JPS6032099B2 - 過冷却液化ガス供給装置 - Google Patents
過冷却液化ガス供給装置Info
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- JPS6032099B2 JPS6032099B2 JP15591776A JP15591776A JPS6032099B2 JP S6032099 B2 JPS6032099 B2 JP S6032099B2 JP 15591776 A JP15591776 A JP 15591776A JP 15591776 A JP15591776 A JP 15591776A JP S6032099 B2 JPS6032099 B2 JP S6032099B2
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- JP
- Japan
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- gas
- temperature
- low
- liquefied
- cooled
- Prior art date
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B2400/00—Component parts or details not otherwise provided for in this subclass
- F25B2400/17—Re-condensers
Landscapes
- Motor Or Generator Cooling System (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は液体ヘリウム等の液化ガスを飽和温度以下に
過冷却して被冷却体、例えば超電導コイルに過冷却液化
ガスを連続的に供給する過冷却液化ガス供聯合装置に関
するものである。
過冷却して被冷却体、例えば超電導コイルに過冷却液化
ガスを連続的に供給する過冷却液化ガス供聯合装置に関
するものである。
第1図は従釆の過冷却液化ガス供給装置の概略的な構成
を示すシステムブロック図である。
を示すシステムブロック図である。
図において、1は液化ガス槽で、この液化ガス槽1に液
化ガスを充填した場合には、槽内に液相部laと気相部
lbとが形成される。2Aは過冷却器で、気相部lbの
空間に設けられる。
化ガスを充填した場合には、槽内に液相部laと気相部
lbとが形成される。2Aは過冷却器で、気相部lbの
空間に設けられる。
過冷却器2A内には2系統の流路がありその流路の流体
が相互に熱交換を行なうように構成されている。3は液
化ガス加圧系路で、この液化ガス加圧系統3は過冷却器
2Aを経て、液化ガス槽1内の液化ガスを糟内の圧力状
態のまま、糟外に導出するもので、液化ガス加圧系統3
の槽内での開□端は液化ガスの液面下になるように構成
されている。
が相互に熱交換を行なうように構成されている。3は液
化ガス加圧系路で、この液化ガス加圧系統3は過冷却器
2Aを経て、液化ガス槽1内の液化ガスを糟内の圧力状
態のまま、糟外に導出するもので、液化ガス加圧系統3
の槽内での開□端は液化ガスの液面下になるように構成
されている。
4は液化ガス減圧系統で、この液化ガス減圧系統41に
は減圧装置5および気液分離器6が設けられており、液
化ガス槽1内の液化ガスを減圧して所定温度まで降下さ
せ、低温になった液化ガスを過冷却器2Aを通したのち
、凝縮器7Aの減圧ガス系統8を経て槽外に導出される
ように構成されている。
は減圧装置5および気液分離器6が設けられており、液
化ガス槽1内の液化ガスを減圧して所定温度まで降下さ
せ、低温になった液化ガスを過冷却器2Aを通したのち
、凝縮器7Aの減圧ガス系統8を経て槽外に導出される
ように構成されている。
9は液化ガス減圧系統4を通じて液化ガス配管10‘こ
出されるガスの圧力を制御する減圧系圧力制御弁で、こ
の圧力制御弁9の動作特性を補うために減圧容器11が
設けられている。
出されるガスの圧力を制御する減圧系圧力制御弁で、こ
の圧力制御弁9の動作特性を補うために減圧容器11が
設けられている。
13は液化ガス槽1から排気装置12によって排出され
たガスを圧縮精製し再び液化ガス槽1に戻すためのガス
加圧装置で、このガス加圧装置13の吸込側、すなわち
排気装置12の吐出側には保庄タンク14が設けられて
おり、ガス加圧装置13の吸込側の圧力を一定に保つよ
うにされている。
たガスを圧縮精製し再び液化ガス槽1に戻すためのガス
加圧装置で、このガス加圧装置13の吸込側、すなわち
排気装置12の吐出側には保庄タンク14が設けられて
おり、ガス加圧装置13の吸込側の圧力を一定に保つよ
うにされている。
またガス加圧装置13によって液化ガス槽1に戻される
ガスは凝縮器7Aの再液化系統15において液化ガス槽
1からの排気ガスによって予冷され、一部が液化される
ように構成されている。16は再液化系統15に供給さ
れるガスの圧力を調整するために系統内の余剰ガスに放
出するための圧力調整弁を示す。
ガスは凝縮器7Aの再液化系統15において液化ガス槽
1からの排気ガスによって予冷され、一部が液化される
ように構成されている。16は再液化系統15に供給さ
れるガスの圧力を調整するために系統内の余剰ガスに放
出するための圧力調整弁を示す。
上述の構成において過冷却液化ガスを得る場合を具体的
に説明する。
に説明する。
なお以下においては、液化ガスとしては液体ヘリウムを
用いた場合について説明する。まず液化ガス補給タンク
17から補給移送管18を通して液化ガス槽1に圧力1
.2tm温度4.巡の液体ヘリウムを注入する。
用いた場合について説明する。まず液化ガス補給タンク
17から補給移送管18を通して液化ガス槽1に圧力1
.2tm温度4.巡の液体ヘリウムを注入する。
過冷却液体ヘリウムを被冷却体19Aに供給する場合に
は、液化ガス槽1の気相部lbに上述のように1.後t
mのガス圧を加えると、液化ガス加圧系統3および液化
ガス減圧系統4を経て液化ガスは槽外に導出される。こ
の導出過程において、液化ガス減圧系統4を流れる液体
ヘリウムは減圧装置5を通って過冷却器2Aに流入し、
ここで蒸発する。例えば減圧装置5において0.1at
mに減圧されると2.5Kまで温度降下する。液化ガス
加圧系統3を流れる液体ヘリウムは過冷却器2Aに入り
、液化ガス減圧系統4を流れる液体ヘリウムと熱交換し
、1.2tmにおいて約雛に過冷却されたのち、過冷却
液移送管20を通じて被冷却体19Aに送られる。上述
の場合の液化ガス減圧系統4において、例えば毎時30
その割合で被冷却体19Aへ液体ヘリウムを供給する場
合には毎時9.1その液体ヘリウムが過冷却器2A内で
蒸発する。過冷却器2Aで蒸発したヘリウムガスは気液
分離器6で液相分を残して凝縮器7Aの減圧系統8に入
り、再液化系統15に入ってくる加圧ガスを熱交換によ
り冷却し、圧力1.2tm、温度4.巡で減圧系統流量
の弘%に相当する4.9そ/時のヘリウムを凝縮液化す
る。このため再液化系統で液化できなかった46%のガ
スは圧力調整弁16から大気中に放出される。つぎに被
冷却体19Aの過冷却液体ヘリウムによる冷却方法を説
明する。
は、液化ガス槽1の気相部lbに上述のように1.後t
mのガス圧を加えると、液化ガス加圧系統3および液化
ガス減圧系統4を経て液化ガスは槽外に導出される。こ
の導出過程において、液化ガス減圧系統4を流れる液体
ヘリウムは減圧装置5を通って過冷却器2Aに流入し、
ここで蒸発する。例えば減圧装置5において0.1at
mに減圧されると2.5Kまで温度降下する。液化ガス
加圧系統3を流れる液体ヘリウムは過冷却器2Aに入り
、液化ガス減圧系統4を流れる液体ヘリウムと熱交換し
、1.2tmにおいて約雛に過冷却されたのち、過冷却
液移送管20を通じて被冷却体19Aに送られる。上述
の場合の液化ガス減圧系統4において、例えば毎時30
その割合で被冷却体19Aへ液体ヘリウムを供給する場
合には毎時9.1その液体ヘリウムが過冷却器2A内で
蒸発する。過冷却器2Aで蒸発したヘリウムガスは気液
分離器6で液相分を残して凝縮器7Aの減圧系統8に入
り、再液化系統15に入ってくる加圧ガスを熱交換によ
り冷却し、圧力1.2tm、温度4.巡で減圧系統流量
の弘%に相当する4.9そ/時のヘリウムを凝縮液化す
る。このため再液化系統で液化できなかった46%のガ
スは圧力調整弁16から大気中に放出される。つぎに被
冷却体19Aの過冷却液体ヘリウムによる冷却方法を説
明する。
なお以下においては、被冷却体19Aとしての超電導回
転子について説明する。被冷却体19Aは超電導コイル
21「超電導コイルに電流を供給するパワーリード22
、回転力を伝達するトルクチューブ23、電磁力を緩和
する電磁ダンパ24、液体ヘリウムを導入するヘリウム
供V給口25、パワーリードを冷却したヘリウムガスを
放出する常温ガス排出口26およびトルクチュープと電
磁ダンパを冷却したヘリウムガスを放出する低温排出口
27から構成される。
転子について説明する。被冷却体19Aは超電導コイル
21「超電導コイルに電流を供給するパワーリード22
、回転力を伝達するトルクチューブ23、電磁力を緩和
する電磁ダンパ24、液体ヘリウムを導入するヘリウム
供V給口25、パワーリードを冷却したヘリウムガスを
放出する常温ガス排出口26およびトルクチュープと電
磁ダンパを冷却したヘリウムガスを放出する低温排出口
27から構成される。
被冷却体19Aの冷却は、まず、過冷却液移送管20を
通ってヘリウム供孫合口25から入った過冷却液体ヘリ
ウムが被冷却体19A内で回転による遠心力を受けて、
超電導コイル21部分に流入し浸潰した状態となり、冷
却を行なう。超電導コイル21部分に熱負荷があると、
過冷却液体ヘリウムは温度上昇し、飽和温度に達したの
ち、蒸発してガスとなり、一部はパワーリード22を冷
却して常温ガス排出口26から大気中に放出される。ま
たパワーリード22に流れない他のガスは低温部分のト
ルクチューブ23および電磁ダンバを冷却したのち、低
温状態のまま低温ガス排出口27から大気中に放出され
る。上述のように過冷却器2Aの減圧ガス系統4で蒸発
したへIJゥムは加圧されて再液化系統15に戻り過冷
却器で約1/2が凝縮液化するが、残りのガスは液化さ
れないで圧力調整弁16から大気中に放出されていた。
通ってヘリウム供孫合口25から入った過冷却液体ヘリ
ウムが被冷却体19A内で回転による遠心力を受けて、
超電導コイル21部分に流入し浸潰した状態となり、冷
却を行なう。超電導コイル21部分に熱負荷があると、
過冷却液体ヘリウムは温度上昇し、飽和温度に達したの
ち、蒸発してガスとなり、一部はパワーリード22を冷
却して常温ガス排出口26から大気中に放出される。ま
たパワーリード22に流れない他のガスは低温部分のト
ルクチューブ23および電磁ダンバを冷却したのち、低
温状態のまま低温ガス排出口27から大気中に放出され
る。上述のように過冷却器2Aの減圧ガス系統4で蒸発
したへIJゥムは加圧されて再液化系統15に戻り過冷
却器で約1/2が凝縮液化するが、残りのガスは液化さ
れないで圧力調整弁16から大気中に放出されていた。
また被冷却体19Aで蒸発したヘリウムは、大部分は低
温ガス排出口から30〜10血の低温状態のまま大気中
に放出され、一部分は常温ガス排出口からこれも同じく
大気中に放出していた。このためヘリウムガスの消費量
が多くなって、連続運転が困難となり運転費が高くなる
こと、および低温ガスの冷凍を再生しないため、液体ヘ
リウムの供給に必要なガス液化装置が大きくなる欠点が
あった。この発明は上述の欠点を解消するためになされ
たもので、ヘリウムガスの消費がほとんどなく、さらに
容量の小さいガス液化装置で構成できる過冷却液化ガス
供給装置を提供することを目的とするものである。
温ガス排出口から30〜10血の低温状態のまま大気中
に放出され、一部分は常温ガス排出口からこれも同じく
大気中に放出していた。このためヘリウムガスの消費量
が多くなって、連続運転が困難となり運転費が高くなる
こと、および低温ガスの冷凍を再生しないため、液体ヘ
リウムの供給に必要なガス液化装置が大きくなる欠点が
あった。この発明は上述の欠点を解消するためになされ
たもので、ヘリウムガスの消費がほとんどなく、さらに
容量の小さいガス液化装置で構成できる過冷却液化ガス
供給装置を提供することを目的とするものである。
以下、図面に従ってこの発明を説明する。
第2図はこの発明の過冷却液化ガス供聯合装置の一実施
例の構成を示すシステムブロック図である。
例の構成を示すシステムブロック図である。
図において1は液化ガス槽で、過冷却器2Aを通って被
冷却体19Aに過冷却液化ガスを僕聯合するために過冷
却液移送管20と、減圧装置5、過冷却器2A、気液分
離器6および凝縮器7Aを通って排気装置12に蒸発ガ
スを送りだすための減圧ガス配管10と、ガス加圧装置
13から再液化のために加圧ガスを導入する加圧ガス導
入管116と、液化ガス補給タンク17から液化ガスを
移送する補給液移送管18とから成っている。
冷却体19Aに過冷却液化ガスを僕聯合するために過冷
却液移送管20と、減圧装置5、過冷却器2A、気液分
離器6および凝縮器7Aを通って排気装置12に蒸発ガ
スを送りだすための減圧ガス配管10と、ガス加圧装置
13から再液化のために加圧ガスを導入する加圧ガス導
入管116と、液化ガス補給タンク17から液化ガスを
移送する補給液移送管18とから成っている。
28Aはガス回収装置で、ガス圧縮機29、低圧ガス容
器30と、第1膨張機31、第2膨張機32と、常温か
ら低温に向って第1熱交換器33、第2熱交換器34、
第3熱交換器35、第4熱交換器36、第5熱交換器3
7の5つの熱交換器群とこれらを結ぶ配管により構成さ
れる。
器30と、第1膨張機31、第2膨張機32と、常温か
ら低温に向って第1熱交換器33、第2熱交換器34、
第3熱交換器35、第4熱交換器36、第5熱交換器3
7の5つの熱交換器群とこれらを結ぶ配管により構成さ
れる。
ここでガス圧縮機29のガス吐出管38に連なる系統を
高圧系統、ガス吸込管39に連なる系統を低圧系統と呼
ぶ。ガス回収装置28Aには被冷却体19Aの常温ガス
排出口26よりガス回収用弁40を介して低圧ガス容器
301こガスを回収する常温ガス回収配管a41と、ガ
ス加圧装置13よりガス回収系圧力制御弁42を介して
低圧ガス容器30にガスを回収する常温ガス回収配管b
43と、被冷却体19Aの低温ガス排出口27より低温
弁a44または低温弁b45あるいは低温弁c46を介
して第3熱交換器35または第2熱交換器34あるいは
第1熱交換器33に低温ガスを回収する低温ガス回収配
管47がおのおの接続される。
高圧系統、ガス吸込管39に連なる系統を低圧系統と呼
ぶ。ガス回収装置28Aには被冷却体19Aの常温ガス
排出口26よりガス回収用弁40を介して低圧ガス容器
301こガスを回収する常温ガス回収配管a41と、ガ
ス加圧装置13よりガス回収系圧力制御弁42を介して
低圧ガス容器30にガスを回収する常温ガス回収配管b
43と、被冷却体19Aの低温ガス排出口27より低温
弁a44または低温弁b45あるいは低温弁c46を介
して第3熱交換器35または第2熱交換器34あるいは
第1熱交換器33に低温ガスを回収する低温ガス回収配
管47がおのおの接続される。
また熱交換器群の低圧系統入口には分岐管a144、分
岐管b145および分岐管c146があり被冷却体19
Aの低温排出ガスを導入するようになっている。第5熱
交換器37を通った低温高圧ガスはJ−T(ジュール・
トムソン)高圧配管48を通つて液化ガス補給タンク1
7内のJ−T弁(ジュール・トムソン)49に至り、等
ェンタルピ膨張を行なって一部が液化する。この膨張過
程で液化しなかった低温低圧ガスはJ−T低圧配管50
を通り、低温弁d51を介して第5熱交換器37の低圧
側に戻るように構成されている。次に上述の構成におけ
る過冷却液化ガス供給装置の一連の動作について、説明
する。
岐管b145および分岐管c146があり被冷却体19
Aの低温排出ガスを導入するようになっている。第5熱
交換器37を通った低温高圧ガスはJ−T(ジュール・
トムソン)高圧配管48を通つて液化ガス補給タンク1
7内のJ−T弁(ジュール・トムソン)49に至り、等
ェンタルピ膨張を行なって一部が液化する。この膨張過
程で液化しなかった低温低圧ガスはJ−T低圧配管50
を通り、低温弁d51を介して第5熱交換器37の低圧
側に戻るように構成されている。次に上述の構成におけ
る過冷却液化ガス供給装置の一連の動作について、説明
する。
なお以下においては液化ガスとして液体ヘリウムを用い
た場合を取り上げて説明する。まずガス回収装置28A
において低圧ガス容器30のヘリウムガスはガス吸入管
39からガス圧縮機29に吸込まれ、約1松tmに圧縮
されてガス吐出管38から第1熱交換器33の高圧系統
に入る。
た場合を取り上げて説明する。まずガス回収装置28A
において低圧ガス容器30のヘリウムガスはガス吸入管
39からガス圧縮機29に吸込まれ、約1松tmに圧縮
されてガス吐出管38から第1熱交換器33の高圧系統
に入る。
ここで低圧系統のガスによって冷却され約13011と
なって、第1熱交換器34の出口に至り、一部が第1膨
脹機31に入って、膨脹し、約8雌の低温低圧ガスとな
り第2熱交換器34の低圧系統入口に戻る。第1熱交換
器34の高圧系統出口で別れたガスは第2熱交換器34
および第3熱交換器35の低圧系統を流れるガスと熱交
換して約2歌に冷却され第3熱交換器35の出口に至り
、一部が第2膨張機32に入って膨脹し、約1靴の低温
低圧ガスとなり第4熱交換器36の低圧系統入口に戻る
。第3熱交換器35の高圧系統出口で別れたガスは、第
4熱交換器36および第5熱交換器37の低圧系統を流
れるガスと熱交換して、約郎に冷却され、第5熱交換器
37の出口に至り、J−T高圧配管48を通って液化ガ
ス補給タンク17内のJ−T弁49に流れ込んで膨張し
、一部が液化して液化ガス補給タンク17に貯えられる
。17で液化しなかった残りのガスは低温ガス回収配管
50を通り低温弁c51を介してJ−T熱交換器37の
低圧系統に戻り高圧系統のガスを冷却しながら、順次温
度の高い第4熱交換器36、第3熱交換器35、第2熱
交換器34および第1熱交換器33の低圧系統を流れて
常温となり、ガス吸込管39に戻る。
なって、第1熱交換器34の出口に至り、一部が第1膨
脹機31に入って、膨脹し、約8雌の低温低圧ガスとな
り第2熱交換器34の低圧系統入口に戻る。第1熱交換
器34の高圧系統出口で別れたガスは第2熱交換器34
および第3熱交換器35の低圧系統を流れるガスと熱交
換して約2歌に冷却され第3熱交換器35の出口に至り
、一部が第2膨張機32に入って膨脹し、約1靴の低温
低圧ガスとなり第4熱交換器36の低圧系統入口に戻る
。第3熱交換器35の高圧系統出口で別れたガスは、第
4熱交換器36および第5熱交換器37の低圧系統を流
れるガスと熱交換して、約郎に冷却され、第5熱交換器
37の出口に至り、J−T高圧配管48を通って液化ガ
ス補給タンク17内のJ−T弁49に流れ込んで膨張し
、一部が液化して液化ガス補給タンク17に貯えられる
。17で液化しなかった残りのガスは低温ガス回収配管
50を通り低温弁c51を介してJ−T熱交換器37の
低圧系統に戻り高圧系統のガスを冷却しながら、順次温
度の高い第4熱交換器36、第3熱交換器35、第2熱
交換器34および第1熱交換器33の低圧系統を流れて
常温となり、ガス吸込管39に戻る。
液化ガス補給タンク17に貯められた液体ヘリウムは、
補給液移送管18を通って液化ガス槽1に充填される。
補給液移送管18を通って液化ガス槽1に充填される。
液化ガス槽1から過冷却液体ヘリウムを被冷却体19A
に供繋合する構成は第1図と同じである。すなわち、液
化ガス槽1の気相部lbにガス圧例えば1.2tmを加
えると液化ガス減圧系統を流れる液体ヘリウムは減圧装
置5を通って過冷却器2Aに流入し、ここで例えば0.
1atmに減圧されて2.歌まで温度降下する。液化ガ
ス加圧系統に流れる液体ヘリウムは過冷却器2Aに入り
、液化ガス減圧系統4を流れる液体ヘリウムと熱交換し
、1.2tm‘こおいて約兆に過冷却されたのち、低温
供給配管20を通じて被冷却19Aに送られる。被冷却
体19Aの過冷却ヘリウムによる冷却は、第1図の説明
と同じであり、超電導コイル21部分に熱負荷があると
蒸発してガスとなり、一部はパワーリード22を冷却し
て常温ガス排気口26から常温ガス回収配管a41を通
り、常温排出ガスとしてガス回収用弁40を介して低圧
ガス容器30‘こ回収される。
に供繋合する構成は第1図と同じである。すなわち、液
化ガス槽1の気相部lbにガス圧例えば1.2tmを加
えると液化ガス減圧系統を流れる液体ヘリウムは減圧装
置5を通って過冷却器2Aに流入し、ここで例えば0.
1atmに減圧されて2.歌まで温度降下する。液化ガ
ス加圧系統に流れる液体ヘリウムは過冷却器2Aに入り
、液化ガス減圧系統4を流れる液体ヘリウムと熱交換し
、1.2tm‘こおいて約兆に過冷却されたのち、低温
供給配管20を通じて被冷却19Aに送られる。被冷却
体19Aの過冷却ヘリウムによる冷却は、第1図の説明
と同じであり、超電導コイル21部分に熱負荷があると
蒸発してガスとなり、一部はパワーリード22を冷却し
て常温ガス排気口26から常温ガス回収配管a41を通
り、常温排出ガスとしてガス回収用弁40を介して低圧
ガス容器30‘こ回収される。
またパワーリード22に流れない残りのガスは低温部分
のトルクチューブ23および電磁ダンパ24を冷却した
のち、低温状態のまま低温ガス排出口27から低温ガス
回収配管46を通り、ガス回収装置28Aの熱交換器群
35,34または33の低圧系統に回収される。このと
き低温回収ガスの温度が第2膨張機の入□温度例えば2
弧より低いときは第3熱交換器35の低圧系統入口に流
し、2弧より8血までのときは第2熱交換器34の低圧
系統入口に流し、8皿より13皿までのときは第1熱交
換器33の低圧系統入口に流す。このように被冷却体1
9Aからの低温回収ガスの温度によってガス回収装置2
8Aの熱交換器35,34または33の低圧系統に回収
する低温弁44,45または46を開くようにすれば、
低温ガスの冷凍を効率よく回収することができる。一方
過冷却器2Aで蒸発してヘリウムガスは凝縮器7Aの減
圧ガス系統8に入り「液化ガス槽1内の圧力を上昇させ
るために新たに入ってくる再液化系統15のガスを冷却
し、そののち、減圧ガス配管10、減圧系圧力制御弁9
を通って排気装置12に至る。
のトルクチューブ23および電磁ダンパ24を冷却した
のち、低温状態のまま低温ガス排出口27から低温ガス
回収配管46を通り、ガス回収装置28Aの熱交換器群
35,34または33の低圧系統に回収される。このと
き低温回収ガスの温度が第2膨張機の入□温度例えば2
弧より低いときは第3熱交換器35の低圧系統入口に流
し、2弧より8血までのときは第2熱交換器34の低圧
系統入口に流し、8皿より13皿までのときは第1熱交
換器33の低圧系統入口に流す。このように被冷却体1
9Aからの低温回収ガスの温度によってガス回収装置2
8Aの熱交換器35,34または33の低圧系統に回収
する低温弁44,45または46を開くようにすれば、
低温ガスの冷凍を効率よく回収することができる。一方
過冷却器2Aで蒸発してヘリウムガスは凝縮器7Aの減
圧ガス系統8に入り「液化ガス槽1内の圧力を上昇させ
るために新たに入ってくる再液化系統15のガスを冷却
し、そののち、減圧ガス配管10、減圧系圧力制御弁9
を通って排気装置12に至る。
排気装置12からの吐出ガスは保圧タンク14に回収さ
れ、ガス加圧装置13で圧縮精製して凝縮器7Aの再液
化系統15に流入し、減圧ガス系統8のガスと熱交換し
、減圧ガス流量の約50%が凝縮液化する。加圧ガス導
入管116で液化しなかった残りのガスは、ガス回収系
圧力制御弁42を通って常温ガス回収配管b43を流れ
、低圧ガス容器3川こ回収される。したがって、液化ガ
ス槽1内の圧力はガス回収圧力制御弁42によって自動
制御され、過冷却器2Aの動作温度の変動が防止される
。以上の実施例においては、特に液体ヘリウムを取り上
げて説明したが、他に、水素、ネオン、窒素、アルゴン
、LNGなどの液化ガスにも適用できることは言うまで
もない。
れ、ガス加圧装置13で圧縮精製して凝縮器7Aの再液
化系統15に流入し、減圧ガス系統8のガスと熱交換し
、減圧ガス流量の約50%が凝縮液化する。加圧ガス導
入管116で液化しなかった残りのガスは、ガス回収系
圧力制御弁42を通って常温ガス回収配管b43を流れ
、低圧ガス容器3川こ回収される。したがって、液化ガ
ス槽1内の圧力はガス回収圧力制御弁42によって自動
制御され、過冷却器2Aの動作温度の変動が防止される
。以上の実施例においては、特に液体ヘリウムを取り上
げて説明したが、他に、水素、ネオン、窒素、アルゴン
、LNGなどの液化ガスにも適用できることは言うまで
もない。
また以上の実施例で被冷却体19Aからの低温回収ガス
の温度によって、ガス回収装置28Aの熱交換器35,
34または33の低圧系統に接続する低温弁a44b4
5または低温弁c44を開くような選択方式にしたが、
被冷却体19Aからの低温回収ガスの温度が予じめ判明
している場合には、その温度に見合った低圧系統、例え
ば50%の場合には第2熱交換器34の低圧系統入口に
接続する分岐管145および低温弁b45を設けるだけ
でよい。
の温度によって、ガス回収装置28Aの熱交換器35,
34または33の低圧系統に接続する低温弁a44b4
5または低温弁c44を開くような選択方式にしたが、
被冷却体19Aからの低温回収ガスの温度が予じめ判明
している場合には、その温度に見合った低圧系統、例え
ば50%の場合には第2熱交換器34の低圧系統入口に
接続する分岐管145および低温弁b45を設けるだけ
でよい。
以上のようにこの発明によれば、被冷却体を冷却するこ
とにより生じたガスと、凝縮器で液化しなかったガスと
を回収するガス回収装置を設けたので、系外にガスを放
出することなく、液化のためのガスを多量に消費しない
で済む。
とにより生じたガスと、凝縮器で液化しなかったガスと
を回収するガス回収装置を設けたので、系外にガスを放
出することなく、液化のためのガスを多量に消費しない
で済む。
また被冷却体からの低温排出ガスによって熱交換器に導
かれたガスを冷却するようにすればガス液化能力が増加
し系の効率が向上し、よりガス消費の少ない過冷却液化
ガス供野合装置を実現することができる。
かれたガスを冷却するようにすればガス液化能力が増加
し系の効率が向上し、よりガス消費の少ない過冷却液化
ガス供野合装置を実現することができる。
第1図は従来の過冷却液化ガス供給装置の構成を示すシ
ステムブロック図、第2図はこの発明に係る過冷却液化
ガス供給装置の一実施例の構成を示すシステムフロツク
図である。 図において、2Aは過冷却器、8は減圧ガス系統、13
はガス加圧装置、19Aは被冷却体、20は過冷却液移
送管、26は常温ガス排出口、27は低温ガス排出口、
28Aはガス回収装置、33は第1熱交換器、34は第
2熱交換器、35は第3熱交換器、39はガス吸込管、
41は常温ガス回収配管a、43は常温ガス回収配管、
44は低温弁a、a145は分岐管b、146は分岐管
cを示す。 なお、図中同一符号は各々同一または相当部分を示す。
第1図 第2図
ステムブロック図、第2図はこの発明に係る過冷却液化
ガス供給装置の一実施例の構成を示すシステムフロツク
図である。 図において、2Aは過冷却器、8は減圧ガス系統、13
はガス加圧装置、19Aは被冷却体、20は過冷却液移
送管、26は常温ガス排出口、27は低温ガス排出口、
28Aはガス回収装置、33は第1熱交換器、34は第
2熱交換器、35は第3熱交換器、39はガス吸込管、
41は常温ガス回収配管a、43は常温ガス回収配管、
44は低温弁a、a145は分岐管b、146は分岐管
cを示す。 なお、図中同一符号は各々同一または相当部分を示す。
第1図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 液化ガスの一部を気化させて他の上記液化ガスを過
冷却する過冷却器と、この過冷却器からの過冷却液化ガ
スによつて冷却される被冷却体、及び上記過冷却器で他
の液化ガスを過冷却するために使用された上記液化ガス
のガスを加圧し、この加圧したガスを上記過冷却器で気
化した上記ガスにより冷却して凝縮させる凝縮器とを備
えた過冷却液化ガス供給装置において、上記被冷却体を
冷却することにより生じたガス及び上記凝縮器で液化さ
せなかつたガスを圧力制御弁を介して回収するガス回収
装置を設けたことを特徴とする過冷却液化ガス供給装置
。 2 ガス回収装置を、被冷却体を冷却することにより生
じたガスのうち低温以外のガス及び凝縮器により液化さ
せなかつたガスとを加圧する加圧器と、この加圧器から
の加圧ガスを上記被冷却体を冷却することにより生じた
ガスのうち低温ガスにより冷却する熱交換器と、この熱
交換器からのガスを等エンタルピ膨脹させ液化させるジ
ユール・トムソン(J−T)弁とにより構成したことを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の過冷却液化ガス
供給装置。 3 被冷却体からの低温ガスとジユール・トムソン弁に
よつて液化しないガスをガス回収装置の熱交換器に送り
加圧器を低温ガスと共に冷却するようにしたことを特徴
とする特許請求の範囲第2項記載の過冷却液化ガス供給
装置。 4 熱交換器を多段式とし各段の出口のガス温度より低
い温度の低温ガスを上記各段に導入するようにしたこと
を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の過冷却液化ガ
ス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15591776A JPS6032099B2 (ja) | 1976-12-23 | 1976-12-23 | 過冷却液化ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15591776A JPS6032099B2 (ja) | 1976-12-23 | 1976-12-23 | 過冷却液化ガス供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5389054A JPS5389054A (en) | 1978-08-05 |
| JPS6032099B2 true JPS6032099B2 (ja) | 1985-07-26 |
Family
ID=15616324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15591776A Expired JPS6032099B2 (ja) | 1976-12-23 | 1976-12-23 | 過冷却液化ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032099B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5293750A (en) * | 1991-11-27 | 1994-03-15 | Osaka Gas Company Limited | Control system for liquefied gas container |
-
1976
- 1976-12-23 JP JP15591776A patent/JPS6032099B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5389054A (en) | 1978-08-05 |
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