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JPS6030660B2 - トリスフエノールおよびその製造法 - Google Patents
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JPS6030660B2 - トリスフエノールおよびその製造法 - Google Patents

トリスフエノールおよびその製造法

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JPS6030660B2
JPS6030660B2 JP51019484A JP1948476A JPS6030660B2 JP S6030660 B2 JPS6030660 B2 JP S6030660B2 JP 51019484 A JP51019484 A JP 51019484A JP 1948476 A JP1948476 A JP 1948476A JP S6030660 B2 JPS6030660 B2 JP S6030660B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、p−イソプロベニルフェノールにもとずし・
た新規のトリスフェノールおよびそれらの製造法に関す
る。
p−イソプロベニルフエノールはおだやかにこれを加熱
するとき、それを溶媒中に溶解するならば、260でさ
えも次式に従って二量体(1)および(0)にかわる。
塩酸、硫酸またはリン酸のような強酸の存在で、これら
の二量体はモノマー(m)のカルボニウムィオンと平衡
にある。フェノールと反応するとき、従ってそれらは一
般にトリスフェノール(W)ではなくビスフヱノールA
にかわる。フェノ、−ル性水酸基をアシル化することに
よって二量体の反応性を減少させようとする試みがなさ
れるときでさえも、酸触媒の助けによってフェノールを
アルキル化するために用いられる通常の反応条件下で得
られる生成物は、ほとんどビスフェノールAのアシル誘
導体のみである。例えば、塩化水素を導入しながらp−
ィソプロベニルフェノール二量体のシアセテート(V)
を5000でフェノールと反応させるとき、モノアセチ
ルビスフェノールA(町)を得る。ここに驚くべきこと
に、反応温度を下げるとトリフェノール譲導体(血)を
得ることが見し、ださ*れた。
トリフェノールはジアセチル誘導体の加水分解によって
容易に得ることができる。
従って、本発明は、一般式 式中R,〜R4は同じであっても異なってもよく、水素
、C,〜C,2アルキル基、ハロゲン、OHまたはC,
〜C6はアルコキシ基を表わす、の新規トリスフェノー
ルに関する。
本発明のもう1つの目的はpーィソプロベニルフェノー
ル二量体のジアシル化合物または対応するポリカーボネ
ートを強酸触媒の存在下で、もしも望ましいならば不活
性溶媒中で、一20〜30ooの温度でフェノールと反
応させ、得られたトリフェノールのジアシル誘導体を公
知の方法でケン化する、これらのトリスフェノールとの
製造法である。
新規のトリスフェノールは好ましくはpーイソプロベニ
ルフェノール二量体のジアシル化合物とフェノールの溶
液をハロゲン化水素のはげしい流れで飽和させ、溶媒と
過剰のフェノールを留去し、高真空蒸留によって残澄か
らトリスフヱノールのジアシル譲導体を単離し、次にそ
れを公知の方法ケン化することによって製造する。
式中XはC,〜C6脂肪族基、ハロゲン、好ましくは塩
素または臭素によって、ニトロ基によってまたはC,〜
C4ァルキル基によって置換されてもよいフェニル基、
塩素、フェノキシ基またはC,〜C4アルコキシ基を示
し、nは1〜50の整数を表わす。
次のものが例として与えられる。
p−イソプロベニルフェノール二量体のジホルミル、ジ
アセチル、ジプロピオニル、ジブチリル、およびジベン
ゾィル化合物、p−イソプロベニルフェノールー量体と
ホスゲン、およびメチルクロロカーボネート、エチルク
ロロカーボネートまたはフエニルクロロカーボネートの
ようなクロロ炭酸ェステルとの反応生成物、すなわち、
ビスクロロ炭酸ェステルのジアルキルまたはジアリール
カーボネート、そしてpーイソプロベニルフェノール二
量体のポリカーボネート。上記のジアシル化合物は公知
の方法で、例えばp−ィソプロベニルフェノール二量体
を対応する酸塩化物または酸無水物と反応させることに
よって製造することができる。
反応を行うとき、必要な唯一の注意は、とくに酸塩化物
をアシル化剤として用いるとき、反応媒体の酸性が強す
ぎないようにすることである。なぜなら、さもなくばp
−イソプロベニルフェノール二量体は望ましくない副反
応によって三量体とポリマーにかえられやすい。結晶性
p−ィソプロベニルフェノールニ量体を用いるかわりに
、反応はピスフェノールAの分解生成物からフェノール
を蒸留するときの残澄として得られる種類の樹脂状生成
物で行なってもよい。
本発明の反応に対して適当なフェノールは一般式式中R
,〜R4は同じであっても異なってもよく、水素、C,
〜C,2アルキル基、ハロゲン、好ましくは塩素または
臭素、OHまたはアルコキシ基を表わす、のものである
次のものが例である。
フェノール、o−、m−およびp−クレゾール、o−、
m−、pークロロフエノール、2・6ージクロロフエノ
ール、o一、m一およびpープロモフエノール、o一、
m一およびpーエチルフヱノール、o−、m−およびp
−プロピルフエノール、o−、m一およびpーイソプロ
ピルフエノール、o一、m−およびp−ブチルフエノー
ル、o一、m一およびp一イソブチルフエノール、o一
、m一およびp一にrtーブチルフエノール、o一、m
−およびpーノニルフエノール、0一、m−およびp−
ドデシルフエノール、2・4ージメチルフエノール、3
・4−ジメチルフエノール、2・6−ジメチルフエノー
ル、2・6−ジエチルフエノ−ル、o−、m−およびp
−シクロヘキシルフエノール、Qーナフトール、8ーナ
フト−ル、ハイドロキノン、レゾルシノール、ピロカテ
コール、ハイドロキノンモノメチルヱーテル、レゾルシ
ノールモノメチルエーテルおよびグワヤコ−−ル。
本発明の反応に対して適当な強酸触媒には例えば硫酸、
pートルェンスルホン酸、メタンスルホン酸、濃塩酸、
濃臭化水素酸、三フツ化ホウ素、リン酸、スルホン化ポ
リスチレンと酸活性化フラー士のようなカチオン交換体
が含まれるが、用いるのが好ましい酸触媒はすべて無水
で用いられる塩化水素または臭化水素のようなハロゲン
化水素である。
無水ハロゲン化水素を用いる利点は、次に生成物を処理
する容易さである。
対照的に非揮発性酸はもし必要ならば中和後に反応生成
物を注意深く洗い出さねばならない。なぜならばそれら
は高温で反応生成物の分解の触媒として働くが、ハロゲ
ン化水素は反応生成物にいかなる有害な作用もおよぼす
ことなくどのような溶媒とともにも減圧で除くことがで
きる。それに加えて、触媒として用いたハロゲン化水素
は高い収率を生じ、より少ない副生成物を生ずる。用い
る触媒の量はp−ィソプロベニルフェノ−ル二量体のジ
アシル化合物1モルにつき0.01〜1モルの間である
。ハロゲン化水素は好ましくは反応混合物をガス状酸で
飽和させることによって用いる。本方法に対して適当溶
媒には例えばベンゼン、トルェン、シクロヘキサン、リ
クロイン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、
塩化エチレンまたはクロロベンゼンのような、望ましい
ならばハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族
炭化水素、ジェチルェーテルまたはジオキサンのような
シクロ脂肪族または脂肪族エーテルあるいは酢酸エチル
または酢酸ブチルのようなC2〜C4月旨肪族カルボン
酸の脂肪族ェステルが含まれる。
用いる反応温度は−20℃〜30qoの間である。一般
則として用いるフェノール成分の反応速度が低ければ低
いほど、上に与えた制限内で用いる反応温度は高くすべ
きである。それゆえ、例えばもしもフェノールを反応物
質として、ハロゲン化水素を触媒として用いるならば、
もっとも適当な反応温度は約一20午0〜10午0の間
である。もしもより反応性の小さいフェノール、例えば
2・6ージメチルフェノールを用いるならば、約10q
o〜30ooの間の反応温度が収率に影響をおよ‘ます
ことなく用いるのに適する。特殊な場合にはもしも上に
示したカイドラインに従うならば、予備試験によっても
っとも適する温度範囲を見いだすことは困難すぎること
がないであろう。フェノールは過剰に、すなわちイソプ
ロベニルフェノール二鼻体のジアシル化合物1モルにつ
き約2〜20モルの量を用いるのが適当である。
本方法の生成物は種々の工業的な目的に対して用いるこ
とができる。それらのェピクロルヒドリンとの反応は高
度に耐熱性のェポキシ樹脂を生ずる。新規のトリスフェ
ノールのェトキシル化およびプロポキシル化生成物はす
ぐれた織物添加剤および織物の染色に対する均染剤であ
る。本生成物はまたポリウレタンの可逆性橋かけにも適
する。実施例 1{a)2・4−ジー4′ーアセトキシ
フエノール−4ーメチル−ペンテンー1無水酢酸500
の‘とピリジン1の【中の融点131℃のp−イソプロ
ベニルフェノール二量体の268夕(1モル)の溶液を
還流下で2時間加熱する。
次に過剰の無水酢酸は減圧下で生成した氷酢酸とともに
除き、反応生成物を178〜18か0/0.08Ton
で粘ちような液体として留去する。n客=1.549。
収量342夕=理論値の97%。(b)2・2・4ート
リー4′−ヒドロキシフエニルー4−メチル−ペンタン
無水塩化水素の流れをフェノール470夕(5モル)と
塩化メチレン300必中の上の‘小こ従って製造したジ
ァセチル化合物176夕(0.5モル)の溶液中に0℃
で6時間かけて溶液が飽和するまで加える。
次に塩化水素、溶媒および過剰のフェノールを減圧下で
200℃までの反応温度に加熱することによって除く。
残燈227夕を得る。高真空蒸留は195〜210℃/
0.04TonでモノアセチルビスフェノールA36夕
を、250〜270℃/0.04Tonで2・4ージー
(4′−アセトキシフエニル)一2−(4″ーヒドロキ
シフエニル)−4−メチル一ベンタンフラクション19
0夕を生する。収率:理論値の85%。透明な溶液を得
るまで過剰のが水酸化ナトリウム溶液中で煮沸し、希酢
酸で酸性化し、トリスフェノールを酢酸エチル中に溶解
し、溶媒を除くことによって、下に与える式のトリスフ
ェノールを硬い樹脂の形で得る。
塩化エチレン*からの再結晶の後融点は150〜15〆
○の間である。C24日2603(362.5) 計算値 C79.53日7.23013.24分析値
79.42 7.21 13.51電位差滴定よ
るフェノール性OH:計算値 14.1 分析値 14.25 参考例 45%水酸化ナトリウム溶液140夕(1.575モル
)を2時間かけてェピクロルヒドリン700タ中に上の
{b)に従って製造したトリスフエノ−ル182夕(享
モル)の溶液中に95ご110℃でかさまぜながら滴下
し、その間水は水分離器を用いて共沸混合物として連続
的に除く。
次に加熱は反応温度が118℃に達するまで還流下でさ
らに30分間続ける。次に過剰のェピクロルヒドリンは
140qoの反応温度に達するまで減圧下で蟹去する。
次に穣澄は塩化メチレンに溶解させ、塩化ナトリウムは
加圧下で操作する吸引フィル夕−で炉則し、最後に減圧
で反応混合物の温度が175ooにのぼるまで溶媒を除
く。7.85%のェポキシ価を有する淡黄色の樹脂24
2夕を得る。
この樹脂68夕の溶融物を溶融した無水フタル酸30夕
と混合し、混合物を16000に10時間加熱すること
によって硬化させ、厚さ4側の板を作る。
次にマルテンス法による加熱下の寸法安定性は184こ
0である。対照によって、ビスフェノールAとェピクロ
ルヒドリンの反応生成物から上記の方法によって製造し
た板はわずか132℃のマルテンス法による寸法安定性
を有する。実施例 2 2・4ージー(4ーヒドロキシフエニル)一2一(4″
ーヒドロキシ−3″ーメチルフエニル)−4ーメチルベ
ンタン無水塩化水素の流れをo−クレゾール540夕と
塩化エチレン200の‘中に実施例1{a’の融点16
5qoを有するp−イソプロベニルフェノール二量体か
ら製造した2・4ージー4′ーアセトキシフェニルー4
−メチルベンテンー2 1769(0.5モル)の溶液
中に0℃で溶液が飽和されるまで8時間加える。
生成物は実施例1に記載したように処理する。減圧で過
剰のoークロゾールを除去した後、樹脂状残笹230夕
が残る。この残笹は少量の初留の後255〜270oo
/0.04Tomでほとんど完全に蟹出する。2・4ー
ジー(4ーアセトキシフェニル)一2−(4″ーヒドロ
キシー3″ーメチルフエニル)−4−メチルーベンタン
の収量:200夕=理論値の96%。
ジァセチル化合物はそれを過剰のが水酸化ナトリウム溶
液と数時間滋とうさせることによってケン化する。
トリスフェノールは州酢酸で沈殿させ、酢酸エチルに吸
収させ、硫酸ナトリウム上で脱水し、減圧で溶媒を除く
。こはく色のかたい樹脂が残る。塩化メチレンから再結
晶後の融点:147〜148q0。C25日2803(
376.5) 計算値 C79.75日7.50012.75分析値
79.61 7.47 12.90フェノール性
OH:計算値 13.5 分析値 13.46 実施例 3 2・4−ジー(4′ーヒドロキシフエニル)−2一(4
″ーヒドロキシー3″・5″ージメチルフエニル)一4
ーメチルベンタン2・6ージメチルフェノール500夕
と塩化メチレン400地中に2・4ージー4′ーアセト
キシフエニル一4ーメチルベンテンー1 176夕(0
.5モル)の溶液をその中に無水塩化水素を0℃で8時
間、次に20qoで8時間通すことによって塩化水素で
飽和させる。
次に反応混合物は実施例1のように処理する。減圧蒸留
によって過剰の2・6ージメチルフェノールを除去した
後樹脂232夕を残湾として得る。反応生成物の主留分
は260〜27500/0.05Tonで高真空蒸留に
よって留去する。2・4ージ−(4′ーアセトキシフエ
ニル)一2一(4″−ヒドロキシー3″・5″ージメチ
ルフエニル)−4ーメチルベンタンの収量:178夕=
理論値の75%。
こはく色のかたい樹脂を、過剰の水酸化ナトリウム溶液
中の反応生成物をメタノール200のZの添加によって
ケン化し、トリスフェノールを希塩酸によって沈殿させ
、それを酢酸エチル中に吸収させ、それを硫酸ナトリウ
ム上で脱水し、溶媒を留去した後で得る。塩化メチレン
からの再結晶後の融点:98〜100q0。C26日3
の3(390.5) 計算値 C79.96日7.74012.29分析値
79.78 7.61 12.42フェノール性
のOH:計算値 13.0 分析値 12.92 実施例 4 ‘a} 2.4ージー(4′−クロロカルボキシフエニ
ル)一4−メチル−ペンテンー1ホスゲン3002を無
水の塩化メチレン1そに−500で加え、融点13ro
のpーイソプロベニルフェノール二量体268夕(1モ
ル)を加える。
ジメチルアニリン254〜(2.1モル)を、反応混合
物を、凍結混合物によって冷却しながら、1時間かけて
滴下する。温度を室温に上昇させ、次に反応混合物を還
流下で2時間加熱する。溶媒の1/3を常圧で過剰のホ
スゲンによって除く。次に残簿を0℃に冷却し、毎回濃
塩酸20肌を添加した後、氷水とともに2回振とうする
。生成物を硫酸ナトリウム上で脱水し、溶媒を蒸発させ
、残澄を減圧で蒸留する。反応生成物を含んでいる留分
は180〜188こ0/0.0汀omでほとんど無色の
粘ちよう液体として留出する。収量:335夕=理論値
の85%。{b)2・2・4ートリ−(4′ーヒドロキ
シフヱニル)一4−メチルベンタン塩化水素をトルェン
180叫とフェノール150タ中に{a’‘こ従って製
造したp−ィソプロベニルフェノール二量体のビスクロ
ロ炭酸ェステル78.6夕(0.2モル)溶液中に0℃
で6時間加える。
溶媒と過剰のフェノールは減圧で除き、反応生成物はメ
タノール400肌に溶解し、濃水硫酸ナトリウム溶液2
00の‘を滴下する。次に反応混合物は等量の水で希釈
し、加熱還流する。メタノールを蟹去し、トルェン40
0の‘を加え、トリスフェノールを希塩酸で沈殿させる
。溶媒相を水で洗い、硫酸ナトリウム上で脱水し、蒸発
によって濃縮する。蒸留による過剰のフェノールの除去
の後、少量のビスフェノールAが留出し、それに続いて
トリスフェノール留分が270〜280℃/0.05T
orrで留出する。融点150〜1.51℃(塩化メチ
レンから)。収量:48夕=理論値の66% 実施例 5 ‘a} 2.4ージー(4′ーオキシカルポフエノキシ
フエノール)一4−メチルベンテンー1塩化メチレン5
00の【中にクロロキ酸フェニル189夕(0.2モル
)の溶液を室温で州水酸化ナトリウム溶液1.8ぐ中に
p−ィソプロベニルフェノール二量体(融点131℃)
134夕(0.5モル)の溶液中に注ぐ。
次に反応混合物は2時間かきまぜ、、有機相を水で洗い
、溶媒を減圧で除く。p−ィソプロベニルフェノール二
量体のビスフェニルカーボネートからなる樹脂状生成物
を残澄として得る。収量:234夕=理論値の92%。
融点77℃(エチルアルコールから)。{b} 2・2
・4−トリ−(4′ーヒドロキシフエニル),一4ーメ
チルベンタン無水の塩化水素をフェノール1総夕(2モ
ル)とトルェン400の‘中に{aに従って製造したビ
スフエニルカーボネート127夕(0.25モル)の溶
液中に5℃で5時間通す。
溶液と過剰のフェノールは減圧で除く。残澄はメタノー
ル400の‘と水100必中に水酸化カリウム140夕
の溶液によってケン化する。透明な溶液は水2そで希釈
し、トリスフェノールを州塩酸で沈殿させ、エーテルに
吸収させる。エーテル残糟は減圧で留出させる。80q
o/12rorrで蒸留によってビスフェノールを除き
、180午0/0.0虹omで蒸留によって少量のビス
フェノールAを除いた後、トリスフェノールが樹脂とし
て得る。
収量:80夕=理論値の88%。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1、R_2、R_3及びR_4は同じであつ
    ても異なつてもよく、水素、C_1〜C_1_2アルキ
    ル基、アルコキシ基、水酸基またはハロゲン原子を表わ
    す、のトリスフエノール。 2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1、R_2、R_3およびR_4は同じであ
    つても異なつてもよく、水素、C_1〜C_1_2アル
    キル基、アルコキシ基、水酸基またはハロゲン原子を表
    わす、のトリスフエノールを製造するにあたり、p−イ
    ソプロペニルフエノール二量体のジアシル誘導体を酸触
    媒の存在で−20〜30℃の温度でフエノールと反応さ
    せ、得られたアシル誘導体をケン化し、トリスフエノー
    ルを生成させることを特徴とするトリスフエノールの製
    造法。 3 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1、R_2、R_3およびR_4は同じであ
    つても異なつてもよく、水素、C_1〜C_1_2アル
    キル基、アルコキシ基、水酸基またはハロゲン原子を表
    わす、のトリスフエノールを製造するにあたり、p−イ
    ソプロペニルフエノール二量体のジアシル誘導体に対応
    するポリカーボネートを酸触媒の存在で−20〜30℃
    の温度でフエノールと反応させ、得られたアシル誘導体
    をケン化し、トリスフエノールを生成させることを特徴
    とするトリスフエノールの製造法。 4 酸触媒がハロゲン化水素である特許請求の範囲第2
    項または第3項記載の方法。 5 反応を不活性溶媒中で行う特許請求の範囲第2項ま
    たは第3項記載の方法。 6 p−イソプロペニルフエノール二量体のジアシル誘
    導体または対応するポリカーボネートが式▲数式、化学
    式、表等があります▼ 式中XはC_1〜C_6脂肪族
    基、C_1〜C_4アルコキシ基、フエノキシ基、ハロ
    ゲン、ニトロまたはC_1〜C_4アルキルによつて適
    宜置換されたフエニル基または塩素を表わし、そして
    nは1〜50の整数である、 を有する特許請求の範囲第2項または第3項記載の方法
    。 7 反応に用いたフエノールが一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1、R_2、R_3およびR_4は同じであ
    つても異なつてもよく、水素、C_1〜C_1_2アル
    キル、C_1〜C_6アルコキシ、ハロゲンまたは水酸
    基を表わすを有する特許請求の範囲第2項または第3項
    記載の方法。
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