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JPS6030663B2 - Production method of tertiary alkyl hypohalite - Google Patents
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JPS6030663B2 - Production method of tertiary alkyl hypohalite - Google Patents

Production method of tertiary alkyl hypohalite

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JPS6030663B2
JPS6030663B2 JP1251982A JP1251982A JPS6030663B2 JP S6030663 B2 JPS6030663 B2 JP S6030663B2 JP 1251982 A JP1251982 A JP 1251982A JP 1251982 A JP1251982 A JP 1251982A JP S6030663 B2 JPS6030663 B2 JP S6030663B2
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JP
Japan
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reaction
tertiary
tertiary alkyl
hypohalite
pressure
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JP1251982A
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ジヨ−ジ・ダン・サツシユ
ヴインセント・アンソニイ・ストレンジオ
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Lummus Co
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Publication date
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C71/00Esters of oxyacids of halogens

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は次亜ハロゲン酸三級アルキルの製造法、特に次
亜塩素酸三級アルキルの製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing tertiary alkyl hypohalite, and particularly to a method for producing tertiary alkyl hypochlorite.

次亜塩素酸三級アルキルを製造するための三級アルカノ
ール、塩素および水性塩基の間の反応は当業者に一般に
知られており、例えば米国特許第1938175号およ
び同第3149140号から知られている。
The reaction between a tertiary alkanol, chlorine and an aqueous base to produce tertiary alkyl hypochlorite is generally known to those skilled in the art, for example from US Pat. .

米国特許第4008133号にはオレフィンオキサィド
製造のための全般的な方法の中で次亜塩素酸三級ブチル
を製造することが記載されている。ハロゲン、塩基およ
び三級アルカノールの間の次亜ハロゲン酸三級アルキル
を作るための反応は非常な発熱反応であり、上述した米
国特許に示されている如き方法においては外部冷却を必
要とし、有効な温度制御を与えるため反応熱を経済的に
消散させることを計画するとき困難に遭遇する。有効で
ない温度制御は次亜塩素酸三級アルキルの分解を生ぜし
めることがあり、収量損失を生ぜしめ、制御し得ない反
応例えば暴走反応をときには生ぜしめることがある。本
発明によれば上述した如き従来の方法の温度制御の困難
を克服して三級アルカノール、ハロゲンおよび水性塩基
の反応によって次亜ハロゲン酸三級アルキルを製造する
ための新規にして改良された方法を提供する。
US Pat. No. 4,008,133 describes the production of tertiary-butyl hypochlorite in a general process for producing olefin oxides. The reaction between a halogen, a base, and a tertiary alkanol to make tertiary alkyl hypohalites is a highly exothermic reaction that requires external cooling and is not effective in processes such as those shown in the above-mentioned U.S. patents. Difficulties are encountered when planning to economically dissipate the heat of reaction to provide reliable temperature control. Ineffective temperature control can cause decomposition of the tertiary alkyl hypochlorite, resulting in yield losses and sometimes leading to uncontrolled reactions, such as runaway reactions. According to the present invention, a new and improved process for producing tertiary alkyl hypohalites by reaction of a tertiary alkanol, a halogen and an aqueous base overcomes the temperature control difficulties of conventional processes as described above. I will provide a.

本発明によれば、三級アルカノールをハロゲンおよび水
性無機塩基と、および/または前ハロゲン化水性無機塩
と、通常100o○以下の温度で、次亜ハロゲン酸三級
アルキル生成物を蒸発させ、これによって蒸気生成物と
して次亜ハロゲン酸三級ァルキルを回収する圧力で反応
させて次亜ハロゲン酸三級ァルキルを製造する。
According to the present invention, a tertiary alkanol is combined with a halogen and an aqueous inorganic base, and/or a prehalogenated aqueous inorganic salt, and the tertiary alkyl hypohalite product is evaporated, typically at a temperature below 100°C. The tertiary alkyl hypohalite is produced by the reaction at a pressure that recovers the tertiary alkyl hypohalite as a vapor product.

反応熱は潜熱(生成物の蒸発)として除去し、結果とし
て反応温度を自己制御する。更に詳細には反応は一般に
減圧下に行ない、圧力は一般に5〜100kPa台、最
も一般的には20〜60kPA台である。
The heat of reaction is removed as latent heat (evaporation of the product), resulting in self-control of the reaction temperature. More specifically, the reaction is generally carried out under reduced pressure, generally at pressures on the order of 5 to 100 kPa, most commonly on the order of 20 to 60 kPa.

反応温度は凍結点のすぐ上から通常100ooまで、好
ましくは60こ0まで、最も好ましくは40〜6000
台であることができる。前述した如く、圧力は次亜塩素
酸ェステル生成物の蒸発を確実ならしめるため温度と共
に調整する。好ましい具体例によると、反応は連続反応
であり、三級アルカノール、ハロゲンおよび無機塩基の
水溶液および/または三級アルカノールおよび別ハロゲ
ン化水性塩基を連続的に反応器に供給し、蒸発した次亜
ハロゲン酸三級アルキルおよび一般には少量の水蒸気も
反応器から連続的に取り出す。
The reaction temperature is from just above the freezing point, usually up to 100°C, preferably up to 60°C, most preferably between 40 and 6000°C.
It can be a stand. As previously stated, pressure is adjusted along with temperature to ensure evaporation of the hypochlorite ester product. According to a preferred embodiment, the reaction is a continuous reaction, in which an aqueous solution of tertiary alkanol, halogen and inorganic base and/or tertiary alkanol and another halogenated aqueous base are continuously fed to the reactor and the evaporated hypohalogen The tertiary alkyl acid and generally a small amount of water vapor are also continuously removed from the reactor.

反応器は各反応成分間に良好な接触を与える種々な反応
器、特に気液反応に好適な反応器の何れか一つであるこ
とができる。反応成分を反応成分からなる液体組成物中
に導入し、蒸発する次亜ハロゲン酸ェステルの気泡で擬
拝されるようにした深いタンク型の反応器が特に簡単か
つ有用である。特に好ましい実施態様によれば、反応器
は、化学反応によって発生する熱を次亜ハロゲン酸三級
アルキル生成物の蒸発、および一般には少量の水および
/またはアルカノールも蒸発させることによって除去す
るように圧力を抑制して熱収支を維持する。
The reactor can be any one of a variety of reactors that provide good contact between the reaction components, particularly those suitable for gas-liquid reactions. Particularly simple and useful is a deep tank type reactor in which the reactants are introduced into a liquid composition of the reactants, simulated by bubbles of evaporating hypohalite ester. According to a particularly preferred embodiment, the reactor is adapted to remove the heat generated by the chemical reaction by vaporizing the tertiary alkyl hypohalite product and generally also vaporizing small amounts of water and/or alkanol. Maintain heat balance by suppressing pressure.

この方法においては反応温度を保持するため反応媒体の
外部冷却を行なう必要はない。従って好ましい実施態様
によれば反応は本質的に等温条件で行われる、即ち反応
温度は反応器全体にわたり数℃より多く変化することは
ない。反応成分として使用する三級アルカノールは三級
ブチルまたは三級アミルアルコールが好ましく、特に三
級ブタノールが好ましい。
In this method there is no need for external cooling of the reaction medium to maintain the reaction temperature. According to a preferred embodiment, therefore, the reaction is carried out under essentially isothermal conditions, ie the reaction temperature does not vary by more than a few degrees centigrade over the reactor. The tertiary alkanol used as a reaction component is preferably tertiary butyl or tertiary amyl alcohol, particularly tertiary butanol.

水性無機塩基はアルカリ金属およびアルカリ士類金属水
酸化物を含む種々の塩基の任意の一つであることができ
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化カル
シウムが特に好ましく、水酸化ナトリウムが最も好まし
い。各反応成分は所望の反応の結果によって広い範囲の
割合で使用する。
The aqueous inorganic base can be any one of a variety of bases including alkali metal and alkali metal hydroxides, with sodium hydroxide, potassium hydroxide and calcium hydroxide being particularly preferred, with sodium hydroxide being the most preferred. preferable. Each reaction component is used in a wide range of proportions depending on the desired reaction result.

例えば何れかの所望反応成分の実質的に完全な変換を得
ることを望むときには、他の反応成分は過剰に使用する
とよい。一般にはほぼ理論量の割合、即ちほぼ等モル量
使用するのが好ましい。例えば次亜ハロゲン酸ェステル
蒸気生成物中のハロゲンの存在を最少にするためにはハ
ロゲン対塩基のモル比は約1.05:1を越えるべきで
ない。次亜ハロゲン酸ヱステル蒸気生成物中のハロゲン
の量は、次亜ハロゲン酸ェステルの生成によってハロゲ
ンを除くため、反応器を出る蒸気が水性塩基と接触する
よう一つ以上の追加の段階を設けることによって減少さ
せることができる。同様に反応器から回収される水性相
中に有機物、例えば三級アルカノールが存在するのを防
ぐためには、塩基に対する三級アルカノールの量はあっ
たとしても理論割合よりあまり多くすべきでなく、ある
場合には理論割合より少なくすべきである。
For example, when it is desired to obtain substantially complete conversion of any desired reaction component, excess of the other reaction component may be used. Generally, it is preferred to use approximately the stoichiometric proportions, that is, approximately equimolar amounts. For example, to minimize the presence of halogen in the hypohalite vapor product, the molar ratio of halogen to base should not exceed about 1.05:1. The amount of halogen in the hypohalite ester vapor product is determined by providing one or more additional stages in which the vapor exiting the reactor is contacted with an aqueous base to remove the halogen by forming a hypohalite ester. can be reduced by Similarly, in order to prevent the presence of organics, such as tertiary alkanols, in the aqueous phase recovered from the reactor, the amount of tertiary alkanol to base should not be much, if any, higher than the theoretical ratio; In some cases, the ratio should be lower than the theoretical ratio.

例えば三級アルカノール対塩基の比は一般に0.95:
1〜1.3:1台であり、最も好ましくは0.98:1
〜1.05:1台である。所望によって大量の三級アル
カノールを使用してもよい、かかる大量は反応に悪影響
を与えない。
For example, the ratio of tertiary alkanol to base is typically 0.95:
1 to 1.3:1, most preferably 0.98:1
~1.05:1 unit. Large amounts of tertiary alkanol may be used if desired; such large amounts do not adversely affect the reaction.

本発明は反応条件で充分に安定である次亜塩素酸ェステ
ル、または次亜臭秦酸ェステルおよび次亜沃素酸ェステ
ルの製造に一般に使用しうるが、本発明は特に次亜塩素
酸ェステル、特に次亜塩素酸三級プチルの製造に適用性
を有する。
Although the present invention may be used generally for the production of hypochlorite esters, or hypobromic acid esters and hypoiodite esters, which are sufficiently stable under the reaction conditions, the present invention is particularly applicable to hypochlorite esters, especially Applicable to the production of tertiary butyl hypochlorite.

本発明を以後次亜塩素酸ェステルについて説明する。本
発明は、オレフィンおよび水との反応によってクロロヒ
ドリンを製造するため次亜塩素酸三級アルキルを使用す
るようなオレフインオキサイド製造の全工程中で特に有
用である。かかる方法は例えば米国特許第400813
3号に記載されている。例えばかかる好ましい実施態様
によれば、塩化ナトリウムおよび水酸化ナトリウムの水
溶液を含む糟の陽極室から得られる電解質のみならず電
解槽中で発生する塩素を三級アルカノールと共に、前述
した温度および前述した圧力で操作した次亜塩素酸ェス
テル生成反応器中に導入し、蒸気として次亜塩素酸三級
アルキルを回収し、次函塩素酸三級アルキル生成物およ
び若干の水の蒸発によって反応熱を除くことによって反
応温度を制御する。塩化ナトリウム水溶液である水性相
は必要ならば適当に処理した後電解槽に再循環する。次
いで次亜塩素酸三級アルキル蒸気はオレフィンクロロヒ
ドリン製造のため米国特許第4008133号に記載さ
れている如くクロロヒドリン化反応器で使用する。別法
として、電解質の全部または一部を前塩素化し、前塩素
化電解質を三級アルカノールと反応させて次亜塩素酸三
級アルキルを作る、これは前述した如く蒸気として回収
する。
The present invention will hereinafter be explained with reference to hypochlorite ester. The present invention is particularly useful in all processes for producing olefin oxides, such as those using tertiary alkyl hypochlorite to produce chlorohydrins by reaction with olefins and water. Such methods are described, for example, in US Pat. No. 4,008,13.
It is stated in No. 3. For example, according to such a preferred embodiment, chlorine generated in the electrolytic cell as well as an electrolyte obtained from an aqueous solution of sodium chloride and sodium hydroxide in an aqueous solution of sodium chloride and sodium hydroxide is combined with a tertiary alkanol at a temperature as described above and a pressure as described above. tertiary alkyl hypochlorite is recovered as vapor, and the heat of reaction is removed by evaporation of the tertiary alkyl hypochlorite product and some water. The reaction temperature is controlled by The aqueous phase, which is an aqueous sodium chloride solution, is recycled to the electrolytic cell after appropriate treatment if necessary. The tertiary alkyl hypochlorite vapor is then used in a chlorohydrination reactor as described in U.S. Pat. No. 4,008,133 to produce olefin chlorohydrin. Alternatively, all or part of the electrolyte is prechlorinated and the prechlorinated electrolyte is reacted with a tertiary alkanol to produce tertiary alkyl hypochlorite, which is recovered as a vapor as described above.

本発明を更に下記実施例について説明する。The present invention will be further explained with reference to the following examples.

実施例直径5.08仇(2n)、高さ91.4弧(gt
)の管から反応器を構成した。
Example diameter: 5.08 meters (2n), height: 91.4 arcs (gt
) The reactor was constructed from tubes.

管の下部を空にし、ガス状塩素、液体t−ブタノールお
よび12%NaOHと15%NaCIを含有する水溶液
のための入口を設けた。この溶液は約25%のNaCI
水溶液の電解から生ずる槽液に擬した。管の上方15.
24伽(1/がt)に3.81肌(1/8in)のラシ
ヒリングを充填した。
The lower part of the tube was emptied and provided with an inlet for gaseous chlorine, liquid t-butanol, and an aqueous solution containing 12% NaOH and 15% NaCI. This solution contains approximately 25% NaCI
It simulated the bath liquid generated from electrolysis of an aqueous solution. Above the tube 15.
A 24-ring (1/8 inch) was filled with a 3.81 inch (1/8 inch) Raschig ring.

充填物は小滴の連行を防止する。蒸気反応生成物の出口
を充填物の上に作った。充填帯城の中央に、出口を設け
、ここを通して槽液流を導入して反応器から出る蒸気に
援触させ、かくして未反応塩素を流出ガスから除去する
。反応器の底の上1.8tに置いた出口は塩化ナトリウ
ム水溶液のオーバーフローとして作用し、受器に接続し
た。
The filling prevents entrainment of droplets. An outlet for the vapor reaction products was made above the packing. An outlet is provided in the center of the packed zone through which a stream of tank liquid is introduced to contact the vapor exiting the reactor and thus remove unreacted chlorine from the effluent gas. An outlet placed 1.8 t above the bottom of the reactor served as an overflow for the aqueous sodium chloride solution and was connected to a receiver.

反応器の頂部を通って出る生成物蒸気は直列の二つの冷
却トラツプ(氷水およびドライアイス)中で凝縮させた
。最後の冷却トラツプは真空ポンプに接続した。カラム
は加熱のため電気的にとりまき、真空操作に必要な装置
を設けた。
The product vapor exiting through the top of the reactor was condensed in two cooling traps in series (ice water and dry ice). The final cooling trap was connected to a vacuum pump. The column was electrically surrounded for heating and equipped with the necessary equipment for vacuum operation.

実験は反応器に600ccの25重量%NaCI水溶液
を導入することによって開始した。
The experiment was started by introducing 600 cc of 25% by weight NaCI aqueous solution into the reactor.

温度は45ooにし、37kpa(280肋日9絶対圧
力)の圧力を確立した。計量ポンプによって、t−Bu
OHの1の【/分(10.5肌mol/分)の流れと3
.05の【/分の槽液を反応器に供給した。
The temperature was 45°C and a pressure of 37kpa (280°C absolute pressure) was established. By metering pump, t-Bu
1 [/min (10.5 skin mol/min) flow of OH and 3
.. 05/min of bath liquid was fed to the reactor.

ガス状塩素(270地/分、11mmol/分)を反応
器の液体中に吹き込んだ。糟液の約80%を反応器の底
に供給し、残りは充填帯域に圧送した。各反応成分間の
モル比は1.山一BuOCI/1.04NaOH/1.
0に12に保つた。
Gaseous chlorine (270 g/min, 11 mmol/min) was bubbled into the reactor liquid. Approximately 80% of the sludge was fed to the bottom of the reactor and the remainder was pumped into the packing zone. The molar ratio between each reaction component is 1. Yamaichi BuOCI/1.04NaOH/1.
I kept it at 0 to 12.

反応器の内容物は形成された気泡によって烈しく混合さ
れた。上述した圧力を保つことによって、反応混合物の
過熱を避けるに当って何も問題はなかった。液体有機物
相は反応器内で見られなかった。
The contents of the reactor were mixed intensively by the air bubbles that formed. By maintaining the pressures mentioned above, there were no problems in avoiding overheating of the reaction mixture. No liquid organic phase was seen within the reactor.

試験の終りにトラップの内容物を分析した。有機物相は
本質的に純粋なt−BuOCIからなっていた。本発明
はときに生ずることのある暴走反応を防ぐため経済的に
温度を制御しながら、次亜塩素酸三級アルキルの製造を
可能にすることで特に有利である。
The contents of the trap were analyzed at the end of the test. The organic phase consisted of essentially pure t-BuOCI. The present invention is particularly advantageous in that it allows the production of tertiary alkyl hypochlorite while controlling the temperature economically to prevent runaway reactions that sometimes occur.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 反応中次亜ハロゲン酸三級アルキル生成物を蒸発さ
せて反応温度を制御し、かつ蒸気生成物として次亜ハロ
ゲン酸三級アルキルを回収する温度および圧力で三級ア
ルカノールをハロゲンおよび無機塩基の水性溶液と反応
させるか、あるいはハロゲンと反応させた無機塩基の水
性溶液と反応させることを特徴とする次亜ハロゲン酸三
級アルキルの製造法。 2 反応圧力が減圧である特許請求の範囲第1項記載の
方法。 3 ハロゲンが次亜塩素酸三級アルキルを製造する塩素
である特許請求の範囲第2項記載の方法。 4 反応を蒸発によつて反応熱を除去する圧力で行ない
、これによつて反応温度を外部冷却することなく本質的
に等温条件になるよう制御する特許請求の範囲第3項記
載の方法。 5 三級アルカノールが三級ブタノールである特許請求
の範囲第4項記載の方法。 6 圧力が5〜100kPaである特許請求の範囲第5
項記載の方法。 7 反応温度が40〜60℃である特許請求の範囲第6
項記載の方法。 8 反応成分を、蒸発する次亜ハロゲン酸エステルの気
泡によつて撹拌される反応成分からなる液体中に連続的
に導入し、次亜ハロゲン酸エステルを含有する蒸気を連
続的に回収する特許請求の範囲第7項記載の方法。 9 塩基が水酸化カリウム、水酸化ナトリウムまたは水
酸化カルシウムである特許請求の範囲第1項記載の方法
[Claims] 1. Tertiary alkanol at a temperature and pressure that vaporizes the tertiary alkyl hypohalite product during the reaction, controls the reaction temperature, and recovers the tertiary alkyl hypohalite as a vapor product. A method for producing tertiary alkyl hypohalite, which comprises reacting with an aqueous solution of a halogen and an inorganic base, or reacting with an aqueous solution of an inorganic base reacted with a halogen. 2. The method according to claim 1, wherein the reaction pressure is reduced pressure. 3. The method according to claim 2, wherein the halogen is chlorine for producing tertiary alkyl hypochlorite. 4. The method of claim 3, wherein the reaction is carried out at a pressure that removes the heat of reaction by evaporation, thereby controlling the reaction temperature to essentially isothermal conditions without external cooling. 5. The method according to claim 4, wherein the tertiary alkanol is tertiary butanol. 6 Claim 5 where the pressure is 5 to 100 kPa
The method described in section. 7 Claim 6 in which the reaction temperature is 40 to 60°C
The method described in section. 8. A patent claim in which a reaction component is continuously introduced into a liquid consisting of the reaction component that is stirred by bubbles of the evaporating hypohalite ester, and the vapor containing the hypohalite ester is continuously recovered. The method described in item 7. 9. The method according to claim 1, wherein the base is potassium hydroxide, sodium hydroxide or calcium hydroxide.
JP1251982A 1981-01-30 1982-01-28 Production method of tertiary alkyl hypohalite Expired JPS6030663B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

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Publication Number Publication Date
JPS57144245A JPS57144245A (en) 1982-09-06
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NL (1) NL8200023A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05176035A (en) * 1991-12-25 1993-07-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd Button telephone device

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1184149B (en) * 1985-03-11 1987-10-22 Montefluos Spa PROCESS FOR THE PREPARATION OF FLUOROSSI-ALO-COMPOSTI
RU2446146C2 (en) * 2010-04-27 2012-03-27 Открытое акционерное общество "Сибур-Нефтехим" Method of producing tert-butylhypochlorite

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1938175A (en) * 1933-12-05 Manufacture of alkyl hypohalites
US3149140A (en) * 1964-09-15 Process for preparing tertiary
US4008133A (en) * 1974-09-20 1977-02-15 The Lummus Company Production of epoxy compounds from olefinic compounds
US4342703A (en) * 1980-09-08 1982-08-03 The Lummus Company Production of alkyl hypohalites

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05176035A (en) * 1991-12-25 1993-07-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd Button telephone device

Also Published As

Publication number Publication date
GB2092137A (en) 1982-08-11
JPS57144245A (en) 1982-09-06
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GB2092137B (en) 1984-08-22
DE3201966C2 (en) 1990-02-22
FR2499068B1 (en) 1986-05-02
DE3201966A1 (en) 1982-08-19

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