JPS6039750B2 - エポキシ樹脂基材の無電解銅メツキを行なうための前処理法 - Google Patents
エポキシ樹脂基材の無電解銅メツキを行なうための前処理法Info
- Publication number
- JPS6039750B2 JPS6039750B2 JP267379A JP267379A JPS6039750B2 JP S6039750 B2 JPS6039750 B2 JP S6039750B2 JP 267379 A JP267379 A JP 267379A JP 267379 A JP267379 A JP 267379A JP S6039750 B2 JPS6039750 B2 JP S6039750B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- base material
- resin base
- aqueous solution
- copper plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims description 49
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims description 49
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 45
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims description 45
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims description 45
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 26
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title description 12
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 45
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 41
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 39
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 claims description 22
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 5
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- VTIIJXUACCWYHX-UHFFFAOYSA-L disodium;carboxylatooxy carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)OOC([O-])=O VTIIJXUACCWYHX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229940045872 sodium percarbonate Drugs 0.000 claims description 3
- 229960002163 hydrogen peroxide Drugs 0.000 claims description 2
- 229960001922 sodium perborate Drugs 0.000 claims description 2
- YKLJGMBLPUQQOI-UHFFFAOYSA-M sodium;oxidooxy(oxo)borane Chemical compound [Na+].[O-]OB=O YKLJGMBLPUQQOI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 claims 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 23
- 239000000047 product Substances 0.000 description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N hydrochloric acid Substances Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 7
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-8-nitroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(OC)=CC([N+]([O-])=O)=C21 MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 241001125046 Sardina pilchardus Species 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J dicopper;phosphonato phosphate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 235000019512 sardine Nutrition 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はェポキシ樹脂基材の無電解銅〆ッキを行なうた
めの前処理法に関するものである。
めの前処理法に関するものである。
特に本発明はガラス布補強ェポキシ樹脂積層板上にプリ
ント回路を形成するために無電解〆ッキを行なうに際し
、そのェポキシ樹脂積層板に特殊な前処理加工を施すこ
とにより剥離強度のきわめて優れた無電解銅〆ッキ層の
形成を可能にする方法に関するものである。ガラス布補
強ヱポキシ樹脂積層坂上にプリント回路を形成する方法
には、従来予めェポキシ樹脂表面に銅の薄層を張り付け
たものを使用する銅張法によるものと、アデイテイブ法
と称する直接メッキを行なうものとが知られている。
ント回路を形成するために無電解〆ッキを行なうに際し
、そのェポキシ樹脂積層板に特殊な前処理加工を施すこ
とにより剥離強度のきわめて優れた無電解銅〆ッキ層の
形成を可能にする方法に関するものである。ガラス布補
強ヱポキシ樹脂積層坂上にプリント回路を形成する方法
には、従来予めェポキシ樹脂表面に銅の薄層を張り付け
たものを使用する銅張法によるものと、アデイテイブ法
と称する直接メッキを行なうものとが知られている。
前者の銅張法による場合にはすでに高度な要求を充足す
るに足る性能のよい基材が比較的簡単に得られるが、ス
ルホールを行なった際の膜厚の不均一、精度の高い回路
の形成の困難性、不必要な部分の銅張層のエッチングに
よる除去に伴なう薬品資材の経済的損失(平均して全表
面積70〜80%の銅張層が溶解除去される)、ならび
に余分な廃液処理の必要性などの欠点を避けることがで
きない。一方、後者のアディティブ法によるときはェポ
キシ樹脂についてはフェノール樹脂、ABS樹脂、ポリ
スチレン、ポリプロピレンなどの場合におけるような有
効な化学的表面処理技術が十分に開発されておらず、わ
ずかにショットブラストによる積層板表面の粗面化技術
が提案されている程度である。1972王金属表面技術
協会発行「金属表面技術」第23巻第8号第39頁〜第
45頁及び同第9号第40頁〜第48頁にはヱポキシ樹
脂の表面を溶剤で膨潤させてからクロム酸処理をするこ
とによって剥離強度を向上させることができることを記
載しているが、この方法に設備廃液処理の点で産業上の
利点が低く、現在まで広く実用化されるまでに至ってい
ない。
るに足る性能のよい基材が比較的簡単に得られるが、ス
ルホールを行なった際の膜厚の不均一、精度の高い回路
の形成の困難性、不必要な部分の銅張層のエッチングに
よる除去に伴なう薬品資材の経済的損失(平均して全表
面積70〜80%の銅張層が溶解除去される)、ならび
に余分な廃液処理の必要性などの欠点を避けることがで
きない。一方、後者のアディティブ法によるときはェポ
キシ樹脂についてはフェノール樹脂、ABS樹脂、ポリ
スチレン、ポリプロピレンなどの場合におけるような有
効な化学的表面処理技術が十分に開発されておらず、わ
ずかにショットブラストによる積層板表面の粗面化技術
が提案されている程度である。1972王金属表面技術
協会発行「金属表面技術」第23巻第8号第39頁〜第
45頁及び同第9号第40頁〜第48頁にはヱポキシ樹
脂の表面を溶剤で膨潤させてからクロム酸処理をするこ
とによって剥離強度を向上させることができることを記
載しているが、この方法に設備廃液処理の点で産業上の
利点が低く、現在まで広く実用化されるまでに至ってい
ない。
本発明はェポキシ樹脂基材、特にガラス布補強ヱポキシ
樹脂積層板を使用してプリント回路などを形成するため
に無電解銅〆ッキを行なうに際し、形成された無電鰯銅
〆ッキ層の剥離強度を著しく向上させ得る新規なェポキ
シ樹脂基材の前処理法を提供するものである。
樹脂積層板を使用してプリント回路などを形成するため
に無電解銅〆ッキを行なうに際し、形成された無電鰯銅
〆ッキ層の剥離強度を著しく向上させ得る新規なェポキ
シ樹脂基材の前処理法を提供するものである。
本発明によればェポキシ樹脂基材に増感処理を施し、無
電餓銅〆ッキを行なうに際し、ェポキシ樹脂基材をまず
塩化第二銅を含む水溶液で処理し、次いで水落性過酸化
物の水溶液で処理するものである。
電餓銅〆ッキを行なうに際し、ェポキシ樹脂基材をまず
塩化第二銅を含む水溶液で処理し、次いで水落性過酸化
物の水溶液で処理するものである。
ェポキシ樹脂基材としては従来公知のガラス布補強ェポ
キシ樹脂積層板を使用することができる。
キシ樹脂積層板を使用することができる。
入手可能なガラス布補強ェポキシ樹脂基材の例を挙げる
と、松下電工株式会社製品、商品名「R−1705ハミ
菱ガス化学株式会社製品、商品名「CCLE−17Q
I.6両ハ住友ベークライト株式会社製品、商品名「E
LC475解」などが挙げられる。本発明に使用する塩
化第二銅を含む水溶液としては、好適には、従来エッチ
ング技術において周知の塩化第二銅の20%〜40%の
水溶液を使用することができる。
と、松下電工株式会社製品、商品名「R−1705ハミ
菱ガス化学株式会社製品、商品名「CCLE−17Q
I.6両ハ住友ベークライト株式会社製品、商品名「E
LC475解」などが挙げられる。本発明に使用する塩
化第二銅を含む水溶液としては、好適には、従来エッチ
ング技術において周知の塩化第二銅の20%〜40%の
水溶液を使用することができる。
この水溶液は必要に応じて塩化第二銅のほか、他の成分
を含むこともできる。本発明に従ってェポキシ樹脂基材
を塩化第二銅を含む水溶液で洗浄処理したェポキシ基材
はよく水洗した後、表面を湿らせて空気などにさらして
乾燥さることのないように注意しながら速やかに次の水
溶性過酸化物の水溶液で処理することが好ましい。本発
明で使用する水溶性過酸化物とは、過酸化水素、過ホゥ
酸ナトリウム過炭酸ナトリウムなどにあって、これらを
単独又は二種以上混合して水溶液として使用する。
を含むこともできる。本発明に従ってェポキシ樹脂基材
を塩化第二銅を含む水溶液で洗浄処理したェポキシ基材
はよく水洗した後、表面を湿らせて空気などにさらして
乾燥さることのないように注意しながら速やかに次の水
溶性過酸化物の水溶液で処理することが好ましい。本発
明で使用する水溶性過酸化物とは、過酸化水素、過ホゥ
酸ナトリウム過炭酸ナトリウムなどにあって、これらを
単独又は二種以上混合して水溶液として使用する。
水溶性過酸化物の水溶液の濃度は0.5〜10%の水溶
液であることが好ましい。処理後濃度が0.5%以下で
は効果が十分でなく、又10%以上では基材表面の酸化
が進むためか、却って十分な効果が得られない。水落・
性過酸化物の水溶液は0℃〜400Cで、1〜20分間
5〜11のpHの条件でェポキシ基材に接触させたとき
に最もよい効果が得られる。
液であることが好ましい。処理後濃度が0.5%以下で
は効果が十分でなく、又10%以上では基材表面の酸化
が進むためか、却って十分な効果が得られない。水落・
性過酸化物の水溶液は0℃〜400Cで、1〜20分間
5〜11のpHの条件でェポキシ基材に接触させたとき
に最もよい効果が得られる。
処理温度が0℃以下の場合には、処理に時間を要し、実
用的でなく、4000以上では過酸化物の分解が早く、
かつ基材表面の処理をうまく調整できないので効果が不
十分である。又、pHが5以下のときには反応が進行し
ないためか十分な効果が認められず、一方pHが11以
上では過酸化物の分解が早過ぎるため好ましくない。上
記の範囲にpHを調節するには適当なアルカリ、たとえ
ば水酸化ナトリウムまたは珪酸ソーダを過酸化物の水溶
液に添加してこれを行なうことができる。
用的でなく、4000以上では過酸化物の分解が早く、
かつ基材表面の処理をうまく調整できないので効果が不
十分である。又、pHが5以下のときには反応が進行し
ないためか十分な効果が認められず、一方pHが11以
上では過酸化物の分解が早過ぎるため好ましくない。上
記の範囲にpHを調節するには適当なアルカリ、たとえ
ば水酸化ナトリウムまたは珪酸ソーダを過酸化物の水溶
液に添加してこれを行なうことができる。
本発明では前述したように特にガラス布補強ェポキシ樹
脂積層板を基材として使用するものであるが、この基材
は表面に銅張層を有するものであっても、あるいは銅張
層を有しない裸のものであってもよい。
脂積層板を基材として使用するものであるが、この基材
は表面に銅張層を有するものであっても、あるいは銅張
層を有しない裸のものであってもよい。
本発明において重要なことはェポキシ樹脂基材の表面を
塩化第二銅を含む水溶液で洗浄処理し、次いで水溶性過
酸化物の水溶液で処理することである。ェポキシ樹脂基
材がその表面に何ら被覆層を持たない場合には塩化第二
銅の水溶液による処理は単なる洗浄の作用が認められる
だけであるが、銅張りェポキシ樹脂基材を使用したとき
には、塩化第二銅の水溶液による処理は鋼張層のエッチ
ング除去の効果をあらわす。後者の場合にはェポキシ樹
脂基材の表面に付着している銅層を完全に除去するまで
塩化第二銅の水溶液による処理を行なうものである。銅
張法によってプリント回路を形成した場合に、出来上っ
た製品が規格に合格せず、廃品となることがある。この
ような場合に廃品となったプリント回路の印刷されたェ
ポキシ樹脂基材を本発明の第1工程に従って塩化第二銅
を含む水溶液で処理すると、プリント回路を形成してい
る銅層が除去され、ェポキシ樹脂基材を再生、再使用す
ることになる。この場合半田などの他の付着物も同時に
除去することが可能である。銅張積層板のプリント回路
の不良品を再生するために塩化第二銅の水溶液でエッチ
ング処理する場合には3000〜60CCで20%〜5
0%の塩化第二鋼の水溶液を基板面に吹き付けることに
よってこれを行なうことが好ましい。
塩化第二銅を含む水溶液で洗浄処理し、次いで水溶性過
酸化物の水溶液で処理することである。ェポキシ樹脂基
材がその表面に何ら被覆層を持たない場合には塩化第二
銅の水溶液による処理は単なる洗浄の作用が認められる
だけであるが、銅張りェポキシ樹脂基材を使用したとき
には、塩化第二銅の水溶液による処理は鋼張層のエッチ
ング除去の効果をあらわす。後者の場合にはェポキシ樹
脂基材の表面に付着している銅層を完全に除去するまで
塩化第二銅の水溶液による処理を行なうものである。銅
張法によってプリント回路を形成した場合に、出来上っ
た製品が規格に合格せず、廃品となることがある。この
ような場合に廃品となったプリント回路の印刷されたェ
ポキシ樹脂基材を本発明の第1工程に従って塩化第二銅
を含む水溶液で処理すると、プリント回路を形成してい
る銅層が除去され、ェポキシ樹脂基材を再生、再使用す
ることになる。この場合半田などの他の付着物も同時に
除去することが可能である。銅張積層板のプリント回路
の不良品を再生するために塩化第二銅の水溶液でエッチ
ング処理する場合には3000〜60CCで20%〜5
0%の塩化第二鋼の水溶液を基板面に吹き付けることに
よってこれを行なうことが好ましい。
当初から銅張層などの被覆層を持たないェポキシ樹脂基
村を使用する場合にも、同様に30oo〜60ooで2
0%〜50%の塩化第二銅水溶液を吹き付け、又は浸債
処理で適用することができる。本発明に従ってェボキシ
樹脂基材をまず塩化第二銅を含む水溶液で処理した後、
水潟性過酸化物の水溶液で処理したものを使用して増感
処理を施した後、無電解鋼メッキを行なうと、得られた
銅〆ッキ層の剥離強度がこの前処理を行なわないものに
比べて著しく向上する。
村を使用する場合にも、同様に30oo〜60ooで2
0%〜50%の塩化第二銅水溶液を吹き付け、又は浸債
処理で適用することができる。本発明に従ってェボキシ
樹脂基材をまず塩化第二銅を含む水溶液で処理した後、
水潟性過酸化物の水溶液で処理したものを使用して増感
処理を施した後、無電解鋼メッキを行なうと、得られた
銅〆ッキ層の剥離強度がこの前処理を行なわないものに
比べて著しく向上する。
本発明方法により剥離強度が著しく増大する理由につい
てはいまだ明らかでないが、本発明による前処理によっ
てェポキシ樹脂表面が物理的及び化学的に活性化される
ためであると考えられる。ガラス布補強ェポキシ樹脂積
層板が成形された直後のように、ェポキシ樹脂基材表面
が十分に表面活性である場合には、塩化第二銅を含む水
溶液の処理がなくても、水溶性過酸化物の水溶液処理だ
けである程度目的を達成する場合があるが、通常市販で
入手できるガラス布補強ヱポキシ樹脂基材では十分な表
面活性を備えていないので、本発明に従って塩化第二銅
を含む水溶液で処理した後、過酸化物の水溶液で処理す
ることが必要である。本発明によって前処理されたェポ
キシ樹脂基材は、その表面が乾燥すると、せっかく行な
った前処理の効果が減じ、以後の無電解〆ッキを経て得
られたプリント回路の性能にバラッキが生じるので、水
溶性過酸化物の水溶液で処理し、水洗した後、表面を乾
かさぬようできるだけ速やかに増感剤処理を行ない、次
いで促進剤処理を経て無電機銅〆ッキ工程に導くように
する。
てはいまだ明らかでないが、本発明による前処理によっ
てェポキシ樹脂表面が物理的及び化学的に活性化される
ためであると考えられる。ガラス布補強ェポキシ樹脂積
層板が成形された直後のように、ェポキシ樹脂基材表面
が十分に表面活性である場合には、塩化第二銅を含む水
溶液の処理がなくても、水溶性過酸化物の水溶液処理だ
けである程度目的を達成する場合があるが、通常市販で
入手できるガラス布補強ヱポキシ樹脂基材では十分な表
面活性を備えていないので、本発明に従って塩化第二銅
を含む水溶液で処理した後、過酸化物の水溶液で処理す
ることが必要である。本発明によって前処理されたェポ
キシ樹脂基材は、その表面が乾燥すると、せっかく行な
った前処理の効果が減じ、以後の無電解〆ッキを経て得
られたプリント回路の性能にバラッキが生じるので、水
溶性過酸化物の水溶液で処理し、水洗した後、表面を乾
かさぬようできるだけ速やかに増感剤処理を行ない、次
いで促進剤処理を経て無電機銅〆ッキ工程に導くように
する。
増感剤処理、促進剤処理及び無電鱗銅〆ツキの工程は、
従来公知の任意の方法を利用できる。増感剤としてはた
とえばPdCそ2 一SnC〆2 系のもの、促進剤と
してはたとえば重沸化アンモニウム、あるいは硫酸塩系
のもの、無電解鋼メッキ格としては硫酸銅〆ッキ俗を使
用することができる。無電解銅〆ッヰ‐を行なった後、
所望のメッキ層厚さを得るために硫酸洗浄した後、さら
に無電解銅〆ッキを行なって所望のメッキ層厚さのプリ
ント回路を形成することができる。最終製品のメッキ層
の厚さは、たとえば30仏〜50仏である。以下本発明
の実施例及び参照比較例を例示する。
従来公知の任意の方法を利用できる。増感剤としてはた
とえばPdCそ2 一SnC〆2 系のもの、促進剤と
してはたとえば重沸化アンモニウム、あるいは硫酸塩系
のもの、無電解鋼メッキ格としては硫酸銅〆ッキ俗を使
用することができる。無電解銅〆ッヰ‐を行なった後、
所望のメッキ層厚さを得るために硫酸洗浄した後、さら
に無電解銅〆ッキを行なって所望のメッキ層厚さのプリ
ント回路を形成することができる。最終製品のメッキ層
の厚さは、たとえば30仏〜50仏である。以下本発明
の実施例及び参照比較例を例示する。
実施例〔1〕ないし〔3〕
銅張りェポキシガラスプリント基板FR−4三種類(松
下電工株式会社製品、商品名「R−1705」、三菱瓦
斯化学株式会社製品、商品名「CCLE−170、1.
6両」及び住友ベークライト株式会社製品、商品名「E
LC475餌」)を使用してプリント回路を無電解鋼メ
ッキ、竜銅メッキ及び電解ハンダメッキにより形成した
プリント回路板の不合格品を温度50ooに加温した塩
化第二銅の塩酸水溶液(塩化銅102k9及び35%塩
酸水溶液90そを173その水に溶解したもの)エッチ
ングマシンで吹き付け、この回路板のハンダ及び銅を完
全に溶解除去した。
下電工株式会社製品、商品名「R−1705」、三菱瓦
斯化学株式会社製品、商品名「CCLE−170、1.
6両」及び住友ベークライト株式会社製品、商品名「E
LC475餌」)を使用してプリント回路を無電解鋼メ
ッキ、竜銅メッキ及び電解ハンダメッキにより形成した
プリント回路板の不合格品を温度50ooに加温した塩
化第二銅の塩酸水溶液(塩化銅102k9及び35%塩
酸水溶液90そを173その水に溶解したもの)エッチ
ングマシンで吹き付け、この回路板のハンダ及び銅を完
全に溶解除去した。
次に水洗後この基材をpHIO.0‘こ調節した過酸化
水素の処理液(過酸化水素の30%水溶液30ccを1
その水に溶解したもの)を用いて温度5℃で1分間処理
し、水洗後次に示す条件で塩酸処理、増感剤処理、促進
剤処理、無電解銅メッキ、硫酸処理及び電解銅〆ッキを
順次行ない、得た製品を試験片とした。・塩酸処理 過酸化水素処理を済ませた基材を水洗し乾燥させること
なく直ちに300の上/その塩酸に猿潰し室温(5〜3
500)で1〜5分間処理する。
水素の処理液(過酸化水素の30%水溶液30ccを1
その水に溶解したもの)を用いて温度5℃で1分間処理
し、水洗後次に示す条件で塩酸処理、増感剤処理、促進
剤処理、無電解銅メッキ、硫酸処理及び電解銅〆ッキを
順次行ない、得た製品を試験片とした。・塩酸処理 過酸化水素処理を済ませた基材を水洗し乾燥させること
なく直ちに300の上/その塩酸に猿潰し室温(5〜3
500)で1〜5分間処理する。
・増感剤処理下記の増感剤処理格で5〜40午○の温度
で1〜1び分間浸債処理する。
で1〜1び分間浸債処理する。
純水 620の上、塩酸320叫
増感剤HS−101B(日立化成工業株式会社製品)6
伍肋一合計1そ・促進剤処理 奥野製薬工業株式会社製品OPC−500を使用し、5
0〜150g/その濃度で5〜40qoの温度で1〜5
分間処理する。
伍肋一合計1そ・促進剤処理 奥野製薬工業株式会社製品OPC−500を使用し、5
0〜150g/その濃度で5〜40qoの温度で1〜5
分間処理する。
・無電解銅〆ッキ
下記の無電解銅〆ッキ俗で15〜30qoの温度で10
〜30分間浸潰して無電鰯銅を析出させる。
〜30分間浸潰して無電鰯銅を析出させる。
純水 660の‘、#200A液(奥野製薬工業株式会
社製品)170汎‘、#20血液(奥野製薬工業株式会
社製品)170奴【一合計1そ・硫酸処理 無電解鋼メッキを終えた基材を100の【/その硫酸で
5〜35℃の温度で0.5〜3分間浸糟処理した。
社製品)170汎‘、#20血液(奥野製薬工業株式会
社製品)170奴【一合計1そ・硫酸処理 無電解鋼メッキを終えた基材を100の【/その硫酸で
5〜35℃の温度で0.5〜3分間浸糟処理した。
・電解鋼メッキ
ピロリン酸銅〆ッキ格を使用し、銅濃度26〜40yそ
、P器:6〜8アンモニア3〜6CC/〆添加剤CP2
(村田化学株式会社製品)1〜5cc/〆温度50〜6
0q○、pH8.3〜8.9 電流密度0.5〜4.0
A/dめで1〜1.虫時間メッキをし、銅厚30〜40
仏を得て試験片とした。
、P器:6〜8アンモニア3〜6CC/〆添加剤CP2
(村田化学株式会社製品)1〜5cc/〆温度50〜6
0q○、pH8.3〜8.9 電流密度0.5〜4.0
A/dめで1〜1.虫時間メッキをし、銅厚30〜40
仏を得て試験片とした。
比較例〔1〕ないし〔3〕
実施例〔1〕ないし〔3〕と同一の銅張りェポキシガラ
スプリント基材FR−4(それぞれ比較例〔1〕ないし
〔3〕とする)を使用して作成したプリント回路板の不
合格品を温度5000に加溢した塩化第二銅の水溶液(
実施例〔1〕ないし〔3〕において使用したものと同じ
)をエッチングマシンで吹き付け、この回路板のハンダ
及び銅を完全に溶解除去し、水洗後過酸化水素による処
理を行なうことなく直ちに実施例〔1〕ないし〔3〕に
示すと同様の塩酸処理、増感処理、促進剤処理、無電解
銅〆ッキ、硫酸処理及び電解銅〆ッキを順次行なって得
た製品を試験片とした。
スプリント基材FR−4(それぞれ比較例〔1〕ないし
〔3〕とする)を使用して作成したプリント回路板の不
合格品を温度5000に加溢した塩化第二銅の水溶液(
実施例〔1〕ないし〔3〕において使用したものと同じ
)をエッチングマシンで吹き付け、この回路板のハンダ
及び銅を完全に溶解除去し、水洗後過酸化水素による処
理を行なうことなく直ちに実施例〔1〕ないし〔3〕に
示すと同様の塩酸処理、増感処理、促進剤処理、無電解
銅〆ッキ、硫酸処理及び電解銅〆ッキを順次行なって得
た製品を試験片とした。
比較例〔4〕ないし〔6〕実施例〔1〕ないし〔3〕と
同一の銅張りェポキシガラス基板FR−4(それぞれ比
較例〔4〕ないし〔6〕とする)を使用して作成したプ
リント回路板の不合格品の温度50o0に加溢した塩化
第二鉄の38%水溶液をエッチングマシンで吹き付け、
この回路板のハンダ及び銅を完全に溶解除去した。
同一の銅張りェポキシガラス基板FR−4(それぞれ比
較例〔4〕ないし〔6〕とする)を使用して作成したプ
リント回路板の不合格品の温度50o0に加溢した塩化
第二鉄の38%水溶液をエッチングマシンで吹き付け、
この回路板のハンダ及び銅を完全に溶解除去した。
次に水洗後、この基材を実施例〔1〕ないし〔3〕と同
様に過酸化水素処理液を用いて処理し、水洗後、実施例
〔1〕ないし〔3〕に示すと同様の塩酸処理、増感剤処
理、促進剤処理、無電解鋼メッキ、硫酸処理及び電解銅
〆ッキを順次行なって得た製品を試験片とした。上記の
各実施例及び比較例によって得られた試験片をJISC
6981に準拠して引き離し強さを測定した結果を第1
表に示す。
様に過酸化水素処理液を用いて処理し、水洗後、実施例
〔1〕ないし〔3〕に示すと同様の塩酸処理、増感剤処
理、促進剤処理、無電解鋼メッキ、硫酸処理及び電解銅
〆ッキを順次行なって得た製品を試験片とした。上記の
各実施例及び比較例によって得られた試験片をJISC
6981に準拠して引き離し強さを測定した結果を第1
表に示す。
各実施例及び比較例における引き離し強さの数値はいず
れもそれぞれ12回行なったテストの平均値である。実
際の各測定値にはいずれの場合も実質上0.10以上の
ばらつきはない。第1表 単位&/伽 以上の実施例及び比較例を比較してわかるように、本発
明に従って、塩化第二銅水溶液で処理した後、過酸化水
素の水溶液で更に処理したものを使用した場合には、塩
化第二銅で処理した後、過酸化水素による処理を行なわ
ないもの及び塩化第二鉄で処理した後、過酸化水素で処
理したもののいずれに比較しても著しく引き離し強さの
増大が認められた。
れもそれぞれ12回行なったテストの平均値である。実
際の各測定値にはいずれの場合も実質上0.10以上の
ばらつきはない。第1表 単位&/伽 以上の実施例及び比較例を比較してわかるように、本発
明に従って、塩化第二銅水溶液で処理した後、過酸化水
素の水溶液で更に処理したものを使用した場合には、塩
化第二銅で処理した後、過酸化水素による処理を行なわ
ないもの及び塩化第二鉄で処理した後、過酸化水素で処
理したもののいずれに比較しても著しく引き離し強さの
増大が認められた。
以上の他、過酸化水素だけでなく、他の過酸化物例えば
過棚酸ナトリウムや過炭酸ナトリウムを使用して処理し
た場合にも未処理の場合に比して引き離し強度の向上が
認められた。
過棚酸ナトリウムや過炭酸ナトリウムを使用して処理し
た場合にも未処理の場合に比して引き離し強度の向上が
認められた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エポキシ樹脂基材に増感処理を施した後、無電解銅
メツキを行なうに際して、エポキシ樹脂基材をまず塩化
第二銅を含む水溶液で処理し、次いで水溶性過酸化物の
水溶液で処理することを特徴とするエポキシ樹脂基材の
無電解銅メツキを行なうための前処理法。 2 表面に少なくとも部分的に銅張り又は銅メツキ層を
有するエポキシ樹脂基材を、まず塩化第二銅を含む水溶
液で処理して、前記銅張り又は銅メツキ層を除去し、次
いで水溶性過酸化物の水溶液で処理することを特徴とす
る表面に銅張り又は銅メツキ層を有するエポキシ樹脂基
材の無電解銅メツキを行なうための再生前処理法。 3 エポキシ樹脂基材がガラス布補強エポキシ樹脂積層
板からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項は第
2項記載のエポキシ樹脂基材の無電解銅メツキを行なう
ための前処理法。 4 前記水溶性過酸化物が過酸化水素、過ホウ酸ナトリ
ウム及び過炭酸ナトリウムからなる群から選ばれること
を特徴とする特許請求の範囲第1ないし第3項のいずれ
かに記載のエポキシ樹脂基材の無電解銅メツキを行なう
ための前処理法。 5 エポキシ樹脂基材を塩化第二銅を含む水溶液で処理
した後水洗し、乾燥させることなく直ちに水溶性過酸化
物の処理後で処理することを特徴とする特許請求の範囲
第1項ないし第4項のいずれかに記載のエポキシ樹脂基
材の無電解銅メツキを行なうための前処理法。 6 前記水溶性過酸化物の水溶液による処理を0℃〜4
0℃において1〜20分間pH5〜11の水溶性過酸化
物の5〜10%水溶液にエポキシ樹脂基材を接触させる
ことによつて行なうことを特徴とする特許請求の範囲第
1項ないし第5項のいずれかに記載のエポキシ樹脂基材
の無電解銅メツキを行なうための前処理法。 7 エポキシ樹脂基材に増感処理を施した後、無電解銅
メツキを行なうにあたり、エポキシ樹脂基材をまず塩化
第二銅を含む水溶液で処理し、次いで水溶性過酸化物の
水溶液で処理した後、乾燥させることなく直ちに増感剤
処理を行なうことを特徴とするエポキシ樹脂基材の無電
解銅メツキを行なうための増感方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP267379A JPS6039750B2 (ja) | 1979-01-11 | 1979-01-11 | エポキシ樹脂基材の無電解銅メツキを行なうための前処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP267379A JPS6039750B2 (ja) | 1979-01-11 | 1979-01-11 | エポキシ樹脂基材の無電解銅メツキを行なうための前処理法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5594939A JPS5594939A (en) | 1980-07-18 |
| JPS6039750B2 true JPS6039750B2 (ja) | 1985-09-07 |
Family
ID=11535824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP267379A Expired JPS6039750B2 (ja) | 1979-01-11 | 1979-01-11 | エポキシ樹脂基材の無電解銅メツキを行なうための前処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6039750B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02277779A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-14 | Nisshinbo Ind Inc | 合成樹脂製構造物表面の金属被覆方法 |
-
1979
- 1979-01-11 JP JP267379A patent/JPS6039750B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5594939A (en) | 1980-07-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0797909B1 (en) | Copper coating | |
| US4775444A (en) | Process for fabricating multilayer circuit boards | |
| CA1229266A (en) | Process for preparing a substrate for subsequent electroless deposition of a metal | |
| JPH028476B2 (ja) | ||
| JPH04507480A (ja) | レジスト付きスルーホールめっき印刷回路基板およびその製造方法 | |
| JP2000297387A (ja) | 銅および銅合金の表面処理剤 | |
| US4299863A (en) | Pretreatment of an epoxy resin substrate for electroless copper plating | |
| JPH03204992A (ja) | 無電解金属前に合成樹脂を前処理するための膨潤剤、全面の金属化された基材の製造方法、全面の金属化された基材、及びプリント配線板、チツプ支持体、ハイブリツド回路、多層積層物半製品及び電磁遮蔽用半製品の製造方法 | |
| JPS63168077A (ja) | プリント配線板の製造法 | |
| AU580433B2 (en) | Process for conditioning the surface of plastic substrates prior to metal plating | |
| KR910005532B1 (ko) | 금속 도금전에 플라스틱 기판의 표면을 상태조절하기 위한 조성물 및 그 방법 | |
| JPS6039750B2 (ja) | エポキシ樹脂基材の無電解銅メツキを行なうための前処理法 | |
| JPH05259611A (ja) | プリント配線板の製造法 | |
| JP3117216B2 (ja) | 酸化薄層の選択的形成手段 | |
| JPS63129692A (ja) | プリント配線板の製法 | |
| JPH04229694A (ja) | ポリイミド表面への金属の接着を改良する方法 | |
| JP2571867B2 (ja) | プリント配線板の製造法 | |
| JPS58133364A (ja) | 化学メツキ用前処理剤および化学メツキ前処理方法 | |
| JPH0568116B2 (ja) | ||
| JPH01297883A (ja) | プリント配線板の製造法 | |
| HK1002891B (en) | Copper coating | |
| JPS6115982A (ja) | 無電解めつき法 | |
| JPH02155293A (ja) | 銅の表面処理法 | |
| HK1025006A (en) | Copper coating | |
| JPH036089A (ja) | プリント板の製造法 |