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JPS6039090B2 - Method of forming transparent conductive film - Google Patents
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JPS6039090B2 - Method of forming transparent conductive film - Google Patents

Method of forming transparent conductive film

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Publication number
JPS6039090B2
JPS6039090B2 JP52073301A JP7330177A JPS6039090B2 JP S6039090 B2 JPS6039090 B2 JP S6039090B2 JP 52073301 A JP52073301 A JP 52073301A JP 7330177 A JP7330177 A JP 7330177A JP S6039090 B2 JPS6039090 B2 JP S6039090B2
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film
polyester film
transparent conductive
polymer layer
thermosetting polymer
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征人 杉山
雄二 三谷
憲男 高木
均 御子柴
邦彦 寺西
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Teijin Ltd
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Teijin Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はポリエステルフィルムの表面に透明導電性被覆
を形成する方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of forming a transparent conductive coating on the surface of a polyester film.

さらに詳しくは、両面に透明な熱硬化性高分子層を有す
るポリエステルフィルムの片面または両面にインジウム
金属の低酸化物を主成分とする被膜を形成した積層フィ
ルムを熱処理することによってフィルム中の揮発性物質
、特にオリゴマ−が発生し難く、被膜との接着性の優れ
た透明導電性被覆を、工業的に優れた方法でポリエステ
ルフィルムの表面に形成する方法に関する。従釆、ポリ
エステルフィルムの表面に酸化ィンジウムを主成分とす
る被膜を形成せしめた透明導電性フィルムを製造する方
法として、例えば次の方法が知られている。
More specifically, by heat-treating a laminated film consisting of a polyester film with a transparent thermosetting polymer layer on both sides and a coating mainly composed of a low oxide of indium metal on one or both sides, the volatility in the film can be reduced. The present invention relates to a method for forming a transparent conductive coating on the surface of a polyester film using an industrially superior method that does not easily generate substances, particularly oligomers, and has excellent adhesion to the film. For example, the following method is known as a method for producing a transparent conductive film in which a film containing indium oxide as a main component is formed on the surface of a polyester film.

{a)金属インジウムまたはインジウム金属の酸化物を
主成分とする蒸発源とポリエステルフィルムを対向配置
し、両者間の空間に高周波放電プラズマ領域を形成する
イオン化プレーティング法によって透明導電性被膜を形
成する方法(例えば特開昭51一116999号公報参
照)。{b’真空葵着法によってインジウム金属の低酸
化物を主成分とする被膜をポリエステルフィルムの表面
に形成したのち、該被膜を配化して透明導電化する方法
。これらの公知方法において、ta}の方法は、ポリエ
ステルフィルムとの付着性の優れた透明導電性被膜を与
えるが、被膜の形成は真空槽に導入された酸素ガスとの
反応に基いて行われるため、被膜形成速度が遅い欠点を
有していた。
{a) A transparent conductive film is formed by an ionization plating method in which an evaporation source containing metallic indium or an oxide of indium metal as a main component and a polyester film are placed facing each other, and a high-frequency discharge plasma region is formed in the space between the two. method (see, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 51-116999). {b' A method in which a film containing a low oxide of indium metal as the main component is formed on the surface of a polyester film by a vacuum deposition method, and then the film is arranged to become transparent and conductive. Among these known methods, the ta} method provides a transparent conductive film with excellent adhesion to the polyester film, but the formation of the film is based on a reaction with oxygen gas introduced into a vacuum chamber. However, the film formation rate was slow.

更に装置が複雑、かつ高価であり、長尺のポリエステル
フィルムに適用することはできなかった。{b}の方法
は、蒸発速度も早く、長尺のポリエステルフィルムにも
連続的に被膜を形成できるという特徴を有するが、該被
膜は主としてインジウム金属の低酸化物で形成されるた
め、酸化工程を必要としていた。酸化方法としては、酸
化剤を含む溶液中で酸化する方法(特開昭49−365
45号公報参照)、電解液中で陽極酸化する方法(例え
ば特開昭49一21468号公報、特開昭50一187
6び号公報参照)がある。これらの方法は、常法で透明
導電性フィルムが得られるという特徴を有するが、被膜
とポリエステルフィルムとの接着性が十分でなく、また
湿式酸化である点において工業的に好ましい方法ではな
かった。インジウム金属の低酸化物を主成分とする被膜
を酸化する別の方法として酸素雰囲気中で加熱酸化する
方法(例えば特関昭48−55267号公報、特開昭5
0−1172号公報参照)や酸素雰囲気中でグロー放電
酸化する方法(特開昭51一37957号公報)が提案
されている。これらの加熱酸化法によって得られた透明
導電性被膜は、被膜が均一であるが酸化過程において高
温を必要とし、その結果ポリエステルから揮発性物質、
特にオリゴマーが発生し、ポリエステル表面に析出する
ため、そのままで実用に供給することはできずオリゴマ
ーの除去工程を必要としていた。また、ポリエステルフ
ィルムと透明導電性被膜との間に下塗り層を設けて接着
性を改良する試みもなされているが、オリゴマーの発生
は避けられなかった。さらに、上記の{a)あるいは{
bーの方法で得られた透明導電性フィルムは、実用に供
する場合、加工段階あるいは使用段階のいずれかに高温
過程が入る場合にはオリゴマーが発生するため、その性
能が十分発揮されなかった。本発明者は、従来法のかか
る欠点を克服すべく研究の結果、両面に透明な熱硬化性
高分子の層を設けたポリエステルフィルムの片面または
両面にインジウム金属の低酸化物を主成分とする被膜を
形成した積層複合フィルムを熱処理すると、揮発性物質
が析出しない透明導電性フィルムが工業的に優れた方法
で得られ、しかも被膜との接着も優れていることを見出
し、本発明に到達したものである。
Furthermore, the apparatus is complicated and expensive, and cannot be applied to long polyester films. Method {b} has the characteristics of a fast evaporation rate and the ability to form a film continuously even on a long polyester film, but since the film is mainly formed of a low oxide of indium metal, it requires no oxidation step. was needed. As an oxidation method, a method of oxidizing in a solution containing an oxidizing agent (Japanese Patent Application Laid-Open No. 49-365
45), a method of anodic oxidation in an electrolytic solution (for example, JP-A-49-121468, JP-A-50-187)
(Refer to Publication No. 6). Although these methods have the characteristic that a transparent conductive film can be obtained by a conventional method, they are not industrially preferred methods because the adhesion between the film and the polyester film is insufficient, and wet oxidation is used. Another method for oxidizing a film containing a low oxide of indium metal as its main component is heating and oxidizing it in an oxygen atmosphere (for example, Tokusekki Publication No. 48-55267, Japanese Patent Laid-Open No. 55-118)
0-1172) and a method of glow discharge oxidation in an oxygen atmosphere (Japanese Unexamined Patent Publication No. 51-37957) have been proposed. The transparent conductive films obtained by these thermal oxidation methods are uniform, but require high temperatures during the oxidation process, and as a result, volatile substances,
In particular, since oligomers are generated and precipitated on the polyester surface, they cannot be practically supplied as they are and require an oligomer removal process. Attempts have also been made to improve adhesion by providing an undercoat layer between the polyester film and the transparent conductive coating, but the generation of oligomers was unavoidable. Furthermore, {a) or {
When the transparent conductive film obtained by method b- is used for practical purposes, oligomers are generated when a high temperature process is involved in either the processing stage or the use stage, so that its performance cannot be fully demonstrated. As a result of research to overcome these drawbacks of the conventional method, the present inventor has developed a polyester film having a transparent thermosetting polymer layer on both sides, with a low oxide of indium metal as the main component on one or both sides of the polyester film. The present inventors have discovered that by heat-treating a laminated composite film on which a coating has been formed, a transparent conductive film in which volatile substances do not precipitate can be obtained in an industrially superior manner, and also has excellent adhesion to the coating, and has thus arrived at the present invention. It is something.

すなわち本発明は、ポリエステルフィルムの両国に透明
な熱硬化性高分子層が設けられ、しかも該高分子層の少
なくとも片面上にインジウム金属の低酸化物を主成分と
する被膜が形成された積層ポリエステルフィルムを、該
ポリエステルフィルムの軟化点禾満の温度で熱処理する
ことを特徴とする透明導電性被覆の形成法である。
That is, the present invention provides a laminated polyester film in which a transparent thermosetting polymer layer is provided on both sides of a polyester film, and a coating mainly composed of a low oxide of indium metal is formed on at least one side of the polymer layer. This method of forming a transparent conductive coating is characterized in that a film is heat-treated at a temperature that satisfies the softening point of the polyester film.

本発明の透明導電性フィルムの基材となるポリエステル
フィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ートなどからなるフイルムが好んで用いられる。
As the polyester film serving as the base material of the transparent conductive film of the present invention, for example, a film made of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, etc. is preferably used.

これらのフィルムは溶融押出法、カレンダー法、キヤス
ティング法などによって作られるが、これらのポリエス
テルの他に必要に応じて各種の安定剤、添加剤を混入し
たものでもよい。さらにポリエステルと他の一種以上の
高分子フィルムを競層した複合フィルムでも、ポリエス
テルと他の高分子との共重合、ブレンド型フィルムであ
ってもよい。さらに延伸加工、とくに二軸延伸加工した
ポリエステルフィルムは機械的性質、熱的性質光学的性
質、寸度安定性が優れているため特に好ましい。また該
ポリエステルフィルムは必要に応じてコロナ処理、マッ
ト化処理、水蒸気処理、アルカリ処理などの物理的・化
学的表面改質処理を行ったり、表面改質層を設けたもの
であってもよい。さらに表面に文字、図形、模様などが
描かれたものであっても支障はない。本発明に用いられ
る透明な熱硬化性高分子としては、たとえばキシレン樹
脂、メラミン樹脂、スルホンァミド樹脂、アルキド、ェ
ポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂または有機金属化
合物があげられるが、なかでもケイ素、チタン、アルミ
ニウムなどの金属を含む有機金属化合物はとくに好まし
い。
These films are produced by a melt extrusion method, a calendering method, a casting method, etc., but in addition to these polyesters, various stabilizers and additives may be mixed as necessary. Furthermore, it may be a composite film in which polyester and one or more other polymer films are competitively layered, or a copolymer or blend type film of polyester and other polymers. Further, a polyester film subjected to stretching processing, particularly biaxial stretching processing, is particularly preferable because it has excellent mechanical properties, thermal properties, optical properties, and dimensional stability. Further, the polyester film may be subjected to physical or chemical surface modification treatments such as corona treatment, matting treatment, steam treatment, alkali treatment, etc., or may be provided with a surface modification layer, if necessary. Furthermore, there is no problem even if characters, figures, patterns, etc. are drawn on the surface. Transparent thermosetting polymers used in the present invention include, for example, xylene resins, melamine resins, sulfonamide resins, alkyds, epoxy resins, unsaturated polyester resins, or organometallic compounds, among which silicon, titanium, aluminum Particularly preferred are organometallic compounds containing metals such as.

該有機金属化合物としては、たとえば〜般式M政m(た
だしMは金属、Xはハロゲン、m、nは正の整数)であ
れらわされる金属のハロゲン化物は容易に分解し、加熱
することにより硬化して高分子膜を形成する。かかる金
属のハロゲン化物としては、たとえばTIC14、AI
C13、ZrC!4、Inc14などがある。また一般
式M20mRn(ただしMは金属、Rはアルキル基、1
、m、nは正の整数)であらわされる金属のアルキルェ
ステルも用いられる。さらにつぎの一般式であらわされ
るケイ素を含む有機金属化合物はとくに好ましい。〔た
だし、R,は (R5、R6は水素あるいは炭素 数1〜4のアルキル基)およびこれらのアルキロール化
物、ポリアミノ基、一SH、一CI、R2は炭素数1〜
12のアルキル基;R3、R4は炭素数1〜4のアルキ
ル基;×、yはそれぞれ1〜12の整数:wは0〜2の
整数、zは1〜3の整数でw+z=3をみたす。
As the organometallic compound, for example, a metal halide represented by the general formula M (where M is a metal, X is a halogen, and m and n are positive integers) is easily decomposed and heated. As a result, it is cured to form a polymer film. Examples of such metal halides include TIC14, AI
C13, ZrC! 4, Inc14, etc. Also, the general formula M20mRn (where M is a metal, R is an alkyl group, 1
, m and n are positive integers) are also used. Further, silicon-containing organometallic compounds represented by the following general formula are particularly preferred. [However, R, (R5 and R6 are hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), an alkylol compound thereof, a polyamino group, 1-SH, 1-CI, and R2 are hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
12 alkyl groups; R3 and R4 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms; x and y are each integers of 1 to 12; w is an integer of 0 to 2; z is an integer of 1 to 3, satisfying w+z=3 .

〕更に一般式RnSiXm(ただしRはメチル、エチル
、プロピル、ブチル、ビニル、フエニル、メタクリロキ
シ、メタクリロキシプロピレルなどの有機基:Xはハロ
ゲン基はハロゲン基、アルコキシ基またはアシル基;n
、mはそれぞれ0〜4の整数でn+m=4をみたす)で
示される一種または二種以上を加水分解して得られるプ
レポリマーがある。該熱硬化型高分子は必要に応じて単
独または二種以上の熱硬化型高分子と混合してもよく、
さらに必要に応じて硬化触媒、接着促進剤、ぬれ性改良
剤、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、滑剤、消泡剤、増粘
剤、顔料などの添加剤などと共に溶剤に溶かした組成物
とすることができる。本発明における透明導電性フィル
ムを得るためには、まずポリエステルフィルムの表面に
熱硬化性高分子層を形成する。該高分子層は単層であっ
ても重層であってもよい。また二種以上の熱硬化性高分
子をブレンドしたものであってもよい。最初に設ける該
高分子層は、ポリエステルフィルムの片面だけに設けて
もよく、両面に設けてもよし、。両面に設ける場合は、
両面とも同じ高分子層を形成せしめてもよく、また異る
種類の高分子層を形成せしめてもよい。該高分子層の厚
さはとくに限定しないが、0.01仏〜10山の範囲が
好ましい。厚さが0.01仏未満では連続的な膜を形成
しないため所期の目標を達成することは困難である。ま
た10仏を越えた厚さではポリエステルフィルムの可榛
・性が失われたり、表面にクラックが入ったりして好ま
しくない。熱硬化性高分子層の塗布はその形状、性質に
応じてドクターナイフ、バーコーター、グラビアロール
コータ−、カーテンコーター、ナイフコータ−、スピナ
ーなど公知の塗工機械を用いる塗布法、スプレー法、浸
損法などが用いられる。
] Furthermore, the general formula RnSiXm (where R is an organic group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, vinyl, phenyl, methacryloxy, methacryloxypropyrel; X is a halogen group; n is a halogen group, an alkoxy group, or an acyl group;
, m is an integer of 0 to 4, satisfying n+m=4).There are prepolymers obtained by hydrolyzing one or more of the following. The thermosetting polymer may be used alone or in combination with two or more types of thermosetting polymers, if necessary.
The composition is further dissolved in a solvent along with additives such as curing catalysts, adhesion promoters, wettability improvers, plasticizers, stabilizers, antioxidants, lubricants, antifoaming agents, thickeners, and pigments, as required. It can be done. In order to obtain the transparent conductive film of the present invention, a thermosetting polymer layer is first formed on the surface of a polyester film. The polymer layer may be a single layer or a multilayer. It may also be a blend of two or more types of thermosetting polymers. The first polymer layer may be provided on only one side of the polyester film, or may be provided on both sides. When installing on both sides,
The same polymer layer may be formed on both sides, or different types of polymer layers may be formed on both sides. The thickness of the polymer layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 mm to 10 mm. If the thickness is less than 0.01 mm, it is difficult to achieve the desired goal because a continuous film will not be formed. Moreover, if the thickness exceeds 10 mm, the polyester film will lose its flexibility and properties, and cracks will appear on the surface, which is undesirable. Depending on its shape and properties, the thermosetting polymer layer can be applied using a known coating machine such as a doctor knife, bar coater, gravure roll coater, curtain coater, knife coater, or spinner, a spray method, or an immersion method. laws etc. are used.

熱硬化性高分子を塗布されたポリエステルフィルムは、
溶剤を蒸発せしめて乾燥あるいは硬化せしめねばならな
い。乾燥および硬化は該ポリエステルフィルムを重ね合
わせたり、ロール巻きにしたときにブロッキング等の問
題が生じない程度の温度、時間を選べばよい。なお、熱
硬化性高分子層は完全に硬化していなくてもよく、一部
だけが硬化した状態であってもさしつかえない。ポリエ
ステルフィルムの両面に熱硬化性高分子を塗布せしめた
場合には、該乾燥または/および硬化に必要な温度は熱
硬化性高分子の耐熱温度あるいはポリエステルフィルム
の軟化点温度のいずれか低い方の温度以下でなければな
らない。なお、熱処理温度の下限は2500程度である
。片面のみに塗布されている場合はポリエステルのオリ
ゴマーが発生しない温度、時間を選ぶ必要があり、たと
えばポリエチレンテレフタレートの場合には一般的に1
90℃以下が好ましい。熱硬化性高分子層を形成したポ
リエステルフィルムの上にインジウム金属の低酸化物を
主成分とする被膜を形成するが、該被膜は熱硬化性高分
子層の上に形成せしめねばならない。
Polyester film coated with thermosetting polymer is
The solvent must be allowed to evaporate and the material must be dried or cured. For drying and curing, the temperature and time should be selected so that problems such as blocking do not occur when the polyester films are stacked or rolled. Note that the thermosetting polymer layer does not need to be completely cured, and may be only partially cured. When a thermosetting polymer is coated on both sides of a polyester film, the temperature required for drying and/or curing is the lower of the heat resistance temperature of the thermosetting polymer or the softening point temperature of the polyester film. Must be below temperature. Note that the lower limit of the heat treatment temperature is about 2500°C. If it is coated on only one side, it is necessary to select a temperature and time that will not generate polyester oligomers.For example, in the case of polyethylene terephthalate, generally 1
The temperature is preferably 90°C or lower. A coating mainly composed of a low oxide of indium metal is formed on the polyester film on which the thermosetting polymer layer is formed, but the coating must be formed on the thermosetting polymer layer.

本発明に用いられるインジウム金属の低酸化物とは、一
般式lny0y(ただしo<y/x<1.5)であらわ
される。該インジウム金属の低酸化物を主成分とする被
膜は、酸化インジウムまたは酸化インジウムにたとえば
酸化錫、酸化カドミウム、酸化タングステン、酸化モリ
ブデンなどの金属酸化物を混入した混合物を真空蒸着、
イオンプレーティング、スパッタリング、プラズマ熔射
気相メッキ、化学〆ッキ、電気メッキ、化学コーティン
グおよびそれらの組合せ方法などの方法で形成される。
これらの方法のうち、形成被膜の均一性、製造の容易性
からとくに真空蒸着法が適している。この際インジウム
金属の低酸化物を主成分とする被膜の厚さは透明導電膜
の導電性と透明性、酸化処理の温度、時間などと関係し
一律に決めることはできない。しかし、その上限はポリ
エステルフィルムの耐熱温度における酸化速度からほぼ
3000Aと考えられるが、酸化の容易性から1000
A以下、得られる被膜の透明性から、500△以下が適
当である。一方、その下限は該透明導電腰が導電性を付
与できる程度の厚さ‘こなることが好ましく、50△以
上が適当である。本発明方法においては、ポリエステル
フィルムに熱硬化性高分子層を形成せしめ、その上にイ
ンジウム金属の低酸化物を主成分とする被膜を形成せし
めたのち、熱処理して透明導電膜とする。
The low oxide of indium metal used in the present invention is represented by the general formula lny0y (where o<y/x<1.5). The film mainly composed of a low oxide of indium metal is produced by vacuum vapor deposition of indium oxide or a mixture of indium oxide mixed with a metal oxide such as tin oxide, cadmium oxide, tungsten oxide, or molybdenum oxide.
It is formed by methods such as ion plating, sputtering, plasma vapor phase plating, chemical plating, electroplating, chemical coating, and combinations thereof.
Among these methods, the vacuum evaporation method is particularly suitable from the viewpoint of uniformity of the formed film and ease of production. At this time, the thickness of the coating mainly composed of a low oxide of indium metal cannot be uniformly determined because it is related to the conductivity and transparency of the transparent conductive film, the temperature and time of the oxidation treatment, etc. However, the upper limit is thought to be approximately 3000A based on the oxidation rate at the heat-resistant temperature of the polyester film, but the upper limit is approximately 3000A due to the ease of oxidation.
From the viewpoint of the transparency of the resulting film, a value of A or less is preferably 500Δ or less. On the other hand, the lower limit thereof is preferably a thickness that allows the transparent conductive thickness to impart conductivity, and is suitably 50 Δ or more. In the method of the present invention, a thermosetting polymer layer is formed on a polyester film, a film containing a low oxide of indium metal as a main component is formed thereon, and then heat treated to form a transparent conductive film.

熱処理は熱硬化性高分子層を有するポリエステルフィル
ムの耐熱温度以下で熱硬化性高分子層の加熱硬化または
/およびインジウム金属の低酸化物を主成分とする被膜
を酸化性雰囲気中で酸化する方法である。酸化性雰囲気
とは上記の酸化作用を行うのに必要な雰囲気で、空気、
酸素ガスあるいはこれらを紫外線照射、放電などにより
活性化したものであり、少なくとも酸素成分がi弦容量
%以上含まれるのが好ましい。一般に酸素ガスの成分が
多いほど、また活性化されているほど上記酸化に必要な
温度は低く、時間は短くてよい。必要な温度、時間は熱
硬化性高分子層を有するポリエステルフィルムの耐熱温
度と熱硬化性高分子の硬化温度、時間、さらに目的とす
る特性を決定する要因−即ち、インジウム金属の低酸化
物を主成分とする層の組成(酸化度、添加物の種類と量
など)、厚さと組成、あるいは目的とする導電性と透明
性によって異なる。本発明の方法では、両面に透明な熱
硬化性高分子層を有するポリエステルフィルムの片面ま
たは両面にインジウム金属の低酸化物を主成分とする被
膜を形成した積層フィルムを該ポリエステルの軟化点よ
り低い温度で熱処理して透明導電性被膜を形成するが、
その具体的な手順の一例は第1表のとおりである。
The heat treatment is a method of heat curing the thermosetting polymer layer at a temperature below the heat resistance temperature of the polyester film having the thermosetting polymer layer, and/or oxidizing the film whose main component is a low oxide of indium metal in an oxidizing atmosphere. It is. An oxidizing atmosphere is an atmosphere necessary to carry out the above oxidizing action, and includes air,
It is made of oxygen gas or activated by ultraviolet irradiation, discharge, etc., and it is preferable that at least the oxygen component is contained in an i-string capacity % or more. Generally, the more oxygen gas components there are, and the more activated it is, the lower the temperature and the shorter time required for the oxidation. The required temperature and time are the heat resistance temperature of the polyester film having the thermosetting polymer layer, the curing temperature and time of the thermosetting polymer, and the factors that determine the desired properties - namely, the low oxide of indium metal. It varies depending on the composition of the main component layer (degree of oxidation, type and amount of additives, etc.), thickness and composition, or the desired conductivity and transparency. In the method of the present invention, a polyester film having a transparent thermosetting polymer layer on both sides is coated with a film containing a low oxide of indium metal as a main component on one or both sides of the polyester film. A transparent conductive film is formed by heat treatment at high temperatures, but
An example of the specific procedure is shown in Table 1.

第一表 透明導電被膜の形成手順 注(1)番号は工程の順番をあらわす。Table 1 Procedure for forming transparent conductive film Note (1) Numbers indicate the order of the steps.

(0) 同じ番号は同一工程で同時に行うことを示す。(0) The same number indicates that the steps are performed simultaneously in the same process.

(m)1′ は1の次に行うか、1と同時に行うことを
あらわす。2′と2、3′と3、4′と4も同様・であ
る。
(m) 1' means to perform after 1 or at the same time as 1. The same applies to 2' and 2, 3' and 3, and 4' and 4.

(N)‘)内は両面を透明導電化する場合で、片面のみ
を透明導電化する場合は省略する。第1表においてA面
およびB面はポリエステルフィルム両面のそれぞれの面
を示す。第1表の各手順において、たとえばィの方法は
ポリエステルフィルムの両面に熱硬化性高分子層を塗布
したのち(1および1′)、インジウム金属の低酸化物
を主成分とする被膜をその上に被覆し(2または2およ
び2′)、熱処理して該被覆膜を酸化すると同時に熱硬
化性高分子層を硬化せしめる(3または3および3′)
ことをあらわす。第1表の方法の他に、たとえばィの方
法において、B面の透明連覇膜の形成〔{2)およびt
洲を熱処理‘3桝終ってから行うこと(すなわち{2}
→4、‘3}→5に変更)も可能であり、その他の方法
についても自明であろう。ともかく本発明の方法によれ
ば熱処理工程以前にポリエステルフィルムの両面は熱硬
化性高分子が塗布されていることが好ましい。第1表に
おける各方法のうち、ィ、ロ、ハの三方法は熱硬化性高
分子の熱硬化時においてもポリエステルフィルムが表面
に露出していないため、熱硬化温度を十分高くしてもオ
リゴマが発生せず好ましい方法である。ざらにィおよび
ロの方法は工程が少いためとくに好ましい。さらにィの
方法は熱硬化性高分子の熱硬化とインジウム金属の低酸
化物を主成分とする層の酸化を熱処理で同時に行えるた
め工程がとくに少〈、また該二層の接着性も極めて優れ
ている。接着性は該二層の硬化および酸化時に両層の何
らかの化学結合により向上するものと考えられるがその
理由は明らかでない。本発明方法によって形成された透
明導電被膜を有するポリエステルフィルムは、高温下に
おいてもオリゴマを発生しない。
(N)') indicates the case where both sides are made transparent and conductive, and is omitted when only one side is made transparent and conductive. In Table 1, side A and side B indicate the respective sides of both sides of the polyester film. In each of the steps in Table 1, for example, method A involves coating a thermosetting polymer layer on both sides of a polyester film (1 and 1'), and then applying a coating containing a low oxide of indium metal as the main component. (2 or 2 and 2') and heat-treated to oxidize the coating film and at the same time harden the thermosetting polymer layer (3 or 3 and 3')
represents something. In addition to the methods in Table 1, for example, in the method of
This should be done after 3 rounds of heat treatment (i.e. {2}
→4, '3}→5) is also possible, and other methods are also obvious. In any case, according to the method of the present invention, it is preferable that both surfaces of the polyester film be coated with a thermosetting polymer before the heat treatment step. Among the methods listed in Table 1, in methods A, B, and C, the polyester film is not exposed on the surface even when the thermosetting polymer is heat-cured, so even if the heat-curing temperature is sufficiently high, the oligo This is a preferable method as it does not cause The method of Zarani and Ro is particularly preferred because it requires fewer steps. Furthermore, this method requires fewer steps because the thermosetting polymer and the oxidation of the layer mainly composed of a low oxide of indium metal can be simultaneously performed by heat treatment, and the adhesion between the two layers is also extremely good. ing. It is thought that the adhesion is improved by some kind of chemical bond between the two layers when they are cured and oxidized, but the reason for this is not clear. A polyester film having a transparent conductive coating formed by the method of the present invention does not generate oligomers even at high temperatures.

本発明によって得られた透明導電性被膜を有するポリエ
ステルフィルムは、光と雷場の相互作用を応用したもの
、例えば団体発光素子、光電変換素子、ファクシミリ用
記録体、ELディスプレイ、電子写真用基材に利用され
るが、これらの製作時に高温下にさらされてもオリゴマ
ーを発生しない。さらに面発熱体、たとえば自動車のフ
ロントガラス、信号灯、冷凍ショーケースなどの結露・
凍結防止用発熱体として利用しても、オリゴマーが発生
しない。さらに本発明によって得られた透明導電フィル
ムは、帯電防止用、たとえばテレビのブラウン管、指示
計器の窓、作業マットにも使用される。また蛍光灯のク
イックスタート用あるいは選択光透過フィルムとしても
利用できる。以下実施例をあげて本発明を説明する。
The polyester film having a transparent conductive coating obtained according to the present invention can be used to apply the interaction between light and lightning fields, such as collective light emitting devices, photoelectric conversion devices, facsimile recording bodies, EL displays, and substrates for electrophotography. However, they do not generate oligomers even when exposed to high temperatures during their production. Furthermore, condensation and
Even when used as a heating element for freezing prevention, oligomers are not generated. Furthermore, the transparent conductive film obtained according to the present invention is also used for antistatic purposes, such as cathode ray tubes of televisions, windows of indicating instruments, and work mats. It can also be used for quick start of fluorescent lamps or as a selective light transmission film. The present invention will be explained below with reference to Examples.

実施例 1 厚さ75仏の二鞠延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムの両面にエチルシリケートを主成分とするアルコー
ル系溶剤のシリカゾル液(日本アルコート化学社製;H
AS−2)をグラビアコーターで塗布し、135q0、
9硯砂乾燥し、約0.1仏の塗膜を得た。
Example 1 A silica sol solution of an alcoholic solvent containing ethyl silicate as a main component (manufactured by Nippon Alcoat Chemical Co., Ltd.; H
AS-2) was applied with a gravure coater, 135q0,
9. The inkstone sand was dried to obtain a coating film with a thickness of about 0.1 mm.

表面を軽く拭くと塗膜は剥離し、アルコール系溶剤に可
溶で、未硬化の状態であった。酸化インジウムに酸化錫
を7.5重量%混入した混合物を該フィルムに真空蒸着
した。得られたフィルムはインジウム金属の低酸化物で
あり、膜厚350A、表面抵抗5KQ′の、60仇仇の
光の透過率約40%の黒色導電性フィルムである。該フ
ィルムを二軸緊張下で180oo、1時間熱処理をした
。得られたフィルムは表面抵抗4000/c流、60触
れの光の透過率約89%であり、オリゴマーの発生は全
くみられなかった。さらにスコッチテープによるゴバン
目剥離テストの結果も完全であった。比較例 1 厚さ75一の二軸延伸ポリエステルフィルムレートに実
施例1と同様に真空蒸着および熱処理をした。
When the surface was gently wiped, the coating peeled off, was soluble in alcohol solvents, and remained uncured. A mixture of indium oxide and tin oxide in an amount of 7.5% by weight was vacuum deposited onto the film. The obtained film is a low oxide of indium metal, and is a black conductive film having a thickness of 350 Å, a surface resistance of 5 KQ', and a transmittance of about 40% for 60 nm of light. The film was heat treated under biaxial tension at 180 oo for 1 hour. The obtained film had a surface resistance of 4000/c current, a light transmittance of about 89% at 60°C, and no oligomers were observed at all. Furthermore, the results of the stripping test using Scotch tape were also perfect. Comparative Example 1 A biaxially oriented polyester film sheet having a thickness of 75 mm was subjected to vacuum deposition and heat treatment in the same manner as in Example 1.

得られた透明導電フィルムはオリゴマーが発生し、曇り
ガラスのようであった。さらに導電性被膜とフィルムの
接着性も極めて悪かった。実施例 2厚さ75りの二軽
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面にテト
ラブチルチタネートの5%ノルマルヘキサン溶液をバー
コータ−で塗布した後室温で3粉ご風乾した。
The obtained transparent conductive film contained oligomers and looked like frosted glass. Furthermore, the adhesion between the conductive coating and the film was also extremely poor. Example 2 A 5% normal hexane solution of tetrabutyl titanate was coated on both sides of a 75 mm thick double-stretched polyethylene terephthalate film using a bar coater, and then air-dried at room temperature.

得られたフィルムに実施例1と同様に真空蒸着、熱処理
したがオリゴマーの発生は全くみられなかった。実施例
3 硬化性高分子層を、エチルシリケートとガラスレジン(
オーエンスィリノィ社)の混合物を実施例1と同様の実
験を行ったが、オリゴマ−の発生は認められなかった。
The obtained film was subjected to vacuum deposition and heat treatment in the same manner as in Example 1, but no oligomers were observed at all. Example 3 A curable polymer layer was made of ethyl silicate and glass resin (
The same experiment as in Example 1 was carried out using the mixture of Owen Sirinoy Co., Ltd., but no oligomers were observed.

実施例 4実施例1、2、3と同じ条件で熱硬化性高分
子を塗布したポリエステルフィルムをそれぞれ180℃
、20分の条件で熱硬化したが、オリゴマーの発生は全
くなかった。
Example 4 A polyester film coated with a thermosetting polymer was heated at 180°C under the same conditions as Examples 1, 2, and 3.
Although it was thermally cured for 20 minutes, no oligomers were generated at all.

該フィルムの上に実施例1と同機に真空蒸着法でインジ
ウム金属の低酸化物を主成分とする被膜を形成し、18
000、1時間熱処理して透明導電膜を形成した。得ら
れた透明導電フィルムはオリゴマーの発生は全くなかっ
た。さらに熱処理前の被膜と高分子層との接着性も良好
でゴバン目テストの結果も100%完全であった。実施
例 5実施例1、2、3、4の透明導電フィルムを18
0ooの熱風乾燥機の中に2岬時間放置してもオリコマ
ーは発生しなかった。
A film mainly composed of a low oxide of indium metal was formed on the film using the same vacuum evaporation method as in Example 1, and 18
000, and heat treated for 1 hour to form a transparent conductive film. The obtained transparent conductive film did not contain any oligomers. Furthermore, the adhesion between the film and the polymer layer before heat treatment was good, and the results of the cross-cut test were also 100% perfect. Example 5 The transparent conductive films of Examples 1, 2, 3, and 4 were
No olicomer was generated even if the product was left in a hot air dryer at 0oo for 2 hours.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 ポリエステルフイルムの両面に透明な熱硬化性高分
子層が設けられ、しかし該高分子層の少なくとも片面上
にインジウム金属の低酸化物を主成分とする被膜が形成
された積層ポリエステルフイルムを、該ポリエステルフ
イルムの軟化点未満の温度で熱処理することを特徴とす
る透明導電性被膜の形成法。
1. A laminated polyester film in which a transparent thermosetting polymer layer is provided on both sides of the polyester film, but a coating mainly composed of a low oxide of indium metal is formed on at least one side of the polymer layer. A method for forming a transparent conductive film, characterized by heat treatment at a temperature below the softening point of a polyester film.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5610450A (en) * 1979-07-05 1981-02-02 Teijin Ltd Transparent conductive film
JPS57159645A (en) * 1981-03-27 1982-10-01 Teijin Ltd Conductive laminate
JPS5862040A (en) * 1981-10-09 1983-04-13 富士写真フイルム株式会社 Antistatic plastic film
JPS5865657A (en) * 1981-10-15 1983-04-19 ダイセル化学工業株式会社 Transparent conductive film
JPS59169854A (en) * 1983-03-17 1984-09-25 東洋鋼鈑株式会社 Resin coated metallic plate having high surface hardness
JPS60131711A (en) * 1983-12-20 1985-07-13 帝人株式会社 Transparent conductive laminate
JPS61162337A (en) * 1985-01-11 1986-07-23 ダイアホイルヘキスト株式会社 Polyester film
JPS62144943A (en) * 1985-12-19 1987-06-29 住友ベークライト株式会社 Transparent conductive film having antireflection capacity
JP5072033B2 (en) * 2008-03-24 2012-11-14 三菱樹脂株式会社 Laminated polyester film for transparent conductive film

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