JPS6030660B2 - トリスフエノールおよびその製造法 - Google Patents
トリスフエノールおよびその製造法Info
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、p−イソプロベニルフェノールにもとずし・
た新規のトリスフェノールおよびそれらの製造法に関す
る。
た新規のトリスフェノールおよびそれらの製造法に関す
る。
p−イソプロベニルフエノールはおだやかにこれを加熱
するとき、それを溶媒中に溶解するならば、260でさ
えも次式に従って二量体(1)および(0)にかわる。
するとき、それを溶媒中に溶解するならば、260でさ
えも次式に従って二量体(1)および(0)にかわる。
塩酸、硫酸またはリン酸のような強酸の存在で、これら
の二量体はモノマー(m)のカルボニウムィオンと平衡
にある。フェノールと反応するとき、従ってそれらは一
般にトリスフェノール(W)ではなくビスフヱノールA
にかわる。フェノ、−ル性水酸基をアシル化することに
よって二量体の反応性を減少させようとする試みがなさ
れるときでさえも、酸触媒の助けによってフェノールを
アルキル化するために用いられる通常の反応条件下で得
られる生成物は、ほとんどビスフェノールAのアシル誘
導体のみである。例えば、塩化水素を導入しながらp−
ィソプロベニルフェノール二量体のシアセテート(V)
を5000でフェノールと反応させるとき、モノアセチ
ルビスフェノールA(町)を得る。ここに驚くべきこと
に、反応温度を下げるとトリフェノール譲導体(血)を
得ることが見し、ださ*れた。
の二量体はモノマー(m)のカルボニウムィオンと平衡
にある。フェノールと反応するとき、従ってそれらは一
般にトリスフェノール(W)ではなくビスフヱノールA
にかわる。フェノ、−ル性水酸基をアシル化することに
よって二量体の反応性を減少させようとする試みがなさ
れるときでさえも、酸触媒の助けによってフェノールを
アルキル化するために用いられる通常の反応条件下で得
られる生成物は、ほとんどビスフェノールAのアシル誘
導体のみである。例えば、塩化水素を導入しながらp−
ィソプロベニルフェノール二量体のシアセテート(V)
を5000でフェノールと反応させるとき、モノアセチ
ルビスフェノールA(町)を得る。ここに驚くべきこと
に、反応温度を下げるとトリフェノール譲導体(血)を
得ることが見し、ださ*れた。
トリフェノールはジアセチル誘導体の加水分解によって
容易に得ることができる。
容易に得ることができる。
従って、本発明は、一般式
式中R,〜R4は同じであっても異なってもよく、水素
、C,〜C,2アルキル基、ハロゲン、OHまたはC,
〜C6はアルコキシ基を表わす、の新規トリスフェノー
ルに関する。
、C,〜C,2アルキル基、ハロゲン、OHまたはC,
〜C6はアルコキシ基を表わす、の新規トリスフェノー
ルに関する。
本発明のもう1つの目的はpーィソプロベニルフェノー
ル二量体のジアシル化合物または対応するポリカーボネ
ートを強酸触媒の存在下で、もしも望ましいならば不活
性溶媒中で、一20〜30ooの温度でフェノールと反
応させ、得られたトリフェノールのジアシル誘導体を公
知の方法でケン化する、これらのトリスフェノールとの
製造法である。
ル二量体のジアシル化合物または対応するポリカーボネ
ートを強酸触媒の存在下で、もしも望ましいならば不活
性溶媒中で、一20〜30ooの温度でフェノールと反
応させ、得られたトリフェノールのジアシル誘導体を公
知の方法でケン化する、これらのトリスフェノールとの
製造法である。
新規のトリスフェノールは好ましくはpーイソプロベニ
ルフェノール二量体のジアシル化合物とフェノールの溶
液をハロゲン化水素のはげしい流れで飽和させ、溶媒と
過剰のフェノールを留去し、高真空蒸留によって残澄か
らトリスフヱノールのジアシル譲導体を単離し、次にそ
れを公知の方法ケン化することによって製造する。
ルフェノール二量体のジアシル化合物とフェノールの溶
液をハロゲン化水素のはげしい流れで飽和させ、溶媒と
過剰のフェノールを留去し、高真空蒸留によって残澄か
らトリスフヱノールのジアシル譲導体を単離し、次にそ
れを公知の方法ケン化することによって製造する。
式中XはC,〜C6脂肪族基、ハロゲン、好ましくは塩
素または臭素によって、ニトロ基によってまたはC,〜
C4ァルキル基によって置換されてもよいフェニル基、
塩素、フェノキシ基またはC,〜C4アルコキシ基を示
し、nは1〜50の整数を表わす。
素または臭素によって、ニトロ基によってまたはC,〜
C4ァルキル基によって置換されてもよいフェニル基、
塩素、フェノキシ基またはC,〜C4アルコキシ基を示
し、nは1〜50の整数を表わす。
次のものが例として与えられる。
p−イソプロベニルフェノール二量体のジホルミル、ジ
アセチル、ジプロピオニル、ジブチリル、およびジベン
ゾィル化合物、p−イソプロベニルフェノールー量体と
ホスゲン、およびメチルクロロカーボネート、エチルク
ロロカーボネートまたはフエニルクロロカーボネートの
ようなクロロ炭酸ェステルとの反応生成物、すなわち、
ビスクロロ炭酸ェステルのジアルキルまたはジアリール
カーボネート、そしてpーイソプロベニルフェノール二
量体のポリカーボネート。上記のジアシル化合物は公知
の方法で、例えばp−ィソプロベニルフェノール二量体
を対応する酸塩化物または酸無水物と反応させることに
よって製造することができる。
アセチル、ジプロピオニル、ジブチリル、およびジベン
ゾィル化合物、p−イソプロベニルフェノールー量体と
ホスゲン、およびメチルクロロカーボネート、エチルク
ロロカーボネートまたはフエニルクロロカーボネートの
ようなクロロ炭酸ェステルとの反応生成物、すなわち、
ビスクロロ炭酸ェステルのジアルキルまたはジアリール
カーボネート、そしてpーイソプロベニルフェノール二
量体のポリカーボネート。上記のジアシル化合物は公知
の方法で、例えばp−ィソプロベニルフェノール二量体
を対応する酸塩化物または酸無水物と反応させることに
よって製造することができる。
反応を行うとき、必要な唯一の注意は、とくに酸塩化物
をアシル化剤として用いるとき、反応媒体の酸性が強す
ぎないようにすることである。なぜなら、さもなくばp
−イソプロベニルフェノール二量体は望ましくない副反
応によって三量体とポリマーにかえられやすい。結晶性
p−ィソプロベニルフェノールニ量体を用いるかわりに
、反応はピスフェノールAの分解生成物からフェノール
を蒸留するときの残澄として得られる種類の樹脂状生成
物で行なってもよい。
をアシル化剤として用いるとき、反応媒体の酸性が強す
ぎないようにすることである。なぜなら、さもなくばp
−イソプロベニルフェノール二量体は望ましくない副反
応によって三量体とポリマーにかえられやすい。結晶性
p−ィソプロベニルフェノールニ量体を用いるかわりに
、反応はピスフェノールAの分解生成物からフェノール
を蒸留するときの残澄として得られる種類の樹脂状生成
物で行なってもよい。
本発明の反応に対して適当なフェノールは一般式式中R
,〜R4は同じであっても異なってもよく、水素、C,
〜C,2アルキル基、ハロゲン、好ましくは塩素または
臭素、OHまたはアルコキシ基を表わす、のものである
。
,〜R4は同じであっても異なってもよく、水素、C,
〜C,2アルキル基、ハロゲン、好ましくは塩素または
臭素、OHまたはアルコキシ基を表わす、のものである
。
次のものが例である。
フェノール、o−、m−およびp−クレゾール、o−、
m−、pークロロフエノール、2・6ージクロロフエノ
ール、o一、m一およびpープロモフエノール、o一、
m一およびpーエチルフヱノール、o−、m−およびp
−プロピルフエノール、o−、m一およびpーイソプロ
ピルフエノール、o一、m−およびp−ブチルフエノー
ル、o一、m一およびp一イソブチルフエノール、o一
、m一およびp一にrtーブチルフエノール、o一、m
−およびpーノニルフエノール、0一、m−およびp−
ドデシルフエノール、2・4ージメチルフエノール、3
・4−ジメチルフエノール、2・6−ジメチルフエノー
ル、2・6−ジエチルフエノ−ル、o−、m−およびp
−シクロヘキシルフエノール、Qーナフトール、8ーナ
フト−ル、ハイドロキノン、レゾルシノール、ピロカテ
コール、ハイドロキノンモノメチルヱーテル、レゾルシ
ノールモノメチルエーテルおよびグワヤコ−−ル。
m−、pークロロフエノール、2・6ージクロロフエノ
ール、o一、m一およびpープロモフエノール、o一、
m一およびpーエチルフヱノール、o−、m−およびp
−プロピルフエノール、o−、m一およびpーイソプロ
ピルフエノール、o一、m−およびp−ブチルフエノー
ル、o一、m一およびp一イソブチルフエノール、o一
、m一およびp一にrtーブチルフエノール、o一、m
−およびpーノニルフエノール、0一、m−およびp−
ドデシルフエノール、2・4ージメチルフエノール、3
・4−ジメチルフエノール、2・6−ジメチルフエノー
ル、2・6−ジエチルフエノ−ル、o−、m−およびp
−シクロヘキシルフエノール、Qーナフトール、8ーナ
フト−ル、ハイドロキノン、レゾルシノール、ピロカテ
コール、ハイドロキノンモノメチルヱーテル、レゾルシ
ノールモノメチルエーテルおよびグワヤコ−−ル。
本発明の反応に対して適当な強酸触媒には例えば硫酸、
pートルェンスルホン酸、メタンスルホン酸、濃塩酸、
濃臭化水素酸、三フツ化ホウ素、リン酸、スルホン化ポ
リスチレンと酸活性化フラー士のようなカチオン交換体
が含まれるが、用いるのが好ましい酸触媒はすべて無水
で用いられる塩化水素または臭化水素のようなハロゲン
化水素である。
pートルェンスルホン酸、メタンスルホン酸、濃塩酸、
濃臭化水素酸、三フツ化ホウ素、リン酸、スルホン化ポ
リスチレンと酸活性化フラー士のようなカチオン交換体
が含まれるが、用いるのが好ましい酸触媒はすべて無水
で用いられる塩化水素または臭化水素のようなハロゲン
化水素である。
無水ハロゲン化水素を用いる利点は、次に生成物を処理
する容易さである。
する容易さである。
対照的に非揮発性酸はもし必要ならば中和後に反応生成
物を注意深く洗い出さねばならない。なぜならばそれら
は高温で反応生成物の分解の触媒として働くが、ハロゲ
ン化水素は反応生成物にいかなる有害な作用もおよぼす
ことなくどのような溶媒とともにも減圧で除くことがで
きる。それに加えて、触媒として用いたハロゲン化水素
は高い収率を生じ、より少ない副生成物を生ずる。用い
る触媒の量はp−ィソプロベニルフェノ−ル二量体のジ
アシル化合物1モルにつき0.01〜1モルの間である
。ハロゲン化水素は好ましくは反応混合物をガス状酸で
飽和させることによって用いる。本方法に対して適当溶
媒には例えばベンゼン、トルェン、シクロヘキサン、リ
クロイン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、
塩化エチレンまたはクロロベンゼンのような、望ましい
ならばハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族
炭化水素、ジェチルェーテルまたはジオキサンのような
シクロ脂肪族または脂肪族エーテルあるいは酢酸エチル
または酢酸ブチルのようなC2〜C4月旨肪族カルボン
酸の脂肪族ェステルが含まれる。
物を注意深く洗い出さねばならない。なぜならばそれら
は高温で反応生成物の分解の触媒として働くが、ハロゲ
ン化水素は反応生成物にいかなる有害な作用もおよぼす
ことなくどのような溶媒とともにも減圧で除くことがで
きる。それに加えて、触媒として用いたハロゲン化水素
は高い収率を生じ、より少ない副生成物を生ずる。用い
る触媒の量はp−ィソプロベニルフェノ−ル二量体のジ
アシル化合物1モルにつき0.01〜1モルの間である
。ハロゲン化水素は好ましくは反応混合物をガス状酸で
飽和させることによって用いる。本方法に対して適当溶
媒には例えばベンゼン、トルェン、シクロヘキサン、リ
クロイン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、
塩化エチレンまたはクロロベンゼンのような、望ましい
ならばハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族
炭化水素、ジェチルェーテルまたはジオキサンのような
シクロ脂肪族または脂肪族エーテルあるいは酢酸エチル
または酢酸ブチルのようなC2〜C4月旨肪族カルボン
酸の脂肪族ェステルが含まれる。
用いる反応温度は−20℃〜30qoの間である。一般
則として用いるフェノール成分の反応速度が低ければ低
いほど、上に与えた制限内で用いる反応温度は高くすべ
きである。それゆえ、例えばもしもフェノールを反応物
質として、ハロゲン化水素を触媒として用いるならば、
もっとも適当な反応温度は約一20午0〜10午0の間
である。もしもより反応性の小さいフェノール、例えば
2・6ージメチルフェノールを用いるならば、約10q
o〜30ooの間の反応温度が収率に影響をおよ‘ます
ことなく用いるのに適する。特殊な場合にはもしも上に
示したカイドラインに従うならば、予備試験によっても
っとも適する温度範囲を見いだすことは困難すぎること
がないであろう。フェノールは過剰に、すなわちイソプ
ロベニルフェノール二鼻体のジアシル化合物1モルにつ
き約2〜20モルの量を用いるのが適当である。
則として用いるフェノール成分の反応速度が低ければ低
いほど、上に与えた制限内で用いる反応温度は高くすべ
きである。それゆえ、例えばもしもフェノールを反応物
質として、ハロゲン化水素を触媒として用いるならば、
もっとも適当な反応温度は約一20午0〜10午0の間
である。もしもより反応性の小さいフェノール、例えば
2・6ージメチルフェノールを用いるならば、約10q
o〜30ooの間の反応温度が収率に影響をおよ‘ます
ことなく用いるのに適する。特殊な場合にはもしも上に
示したカイドラインに従うならば、予備試験によっても
っとも適する温度範囲を見いだすことは困難すぎること
がないであろう。フェノールは過剰に、すなわちイソプ
ロベニルフェノール二鼻体のジアシル化合物1モルにつ
き約2〜20モルの量を用いるのが適当である。
本方法の生成物は種々の工業的な目的に対して用いるこ
とができる。それらのェピクロルヒドリンとの反応は高
度に耐熱性のェポキシ樹脂を生ずる。新規のトリスフェ
ノールのェトキシル化およびプロポキシル化生成物はす
ぐれた織物添加剤および織物の染色に対する均染剤であ
る。本生成物はまたポリウレタンの可逆性橋かけにも適
する。実施例 1{a)2・4−ジー4′ーアセトキシ
フエノール−4ーメチル−ペンテンー1無水酢酸500
の‘とピリジン1の【中の融点131℃のp−イソプロ
ベニルフェノール二量体の268夕(1モル)の溶液を
還流下で2時間加熱する。
とができる。それらのェピクロルヒドリンとの反応は高
度に耐熱性のェポキシ樹脂を生ずる。新規のトリスフェ
ノールのェトキシル化およびプロポキシル化生成物はす
ぐれた織物添加剤および織物の染色に対する均染剤であ
る。本生成物はまたポリウレタンの可逆性橋かけにも適
する。実施例 1{a)2・4−ジー4′ーアセトキシ
フエノール−4ーメチル−ペンテンー1無水酢酸500
の‘とピリジン1の【中の融点131℃のp−イソプロ
ベニルフェノール二量体の268夕(1モル)の溶液を
還流下で2時間加熱する。
次に過剰の無水酢酸は減圧下で生成した氷酢酸とともに
除き、反応生成物を178〜18か0/0.08Ton
で粘ちような液体として留去する。n客=1.549。
収量342夕=理論値の97%。(b)2・2・4ート
リー4′−ヒドロキシフエニルー4−メチル−ペンタン
無水塩化水素の流れをフェノール470夕(5モル)と
塩化メチレン300必中の上の‘小こ従って製造したジ
ァセチル化合物176夕(0.5モル)の溶液中に0℃
で6時間かけて溶液が飽和するまで加える。
除き、反応生成物を178〜18か0/0.08Ton
で粘ちような液体として留去する。n客=1.549。
収量342夕=理論値の97%。(b)2・2・4ート
リー4′−ヒドロキシフエニルー4−メチル−ペンタン
無水塩化水素の流れをフェノール470夕(5モル)と
塩化メチレン300必中の上の‘小こ従って製造したジ
ァセチル化合物176夕(0.5モル)の溶液中に0℃
で6時間かけて溶液が飽和するまで加える。
次に塩化水素、溶媒および過剰のフェノールを減圧下で
200℃までの反応温度に加熱することによって除く。
残燈227夕を得る。高真空蒸留は195〜210℃/
0.04TonでモノアセチルビスフェノールA36夕
を、250〜270℃/0.04Tonで2・4ージー
(4′−アセトキシフエニル)一2−(4″ーヒドロキ
シフエニル)−4−メチル一ベンタンフラクション19
0夕を生する。収率:理論値の85%。透明な溶液を得
るまで過剰のが水酸化ナトリウム溶液中で煮沸し、希酢
酸で酸性化し、トリスフェノールを酢酸エチル中に溶解
し、溶媒を除くことによって、下に与える式のトリスフ
ェノールを硬い樹脂の形で得る。
200℃までの反応温度に加熱することによって除く。
残燈227夕を得る。高真空蒸留は195〜210℃/
0.04TonでモノアセチルビスフェノールA36夕
を、250〜270℃/0.04Tonで2・4ージー
(4′−アセトキシフエニル)一2−(4″ーヒドロキ
シフエニル)−4−メチル一ベンタンフラクション19
0夕を生する。収率:理論値の85%。透明な溶液を得
るまで過剰のが水酸化ナトリウム溶液中で煮沸し、希酢
酸で酸性化し、トリスフェノールを酢酸エチル中に溶解
し、溶媒を除くことによって、下に与える式のトリスフ
ェノールを硬い樹脂の形で得る。
塩化エチレン*からの再結晶の後融点は150〜15〆
○の間である。C24日2603(362.5) 計算値 C79.53日7.23013.24分析値
79.42 7.21 13.51電位差滴定よ
るフェノール性OH:計算値 14.1 分析値 14.25 参考例 45%水酸化ナトリウム溶液140夕(1.575モル
)を2時間かけてェピクロルヒドリン700タ中に上の
{b)に従って製造したトリスフエノ−ル182夕(享
モル)の溶液中に95ご110℃でかさまぜながら滴下
し、その間水は水分離器を用いて共沸混合物として連続
的に除く。
○の間である。C24日2603(362.5) 計算値 C79.53日7.23013.24分析値
79.42 7.21 13.51電位差滴定よ
るフェノール性OH:計算値 14.1 分析値 14.25 参考例 45%水酸化ナトリウム溶液140夕(1.575モル
)を2時間かけてェピクロルヒドリン700タ中に上の
{b)に従って製造したトリスフエノ−ル182夕(享
モル)の溶液中に95ご110℃でかさまぜながら滴下
し、その間水は水分離器を用いて共沸混合物として連続
的に除く。
次に加熱は反応温度が118℃に達するまで還流下でさ
らに30分間続ける。次に過剰のェピクロルヒドリンは
140qoの反応温度に達するまで減圧下で蟹去する。
次に穣澄は塩化メチレンに溶解させ、塩化ナトリウムは
加圧下で操作する吸引フィル夕−で炉則し、最後に減圧
で反応混合物の温度が175ooにのぼるまで溶媒を除
く。7.85%のェポキシ価を有する淡黄色の樹脂24
2夕を得る。
らに30分間続ける。次に過剰のェピクロルヒドリンは
140qoの反応温度に達するまで減圧下で蟹去する。
次に穣澄は塩化メチレンに溶解させ、塩化ナトリウムは
加圧下で操作する吸引フィル夕−で炉則し、最後に減圧
で反応混合物の温度が175ooにのぼるまで溶媒を除
く。7.85%のェポキシ価を有する淡黄色の樹脂24
2夕を得る。
この樹脂68夕の溶融物を溶融した無水フタル酸30夕
と混合し、混合物を16000に10時間加熱すること
によって硬化させ、厚さ4側の板を作る。
と混合し、混合物を16000に10時間加熱すること
によって硬化させ、厚さ4側の板を作る。
次にマルテンス法による加熱下の寸法安定性は184こ
0である。対照によって、ビスフェノールAとェピクロ
ルヒドリンの反応生成物から上記の方法によって製造し
た板はわずか132℃のマルテンス法による寸法安定性
を有する。実施例 2 2・4ージー(4ーヒドロキシフエニル)一2一(4″
ーヒドロキシ−3″ーメチルフエニル)−4ーメチルベ
ンタン無水塩化水素の流れをo−クレゾール540夕と
塩化エチレン200の‘中に実施例1{a’の融点16
5qoを有するp−イソプロベニルフェノール二量体か
ら製造した2・4ージー4′ーアセトキシフェニルー4
−メチルベンテンー2 1769(0.5モル)の溶液
中に0℃で溶液が飽和されるまで8時間加える。
0である。対照によって、ビスフェノールAとェピクロ
ルヒドリンの反応生成物から上記の方法によって製造し
た板はわずか132℃のマルテンス法による寸法安定性
を有する。実施例 2 2・4ージー(4ーヒドロキシフエニル)一2一(4″
ーヒドロキシ−3″ーメチルフエニル)−4ーメチルベ
ンタン無水塩化水素の流れをo−クレゾール540夕と
塩化エチレン200の‘中に実施例1{a’の融点16
5qoを有するp−イソプロベニルフェノール二量体か
ら製造した2・4ージー4′ーアセトキシフェニルー4
−メチルベンテンー2 1769(0.5モル)の溶液
中に0℃で溶液が飽和されるまで8時間加える。
生成物は実施例1に記載したように処理する。減圧で過
剰のoークロゾールを除去した後、樹脂状残笹230夕
が残る。この残笹は少量の初留の後255〜270oo
/0.04Tomでほとんど完全に蟹出する。2・4ー
ジー(4ーアセトキシフェニル)一2−(4″ーヒドロ
キシー3″ーメチルフエニル)−4−メチルーベンタン
の収量:200夕=理論値の96%。
剰のoークロゾールを除去した後、樹脂状残笹230夕
が残る。この残笹は少量の初留の後255〜270oo
/0.04Tomでほとんど完全に蟹出する。2・4ー
ジー(4ーアセトキシフェニル)一2−(4″ーヒドロ
キシー3″ーメチルフエニル)−4−メチルーベンタン
の収量:200夕=理論値の96%。
ジァセチル化合物はそれを過剰のが水酸化ナトリウム溶
液と数時間滋とうさせることによってケン化する。
液と数時間滋とうさせることによってケン化する。
トリスフェノールは州酢酸で沈殿させ、酢酸エチルに吸
収させ、硫酸ナトリウム上で脱水し、減圧で溶媒を除く
。こはく色のかたい樹脂が残る。塩化メチレンから再結
晶後の融点:147〜148q0。C25日2803(
376.5) 計算値 C79.75日7.50012.75分析値
79.61 7.47 12.90フェノール性
OH:計算値 13.5 分析値 13.46 実施例 3 2・4−ジー(4′ーヒドロキシフエニル)−2一(4
″ーヒドロキシー3″・5″ージメチルフエニル)一4
ーメチルベンタン2・6ージメチルフェノール500夕
と塩化メチレン400地中に2・4ージー4′ーアセト
キシフエニル一4ーメチルベンテンー1 176夕(0
.5モル)の溶液をその中に無水塩化水素を0℃で8時
間、次に20qoで8時間通すことによって塩化水素で
飽和させる。
収させ、硫酸ナトリウム上で脱水し、減圧で溶媒を除く
。こはく色のかたい樹脂が残る。塩化メチレンから再結
晶後の融点:147〜148q0。C25日2803(
376.5) 計算値 C79.75日7.50012.75分析値
79.61 7.47 12.90フェノール性
OH:計算値 13.5 分析値 13.46 実施例 3 2・4−ジー(4′ーヒドロキシフエニル)−2一(4
″ーヒドロキシー3″・5″ージメチルフエニル)一4
ーメチルベンタン2・6ージメチルフェノール500夕
と塩化メチレン400地中に2・4ージー4′ーアセト
キシフエニル一4ーメチルベンテンー1 176夕(0
.5モル)の溶液をその中に無水塩化水素を0℃で8時
間、次に20qoで8時間通すことによって塩化水素で
飽和させる。
次に反応混合物は実施例1のように処理する。減圧蒸留
によって過剰の2・6ージメチルフェノールを除去した
後樹脂232夕を残湾として得る。反応生成物の主留分
は260〜27500/0.05Tonで高真空蒸留に
よって留去する。2・4ージ−(4′ーアセトキシフエ
ニル)一2一(4″−ヒドロキシー3″・5″ージメチ
ルフエニル)−4ーメチルベンタンの収量:178夕=
理論値の75%。
によって過剰の2・6ージメチルフェノールを除去した
後樹脂232夕を残湾として得る。反応生成物の主留分
は260〜27500/0.05Tonで高真空蒸留に
よって留去する。2・4ージ−(4′ーアセトキシフエ
ニル)一2一(4″−ヒドロキシー3″・5″ージメチ
ルフエニル)−4ーメチルベンタンの収量:178夕=
理論値の75%。
こはく色のかたい樹脂を、過剰の水酸化ナトリウム溶液
中の反応生成物をメタノール200のZの添加によって
ケン化し、トリスフェノールを希塩酸によって沈殿させ
、それを酢酸エチル中に吸収させ、それを硫酸ナトリウ
ム上で脱水し、溶媒を留去した後で得る。塩化メチレン
からの再結晶後の融点:98〜100q0。C26日3
の3(390.5) 計算値 C79.96日7.74012.29分析値
79.78 7.61 12.42フェノール性
のOH:計算値 13.0 分析値 12.92 実施例 4 ‘a} 2.4ージー(4′−クロロカルボキシフエニ
ル)一4−メチル−ペンテンー1ホスゲン3002を無
水の塩化メチレン1そに−500で加え、融点13ro
のpーイソプロベニルフェノール二量体268夕(1モ
ル)を加える。
中の反応生成物をメタノール200のZの添加によって
ケン化し、トリスフェノールを希塩酸によって沈殿させ
、それを酢酸エチル中に吸収させ、それを硫酸ナトリウ
ム上で脱水し、溶媒を留去した後で得る。塩化メチレン
からの再結晶後の融点:98〜100q0。C26日3
の3(390.5) 計算値 C79.96日7.74012.29分析値
79.78 7.61 12.42フェノール性
のOH:計算値 13.0 分析値 12.92 実施例 4 ‘a} 2.4ージー(4′−クロロカルボキシフエニ
ル)一4−メチル−ペンテンー1ホスゲン3002を無
水の塩化メチレン1そに−500で加え、融点13ro
のpーイソプロベニルフェノール二量体268夕(1モ
ル)を加える。
ジメチルアニリン254〜(2.1モル)を、反応混合
物を、凍結混合物によって冷却しながら、1時間かけて
滴下する。温度を室温に上昇させ、次に反応混合物を還
流下で2時間加熱する。溶媒の1/3を常圧で過剰のホ
スゲンによって除く。次に残簿を0℃に冷却し、毎回濃
塩酸20肌を添加した後、氷水とともに2回振とうする
。生成物を硫酸ナトリウム上で脱水し、溶媒を蒸発させ
、残澄を減圧で蒸留する。反応生成物を含んでいる留分
は180〜188こ0/0.0汀omでほとんど無色の
粘ちよう液体として留出する。収量:335夕=理論値
の85%。{b)2・2・4ートリ−(4′ーヒドロキ
シフヱニル)一4−メチルベンタン塩化水素をトルェン
180叫とフェノール150タ中に{a’‘こ従って製
造したp−ィソプロベニルフェノール二量体のビスクロ
ロ炭酸ェステル78.6夕(0.2モル)溶液中に0℃
で6時間加える。
物を、凍結混合物によって冷却しながら、1時間かけて
滴下する。温度を室温に上昇させ、次に反応混合物を還
流下で2時間加熱する。溶媒の1/3を常圧で過剰のホ
スゲンによって除く。次に残簿を0℃に冷却し、毎回濃
塩酸20肌を添加した後、氷水とともに2回振とうする
。生成物を硫酸ナトリウム上で脱水し、溶媒を蒸発させ
、残澄を減圧で蒸留する。反応生成物を含んでいる留分
は180〜188こ0/0.0汀omでほとんど無色の
粘ちよう液体として留出する。収量:335夕=理論値
の85%。{b)2・2・4ートリ−(4′ーヒドロキ
シフヱニル)一4−メチルベンタン塩化水素をトルェン
180叫とフェノール150タ中に{a’‘こ従って製
造したp−ィソプロベニルフェノール二量体のビスクロ
ロ炭酸ェステル78.6夕(0.2モル)溶液中に0℃
で6時間加える。
溶媒と過剰のフェノールは減圧で除き、反応生成物はメ
タノール400肌に溶解し、濃水硫酸ナトリウム溶液2
00の‘を滴下する。次に反応混合物は等量の水で希釈
し、加熱還流する。メタノールを蟹去し、トルェン40
0の‘を加え、トリスフェノールを希塩酸で沈殿させる
。溶媒相を水で洗い、硫酸ナトリウム上で脱水し、蒸発
によって濃縮する。蒸留による過剰のフェノールの除去
の後、少量のビスフェノールAが留出し、それに続いて
トリスフェノール留分が270〜280℃/0.05T
orrで留出する。融点150〜1.51℃(塩化メチ
レンから)。収量:48夕=理論値の66% 実施例 5 ‘a} 2.4ージー(4′ーオキシカルポフエノキシ
フエノール)一4−メチルベンテンー1塩化メチレン5
00の【中にクロロキ酸フェニル189夕(0.2モル
)の溶液を室温で州水酸化ナトリウム溶液1.8ぐ中に
p−ィソプロベニルフェノール二量体(融点131℃)
134夕(0.5モル)の溶液中に注ぐ。
タノール400肌に溶解し、濃水硫酸ナトリウム溶液2
00の‘を滴下する。次に反応混合物は等量の水で希釈
し、加熱還流する。メタノールを蟹去し、トルェン40
0の‘を加え、トリスフェノールを希塩酸で沈殿させる
。溶媒相を水で洗い、硫酸ナトリウム上で脱水し、蒸発
によって濃縮する。蒸留による過剰のフェノールの除去
の後、少量のビスフェノールAが留出し、それに続いて
トリスフェノール留分が270〜280℃/0.05T
orrで留出する。融点150〜1.51℃(塩化メチ
レンから)。収量:48夕=理論値の66% 実施例 5 ‘a} 2.4ージー(4′ーオキシカルポフエノキシ
フエノール)一4−メチルベンテンー1塩化メチレン5
00の【中にクロロキ酸フェニル189夕(0.2モル
)の溶液を室温で州水酸化ナトリウム溶液1.8ぐ中に
p−ィソプロベニルフェノール二量体(融点131℃)
134夕(0.5モル)の溶液中に注ぐ。
次に反応混合物は2時間かきまぜ、、有機相を水で洗い
、溶媒を減圧で除く。p−ィソプロベニルフェノール二
量体のビスフェニルカーボネートからなる樹脂状生成物
を残澄として得る。収量:234夕=理論値の92%。
、溶媒を減圧で除く。p−ィソプロベニルフェノール二
量体のビスフェニルカーボネートからなる樹脂状生成物
を残澄として得る。収量:234夕=理論値の92%。
融点77℃(エチルアルコールから)。{b} 2・2
・4−トリ−(4′ーヒドロキシフエニル),一4ーメ
チルベンタン無水の塩化水素をフェノール1総夕(2モ
ル)とトルェン400の‘中に{aに従って製造したビ
スフエニルカーボネート127夕(0.25モル)の溶
液中に5℃で5時間通す。
・4−トリ−(4′ーヒドロキシフエニル),一4ーメ
チルベンタン無水の塩化水素をフェノール1総夕(2モ
ル)とトルェン400の‘中に{aに従って製造したビ
スフエニルカーボネート127夕(0.25モル)の溶
液中に5℃で5時間通す。
溶液と過剰のフェノールは減圧で除く。残澄はメタノー
ル400の‘と水100必中に水酸化カリウム140夕
の溶液によってケン化する。透明な溶液は水2そで希釈
し、トリスフェノールを州塩酸で沈殿させ、エーテルに
吸収させる。エーテル残糟は減圧で留出させる。80q
o/12rorrで蒸留によってビスフェノールを除き
、180午0/0.0虹omで蒸留によって少量のビス
フェノールAを除いた後、トリスフェノールが樹脂とし
て得る。
ル400の‘と水100必中に水酸化カリウム140夕
の溶液によってケン化する。透明な溶液は水2そで希釈
し、トリスフェノールを州塩酸で沈殿させ、エーテルに
吸収させる。エーテル残糟は減圧で留出させる。80q
o/12rorrで蒸留によってビスフェノールを除き
、180午0/0.0虹omで蒸留によって少量のビス
フェノールAを除いた後、トリスフェノールが樹脂とし
て得る。
収量:80夕=理論値の88%。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1、R_2、R_3及びR_4は同じであつ
ても異なつてもよく、水素、C_1〜C_1_2アルキ
ル基、アルコキシ基、水酸基またはハロゲン原子を表わ
す、のトリスフエノール。 2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1、R_2、R_3およびR_4は同じであ
つても異なつてもよく、水素、C_1〜C_1_2アル
キル基、アルコキシ基、水酸基またはハロゲン原子を表
わす、のトリスフエノールを製造するにあたり、p−イ
ソプロペニルフエノール二量体のジアシル誘導体を酸触
媒の存在で−20〜30℃の温度でフエノールと反応さ
せ、得られたアシル誘導体をケン化し、トリスフエノー
ルを生成させることを特徴とするトリスフエノールの製
造法。 3 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1、R_2、R_3およびR_4は同じであ
つても異なつてもよく、水素、C_1〜C_1_2アル
キル基、アルコキシ基、水酸基またはハロゲン原子を表
わす、のトリスフエノールを製造するにあたり、p−イ
ソプロペニルフエノール二量体のジアシル誘導体に対応
するポリカーボネートを酸触媒の存在で−20〜30℃
の温度でフエノールと反応させ、得られたアシル誘導体
をケン化し、トリスフエノールを生成させることを特徴
とするトリスフエノールの製造法。 4 酸触媒がハロゲン化水素である特許請求の範囲第2
項または第3項記載の方法。 5 反応を不活性溶媒中で行う特許請求の範囲第2項ま
たは第3項記載の方法。 6 p−イソプロペニルフエノール二量体のジアシル誘
導体または対応するポリカーボネートが式▲数式、化学
式、表等があります▼ 式中XはC_1〜C_6脂肪族
基、C_1〜C_4アルコキシ基、フエノキシ基、ハロ
ゲン、ニトロまたはC_1〜C_4アルキルによつて適
宜置換されたフエニル基または塩素を表わし、そして
nは1〜50の整数である、 を有する特許請求の範囲第2項または第3項記載の方法
。 7 反応に用いたフエノールが一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1、R_2、R_3およびR_4は同じであ
つても異なつてもよく、水素、C_1〜C_1_2アル
キル、C_1〜C_6アルコキシ、ハロゲンまたは水酸
基を表わすを有する特許請求の範囲第2項または第3項
記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2508709.6 | 1975-02-28 | ||
| DE2508709A DE2508709C2 (de) | 1975-02-28 | 1975-02-28 | Trisphenole |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51110546A JPS51110546A (ja) | 1976-09-30 |
| JPS6030660B2 true JPS6030660B2 (ja) | 1985-07-17 |
Family
ID=5940062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51019484A Expired JPS6030660B2 (ja) | 1975-02-28 | 1976-02-26 | トリスフエノールおよびその製造法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4059638A (ja) |
| JP (1) | JPS6030660B2 (ja) |
| BE (1) | BE838960A (ja) |
| CA (1) | CA1073927A (ja) |
| DE (1) | DE2508709C2 (ja) |
| FR (1) | FR2302291A1 (ja) |
| GB (1) | GB1522905A (ja) |
| IT (1) | IT1056191B (ja) |
| NL (1) | NL7602063A (ja) |
Families Citing this family (6)
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|---|---|---|---|---|
| JPS53146799A (en) * | 1977-05-27 | 1978-12-20 | Sumitomo Chem Co Ltd | Novel epoxy resin and its preparation |
| US5364977A (en) * | 1992-12-01 | 1994-11-15 | Nippon Soda Co., Ltd. | Clathrate compounds comprising tetrakisphenols as host |
| EP0973712A4 (en) * | 1997-02-19 | 2000-05-17 | Great Lakes Chemical Corp | PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF TETRABROMOBISPHENOL-A WITH CO-PRODUCTION OF N-PROPYL BROMIDE |
| JP4643000B2 (ja) * | 2000-12-28 | 2011-03-02 | 三井化学株式会社 | エステル基を有する化合物及びエポキシ樹脂組成物 |
| JP5521165B2 (ja) * | 2009-03-23 | 2014-06-11 | 和歌山県 | ヒドロキシスチレンダイマー誘導体、その製造方法、連鎖移動剤およびラジカル重合性モノマーの重合方法 |
| FR3041635B1 (fr) | 2015-09-30 | 2019-01-25 | Arkema France | Procede de production de mercaptans par hydrogenolyse enzymatique de disulfures |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2885385A (en) * | 1953-07-16 | 1959-05-05 | Union Carbide Corp | Polyphenylol derivatives of olefinic aldehydes |
| BE537059A (ja) * | 1954-04-09 | |||
| US3412047A (en) * | 1958-11-20 | 1968-11-19 | Union Carbide Corp | Polyurethane foams |
| NL258343A (ja) * | 1959-11-25 |
-
1975
- 1975-02-28 DE DE2508709A patent/DE2508709C2/de not_active Expired
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- 1976-02-24 US US05/660,876 patent/US4059638A/en not_active Expired - Lifetime
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- 1976-02-26 CA CA246,607A patent/CA1073927A/en not_active Expired
- 1976-02-26 JP JP51019484A patent/JPS6030660B2/ja not_active Expired
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