同様に促進される。アルカリ
金属もまた触媒として適当である。該方法はしかしなが
ら触媒量、すなわち塩基性触媒の約0.1なし、し5モ
ル%で十分であることがジチオカルバメート法と異なる
。第三級アミン(マンニッヒ塩基)の代りに、それの第
四級生成物をも用いられうる。
応でホルムアルデヒド及び第二級アミンと反応させるこ
とによって得られうる。式ので表わされる化合物とそれ
らの反応は塩基性触媒、好ましくはアルカリアミドまた
はアルカリアルコラートで同様に促進される。アルカリ
金属もまた触媒として適当である。該方法はしかしなが
ら触媒量、すなわち塩基性触媒の約0.1なし、し5モ
ル%で十分であることがジチオカルバメート法と異なる
。第三級アミン(マンニッヒ塩基)の代りに、それの第
四級生成物をも用いられうる。
使用される溶媒は上述の種類のものである:しかしなが
ら該反応は溶媒なしでも行なわれ得る。Xが酸素原子で
ある場合、置換基R2は最初にアルカリ金属、アルカリ
アルコラート、アルカリアミドもしくはアルカリ水素化
物、または同様な塩基性アルカリ化合物の1当量と反応
させてェステルのをアルカリ化合物のへ変換し、続いて
ヒドロキシベンジルハロゲン化物R2Hal(比1=C
I、Brもしくは1)1モルと常法により反応させるマ
ロン酸ェステル合成の方法で導入される。
ら該反応は溶媒なしでも行なわれ得る。Xが酸素原子で
ある場合、置換基R2は最初にアルカリ金属、アルカリ
アルコラート、アルカリアミドもしくはアルカリ水素化
物、または同様な塩基性アルカリ化合物の1当量と反応
させてェステルのをアルカリ化合物のへ変換し、続いて
ヒドロキシベンジルハロゲン化物R2Hal(比1=C
I、Brもしくは1)1モルと常法により反応させるマ
ロン酸ェステル合成の方法で導入される。
ヒドロキシベンジル化の上記2つの方法が好ましいとは
いえ、最後に述べた方法がハロゲン化合物R2比1を容
易に入手できる場合には価値あるものである。3つの記
載した方法の各々で式肌で表わされるヒドロキシベンジ
ルマロン酸誘導体を製造し、該誘導体へ置換基R3が続
いて導入される:置換基R3の導入は、最初に肌をその
アルカリ化合物へ変換し、そして該化合物をハロゲン化
合物R3比1もしくはR3Ha12と反応させることに
よるマロン酸ェステルのC−アルキル化の従来法で行う
。
いえ、最後に述べた方法がハロゲン化合物R2比1を容
易に入手できる場合には価値あるものである。3つの記
載した方法の各々で式肌で表わされるヒドロキシベンジ
ルマロン酸誘導体を製造し、該誘導体へ置換基R3が続
いて導入される:置換基R3の導入は、最初に肌をその
アルカリ化合物へ変換し、そして該化合物をハロゲン化
合物R3比1もしくはR3Ha12と反応させることに
よるマロン酸ェステルのC−アルキル化の従来法で行う
。
この場合のHalは再びCI、Brもしくは1を意味す
る。合成の結果得られる前記式1で表わされる化合物に
おけるnが1であるかまたは2であるかによって、式肌
で表わされるアルカリ化合物1モルにつきモノハライド
R3Hallモルまたはジハロゲン化合物R3Ha12
1/2モルを使用する。これらの例は、アルキル、シク
ロアルキル「アラルキル、アルケニルもしくはアルキニ
ルのハロゲン化物、及びアルキレン、アルケニレン、ア
ルキニレンもしくはキシリレンのジハロゲン化物である
。更に別な例は、ハロゲノカルボン酸ェステル例えば一
価もしくは二価のヒドロキシ化合物のクロロ酢酸ェステ
ル、またはハロゲノヒドリンのカルボン酸ェステル例え
ば2ークロロェタノールまたは′3−ブロモプロパノー
ルのェステルである。更にハロゲンホスホン酸ェステル
例えばジメチルークロロメチルホスホネートまたはジエ
チル−2ーフロモェチルホスホネートもまたこの目的に
適する。有機ハロゲン化合物の代わりにヨウ素を用いる
と、式中nが2でありR3が直接結合である式1で表わ
される化合物が得られる。ハロゲン化合物でC−置換す
る従来法に加えて、置換塞ぎ3の導入のためにいわゆる
ミカェル付加の方法を使用することは可能であり、該方
法によって活性化二重結合を有する化合物を塩基性触媒
の影響下、化合物肌の中央の炭素原子に加えることがで
きる。
る。合成の結果得られる前記式1で表わされる化合物に
おけるnが1であるかまたは2であるかによって、式肌
で表わされるアルカリ化合物1モルにつきモノハライド
R3Hallモルまたはジハロゲン化合物R3Ha12
1/2モルを使用する。これらの例は、アルキル、シク
ロアルキル「アラルキル、アルケニルもしくはアルキニ
ルのハロゲン化物、及びアルキレン、アルケニレン、ア
ルキニレンもしくはキシリレンのジハロゲン化物である
。更に別な例は、ハロゲノカルボン酸ェステル例えば一
価もしくは二価のヒドロキシ化合物のクロロ酢酸ェステ
ル、またはハロゲノヒドリンのカルボン酸ェステル例え
ば2ークロロェタノールまたは′3−ブロモプロパノー
ルのェステルである。更にハロゲンホスホン酸ェステル
例えばジメチルークロロメチルホスホネートまたはジエ
チル−2ーフロモェチルホスホネートもまたこの目的に
適する。有機ハロゲン化合物の代わりにヨウ素を用いる
と、式中nが2でありR3が直接結合である式1で表わ
される化合物が得られる。ハロゲン化合物でC−置換す
る従来法に加えて、置換塞ぎ3の導入のためにいわゆる
ミカェル付加の方法を使用することは可能であり、該方
法によって活性化二重結合を有する化合物を塩基性触媒
の影響下、化合物肌の中央の炭素原子に加えることがで
きる。
そのような公知の反応の中で最も良い方法はアクリロニ
トリルでシアノアルキル化する反応である。しかしなが
らアクリル酸ェステル及びメタクリル酸ェステル、マレ
ィン酸ェステル、イタコン酸ェステル、ビニルケトン、
ビニルスルホン、カルボン酸のビニルヱステルまたはビ
ニルホスホン酸のェステルもまた適当である。この目的
で使用される触媒は約0.5なし、し5モル%の量で使
用される。適用可能な触媒の例はアルカリアルコラート
、アルカリアミド、アルカリ水素化物もしくはアルカリ
水酸化物、または第四級アンモニウム塩基、例えばペン
ジルトリメチルアンモニウムヒドロキシドである。反応
は従来のマロン酸置換及びミカェル付加反応の両方の場
合とも溶液中で行われるのが好ましい。炭化水素または
エーテルのような中性溶媒、例えばベンゼン、トルエン
、ジオキサンまたはテトラヒドロフラン、または極性溶
媒例えばジメチルホルムアミドが使用可能である。式中
、R3が式Wの基である式1で表わされる化合物は、2
つの異なったマロン酸誘導体をホルムアルデヒドとほぼ
1:1:1のモル比で縮合させ、続いてヒドロキシベン
ジル基1つまたは2つを導入することにより製造される
。
トリルでシアノアルキル化する反応である。しかしなが
らアクリル酸ェステル及びメタクリル酸ェステル、マレ
ィン酸ェステル、イタコン酸ェステル、ビニルケトン、
ビニルスルホン、カルボン酸のビニルヱステルまたはビ
ニルホスホン酸のェステルもまた適当である。この目的
で使用される触媒は約0.5なし、し5モル%の量で使
用される。適用可能な触媒の例はアルカリアルコラート
、アルカリアミド、アルカリ水素化物もしくはアルカリ
水酸化物、または第四級アンモニウム塩基、例えばペン
ジルトリメチルアンモニウムヒドロキシドである。反応
は従来のマロン酸置換及びミカェル付加反応の両方の場
合とも溶液中で行われるのが好ましい。炭化水素または
エーテルのような中性溶媒、例えばベンゼン、トルエン
、ジオキサンまたはテトラヒドロフラン、または極性溶
媒例えばジメチルホルムアミドが使用可能である。式中
、R3が式Wの基である式1で表わされる化合物は、2
つの異なったマロン酸誘導体をホルムアルデヒドとほぼ
1:1:1のモル比で縮合させ、続いてヒドロキシベン
ジル基1つまたは2つを導入することにより製造される
。
式中、R3が式mの基である式1で表わされる化合物は
、式ののマロン酸誘導体を4ーオキソピベリジンと縮合
させ、続いて生成したピベリジーJデン化合物を水素化
することによって得られる。
、式ののマロン酸誘導体を4ーオキソピベリジンと縮合
させ、続いて生成したピベリジーJデン化合物を水素化
することによって得られる。
置換基R3としてホスホノメチル基を導入する特別な方
法は、マロン酸誘導体肌をホルムアルデビド及び式Pの
R14)3で表わされるホスファィトと反応させること
からなる。更に、特定の置換基R3を最初に上記方法の
1つで導入し、それから次の段階で別な置換基R3へ変
換することもできる。
法は、マロン酸誘導体肌をホルムアルデビド及び式Pの
R14)3で表わされるホスファィトと反応させること
からなる。更に、特定の置換基R3を最初に上記方法の
1つで導入し、それから次の段階で別な置換基R3へ変
換することもできる。
例えばエチルァクリレートの付加により置換基R3=C
QC日2COOC2日5を導入し、それから該基を第2
段階でエチレングリコールを用いてェステル交換 に
よ り 二 価 基 R3 −CQC日2COOCH2
CH200CCH2C弘一とする。
QC日2COOC2日5を導入し、それから該基を第2
段階でエチレングリコールを用いてェステル交換 に
よ り 二 価 基 R3 −CQC日2COOCH2
CH200CCH2C弘一とする。
同様な方法で、中間体ハロゲノアルキル基をフェ/キシ
アルキルもしくはホスホノアルキル基を交換することが
できる。アルキルチオアルキル基を酸化により変換して
相当するスルホキシドまたはスルホンとしてもよい。置
換基R3のこの種の酸化はRIの酸素の導入と同時に例
えばパーカルボン酸で酸化することによって行われる。
RIの導入はまたRI及びR3が同種で、例えばアルキ
ル、アルケニル、プロパルギルまたはペンジル基である
場合、R3の導入とともに行われる。個々の反応段階、
すなわちピベリジニル基の導入、置換基次2の導入、置
換基R3の導入、そして場合によってはRIの導入が生
じることに対するこれらの種々の可能性のゆえに、選択
される。
アルキルもしくはホスホノアルキル基を交換することが
できる。アルキルチオアルキル基を酸化により変換して
相当するスルホキシドまたはスルホンとしてもよい。置
換基R3のこの種の酸化はRIの酸素の導入と同時に例
えばパーカルボン酸で酸化することによって行われる。
RIの導入はまたRI及びR3が同種で、例えばアルキ
ル、アルケニル、プロパルギルまたはペンジル基である
場合、R3の導入とともに行われる。個々の反応段階、
すなわちピベリジニル基の導入、置換基次2の導入、置
換基R3の導入、そして場合によってはRIの導入が生
じることに対するこれらの種々の可能性のゆえに、選択
される。
一連の個々の段階は問題となる状況に最も有利であるよ
うにする。後で述べる実施例では、R2の導入は原則的
に最終段階として記致されている。しかしながら他の段
階が本質的に最終段階として選択されることもできる。
前記式ので表わされる化合物において、置換基R3を上
述した方法に従って最初に導入する場合には、次式価:
で表わされる中間体が得られ、該物質は同様に新規化合
物である。
うにする。後で述べる実施例では、R2の導入は原則的
に最終段階として記致されている。しかしながら他の段
階が本質的に最終段階として選択されることもできる。
前記式ので表わされる化合物において、置換基R3を上
述した方法に従って最初に導入する場合には、次式価:
で表わされる中間体が得られ、該物質は同様に新規化合
物である。
式1で表わされる化合物は、本発明に従い酸素、熱及び
光によって生じる損害からプラスチックを保護するため
にプラスチックの安定剤として使用可能である。
光によって生じる損害からプラスチックを保護するため
にプラスチックの安定剤として使用可能である。
そのようなプラスチックの例としてはドイツ公開公報第
24568鼠号第12一14頁中で記載されているポリ
マーがある。特に重要なものはポリオレフィン、スチレ
ンポリマー及びポリウレタンの安定化であり、式1で表
わされるマロネートは特に優れて適当である。
24568鼠号第12一14頁中で記載されているポリ
マーがある。特に重要なものはポリオレフィン、スチレ
ンポリマー及びポリウレタンの安定化であり、式1で表
わされるマロネートは特に優れて適当である。
そのようなプラスチックの例は次のようなものである:
高及び低密度のポリエチレン、ポリプロピレン、エチレ
ンノプロピレンコポリマ一、ポリスチレン、スチレン/
ブタジエン/アクリロニトリルコポリマー、ポリオレフ
インまたはスチレンポリマーの濠合物、ポリェーテルま
たはポリエステルに基礎を置くポリウレタンで、ラッカ
ー、ェラストマーもしくは発泡プラスチックの形状のも
のである。安定剤は、安定されるべき材料から見積って
0.01なし・し5重量%の濃度でプラスチックへ添加
される。
高及び低密度のポリエチレン、ポリプロピレン、エチレ
ンノプロピレンコポリマ一、ポリスチレン、スチレン/
ブタジエン/アクリロニトリルコポリマー、ポリオレフ
インまたはスチレンポリマーの濠合物、ポリェーテルま
たはポリエステルに基礎を置くポリウレタンで、ラッカ
ー、ェラストマーもしくは発泡プラスチックの形状のも
のである。安定剤は、安定されるべき材料から見積って
0.01なし・し5重量%の濃度でプラスチックへ添加
される。
安定されるべき材料に関して好ましくは0.03なL・
し1.5重量%、特に好ましくは0.2なし、し0.亀
重量%の化合物を混入する。混入を重合の後、例えば化
合物を場合によっては他の添加剤とともに混合して溶融
するか、または成形前もしくは成形中に工業的によく用
いられる方法で行うか:またはポリマーへ溶解もしくは
分散した化合物を適用し、場合によっては続いて溶媒を
蟹去して除去する方法で行う。
し1.5重量%、特に好ましくは0.2なし、し0.亀
重量%の化合物を混入する。混入を重合の後、例えば化
合物を場合によっては他の添加剤とともに混合して溶融
するか、または成形前もしくは成形中に工業的によく用
いられる方法で行うか:またはポリマーへ溶解もしくは
分散した化合物を適用し、場合によっては続いて溶媒を
蟹去して除去する方法で行う。
新規化合物はまたマスターバッチの形状で添加されるこ
とも可能で、該マスターバッチは安定化されるべきプラ
スチックに対し2.5なし・し25重量%の濃度でこれ
らの化合物を含有している。
とも可能で、該マスターバッチは安定化されるべきプラ
スチックに対し2.5なし・し25重量%の濃度でこれ
らの化合物を含有している。
架橋ポリエチレンの場合には、化合物を架橋前に添加す
る。式1で表わされる化合物に加えて、公知である安定
剤またま補助安定剤をプラスチックへ添加してもよい。
る。式1で表わされる化合物に加えて、公知である安定
剤またま補助安定剤をプラスチックへ添加してもよい。
これらのものは、例えば酸化防止剤、光安定剤または金
属−不活性剤:または亜リン酸ェステル型の補助安定剤
である。プラスチック技術では通常の他の添加剤、例え
ば難燃剤、帯電防止剤可塑剤、糟剤、発泡剤、顔料、強
化物質または充填剤を添加することもできる。それゆえ
本発明はまた式1で表わされる化合物0.01なし、し
5重量%を添加して安定化され、所望であれば公知の慣
例的添加剤をも含むプラスチックに関する。
属−不活性剤:または亜リン酸ェステル型の補助安定剤
である。プラスチック技術では通常の他の添加剤、例え
ば難燃剤、帯電防止剤可塑剤、糟剤、発泡剤、顔料、強
化物質または充填剤を添加することもできる。それゆえ
本発明はまた式1で表わされる化合物0.01なし、し
5重量%を添加して安定化され、所望であれば公知の慣
例的添加剤をも含むプラスチックに関する。
この方法で安定化されたプラスチックは様々に変化した
形状、例えばシート、繊維、テープまたは断面材として
、またはラッカー、接着剤もしくはセメントの結合剤と
して使用される。本発明化合物の製造及び使用を以下の
実施例で更に詳しく説明する。
形状、例えばシート、繊維、テープまたは断面材として
、またはラッカー、接着剤もしくはセメントの結合剤と
して使用される。本発明化合物の製造及び使用を以下の
実施例で更に詳しく説明する。
“部”は重量部を表わし、そして%は重量パーセントを
表わす。温度の値は摂氏度である。実施例 1−31 ブチルマロン酸−ビス−(1・2・2・6・6−ペンタ
メチル−4−ピベリジニル)ーエステル23.3夕(0
.05モル)及びN−(3・5−ジー第三ブチル−4ー
ヒドロキシベンジル)ジメチルアミン13.2夕(0.
05モル)を、トルヱン200の【中に溶解する。
表わす。温度の値は摂氏度である。実施例 1−31 ブチルマロン酸−ビス−(1・2・2・6・6−ペンタ
メチル−4−ピベリジニル)ーエステル23.3夕(0
.05モル)及びN−(3・5−ジー第三ブチル−4ー
ヒドロキシベンジル)ジメチルアミン13.2夕(0.
05モル)を、トルヱン200の【中に溶解する。
リチウムアミド0.25夕を添加した後、混合物を4時
間還流する。冷後1%酢酸1.5泌で中和し、有機相を
繰り返し水を洗う。Na2S04で乾燥後減圧下で溶液
を濃縮する。その結果、ブチルー(3・5ージー第三ブ
チルー4−ヒドロキシベンジル)−マロン酸−ビス−(
1・2・2・6・6ーベンタメチルー4ーピベリジニル
)ーヱステルが得られる:融点=140午0。同様にし
て第1表に示す化合物が得られる:第 1 表実施例
32一35プチルマロン酸−ビス(2・3・6ートリメ
チルー2・6ージエチルー4ーピベリジニル)エステル
26.2夕(0.05モル)及びN一(3・5−ジー第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ジメチルアミン1
3.2夕(0.05モル)をトルヱン200肌中に溶解
する。
間還流する。冷後1%酢酸1.5泌で中和し、有機相を
繰り返し水を洗う。Na2S04で乾燥後減圧下で溶液
を濃縮する。その結果、ブチルー(3・5ージー第三ブ
チルー4−ヒドロキシベンジル)−マロン酸−ビス−(
1・2・2・6・6ーベンタメチルー4ーピベリジニル
)ーヱステルが得られる:融点=140午0。同様にし
て第1表に示す化合物が得られる:第 1 表実施例
32一35プチルマロン酸−ビス(2・3・6ートリメ
チルー2・6ージエチルー4ーピベリジニル)エステル
26.2夕(0.05モル)及びN一(3・5−ジー第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ジメチルアミン1
3.2夕(0.05モル)をトルヱン200肌中に溶解
する。
リチウムアミド0.25夕を添加後、該混合物を4時間
還流する。冷後1%酢酸1.5の‘で中和し、そして有
機相を水で繰り返し洗う。Na2S04で乾燥後、溶液
を減圧下で濃縮する。
還流する。冷後1%酢酸1.5の‘で中和し、そして有
機相を水で繰り返し洗う。Na2S04で乾燥後、溶液
を減圧下で濃縮する。
残澄として粘鋼の油状物の形でプチル−(3・5−ジー
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ーマロン酸−ビ
ス(2・3・6ートリメチル−2・6ージェチルー4ー
ピベリジニル)ェステル(化合物No.32)が得られ
る。C46日8oN205の分析:C 日
N孫) 理論値 74.54 10.88 3.7
8実測値 74.7 10.6 3.
82第la表に記載されている化合物が同様の方法で得
られる。
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ーマロン酸−ビ
ス(2・3・6ートリメチル−2・6ージェチルー4ー
ピベリジニル)ェステル(化合物No.32)が得られ
る。C46日8oN205の分析:C 日
N孫) 理論値 74.54 10.88 3.7
8実測値 74.7 10.6 3.
82第la表に記載されている化合物が同様の方法で得
られる。
第 la 表
実施例 36一42
エチルマロン酸−ビス(1・2・2・6・6ーベンタメ
チル−4ーピベリジニル)エステル13.2夕(0.0
3モル)及びNージェチルS−(3・5ージ−第三ブチ
ル−4ーヒドロキシベンジル)ジチオカルバミネート9
.75夕(0.03モル)をイソプロパノール100の
【中に溶解する。
チル−4ーピベリジニル)エステル13.2夕(0.0
3モル)及びNージェチルS−(3・5ージ−第三ブチ
ル−4ーヒドロキシベンジル)ジチオカルバミネート9
.75夕(0.03モル)をイソプロパノール100の
【中に溶解する。
燈拝しながら600にて15分間にわたり、水12の‘
に溶解しているNaOHI.2夕(0.03モル)を滴
下する。続いて該混合物を2時間還流し、500まで冷
却し、1%酢酸36の‘を混入しそして全体を00まで
冷却するとここで生成物が晶出し、続いて該生成物をリ
グロィンから再結晶すると、エチル−(3・5ージ−第
ニブチル−4ーヒドロキシベンジル)ーマロン酸ービス
(1.2.2・6・6ーベンタメチルー4ーピベリジニ
ル)ェステル12.7夕が得られる:融点=16が同機
に、相当するジチオカルバメートを用いると第ロa表及
び第ロb表に示した化合物が得られる。
に溶解しているNaOHI.2夕(0.03モル)を滴
下する。続いて該混合物を2時間還流し、500まで冷
却し、1%酢酸36の‘を混入しそして全体を00まで
冷却するとここで生成物が晶出し、続いて該生成物をリ
グロィンから再結晶すると、エチル−(3・5ージ−第
ニブチル−4ーヒドロキシベンジル)ーマロン酸ービス
(1.2.2・6・6ーベンタメチルー4ーピベリジニ
ル)ェステル12.7夕が得られる:融点=16が同機
に、相当するジチオカルバメートを用いると第ロa表及
び第ロb表に示した化合物が得られる。
第 0a 表
第 Db 表
実施例 43一46
ジメチルホルムアミド(DMF)80の上中に溶解して
いるエチルマロン酸ービス(2・2・6・6ーテトラメ
チルー4ーピベリジニル)エステル24.6夕(0.0
6モル)へ、NaH−分散剤(55一60%)2.5夕
を加え、続いてDMF40地中にとかした2・6−ジメ
チルー4一第三ブチルー3−ヒドロキシベンジルクロラ
イド13.6夕(0.06モル)を加える。
いるエチルマロン酸ービス(2・2・6・6ーテトラメ
チルー4ーピベリジニル)エステル24.6夕(0.0
6モル)へ、NaH−分散剤(55一60%)2.5夕
を加え、続いてDMF40地中にとかした2・6−ジメ
チルー4一第三ブチルー3−ヒドロキシベンジルクロラ
イド13.6夕(0.06モル)を加える。
反応混合物を2加持間90一100午0で縄辞し、続い
て氷水上へ該反応混合物を注入し、水溶液をエーテルで
抽出し、エーテル溶液をNa2S04で乾燥し、そして
減圧下で溶媒を除去後、油状の黄色がかった残溝である
、エチル一(2・6ージメチルー4一第三ブチルー3ー
ヒドロキシベンジル)マロン酸−ビス(2・2・6・6
−テトラメチル−4−ピベリジニル)ェステル(化合物
No.43)が得られる。同機に次のものが製造される
: No.44:エチル−(2・6−ジメチル−4−第三ブ
チルー3ーヒドロキシベンジル)ーマロン酸ービス(1
・2・2・6・6ーベンタメチルー4−ピベリジニル)
ェステル、融点=175qONo.45:プチルー(2
・6−ジメチル−4−第三ブチルー3−ヒドロキシベン
ジル)ーマロン酸ービス(1・2・2・6・6−ペンタ
メチルー4ーピベリジニル)ェステル、黄色油状物No
.46:ブチルー(2・6ージメチルー4一第三ブチル
−3ーヒドロキシベンジル)マロン酸一ビス(2・2・
6・6ーテトラメチルー4−ピベリジニル)ェステル、
油状物実施例 47 エチルマロン酸ービス(1・2・2・6・6ーベンタメ
チルー4ーピベリジニル)エステル21.9夕(0.0
5モル)、マロン酸ービス(1・2・2・6・6ーベン
タメチル−4ーピベリジニル)エステル20.5夕(0
.05モル)、パラホルムアルデヒド1.5夕(0.0
5モル)及びNaHO.5夕をトルェン120地中に半
時間室温にて縄拝し、続いて還流温度で7時間蝿拝する
。
て氷水上へ該反応混合物を注入し、水溶液をエーテルで
抽出し、エーテル溶液をNa2S04で乾燥し、そして
減圧下で溶媒を除去後、油状の黄色がかった残溝である
、エチル一(2・6ージメチルー4一第三ブチルー3ー
ヒドロキシベンジル)マロン酸−ビス(2・2・6・6
−テトラメチル−4−ピベリジニル)ェステル(化合物
No.43)が得られる。同機に次のものが製造される
: No.44:エチル−(2・6−ジメチル−4−第三ブ
チルー3ーヒドロキシベンジル)ーマロン酸ービス(1
・2・2・6・6ーベンタメチルー4−ピベリジニル)
ェステル、融点=175qONo.45:プチルー(2
・6−ジメチル−4−第三ブチルー3−ヒドロキシベン
ジル)ーマロン酸ービス(1・2・2・6・6−ペンタ
メチルー4ーピベリジニル)ェステル、黄色油状物No
.46:ブチルー(2・6ージメチルー4一第三ブチル
−3ーヒドロキシベンジル)マロン酸一ビス(2・2・
6・6ーテトラメチルー4−ピベリジニル)ェステル、
油状物実施例 47 エチルマロン酸ービス(1・2・2・6・6ーベンタメ
チルー4ーピベリジニル)エステル21.9夕(0.0
5モル)、マロン酸ービス(1・2・2・6・6ーベン
タメチル−4ーピベリジニル)エステル20.5夕(0
.05モル)、パラホルムアルデヒド1.5夕(0.0
5モル)及びNaHO.5夕をトルェン120地中に半
時間室温にて縄拝し、続いて還流温度で7時間蝿拝する
。
冷後、N−(3・5−ジー第三ブチル−4ーヒドロキシ
ベンジル)ージメチルアミン13.2夕(0.05モル
)を混入し、該混合物を4時間還流下で加熱する。実施
例1と同様な操作を行うと、油状残糟として1−(3・
5−ジー第三ブチルー4ーヒドロキシフエニル)−2・
2・4・4−テトラ(1・2・2・6・6−ペンタメチ
ル−4−ピベリジニルオキシカルボニル)ーヘキサンが
得られる。分析: ○ H N燐 理 論 値 71.2 10.3 52実 測
値 70.3 10.5 53実施例 48
及び49ブチル−(3・5−ジー第三プチル−4−ヒド
ロキシベンジル)ーマロン酸ービス(2・3・6ートリ
メチルー2・6−ジヱチルー4ーピベリジニル)ェステ
ル(化合物No.32)39夕をキシレン200地中に
溶解する。
ベンジル)ージメチルアミン13.2夕(0.05モル
)を混入し、該混合物を4時間還流下で加熱する。実施
例1と同様な操作を行うと、油状残糟として1−(3・
5−ジー第三ブチルー4ーヒドロキシフエニル)−2・
2・4・4−テトラ(1・2・2・6・6−ペンタメチ
ル−4−ピベリジニルオキシカルボニル)ーヘキサンが
得られる。分析: ○ H N燐 理 論 値 71.2 10.3 52実 測
値 70.3 10.5 53実施例 48
及び49ブチル−(3・5−ジー第三プチル−4−ヒド
ロキシベンジル)ーマロン酸ービス(2・3・6ートリ
メチルー2・6−ジヱチルー4ーピベリジニル)ェステ
ル(化合物No.32)39夕をキシレン200地中に
溶解する。
無水炭酸カリウム20夕及び無水酢酸10夕を室温にて
加え、そしてC02が激しく発生するまで該懸濁液をゆ
っくり加熱する。C02の発生が弱まると直ちに温度を
更に130一135o に上昇させ、還流下で1風時間
蝿洋を続ける。冷後、カリウム塩を炉取し、キシレン溶
液を減圧下で濃縮すると、褐色がかった粘性油状物が残
り、該油状物は粗ブチル−(3・5ージ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)ーマロン酸−ビス(1ーアセ
チルー2・3・6ートリメチルー2・6ージエチルー4
ーピベリジニル)エステルである。分析: ○ H N燐 理 論 値 72.77 10.26 3.39実
測 値 72.8 10.1 3.50同様な方
法で、ブチルー(3・5−ジー第三ブチルー4ーヒドロ
キシベンジル)マロン酸ービス(2・2・6・6−テト
ラメチル−4ーピベリジニル)ェステル32夕を無水酢
酸10夕及びK2C03。
加え、そしてC02が激しく発生するまで該懸濁液をゆ
っくり加熱する。C02の発生が弱まると直ちに温度を
更に130一135o に上昇させ、還流下で1風時間
蝿洋を続ける。冷後、カリウム塩を炉取し、キシレン溶
液を減圧下で濃縮すると、褐色がかった粘性油状物が残
り、該油状物は粗ブチル−(3・5ージ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)ーマロン酸−ビス(1ーアセ
チルー2・3・6ートリメチルー2・6ージエチルー4
ーピベリジニル)エステルである。分析: ○ H N燐 理 論 値 72.77 10.26 3.39実
測 値 72.8 10.1 3.50同様な方
法で、ブチルー(3・5−ジー第三ブチルー4ーヒドロ
キシベンジル)マロン酸ービス(2・2・6・6−テト
ラメチル−4ーピベリジニル)ェステル32夕を無水酢
酸10夕及びK2C03。
20夕と反応させる。
ブチルー(3・5ージー第三ブチルー4ーヒドロキシベ
ンジル)−マ・ロン酸−ビス(1−アセチル−2・2・
6・6ーテトラメチルー4ーピベリジニル)ェステルが
得られる:融点=12000−12400実施例 50 ブチルマロン酸−N・N′−ジー(2・2・6・6ーテ
トラメチルー4ーピベリジニル)ージアミド43夕(0
.1モル)及びN−(3・5ージ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−ジメチルアミン26.4夕(0.
1モル)を、トルエン450の【中で、LiNH20.
5夕を添加して4時間還流する。
ンジル)−マ・ロン酸−ビス(1−アセチル−2・2・
6・6ーテトラメチルー4ーピベリジニル)ェステルが
得られる:融点=12000−12400実施例 50 ブチルマロン酸−N・N′−ジー(2・2・6・6ーテ
トラメチルー4ーピベリジニル)ージアミド43夕(0
.1モル)及びN−(3・5ージ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−ジメチルアミン26.4夕(0.
1モル)を、トルエン450の【中で、LiNH20.
5夕を添加して4時間還流する。
冷後該反応混合物を氷酢酸0.4夕で中和し、炉過しそ
して濃縮する。残溶として粗プチルー(3・5−ジー第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロン酸−N・
N′ージ(2・2・6・6ーテトラメチル−4ーピベリ
ジニル)ージアミドが得られ、該化合物は、エタノール
より再結晶すると244こ○で溶解する。実施例 51 ポリプロピレン(メルトインデツクス3.2夕/1皿i
nへ2300/2160の100部を、振濠機中で次の
表に記載の安定剤の1つ0.2郡とともに10分間十分
に混合する。
して濃縮する。残溶として粗プチルー(3・5−ジー第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロン酸−N・
N′ージ(2・2・6・6ーテトラメチル−4ーピベリ
ジニル)ージアミドが得られ、該化合物は、エタノール
より再結晶すると244こ○で溶解する。実施例 51 ポリプロピレン(メルトインデツクス3.2夕/1皿i
nへ2300/2160の100部を、振濠機中で次の
表に記載の安定剤の1つ0.2郡とともに10分間十分
に混合する。
得られた混合物をブラベンダー・プラストグラフ中20
00にて10分間混練する;該方法で製造した材料をそ
れから熱盤温度2600にて段プレスでプレスし1側厚
のシートを形成し該シートより幅1肌及び長さ17肌の
ストリップを打ち抜く。テスト用ストリップに含まれた
添加剤の効果についての試験は、比較として用いる添加
剤を含まないテスト用ストリップとともに、空気循環炉
中で135o−149oで熱老化することにより行う。
00にて10分間混練する;該方法で製造した材料をそ
れから熱盤温度2600にて段プレスでプレスし1側厚
のシートを形成し該シートより幅1肌及び長さ17肌の
ストリップを打ち抜く。テスト用ストリップに含まれた
添加剤の効果についての試験は、比較として用いる添加
剤を含まないテスト用ストリップとともに、空気循環炉
中で135o−149oで熱老化することにより行う。
3つのテスト用ストリップを各々の形式で用いる。
試験の最終点はテスト用ストリップの容易に明瞭な粉砕
が始まる時点と定義する。第m表 実施例 52 実施例51で記載した試験片の幾つかを更にそれらの色
安定性について試験する。
が始まる時点と定義する。第m表 実施例 52 実施例51で記載した試験片の幾つかを更にそれらの色
安定性について試験する。
該試験を次のようにして行う:‘a)混入後(第W表、
縦欄2) ‘b’キセノン灯耐光試験装置〔Hamu〕中での暴露
50畑時間後(第W表、縦欄3){c} 沸騰水で1週
間処理後(第W表、縦欄4)変色の程度を評価するため
に、5が変色なし、4がようやく知覚しうる程の若干の
変色、そして3、2及び1は連続的により高い変色程度
を表わす様な経験的尺度を用いる。
縦欄2) ‘b’キセノン灯耐光試験装置〔Hamu〕中での暴露
50畑時間後(第W表、縦欄3){c} 沸騰水で1週
間処理後(第W表、縦欄4)変色の程度を評価するため
に、5が変色なし、4がようやく知覚しうる程の若干の
変色、そして3、2及び1は連続的により高い変色程度
を表わす様な経験的尺度を用いる。
第W表
実施例 53
ポリプロピレン粉末(‘‘モプレン:Moplen’’
繊維商品、Monにdison)10礎部を8一(3・
5ージ−第三プチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オン酸−オクタデシルェステル0.2部及び次の第V表
から得られる安定剤0.25部とともにブラベンダープ
ラストグラフ中でIQ分間均質化する。
繊維商品、Monにdison)10礎部を8一(3・
5ージ−第三プチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オン酸−オクタデシルェステル0.2部及び次の第V表
から得られる安定剤0.25部とともにブラベンダープ
ラストグラフ中でIQ分間均質化する。
このようにして得た混合物をできるだけ遠く混練機から
除き、そしてトグル装置のプレスで加圧し2ないし3肋
厚のシートを得る。得られた加圧シートの一部を切断し
そして続いて手動式油圧実験室用プレス中2枚のよく磨
かれた硬質アルミニウムシートの間で6分間、2600
にて12トンの圧力下にプレスし、厚さ0.5肌のシー
トを形成し、該シートを冷水中でただちに冷やす。この
厚さ0.5側のシートから全く同じ条件で厚さ0.1側
の試験用シートを得る。サイズが各々60×44職の試
験片をそれから該シートから打ち抜き、そしてキセノン
灯耐候試験150中で照射する。一定時間をおいて、こ
れらの試験片を照射装置から取り除き、そしてそれらの
カルボニル含有量をIR−分光光度計で試験する。照射
による5.85叫こ於けるカルボニル基消失の増加がポ
リマーの光酸化分解の1つの規準であり〔次の文献を参
照せよ、ェル・バラバン(L.BalaMn)等による
J.Polymersci.PartC、22、105
9一1071(1969);ジエー・エフ・ヒーコツク
(J.F.Heacock)によるJ.Polymer
Sci.PartA−1、22、2921一34(19
69);デイ−・ジェー・カールソン及びディー・ェム
・ウイルズ(D.J.Carlsson and DM
.Wiles)に よ るN燈cromolecule
s 2、587−606(1969)〕、そして経験上
ポリマーの機械的性質の減少と関係している。このよう
にして例えばシ−トはカルボニルの消失約0.300ま
で達すると完全に砕ける。本発明の安定剤保護作用は次
の第V表より明らかに判明する:第V表
除き、そしてトグル装置のプレスで加圧し2ないし3肋
厚のシートを得る。得られた加圧シートの一部を切断し
そして続いて手動式油圧実験室用プレス中2枚のよく磨
かれた硬質アルミニウムシートの間で6分間、2600
にて12トンの圧力下にプレスし、厚さ0.5肌のシー
トを形成し、該シートを冷水中でただちに冷やす。この
厚さ0.5側のシートから全く同じ条件で厚さ0.1側
の試験用シートを得る。サイズが各々60×44職の試
験片をそれから該シートから打ち抜き、そしてキセノン
灯耐候試験150中で照射する。一定時間をおいて、こ
れらの試験片を照射装置から取り除き、そしてそれらの
カルボニル含有量をIR−分光光度計で試験する。照射
による5.85叫こ於けるカルボニル基消失の増加がポ
リマーの光酸化分解の1つの規準であり〔次の文献を参
照せよ、ェル・バラバン(L.BalaMn)等による
J.Polymersci.PartC、22、105
9一1071(1969);ジエー・エフ・ヒーコツク
(J.F.Heacock)によるJ.Polymer
Sci.PartA−1、22、2921一34(19
69);デイ−・ジェー・カールソン及びディー・ェム
・ウイルズ(D.J.Carlsson and DM
.Wiles)に よ るN燈cromolecule
s 2、587−606(1969)〕、そして経験上
ポリマーの機械的性質の減少と関係している。このよう
にして例えばシ−トはカルボニルの消失約0.300ま
で達すると完全に砕ける。本発明の安定剤保護作用は次
の第V表より明らかに判明する:第V表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、 nは1または2を表わし、 R_aは炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わし
、 R_bは炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わ
し、 R_cは炭素原子数1ないし9のアルキル基を表
わし、 R_dは炭素原子数1ないし6のアルキル基を
表わし、 R_eは水素原子、または炭素原子数1ない
し5のアルキル基を表わし、 R_fは水素原子、また
は炭素原子数1ないし5のアルキル基を表わし、但しR
_e及びR_fは相互に交換可能であり、 Xは酸素原
子または−NR−基(基中、Rは水素原子を表わす。 )を表わし、 R^1は水素原子、−O、炭素原子数1
ないし12のアルキル基、炭素原子数3または4のアル
ケニル基を表わし、またはR^1がA−CO−基を表わ
し、但しAは炭素原子数1ないし12のアルキル基を表
わし、 R^2は次式II: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、 R^6及びR^7は互いに独立して炭素原子数1ない
しし9のアルキル基を表わし、そして R^8は水素原
子またはメチル基を表わす。 )で表わされるヒドロキシベンジル基を表わし、 R^
3は、nが1のとき、炭素原子数1ないし20の非置換
アルキル基または次式:−C(O)−OR^1^2、−
O−C(O)R^1^3または−P(O)(OR^1^
4)_2〔基中、 R^1^2は炭素原子数1ないし1
8のアルキル基、または次式III:▲数式、化学式、表
等があります▼ (基中、R_a、R_b、R_c、R_d、R_e及び
R_fは上記ですでに表わした意味を有し、そしてR^
1^7はR^1で与えた意味の1つを有する。 )で表わされる基を表わし、 R^1^3は非置換もし
くは炭素原子数1ないし4のアルキル基及び/または水
酸基で置換されていてもよいフエニル基を表わし、そし
て R^1^4は炭素原子数1ないし8のアルキル基を
表わす。 〕で表わされる基の1個以上で置換される炭素原子数1
ないし10のアルキル基を表わし、そして R^3は更
に炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数
7ないし19のアラルキル基、フエニル基を表わし、ま
たはR^3は−O−C(O)R^1^6(基中、R^1
^6は炭素原子数1ないし12のアルキル基、各々炭素
原子数1ないし4のアルキル基2個及び水酸基で置換さ
れていてもよいフエニル基を表わす。 )、NHC(O)R^1^6(基中、R^1^6は炭素
原子数1ないし12のアルキル基を表わす。)で表わさ
れる基を表わし、そして更に加えるに、 R^3は、n
が2のとき、直接結合、炭素原子数1ないし20のアル
キレン基を表わす。 }で表わされることを特徴とするヒドロキシベンジルマ
ロン酸エステル誘導体及びそれらの酸付加塩。2 前記
式I中、R_a、R_b、R_c、R_dはメチル基を
表わし、そしてR_e及びR_fは水素原子である特許
請求の範囲第1項記載の化合物。 3 前記式I中、R_a及びR_cはエチル基を表わし
、R_b、R_d及びR_eはメチル基であり、そして
R_fは水素原子を表わす特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 4 前記式I中、 Xは−O−もしくは−NH−を表わし、 R^1は水
素原子、−O・、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
アリル基、アセチル基を表わし、 R^2は次式IIaも
しくはIIb ▲数式、化学式、表等があります▼ (基中、 R^6及びR^7は各々独立して炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表わし、 R^8は水素原子またはメ
チル基を表わす。 )で表わされるヒドロキシベンジル基を表わし、 R^
3は、nが1のとき、炭素原子数1ないし18の非置換
アルキル基、次式:−C(O)−OR^1^2、−O−
C(O)R^1^3もしくは−P(O)(OR^1^4
)_2〔各基中、R^1^2は炭素原子数1ないし4の
アルキル基または次式III:▲数式、化学式、表等があ
ります▼ (基中、R_a、R_b、R_c、R_d、R_e及び
R_fは特許請求の範囲第1項記載の意味を表わし、R
^1^7はR^1ですでに表わした意味の1つを有する
。 )で表わされる基を表わし、R^1^3はフエニル基を
表わし、そしてR^1^4は炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表わす。〕で表わされる基の1個もしくは2
個で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭
素原子数3ないし6のアルケニル基、フエニル基、炭素
原子数7ないし15のアラルキル基、または次式:−O
−COR^1^6(式中、R^1^6は炭素原子数1な
いし12のアルキル基、フエニル基、3・5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシフエニル基または2−(3・5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフエニル)−エチル
基を表わす。 )、NHC(O)R^1^6(式中、R^1^6は炭素
原子数1ないし12のアルキル基を表わす。)を表わし
、もしくはnが2のとき、直接結合、炭素原子数1ない
し12のアルキレン基、を表わす特許請求の範囲第1、
2もしくは3項記載の化合物。 5 前記式I中、nは1または2を表わし、R_a、R
_b、R_c、R_dはメチル基を表わし、そしてR_
e及びR_fは水素原子を表わし、Xは酸素原子を表わ
し、R^1は水素原子、−O・、炭素原子数1ないし4
のアルキル基、アリル基またはアセチル基を表わし、R
^2は次式IIaまたはIIb:▲数式、化学式、表等があ
ります▼ (式中、R^6は第三ブチル基を表わし、R^7はメチ
ルもしくは第三ブチル基を表わし、そしてR^8は水素
原子またはメチル基を表わす。 )で表わされるヒドロキシベンジル基を表わし、そして
R^3は式:−C(O)−OR^1^2〔式中、R^1
^2は炭素原子数1ないし4のアルキル基または次式I
IIa:▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は前記ですでに表わした意味を有する。 )で表わされる基を表わす。〕で表わされる基1個もし
くは2個、または式:−P(O)(OR^1^4)_2
(式中、R^1^4は炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わす。 )で表わされる基で置換される炭素原子数1ないし18
のアルキル基を表わすか、またはR^3はアリル、ベン
ジル、フエニル、炭素原子数1ないし8のアルキレン、
キシリレン基を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合
物。6 次式Ia: ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、 nは1または2を表わし、 R_aは炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わし
、 R_bは炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わ
し、 R_cは炭素原子数1ないし9のアルキル基を表
わし、 R_dは炭素原子数1ないし6のアルキル基を
表わし、 R_eは水素原子、または炭素原子数1ない
し5のアルキル基を表わし、 R_fは水素原子、また
は炭素原子数1ないし5のアルキル基を表わし、但しR
_e及びR_fは相互に交換可能であり、そして R^
1は水素原子、−O・、炭素原子数1ないし12のアル
キル基、炭素原子数3または4のアルケニル基を表わし
、またはR^1がA−CO−基を表わし、但しAは炭素
原子数1ないし12のアルキル基を表わし、 R^2は
次式II: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、 R^6及びR^7は互いに独立して炭素原子数1ない
し9のアルキル基を表わし、そして R^8は水素原子
またはメチル基を表わす。 )で表わされるヒドロキシベンジル基を表わし、 R^
3は、nが1のとき、炭素原子数1ないし20の非置換
アルキル基または次式:−CO−OR^1^2、−O−
C(O)R^1^3または−P(O)(OR^1^4)
_2〔基中、 R^1^2は炭素原子数1ないし18の
アルキル基、または次式IIIb:▲数式、化学式、表等
があります▼ (基中、R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R
_f及びR^1は上記ですでに表わした意味を有する。 )で表わされる基を表わし、 R^1^3は非置換もし
くは炭素原子数1ないし4のアルキル基及び/または水
酸基で置換されていてもよいフエニル基を表わし、そし
て R^1^4は炭素原子数1ないし8のアルキル基を
表わす。 〕で表わされる基の1個で置換される炭素原子数1ない
し10のアルキル基を表わし、そして R^3は更に炭
素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数7な
いし19のアラルキル基、またはフエニル基を表わし、
そして更に加えるに、 R^3は、nが2のとき、直接
結合、炭素原子数1ないし20のアルキレン基を表わす
。 }で表わされることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の化合物及びそれらの酸付加塩。7 ブチル−(3
・5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マ
ロン酸−ビス−(1・2・2・6・6−ペンタメチル−
4−ピペリジニル)エステルである特許請求の範囲第1
項記載の化合物。 8 ドデシル−(3・5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−マロン酸−ビス−(1・2・2・6・
6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)エステルである
特許請求の範囲第1項記載の化合物。 9 1・2・2・6・6−ベンタメチル−4−ピペリジ
ニルオキシカルボニルメチル−(3・5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジル)−マロン酸−ビス−(1
・2・2・6・6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)
エステルである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 10 ブチル−(3・5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−マロン酸−ビス−(2・3・6−トリ
メチル−2・6−ジエチル−4−ピペリジニル)エステ
ルである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 11 次式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、 nは1または2を表わし、 R_aは炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わし
、 R_bは炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わ
し、 R_cは炭素原子数1ないし9のアルキル基を表
わし、 R_dは炭素原子数1ないし6のアルキル基を
表わし、 R_eは水素原子、または炭素原子数1ない
し5のアルキル基を表わし、 R_fは水素原子、また
は炭素原子数1ないし5のアルキル基を表わし、但しR
_e及びR_fは相互に交換可能であり、 Xは酸素原
子または−NR−基(基中、Rは水素原子を表わす。 )を表わし、 R^1は水素原子、−O・、炭素原子数
1ないし12のアルキル基、炭素原子数3または4のア
ルケニル基を表わし、またはR^1がA−CO−基を表
わし、但しAは炭素原子数1ないし12のアルキル基、
を表わし、 R^2は次式II: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中 R^6及びR^7は互いに独立して炭素原子数1ない
し9のアルキル基を表わし、そして R^8は水素原子
またはメチル基を表わす。 )で表わされるヒドロキシベンジル基を表わし、 R^
3は、nが1のとき、炭素原子数1ないし20の非置換
アルキル基または次式:−C(O)−OR^1^2、−
O−C(O)R^1^3または−P(O)(OR^1^
4)_2〔基中、 R^1^2は炭素原子数1ないし1
8のアルキル基、または次式III:▲数式、化学式、表
等があります▼ (基中、R_a、R_b、R_c、R_d、R_e及び
R_fは上記ですでに表わした意味を有し、そしてR^
1^7はR^1で与えた意味の1つを有する。 )で表わされる基を表わし、 R^1^3は非置換もし
くは炭素原子数1ないし4のアルキル基及び/または水
酸基で置換されていてもよいフエニル基を表わし、そし
て R^1^4は炭素原子数1ないし8のアルキル基を
表わす。 〕で表わされる基の1個以上で置換される炭素原子数1
ないし10のアルキル基を表わし、そして R^3は更
に炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数
7ないし19のアラルキル基、フエニル基を表わす。 )を表わし、またはR^3は−O−C(O)R^1^6
(基中、R^1^6は炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基、各々炭素原子数1ないし4のアルキル基2個及び
水酸基で置換されたフエニル基を表わす。)、NHC(
O)R^1^6(基中、R^1^6は炭素原子数1ない
し12のアルキル基を表わす。)で表わされる基を表わ
し、そして更に加えるに、 R^3は、nが2のとき、
直接結合、炭素原子数1ないし20のアルキレン基を表
わす。 }で表わされるヒドロキシベンジルマロン酸エステル誘
導体及びそれらの酸付加塩を、プラスチツク材料に対し
0.01ないし5重量%含有させることを特徴とする酸
素、熱及び光の作用によつて生じる損失に対するプラス
チツクの安定化方法。12 プラスチツク材料がポリオ
レフイン、スチレンポリマーもしくはポリウレタンであ
る特許請求の範囲第11項記載のプラスチツクの安定化
方法。 13 プラスチツク材料に本発明のヒドロキシベンジル
マロン酸エステルを加えて、更に従来より公知の添加剤
を添加させた特許請求の範囲第11項記載のプラスチツ
クの安定化方法。
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