JPS604826B2 - インダゾ−ル酢酸類の製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はィンダゾール酢酸類またはその塩類の新規な
製造法に関するものであり、その反応式を図示すれば次
の通りである。

（式中、ＲＩはカルボキシ基またはェステル化されたカ
ルボキシ基を、Ｒ２はアシル基をおよび×は水素または
ハロゲンをそれぞれ意味する）この発明の目的物質であ
るィンダゾール酢酸類（ロ）は優れた植物生長調整作用
を有する化合物として知られており（例えば、特公昭４
６−３２７７３号および椿公昭４８−３７２７０号公報
参照。

）、その製造法としては、例えば上記文献記載の製法等
が知られている。しかしながら、これらの製法はィンダ
ゾール酢酸類（０）を工業的に得る方法としては、必ず
しも満足されるものではない。この発明者等は、従来の
製造法とは全く異なる工業的に有利なィンダゾール酢酸
類（ロ）の新規な製造法を開発し、この発明を完成する
に至った。

この発明の反応は、まずアシルアミノフェニルプロピオ
ン酸類（１）またはその塩類にＮーニトロソ化剤を作用
させることにより行なわれる。

原料物質のァシルァミノフェニルプロピオン酸類（１）
はすべて新規化合物であり、例えば、後述するように公
知の２ーオキソテトラヒドロキノリン類またはＮ−アシ
ルトルィジン類から製造することができる。原料物質の
アシルアミノフェニルプロピオン酸類は前記一般式（１
）で示され、さらに詳細には、カルボキシ基または例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フ。

ロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキ
シカルポニル、第３級ブトキシカルボニル等のアルコキ
シカルボニル、フエノキシカルボニル、トリルオキシカ
ルボニル、Ｐ−ニトロフェノキシカルボニル等のアリー
ルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェ
ネチルオキシカルポニル等のアラルキルオキシカルボニ
ル等のェステル化されたカルポキシ基をＲＩとして有し
、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル
等のアルカノイル、クロロアセチル、ジクロロアセチル
、トリクロロアセチル等のハロアルカノィル、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、インブトキシカルボニル、第
３級ブトキシカルボニル等のアルコキシカルボニル、ク
ロロエトキシカルポニル、ジクロロエトキシカルボニル
、トリクロロエトキシカルボニル等のハロアルコキシカ
ルボニル、ベンゾイル、トルオィル等のアロィル、フェ
ニルアセチル、フェニルプロピオニル等のアラルカノイ
ル等のアシル基をＲ２として有し、水素またはふつ素、
塩素、臭素、沃素等のハロゲンを×として有する化合物
を意味する。また、この原料物質（１）の塩類としては
、例えばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩等が
挙げられる。

次に、反応試剤のＮーニトロソ化剤としては原料物質（
１）のァシルアミノ基のアミ／部分をニトロソ化するこ
とができるものを意味し、例えば蛭硝酸、三酸化窒素、
塩化ニトロシル等の他、亜硝酸ィソアミル、亜硝酸プチ
ル等の蛭硝酸ェステルが挙げられる。この反応は通常溶
媒中で行なわれ、溶媒としては例えば、酢酸、無水酢酸
、クロロホルム、四塩化炭素、Ｎ，Ｎ一ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の他、この反応に悪影
響を与えない溶媒であればいずれも使用することができ
る。反応の温度は特は限定されないが通常冷却下で行な
われるのが多い。このようにして生成するニトロソ化合
物は一旦単離、精製してから、または単離、精製するこ
となく粗製のまま次の閉環反応に付すことにより、目的
物質（０）に導かれる。

ここで、閉環反応は通常溶媒中で室温ないし溶媒の沸点
程度で行なわれ、溶媒としては、例えばベンゼン、トル
ヱン、クロロホルム、四塩化炭素、エーテル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド等の他
、この反応に悪影響を与えない溶媒であればいずれも使
用することができる。このようにして得られた目的物質
（０）は常法により、単離、精製される。

この発明の方法の原料物質（１）は例えば下記に図示す
るような方法により、製造することができる。

アシルアミノフェニルプロピオン酸ェステル（ｌａ）の
製造法｛１｝（式中、ＲＩ′はェステル化されたカルボ
キシ基を、Ｒ２はアシル基を、および×は水素またはハ
ロゲンをそれぞれ意味する）上記の製造法の詳細は次の
通りである。

（ｉ）Ｎーアシルー２ーオキソテトラヒドロキノリン類
（Ｗ）の製造工程：この工程の反応は２−オキソテトラ
ヒドロキノリン類（ｍ）にアシル化剤を作用されること
により行なわれる。

ここで、２ーオキソテトラヒドロキノリン類（ｍ）のう
ち、６ークロロー２−オキソー１，２，３，４一テトラ
ヒドロキノリンは、例えば、ヒュミッシェ・ベリヒテ第
６項登第８５８〜８６４頁（１９２７年）に記載されて
いる方法により製造され、その他の化合物も同様にして
製造することができる。この反応に使用されるアシル化
剤は有機酸（この有機酸は式Ｒ２−ＯＨで示され、Ｒ２
はアシル基を意味する）、その反応性誘導体およびィソ
シアン酸類（例えばィソシアン酸カリウム、ィソシアン
酸アルキル、ィソシアン酸アリール）等を含む。上記有
機酸の例としては、例えば一塩基性のまたは二塩基性の
有機カルボン酸、有機炭酸および有機カルバミン酸、そ
れらの酸に対応するチオ酸およびィミド酸ならびに有機
スルホン酸が挙げられる。

これらの酸の好適な例としては前述の原料物質（１）の
Ｒ２におけるアシル基の例示において説明されているよ
うなアシル基を含む有機酸が挙げられる。上記の有機酸
をアシル化剤として使用する場合、通常活性化された有
機酸の形態すなわちその酸の反応性誘導体として使用さ
れ、そのような反応性誘導体の例としては例えば酸ハラ
イド（例えば、鞍クロラィド等）、酸アジド、活性アミ
ド（例えばピラゾール等との活性アミド）、活性ェステ
ル（例えばメチルチオヱステル等）等が挙げられる。

この反応性誘導体は使用する酸の種類に応じて適宜選択
して使用される。この反応においてアシル化剤として遊
離酸又はその塩の形で使用する場合には、縮合剤の存在
下に行なうのが好ましく、そのような縮合剤の例として
は、例えばＮ，Ｎージシクロヘキシルカルボジイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モルホリノェチルカルボジ
ィミド等が挙げられる。

このアシル化反応は通常溶媒中で行なわれ、反応溶媒と
しては例えばピリジン、クロロホルム、ジクロロェタン
、４塩化炭素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサィド等
の他、この反応に悪影響を与えない溶媒が挙げられる。

このアシル化反応は通常、塩基の存在下に行なうのが好
ましく、そのような塩基の例としては、例えばアルカリ
金属、アルカリ士類金属、水酸化アルカリまたはアルカ
リ士類金属、炭酸アルカリまたはアルカリ士類金属、ア
ルカリまたはアルカリ士類金属アルコラート、トリアル
キルアミン、ピリジン、ビシクロジアザ化合物等が挙げ
られる。そのような塩基のうち、液体のものは反応溶媒
を兼ねて使用することができる。この反応の温度は特に
限定されないが、通常室温ないし溶媒の沸点程度の温度
で行なわれることが多い。

（ｉｉ）アシルアミノフェニルプロピオン酸ェステル（
ｌａ）の製造工程：この工程の反応はＮーアシル−２一
オキソテトラヒドロキ／リン類（Ｎ）にヒドロキシ化合
物を作用させることによって行なわれる。

この反応で使用するヒドロキシ化合物はアルカノール（
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロバノール、ブタノール等）、アルアルカノール（例
えば、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）
、アンノール（例えば、フェノール、クレゾール、Ｐ−
ニトロフェノール等）を含む。

この反応は通常溶媒中で行なわれる。

そのような溶媒としては、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド等の他、この反応に悪影響を与えない
溶媒が挙げられるが、通常、反応試剤であるヒドロキシ
化合物が、溶媒を兼ねて使用されることが多い。この反
応に於いて、遊離のヒドロキシ化合物を使用する場合に
は酸の存在下に反応を行なうことができ、そのような酸
としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸、ベンゼンスル
ホン酸、トリクロロ酢酸等の有機酸が挙げられる。

この反応は通常室温ないし溶媒の沸点程度の温度で行な
われることが多い。

このようにして得られたアシルアミノフェニルプロピオ
ン酸ェステル（ｌａ）は常法により、反応液から単離、
精製することができる。

アシルアミノフェニルプロピオン酸（ｌｂ）およびその
ェステル（ｌａ）の製造法【２’（式中、ＲＩ′はェス
テル化されたカルボキシ基を、Ｒ２はアシル基を、×は
水素またはハロゲンをおよびＸ′はハロゲンをそれぞれ
意味する）上記製造法の詳細は次の通りである。

（ｉ）Ｎーアシル−Ｑーハロトルィジン類（の）の製造
工程：この工程の反応はＮーアシルトルィジン類（Ｖ）
にハロゲン化剤をを作用させることにより行なわれる。

この反応で使用されるＮーアシルトルィジン類（Ｖ）は
公知および新規化合物を含み、公知化合物、例えば５−
クロロー２−ェトキシカルポニルトルヱンは、ジヤーナ
ル・オブ・メデイシナル・ケミストリ−第１２登第４２
６頁〜４２８頁（１９６ｇ王）記載の方法で製造するこ
とができ、その他の化合物も同様にして製造することが
できる。

この反応で使用されるハロゲン化剤としては、例えば、
塩素、臭素等のハロゲン、Ｎ−プロモサクシンイミド、
Ｎ−クロロサクシンイミド、Ｎープロモフタルィミド等
のＮーハロィミド、次蓮塩素酸、次亜臭素酸、次亜塩素
酸ナトリウム等の次亜ハロゲン酸またはその塩類、スル
フリルクロライド、トリクロロメタンスルフリルクロラ
ィド、ィソシアヌル酸クロラィド等が挙げられる。

このハロゲン化反応は、例えば紫外線のような光、過酸
化ペンゾィル、過酸化ジ第３級ブチル等の過酸化物、ア
ゾビスイソブチロニトリルのようなアゾ化合物物等の遊
離ラジカル開始剤の存在下に行なうのが好ましい。

この反応は、通常溶媒中で、室温ないし溶媒の沸点程度
の温度で行なわれることが多い。

反応溶媒としては四塩化炭素、クロルベンゼン、ニトロ
ベンゼン、シクロヘキサン等の他、この反応に悪影響を
与えない溶媒であればいずれも使用することができる。
（ｉｉ）アシルアミ／ペンジルマロン酸ヱステル（肌）
の製造工程：この反応はＮーアシル−ａーハロトルィジ
ン類（Ｗ）にマロン酸ェステルを作用させることにより
行なわれる。

ここで、マロン酸ェステルとはマロン酸のメチルエステ
ル、エチルエステル、フ。ロピルエステル等のアルキル
ェステル、ベンジンェステル、フェネチルェステル等の
アラルキルェステルまたはこれらの混合ェステル等を含
むマロン酸のェステル類を指す。この反応は通常、溶媒
中で塩基の存在下に行なわれる。

この反応に使用される塩基としてはアルカリ金属、アル
カリ金属アルコキサィド、水酸化アルカリ金属、アルカ
リ金属アミド、水素化アルカリ金属等が挙げられる。ま
た、溶媒としては、メタノール、エタノール、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の他、この反応に悪影響を
与えない溶媒であればいずれも使用することができる。
また、この反応は通常、室温ないし加熱下に行なわれる
。（ｆｉｉ）アシルアミノフェニルプロピオン酸（ｌｂ
）の製造工程：この工程の反応はアシルアミノベンジル
マロン酸ェステル類（肌）を加水分解し、次いで必要に
応じて脱炭酸反応することにより行なわれる。

この加水分解反応は酸の存在下による加水分解、塩基の
存在下による加水分解等速常の加水分解が適用できる。
ここで、塩基の存在下による加水分解は通常、緩和な条
件で容易に進行し、対応する遊離のマロン酸または反応
に使用した塩基との塩（とりわけアルカリ金属塩、アル
カリ士類金属塩）を生成物として与えることがある。こ
のような場合はこの生成物を単に加熱又は酸で処理する
ことにより脱炭酸反応を行なえば、アシルアミノフェニ
ルプロピオン酸（ｌｂ）を得ることができる。ここで、
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水
酸化アルカリ金属、水酸化バリウム、水酸化カルシウム
等の水酸化アルカリ士類金属、炭酸水素ナトリウム等の
炭酸水素アルカリ金属等が挙げられる。

この反応は冷却下ないし加温下に行なわれることが多い
。酸の存在下による加水分解は常法に従って行なわれ、
加水分解と共に脱炭酸反応を伴って直接アシルアミノフ
ェニルプロピオン酸（ｌｂ）が得られることが多い。

Ｍアシルアミノフェニルプロピオン酸ェステル（ｌａ）
の製造工程：この工程の反応はアシルアミノフェニルプ
ロピオン酸（ｌｂ）またはその反応性誘導体にェステル
化剤を作用させることにより行なわれる。

アシルァミノフェニルブロピオン酸（ｌｂ）の反応性議
導体としては、例えば酸ハラィド、酸アジド、活性アミ
ド、活性ェステル等が挙げられる。

この反応で使用されるェステル化剤の好ましい例として
は、前述のアシルアミノフェニルプロピオン酸ェステル
（ｌａ）の製造法（１１の（ｉｉ）の工程において説明
したヒドロキシ化合物がそのまま挙げられ、その他、そ
れらのヒドロキシ化合物の反応性誘導体が挙げられる。

そのような反応性誘導体の例としては、例えば、対応す
るハライド、ジアゾ化合物（例えば、ジアゾアルカン等
）、スルホン酸とのェステル（例えば、アルカンスルホ
ン酸ェステル等）、硫酸とのェステル（例えば、アルキ
ル硫酸等）のほか、アルカリ金属（例えば、リチウム、
ナトリウム、カリウム等）またはアルカリ士類金属（例
えば、マグネシウム、カルシウム等）との塩類（例えば
、ナトリウムェトキサイド、ナトリウムペンジルアルコ
キサイド、カリウムフエノキサィド等）が挙げられる。
この反応は通常、溶媒中で行なわれる。そのような溶媒
としては、エーテル、テトラヒドロフラン、酢酸エチル
、ジメチルスルホキサィド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド等の他、この反応に悪影響を与えない溶媒が挙げら
れるが、通常反応試剤であるヒドロキシ化合物が溶媒を
兼ねて使用されることが多い。また、アシルアミノフェ
ニルプロピオン酸（ｌｂ）を遊離の酸またはその塩の形
で使用する場合は通常縮合剤の存在下に行なわれる。

そのような縮合剤としては、例えば、オキシ塩化りん「
三塩化りん、チオニルク。ラィド、オキサリルクロラィ
ド、トリフェニルホスフィン等が挙げられる。また、こ
の反応は通常室温ないし、溶媒の沸点程度の温度で行な
われることが多い。

以上の方法によって得られたァシルアミノフェニルプロ
ピオン酸（ｌｂ）およびそのェステル（ｌａ）は常法に
より、反応液から、単離、精製することができる。

上述のアシルアミノフェニルプロピオン酸（ｌｂ）およ
びそのヱステル（ｌａ）の製造法｛１）および■の各工
程において得られる中間体（Ｗ）、（の）および（肌）
はすべて新規化合物であり、反応液から常法により、一
旦単離、精製することもできるが、単離、精製せず粗製
のまま次の工程に付してもよい。

次に、この発明を実施例により説明する。

実施例 ‘１’原料物質の製造例 ‘ａ）３一（５ークロロ−２ーベンズアミドフエニル）
プロピオン酸エチル：６−クロロー２−オキソー１，２
，３，４一テトラヒドロキノリン２．０夕をピリジン４
０叫に溶解し、これに安息香酸クロラィド３．０夕を滴
下する。

反応液を１４０〜１５０ｏ０で３時間加熱還流する。反
応終了後、反応液を減圧下で濃縮乾固し、残澄をクロロ
ホルム１０の‘に溶解し、希塩酸で洗浄する。有機層を
分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃
縮乾園する。残溶を乾燥ＨＣＩガスで飽和したエタノー
ル７０地に溶解し、１時間加熱還流する。次いで、溶媒
を減圧下に留去し、残湾にベンゼン−ｎーヘキサンの混
液を加えて結晶化して、結晶状の３一（５−クロロー２
−ペンズアミドフエニル）プロピオン酸エチル２．７夕
を得る。Ｍ円：１０５〜１０がＯ ＮＭＲ（ＣＣ１４） ６（脚） １０，６０（ＩＨ，ｓ），８，１〜７．７（が，ｍ），
７．６８（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝９ＨＺ），７．６〜７．１（
３日，ｍ），７．０８（ＩＨ，ｄ，ｄ，Ｊ＝２および９
ＨＺ）７．０４（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝２ＨＺ），４．０８（
２日，ｑ，Ｊ＝７ＨＺ），２．４〜３．１（４日，ｍ）
，１．１４ （知日，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）｛ｂ｝ ３−（
５ークロロ−２−エトキシカルポニルフェニル）プロピ
オン酸メチル：Ｈ｝ ２ーエトキシカルボニル−５，Ｑ
−ジクロトルエン：５−クロロー２ーエトキシカルボニ
ルトルェン４０夕を乾燥四塩化炭素２５０Ｍに塩素１８
．５夕を溶解した溶液に懸濁し、高圧水銀ランプから放
射される紫外線照射下に、室温で１時間蝿拝する。

反応終了後、析出した結晶をろ取し、乾燥すると、２ー
ェトキシカルボニル−５，Ｑージクロロトルェンの無色
針状晶２９．５夕を得る。

これを酢酸エチル−ｎ−へキサンの混液から再結晶して
、精製された２ーエトキシカルボニル−５，Ｑ−ジクロ
ロトルェンの無色針状晶２９夕を得る。Ｍ円１３７〜１
３９ｑ○ 元素分析値（％）Ｃ，舷，．ＮＣ１２０２として：○
Ｈ Ｎ ○と計算値 ４８．４１ ４．４７
５．６５ ２８．５８実測値 ４８．６６ ４
．４１ ５．６４ ２８．６２【ロー ５ークロロー
２ーエトキシカルボニルベンジルマロン酸ジェチルマロ
ン酸ジェチル２９夕および水酸化ナトリウム６．５夕を
エタノール３００叫に溶解した溶液に２ーヱトキシカル
ボニル−５，Ｑ−ジクロロトルェン２８．５夕を加え、
室温で１虫時間櫨拝する。

次いで、減圧下に溶媒を留去し、孫澄をベンゼンに溶解
し、水洗する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧下に留去する。得られる残総をベンゼン
から結晶化し、さらにィソプロピルェーテルから再結晶
して５−クロロ−２−ェトキシカルボニルベンジルマロ
ン酸ジェチルの無色針状晶１５．０夕を得る。ＭＰ８６
〜８８ｑＯＮ ５−クロロ−２ーエトキシカルボニルベ
ンジルマロン酸：５−クロロ−２ーエトキシカルボニル
ベンジルマロン酸ジェチル１９夕および水酸化バリウム
（８水化物）１９夕をメタノール１００ｍ‘および水５
０机の濠液に懸濁し、これを室温で３０分間麓拝する。

析出した結晶を炉取し、水に懸濁し、塩酸でｐＨＩに調
整し、酢酸エチルで抽出する。有機層を水洗し、次いで
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去
する。残糟を酢酸エチルーベンゼンの混液から結晶化し
て、５−クロロ−２−ェトキシカルボニルベンジルマロ
ン酸の無色結晶１４．４夕を得る。ＭＰ １３３〜１３
がｏ（分解） ＮＭＲ（ムーＤＭＳＯ） ６（脚） ８．９５（ＩＨ，ｓ），７．２（３日，ｍ），４．１３
（が，ｑ，Ｊ＝７ＨＺ），３．６２（ＩＨ，ｔ，Ｊ＝８
ＨＺ），３．１０（２日，ｄ，Ｊ＝８ＨＺ），１．２５
（斑，ｔ，Ｊ：７ＨＺ）片 ３一（５ークロロ−２ーエ
トキシカルボニルフェニル）プロピオン酸：５ークロロ
−２ーエトキシカルボニルベンジルマロン酸の結晶１４
．４夕を１４０〜１４５℃の油浴中で４０分間加熱する
。

この間に、結晶は融解発泡し、再度結晶を析出する。冷
却後、析出した結晶を５％炭酸水素ナトリウム水溶液１
５０の‘に溶解し、酢酸エチルで洗浄する。水層を分取
し、塩酸でｐＨＩに調整すると結晶が析出してくる。結
晶を炉取し、水洗後、エタノールに溶解し、活性炭で処
理した後炉過する伽次いで、炉液に水を加えて結晶化す
る。

析出した結晶を炉取し、水洗し、乾燥して、３一（５ー
クロロー２ーエトキシカルポニルフェニル）プロピオン
酸の無色針状晶１１．１夕を得る。

Ｍ円 １８６〜１８７００ ＮＭＲ（平一ＤＭＳＯ） ６（柳） ８．９６（ＩＨ，ｓ），７．３（知日，ｍ），４．１２
（犯，ｑ，Ｊ＝６．５日２），２．６７（凪，ｍ），１
．２２（祖，ｔ，Ｊ＝６．５ＨＺ）的 ３一（５−クロ
ロ−２ーエトキシカルボニルフェニル）プロピオン酸メ
チル：３−（５ークロロ−２−エトキシカルボニルフェ
ニル）プロピオン酸９．５夕を無水メタノール２００の
とおよび濃硫酸０．５夕の混液に溶解し、室温で２４時
間蝿拝する。

次いで、反応液にトリェチルアミン１夕を加え、減圧濃
縮する。。油状残湾を酢酸エチルに溶解し、炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。溶媒を減圧下に蟹去し、残鷹をベンゼン−ｎ−へキ
サンの混液から再結晶して、３一（５−クロロー２−ェ
トキシカルボニルフェニル）プロピオン酸メチルの無色
針状晶１０夕を得る。

ＭＰ ７０〜７〆○ 元素分析値（％）Ｃ，３日，６Ｎ０４ＣＩとして：○
Ｈ Ｎ ○ム計算値 ５４．６５ ５．６４
４．９０ １２．４１実測値 ５４．６７ ５
．６５ ４．７８ １２４８■ 目的物質の製造例
‘ａ｝ ５ークロローＩＨ−インダゾールー３ーイル酢
酸メチル：３−（５−クロロー２−ヱトキシカルボニル
フェニル）ブロピオン酸メチル５夕を無水酢酸６の【お
よび酢酸８羽からなる混液に懸濁し、この懸濁液を５℃
以下に保ち、これに亜硝酸ナトリウム５のこ硝酸（ｄｌ
．４７）７の‘を滴下して生ずる三酸化窒素ガスを１．
５時間を要して導入する。

次いで、反応液を室温で３０分間蝿拝した後、氷１００
のこ注ぎ込み、されに室温で１時間鷹拝する。反応液を
ベンゼン７０泌で２回抽出し、抽出液を合わせ、これに
メタノール５の‘を加え、室温で１時間放置する。ベン
ゼン層を水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
炉過する。次いで、炉液を１粥時間加熱還流後、減圧下
に溶媒を蟹去して油状銭糟を得る。油状残澄を少量のメ
タノールに溶解し、活性炭で処理した後減圧濃縮する。
得られる残澄をィソプロピルェーテルから結晶化し、さ
らにィソプロピルェーテルから再結晶して、５ークロロ
ーＩＨ−インダゾールー３−ィル酢酸メチルの無色針状
晶２．６夕を得る。Ｍ円 ８７〜８８℃ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３） ６（脚） ７．６４（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝２ＨＺ），７，２（が，ｍ）
，４‐００（２日，Ｓ），３‐７２（乳日，Ｓ）｛ｂ’
５ークロローＩＨーインダゾールー３ーイル酢酸エチ
ル：３−（５−クロロー２−ペンズアミドフエニル）プ
ロピオン酸エチル１．５夕を上記【ａ）と同様に処理し
て、５ークロロ−ＩＨーィンダゾールー３ーィル酢酸エ
チルの無色結晶７００岬を得夕 る。

Ｍ円 ７６〜７７０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はカルボキシ基またはエステル化された
   カルボキシ基を、Ｒ＾２はアシル基をおよびＸは水素ま
   たはハロゲンをそれぞれ意味する）で示されるアシルア
   ミノフエニルプロピオン酸類またはその塩類にＮ−ニト
   ロソ化剤を作用させ、次いで閉環反応に付すことにより
   、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１およびＸはそれぞれ前と同じ意味）で示
   されるインダゾール酢酸類またはその塩類を得ることを
   特徴とするインダゾール酢酸類またはその塩類の製造法
   。