JPS6053377B2 - Method for manufacturing guide drum for magnetic tape scanning device - Google Patents
Method for manufacturing guide drum for magnetic tape scanning deviceInfo
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- JPS6053377B2 JPS6053377B2 JP7740584A JP7740584A JPS6053377B2 JP S6053377 B2 JPS6053377 B2 JP S6053377B2 JP 7740584 A JP7740584 A JP 7740584A JP 7740584 A JP7740584 A JP 7740584A JP S6053377 B2 JPS6053377 B2 JP S6053377B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はに−Si系合金により、表面状態の良好な耐摩
耗性の優れた磁気テープ案内ドラムを製造する方法に関
するものてある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic tape guide drum with good surface condition and excellent wear resistance using a Si-Si alloy.
一般に、磁気テープ走査装置の案内ドラムはNあるいは
A1合金の鋳造品で製作されている。Generally, the guide drum of a magnetic tape scanning device is made of a cast N or A1 alloy.
必要があればその表面はセラミックコーティングやアル
マイトコーティングあるいは各種メッキなどの表面処理
を施し、すベリ摩擦係数を小さくすると共に、接触面に
おいてテープに傷をつけること、あるいは静電気か帯電
することを防止している。しかしこのような表面処理は
耐摩耗性、すベリ摩擦係数の点で十分ではなく、かつ、
研磨やラッピングなどの厄介な後加工を必要とする問題
がある。従つて寸法精度が出にくく、仕上げまでに工数
がかかり大量生産には不向きであるなどの欠点があつた
。本発明の目的は、長時間にわたり良質な再生画面が得
られる磁気テープ案内ドラムの製造法を提供することに
ある。If necessary, the surface is treated with ceramic coating, alumite coating, or various types of plating to reduce the coefficient of friction and prevent scratches on the tape or static electricity from forming on the contact surface. ing. However, this type of surface treatment is not sufficient in terms of wear resistance and sliding friction coefficient, and
There is a problem that requires troublesome post-processing such as polishing and lapping. Therefore, it has drawbacks such as difficulty in achieving dimensional accuracy, and the number of man-hours required for finishing, making it unsuitable for mass production. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic tape guide drum that provides a high-quality playback screen for a long period of time.
本発明は、N−Si系合金溶湯を急冷凝固し、得られた
鋳塊をドラム形状に鍛造すると共に該鍛造によつて共晶
シリコンを分断し、その後機械加工によつてドラム外周
の磁気テープ案内通路に、磁気テープ進行方向に沿つて
表面粗さ1〜6μmの平行なほぼ連続した加工線を形成
することにある。The present invention involves rapidly solidifying a molten N-Si alloy, forging the obtained ingot into a drum shape, dividing the eutectic silicon by the forging, and then machining the magnetic tape on the outer periphery of the drum. The object of the present invention is to form parallel, substantially continuous processed lines with a surface roughness of 1 to 6 μm along the direction of magnetic tape travel in the guide path.
VTRの磁気ヘッド型磁気記録再生装置における磁気テ
ープ走査装置は、下記(1)〜(4)の構成を有する。A magnetic tape scanning device in a magnetic head type magnetic recording/reproducing device of a VTR has the following configurations (1) to (4).
(1)円筒静止ドラムを含み、該ドラムの外周に形成さ
れた案内路の平滑面に沿つて磁気テープを.滑動案内す
るための案内手段と、(2)該ドラムの円周から半径方
向にわずかに突出し、磁気テープとすベリ接触しうる位
置に設けられた少なくとも1つの磁気ヘッドを含む回転
磁気ヘッド装置と、(3)該磁気ヘッド装置と該案内ド
ラムを同心円的に支持し、磁気ヘッド装置の下端と案内
ドラムの上端の間に小さい間隙を形成することにより、
該案内ドラムとは独立して回転するように支持する手段
、及び(4)該支持手段を駆動する手段。(1) A cylindrical stationary drum is included, and a magnetic tape is inserted along the smooth surface of a guide path formed on the outer periphery of the drum. (2) a rotating magnetic head device including at least one magnetic head slightly protruding from the circumference of the drum in a radial direction and provided at a position where it can make full contact with the magnetic tape; (3) by supporting the magnetic head device and the guide drum concentrically and forming a small gap between the lower end of the magnetic head device and the upper end of the guide drum;
(4) means for supporting the support means to rotate independently of the guide drum; and (4) means for driving the support means.
一例を第1図及び第2図に示す。An example is shown in FIGS. 1 and 2.
シリンダー状の静止上ドラム1と静止下ドラム2の間に
、クリアランス(間隙)4を保つて回転盤3が挿入され
ている。回転盤3とドラム1と2はシャフト5で同軸に
固定されており、上ドラム1と下ドラム2はコネクター
6とボルト6′で結合されている。回転盤3は、シャフ
ト5に固定されており、ボー”ルベアリング11と回転
摺動部により回転出来るようになつている。一方、ドラ
ム1とドラム2は第2図に示すように、ベース板18に
ボルト10と補助ベース板17で固定されている。回転
盤3は1つもしくはそれ以上の磁気ヘッド7て構成され
ており、磁気ヘッド7はドラム1及びドラム2のテープ
ガイド8と回転盤3の半径方向に0.05〜0.37m
の範囲で突き出されている。ドラム1とドラム2には磁
気テープの適切なガイドをするために、斜線状もしくは
螺線状のテープガイド8が切つてある。下ドラム2は第
1図と第2図に示すように、スリーブ9と一体となつて
おり、このスリーブ9はアースのためにブッシュ13が
取り付けられている。プーリ−14はボルト16でシヤ
フート5に固定されており、ベルト15で駆動されプー
リ−14が回転することにより、シャフト5及び回転盤
3が回転する構造となつている。もう一つの型式の磁気
ヘッド型記録再生装置は第3図に示すように、上ドラム
20が回転し、下ドラム21が静止ドラムである。A rotary disk 3 is inserted between a cylindrical stationary upper drum 1 and a stationary lower drum 2 with a clearance (gap) 4 maintained therebetween. The rotary disk 3 and the drums 1 and 2 are coaxially fixed by a shaft 5, and the upper drum 1 and lower drum 2 are connected by a connector 6 and a bolt 6'. The rotary disk 3 is fixed to the shaft 5, and can be rotated by a ball bearing 11 and a rotating sliding part.On the other hand, the drums 1 and 2 are mounted on a base plate 18, as shown in FIG. The rotary disk 3 is fixed with bolts 10 and an auxiliary base plate 17.The rotary disk 3 is composed of one or more magnetic heads 7, and the magnetic head 7 is connected to the tape guides 8 of the drums 1 and 2 and the rotary disk 3. 0.05~0.37m in the radial direction of
Extruded within the range of. A diagonal or spiral tape guide 8 is cut into the drums 1 and 2 to properly guide the magnetic tape. As shown in FIGS. 1 and 2, the lower drum 2 is integrated with a sleeve 9, and a bush 13 is attached to the sleeve 9 for grounding purposes. The pulley 14 is fixed to the shaft foot 5 with bolts 16, and is driven by a belt 15 to rotate the pulley 14, thereby rotating the shaft 5 and the rotary disk 3. Another type of magnetic head type recording/reproducing device has an upper drum 20 that rotates and a lower drum 21 that is stationary, as shown in FIG.
故にこの型式では第1図に示すような回転盤3は必要と
しない。この型式ではドラム20にテープガイドかられ
ずかに突き出た、一対の磁気ヘッド22が組合わされて
おり、上ドラム20はシャフト5に固定されている。こ
の上ドラム20は回転摺動部12とボールベアリング1
1により回転可能となつており、第1図及び第2図に示
すものと同様な手段で回転するようになつている。本発
明は上述したような装置において、第1図及び第2図の
上ドラム1、下ドラム2と回転盤3の少なくとも1つ及
び第3図における上ドラム20と下ドラム21の少なく
とも1つを前述した方法によつて製造することにある。Therefore, this type does not require a rotary disk 3 as shown in FIG. In this type, a pair of magnetic heads 22 that protrude slightly from the tape guide are combined with the drum 20, and the upper drum 20 is fixed to the shaft 5. This upper drum 20 has a rotating sliding part 12 and a ball bearing 1.
1 and is rotatable by means similar to those shown in FIGS. 1 and 2. The present invention provides an apparatus as described above, in which at least one of the upper drum 1, the lower drum 2, and the rotary disk 3 in FIGS. 1 and 2, and at least one of the upper drum 20 and the lower drum 21 in FIG. It is manufactured by the method described above.
N−Si系合金の好適な組成は8〜15重量%のSi−
0.5〜4重量%のCU−0.05〜1.鍾量%のMg
を含有し、残部は実質的にNから成る合金である。この
合金を溶湯から急冷凝固してSi晶を微細に晶出させる
。この冷却速度は速い程良いのであるが、望ましくは3
0〜60℃/Sec以上の冷却速度で連続鋳造するのが
良い。鋳塊のままのSi晶(共晶Si)は針状あるいは
片状であり、この状態では磁気テープ案内ドラムとして
は好ましくない。共晶Siが針状或は片状のまま存在す
るとほぼ連続した機械加工線を形成することができない
。又、機械加工線を形成する際及びテープ走行によりS
i結晶粒がむしりとられて案内ドラム外周面にくぼみが
でき、そこに摩耗紛が混入して画面のチラツキ及び磁気
テープ損傷をもたらす。この鋳塊を200℃〜融点以下
の温度領域に於いて、加工度30%以上の温間鍛造を施
した後に再び上記温度範囲で成形するか、あるいは鋳塊
を直径200′C〜融点以下の温度範囲で加工度30%
以上の成形時の外力により、S1晶(共晶Si)を機械
的に微細分断して均一に分散させる。この場合、加工後
の温度が再結晶温度以上〜融点以下であるならば、外力
で分断したSi晶は球状化される。その分断球状化され
たSi晶の平均粒子径は1.7μm以下となる。前記鍛
造によつて共晶Siを平均粒径5μm以下に分断するこ
とが望ましい。これによつてほぼ連続した機械加工線を
形成しやすくなる。温間鍛造によつて作られた成形品は
合金の特性を向上させるためにT4処理(450〜52
0℃×1h→急冷一約1週間以上放置)、T6処理(4
50〜520′C×1h→急冷→人工時効;例えば15
0〜200′CX8)1一空冷)あるいはT5処理(温
間成形後直ちに急冷→人工時効)等の熱処理を施すこと
が望ましい。上述のようにして作られた成形品は機械加
工によつて仕上げられ、且つドラム外周の磁気テープ案
内通路に、テープ進行方向に沿つて表面粗さ1〜6μm
の平行なほぼ連続した加工線が形成される。A preferred composition of the N-Si alloy is 8 to 15% by weight of Si-
0.5-4% by weight of CU-0.05-1. Mg in weight %
The remainder is an alloy consisting essentially of N. This alloy is rapidly solidified from a molten metal to finely crystallize Si crystals. The faster the cooling rate, the better, but desirably 3
Continuous casting is preferably performed at a cooling rate of 0 to 60° C./Sec or higher. The Si crystal (eutectic Si) in the form of an ingot is acicular or flaky, and in this state is not suitable for use as a magnetic tape guide drum. If the eutectic Si remains in the form of needles or flakes, it is impossible to form a substantially continuous machining line. Also, when forming machined lines and running the tape, S
The crystal grains are stripped off, creating depressions on the outer circumferential surface of the guide drum, and abrasion particles are mixed into the depressions, causing flickering on the screen and damage to the magnetic tape. This ingot is warm forged at a working degree of 30% or more in a temperature range of 200°C to below the melting point, and then shaped again in the above temperature range, or Processing degree is 30% within the temperature range
Due to the above external force during molding, the S1 crystal (eutectic Si) is mechanically finely divided and uniformly dispersed. In this case, if the temperature after processing is above the recrystallization temperature and below the melting point, the Si crystals separated by external force will be spheroidized. The average particle diameter of the divided spheroidal Si crystals is 1.7 μm or less. It is desirable that the forging process divides the eutectic Si into particles having an average grain size of 5 μm or less. This facilitates forming a substantially continuous machining line. Molded products made by warm forging are subjected to T4 treatment (450-52
0°C x 1h → quenching 1 week or more), T6 treatment (4
50~520'C x 1h → Rapid cooling → Artificial aging; For example, 15
It is desirable to perform heat treatment such as 0 to 200'CX8)1-air cooling) or T5 treatment (quenching immediately after warm forming → artificial aging). The molded product made as described above is finished by machining, and the magnetic tape guide path on the outer periphery of the drum has a surface roughness of 1 to 6 μm along the tape traveling direction.
Parallel, almost continuous processing lines are formed.
本発明は、鋳塊を鍛造し共晶S1を細かく分断してから
機械加工するので、機械加工線をほぼ連続するように形
成することができる。In the present invention, the ingot is forged and the eutectic S1 is finely divided before being machined, so that the machining lines can be formed to be substantially continuous.
このためすベリ摩擦係数を小さく保つことができる。そ
して第1図、第2図及び第3図の磁気テープ案内ドラム
に供される。実施例
第1表に示すAC−い及びAC−?の組成を溶解後、鋳
造法によつてすベリ摩擦試験片及び実機磁気テープ案内
ドラムを製造した。As a result, the burr friction coefficient can be kept small. Then, it is applied to the magnetic tape guide drums shown in FIGS. 1, 2, and 3. AC-i and AC-? shown in Example Table 1 After melting the composition, a full friction test piece and an actual magnetic tape guide drum were manufactured by a casting method.
一方、第1表に示す組成のN−Si系合金を溶解後、3
0〜60℃/Secの冷却速度で連続鋳造によりビレツ
トを作成し、450℃で40〜90%の塑性加工を施し
た。その後各種の熱処理例えば450℃〜520℃×1
hの溶体化処理を行い、1週間以上放置したもの及び1
70℃×団→徐冷の時効処理を行つた。また、温間鍛造
後直ちに急冷させた熱処理も行つた。塑性加工後のSi
晶の大きさは1.6μm〜2.8μmである。上記の試
料より、すベリ摩擦試験片30及び実機磁気テープ案内
ドラムを機械加工により作製した。第4図はすベリ摩擦
係数の測定方法を示したものであり、VTR用の磁気テ
ープ(CrO2テープ)31が荷重32とスプリングゲ
ージ33にセットされる。この時の磁気テープの角度θ
は90ッとするる。磁気テープ31はすベリ摩擦係数を
求めるための力Fw及びスプリングゲージ33によつて
引張られ、すベリ摩擦力F−1が得られる。但し、この
場合の荷重は10〜100yの範囲内である。このよう
な装置及び条件で行つた試験結果より、すベリ摩擦係数
μは次式によつて求めることが出来る。第5図は上式に
より求めた測定結果である。On the other hand, after melting the N-Si alloy with the composition shown in Table 1,
A billet was prepared by continuous casting at a cooling rate of 0 to 60°C/Sec, and subjected to 40 to 90% plastic working at 450°C. After that, various heat treatments such as 450℃~520℃×1
Those subjected to solution treatment of h and left for more than one week, and 1
Aging treatment was performed at 70° C. → gradual cooling. In addition, a heat treatment was performed in which the material was rapidly cooled immediately after warm forging. Si after plastic working
The crystal size is 1.6 μm to 2.8 μm. From the above sample, a sliding friction test piece 30 and an actual magnetic tape guide drum were fabricated by machining. FIG. 4 shows a method of measuring the slippery friction coefficient, in which a VTR magnetic tape (CrO2 tape) 31 is set on a load 32 and a spring gauge 33. The angle θ of the magnetic tape at this time
is 90. The magnetic tape 31 is pulled by a force Fw for determining the flattening friction coefficient and a spring gauge 33, and a flattening friction force F-1 is obtained. However, the load in this case is within the range of 10 to 100 y. From the test results conducted using such equipment and conditions, the sliding friction coefficient μ can be determined using the following formula. FIG. 5 shows the measurement results obtained using the above formula.
曲線AはN−S1系合金のすベリ摩擦係数であり、0.
3以下の値である。通常、VTRが正常運転状態で録画
、再生を行つている場合、本N−Si系合金はこの範囲
ですベリ摩擦係数が0.24〜0.25と小さく、案内
ドラムとして適している。Curve A is the slip friction coefficient of the N-S1 alloy, and is 0.
The value is 3 or less. Normally, when a VTR is recording and playing under normal operating conditions, this N-Si alloy has a low friction coefficient of 0.24 to 0.25, making it suitable for use as a guide drum.
曲線Dは表面にセラミックコーティングを施した場合の
すベリ摩擦係数であり、本N−Si系合金はセラミック
コーティングよりも非常に優れていることがわかる。ま
た、硬質クロムメッキを施した場合についても試験した
が、セラミックロッドよりも大きいすベリ摩擦係数であ
る。曲線BはAC−い、曲線CはAC−?材の表面アラ
サ3〜4μmに機械仕上げされている場合のすベリ摩擦
係数である。AC−い及びAC−?のすベリ摩擦係数は
0.27〜0.31130〜40yの荷重下でも0.2
6〜0.27となつており、本N−Sj系合金の方が優
れていることがわかる。すベリ摩擦係数が大きい場合に
は画面のチラツキの原因となる傾向があり、このように
して測定したすベリ摩擦係数は実機磁気テープ案内ドラ
ムのすベリ摩擦を再現しているものであることを確認し
た。実験によれば磁気テープ案内ドラムの摩擦係数は0
.3以下、望ましくは0.28J:).下にすべきであ
る。また、0.3以下のすベリ摩擦係数を得るためには
、表面アラサが1〜6μmであり、望ましくは2〜5μ
mにすべきである。第6図a〜第6図cはN−Si系合
金、AC−弘及びAC−?材製の磁気テープ案内ドラム
表面の断面を顕微鏡により40C@で撮影したものであ
るが、これらは全て表面アラサ3〜4μmlこ機械加工
仕上げさせているものである。Curve D is the slip coefficient of friction when a ceramic coating is applied to the surface, and it can be seen that the present N-Si alloy is much superior to the ceramic coating. We also tested a rod with hard chrome plating, and found that the coefficient of friction was greater than that of a ceramic rod. Curve B is AC-?Curve C is AC-? This is the coefficient of friction when the surface of the material is mechanically finished to a roughness of 3 to 4 μm. AC-i and AC-? The slip friction coefficient is 0.27-0.31 even under a load of 30-40y.
6 to 0.27, indicating that the present N-Sj alloy is superior. If the sliding friction coefficient is large, it tends to cause flickering on the screen, and it has been confirmed that the sliding friction coefficient measured in this way reproduces the sliding friction of the actual magnetic tape guide drum. confirmed. According to experiments, the coefficient of friction of the magnetic tape guide drum is 0.
.. 3 or less, preferably 0.28 J:). It should be below. In addition, in order to obtain a slip friction coefficient of 0.3 or less, the surface roughness is 1 to 6 μm, preferably 2 to 5 μm.
It should be m. Figures 6a to 6c are N-Si alloys, AC-Hiroshi and AC-? The cross section of the surface of a magnetic tape guide drum made of wood was photographed using a microscope at 40C@, and all of these were machined to a surface roughness of 3 to 4 μm.
第6図aは本N−Si系合金、第6図bはAC−い、第
6図cはAC−?材である。鍛造品よりなる本A1−S
i系合金は小さなSi晶であるが、鍛造品よりなるAC
一い、AC−?材は大形Si晶であり、鋳巣も見られる
。また、表面状態を見るとに−Si系合金は機械加工線
の凹凸があるだけであるが、AC−弘及びAC−?材は
比較的大形のS1晶がむ已り取られた−跡あるいは鋳巣
による凹凸が見られる。Si晶がむしりとられてできた
くぼみのふちには盛り上がり部が見られ、テープ損傷の
原因となつていることが確認された。第7図a〜第7図
cは磁気テープ案内ドラムの,テープガイド表面を電子
顕微鏡で観察した結果であり、倍率は200皓である。Fig. 6a shows the present N-Si alloy, Fig. 6b shows AC-?, and Fig. 6c shows AC-? It is a material. Book A1-S made of forged products
I-based alloys are small Si crystals, but AC made of forged products
One, AC-? The material is large Si crystal, and cavities are also visible. Also, when looking at the surface condition, -Si alloys only have unevenness due to machined lines, but AC-Hiro and AC-? The material shows marks where relatively large S1 crystals were removed, or unevenness caused by casting cavities. A raised area was observed at the edge of the depression created when the Si crystal was removed, and it was confirmed that this was the cause of tape damage. FIGS. 7a to 7c are the results of observing the tape guide surface of the magnetic tape guide drum using an electron microscope, and the magnification is 200 h.
第7図aは本発明のN−Si系合金、第7図bはAC一
弘、第7図cはAC−?材の表面状態であり、これらは
全て表面アラサ3〜4μmlこ機械加工仕上げされてい
るも!のである。この図からもわかるように本N−Si
系合金の表面は機械加工線が磁気テープの動く方向に対
してほぼ連続的であり、かつ、なめらかであ*2る。し
かし、AC一弘及びAC−ゆ材は表面にくぼみが見られ
、特にAC−?材は大きなくぼみがある。このくぼみは
第6図に示した凹凸を平面的に見たものであり、機械加
工の際に比較的大形のSi晶がむしり取られた跡、ある
いは鋳巣てある。これらのくぼみは磁気テープを傷つけ
る原因ともなる。本発明のもう一つの重要な特徴は良好
な耐摩耗性を有していることである。FIG. 7a shows the N-Si alloy of the present invention, FIG. 7b shows AC Kazuhiro, and FIG. 7c shows AC-? This is the surface condition of the material, and all of these have been machined to a roughness of 3 to 4 μml! It is. As can be seen from this figure, this N-Si
The surface of the alloy has a machined line that is almost continuous in the direction of movement of the magnetic tape and is smooth*2. However, AC Kazuhiro and AC-Yuzai have depressions on the surface, especially AC-? The wood has large dents. This depression is a plan view of the unevenness shown in FIG. 6, and is a trace or a cavity where relatively large Si crystals were removed during machining. These depressions can also cause damage to the magnetic tape. Another important feature of the invention is that it has good abrasion resistance.
第8図a〜第8図cは実際の磁気テープ案内ドラムを使
つて600〜700F1rの連続で行つた摩耗試験結果
である。Figures 8a to 8c show the results of wear tests conducted continuously at 600 to 700F1r using an actual magnetic tape guide drum.
また、この試験に用いた磁気テープはすベリ摩擦試験に
用いたものと同様のものである。第8図aは本発明のN
−Si系合金、第8図bはAC−い、第8図cはAC−
?製ドラムの試験結果であり、これらの摩耗量はアラサ
の減少で示している。比較のために第8図a〜第8図c
の左側部分にテスト前のアラサを示したが、これらの曲
線はアラサ計の記録図てあり、実際の表面は第7図a〜
第7図cに示したようにくぼみがあることに注意してお
く必要がある。本発明のN−Si製ドラムの摩耗量は0
.5μmであるが、AC一弘及びAC−B製ドラは0.
7〜0.9μmであり、本発明のN−Si製ドラムは長
期間の使用においても所望の表面状態を保つことができ
、耐摩耗性が優れていることがわかる。更に発明者らは
第1表に示したようにN−Si系合金の組成、Si晶の
大きさ及び熱処理を変えたドラムについても上記試験を
行つた結果、Si晶が5μmより大きい場合にはテープ
ガイド表面を機械加工により所望の表面状態にすること
が困難であり、Sj晶の大きさは5μm以下とすべきこ
とがわかつた。 処理条件
T4:500′C×1hr→急冷一常温1週間以上放置
T5:470゜C温間成形→急冷→170′Cx8ll
r時効処 理T6:500℃×1hr→急冷→1700
Cx811r時効処理Ascast:鋳造のまままた、
Sj量が8重量%以下の場合にはドラムの摩耗量が増加
し、15重量%以上ては塑性加工により分断して分散さ
せることができない一次Si晶が多く晶出するので、A
C−い及ひAC−?材のように機械加工の際にくぼみが
でき、磁気テープを傷つける原因ともなる。The magnetic tape used in this test was the same as that used in the slippery friction test. Figure 8a shows the N of the present invention.
-Si-based alloy, Figure 8b is AC-, Figure 8c is AC-
? These are the test results for manufactured drums, and the amount of wear is shown by the decrease in roughness. For comparison, Figures 8a to 8c
The roughness before the test is shown on the left side of the figure, but these curves are recorded by the roughness meter, and the actual surface is shown in Figures 7a to 7a.
It should be noted that there is a depression as shown in Figure 7c. The wear amount of the N-Si drum of the present invention is 0.
.. 5 μm, but AC Kazuhiro and AC-B drums have a diameter of 0.
7 to 0.9 μm, and it can be seen that the N-Si drum of the present invention can maintain a desired surface condition even after long-term use, and has excellent wear resistance. Furthermore, as shown in Table 1, the inventors conducted the above tests on drums with different N-Si alloy compositions, Si crystal sizes, and heat treatments, and found that when the Si crystals were larger than 5 μm, It was found that it was difficult to bring the tape guide surface into a desired surface state by machining, and that the size of the Sj crystals should be 5 μm or less. Processing conditions T4: 500'C x 1hr → rapid cooling - left at room temperature for over 1 week T5: 470°C warm forming → rapid cooling → 170'C x 8ll
r Aging treatment T6: 500℃×1hr → Rapid cooling → 1700℃
Cx811r aging treatment Ascast: Also as cast,
If the amount of Sj is less than 8% by weight, the amount of wear on the drum will increase, and if it is more than 15% by weight, a large amount of primary Si crystals that cannot be divided and dispersed by plastic working will crystallize.
C-I and AC-? Like wood, dents can form during machining and can damage the magnetic tape.
望ましくはN−Sj共晶成分付近の1踵量%程度がよい
。更に、MgはSiと結合して金属間化合物を形成し、
基地の析出強化作用をする。しかし、Mgは0.05重
量%以下の添加ではその効果が少なく、1.0重量%以
上の添加は靭性及ひ衝撃値が低下する傾向があり、温間
鋳造性が悪くなる。望ましくは0.3〜0.6重量%に
すべきてある。また、CuはNの基地に固溶してCu2
Alを形成し、熱処理による強化作用をするとともに、
被切削性あるいは耐摩耗性を向上させる。しかし、Cu
は0.5重量%以下ては熱処理効果が少なく、3重量%
以上になると機械的性質の向上が飽和するので、経済性
の面からも4重量%以下とすべきてあり、望ましくは1
〜3重量%添加がよい。その他Fe,Cr,Ni,Zr
,Ti等の不純物が合金中に存在することがあるが、そ
れらの総量は5重量%以下とすべきである。以上詳述し
たように、本発明の方法によつて磁気テープ案内ドラム
を製造することにより、ドラムの表面状態及び耐摩耗性
が従来のセラミックコーティング、AC−い及びAC−
?等には見られない程優れた特性を有するようになる。Desirably, it is about 1% by heel weight near the N-Sj eutectic component. Furthermore, Mg combines with Si to form an intermetallic compound,
It acts to strengthen the precipitation of the base. However, when Mg is added in an amount of 0.05% by weight or less, the effect is small, and when added in an amount of 1.0% by weight or more, the toughness and impact value tend to decrease, resulting in poor warm castability. The content should desirably be 0.3 to 0.6% by weight. In addition, Cu is dissolved in the N base and Cu2
In addition to forming Al and strengthening through heat treatment,
Improve machinability or wear resistance. However, Cu
If it is less than 0.5% by weight, the heat treatment effect is small, and 3% by weight.
If it exceeds 4% by weight, the improvement in mechanical properties will be saturated, so from an economical point of view it should be 4% by weight or less, and preferably 1% by weight.
It is preferable to add up to 3% by weight. Others Fe, Cr, Ni, Zr
, Ti, etc. may be present in the alloy, but their total amount should be less than 5% by weight. As described in detail above, by manufacturing a magnetic tape guide drum by the method of the present invention, the surface condition and wear resistance of the drum are improved compared to conventional ceramic coatings, AC-coatings, AC-coatings, and AC-coatings.
? It has excellent characteristics not found in other products such as the above.
第1図は磁気テープ走査装置の外観を示す斜視図てあり
、第2図はその断面図、第3図は第1図及び第2図とは
構造の異つた磁気テープ走査装置の断面図、第4図はす
ベリ摩擦係数の試験装置の略図、第5図はすベリ摩擦係
数試験結果をを示すグラフ、第6図は磁気テープ案内ド
ラム表面の断面の金属組織を示す顕微鏡写真、第7図は
磁気テープ案内ドラムのテープガイド表面のマクロ的な
金属組織を示す走査型電子顕微鏡写真、および第8図は
使用前及び使用後の磁気テープ案内ドラム表面状態をア
ラサ計で測定した結果を示すグラフてある。
1・・・・・・静止上ドラム、2・・・・・・静止下ド
ラム、3・・・・回転盤、4・・・・・・間隙、5・・
・・・シャフト、6・・・・・・コネクター、6″・・
・・ボルト、7・・・・・・磁気ヘッド、8・・・・・
・テープガイド、9・・・・・スリーブ、10・・・・
ボルト、11・・・・・・ボールベアリング、12・・
・・・励磁コイル、13・・・・・・ブッシュ、14・
・・・・・プ−リー、15・・・・・磁気テープ、20
・ ・・回転ドラム、21・・・・・・静止ドラム、2
2・・・・・磁気ヘッド、30・・・・・・試験片、3
1・・・・・・磁気テープ、32・・・重り、33・・
・・・・バネばかり。FIG. 1 is a perspective view showing the external appearance of the magnetic tape scanning device, FIG. 2 is a sectional view thereof, and FIG. 3 is a sectional view of the magnetic tape scanning device having a different structure from FIGS. 1 and 2. Figure 4 is a schematic diagram of the test device for the helical friction coefficient, Figure 5 is a graph showing the results of the helical friction coefficient test, Figure 6 is a micrograph showing the metal structure of the cross section of the surface of the magnetic tape guide drum, and Figure 7 is The figure is a scanning electron micrograph showing the macroscopic metal structure of the tape guide surface of the magnetic tape guide drum, and Figure 8 shows the results of measuring the surface condition of the magnetic tape guide drum before and after use using an aging meter. There is a graph. 1... Stationary upper drum, 2... Stationary lower drum, 3... Rotating disk, 4... Gap, 5...
...Shaft, 6...Connector, 6''...
...Bolt, 7...Magnetic head, 8...
・Tape guide, 9...Sleeve, 10...
Bolt, 11...Ball bearing, 12...
... Excitation coil, 13 ... Bush, 14.
...Pulley, 15 ...Magnetic tape, 20
・・・・Rotating drum, 21・・・Stationary drum, 2
2...Magnetic head, 30...Test piece, 3
1...magnetic tape, 32...weight, 33...
...It's all about springs.
Claims (1)
ムの外周に形成された案内通路に沿つて磁気テープを滑
動案内する磁気テープ走査装置において前記ドラムの少
なくとも一方を下記の工程によつて製造することを特徴
とする磁気テープ走査装置用案内ドラムの製造法。 (1)アルミニウム−シリコン系合金溶湯を急冷凝固し
て鋳塊を製造する工程と、(2)前記鋳塊を鍛造し共晶
シリコンを分断すると共にドラム形状をした成型品を製
造する工程、および(3)機械加工によつて、該成型品
の外周に磁気テープの進行方向に沿つて表面粗さ1〜6
μmの平行な実質的に連続した加工線を形成する工程。 2 特許請求の範囲第1項において、前記鍛造工程によ
り鋳塊の共晶シリコンを平均粒径5μm以下の大きさに
分断することを特徴とする磁気テープ走査装置用案内ド
ラムの製造法。 3 円型静止ドラムと回転ドラムを含み、それらのドラ
ムの外周に形成された案内通路に沿つて磁気テープを滑
動案内する磁気テープ走査装置において前記ドラムの少
なくとも一方を下記の工程によつて製造することを特徴
とする磁気テープ走査装置用案内ドラムの製造法。 (1)アルミニウム−シリコン系合金溶湯を急冷凝固し
て鋳塊を製造する工程と、(2)前記鋳塊を鍛造し共晶
シリコンを分断すると共にドラム形状をした成型品を製
造する工程と、(3)前記成型品に溶体化処理とその後
の時効処理を含む熱処理を施す工程、および(4)機械
加工によつて、該成型品の外周に磁気テープの進行方向
に沿つて表面粗さ1〜6μmの平行な実質的に連続した
加工線を形成する工程。 4 特許請求の範囲第3項において、前記鍛造工程によ
り鋳塊の共晶シリコンを平均粒径5μm以下の大きさに
分断することを特徴とする磁気テープ走査装置用案内ド
ラムの製造法。[Scope of Claims] 1. In a magnetic tape scanning device that includes a circular stationary drum and a rotating drum and slides and guides a magnetic tape along a guide path formed on the outer periphery of these drums, at least one of the drums is 1. A method for manufacturing a guide drum for a magnetic tape scanning device, the method comprising manufacturing a guide drum by a process. (1) a step of rapidly cooling and solidifying a molten aluminum-silicon alloy to produce an ingot; (2) a step of forging the ingot, dividing the eutectic silicon and producing a drum-shaped molded product; (3) By machining, the outer periphery of the molded product has a surface roughness of 1 to 6 along the traveling direction of the magnetic tape.
A step of forming parallel, substantially continuous processing lines of μm. 2. The method of manufacturing a guide drum for a magnetic tape scanning device according to claim 1, characterized in that the forging step divides the eutectic silicon of the ingot into particles having an average grain size of 5 μm or less. 3. In a magnetic tape scanning device that includes a circular stationary drum and a rotating drum and slides and guides a magnetic tape along a guide path formed on the outer periphery of these drums, at least one of the drums is manufactured by the following process. A method for manufacturing a guide drum for a magnetic tape scanning device, characterized in that: (1) a step of rapidly cooling and solidifying a molten aluminum-silicon alloy to produce an ingot; (2) a step of forging the ingot, dividing the eutectic silicon, and producing a drum-shaped molded product; (3) a step of subjecting the molded product to heat treatment including solution treatment and subsequent aging treatment; and (4) machining to create a surface roughness of 1. Forming parallel, substantially continuous working lines of ~6 μm. 4. The method for manufacturing a guide drum for a magnetic tape scanning device according to claim 3, characterized in that the forging step divides the eutectic silicon of the ingot into particles having an average grain size of 5 μm or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7740584A JPS6053377B2 (en) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Method for manufacturing guide drum for magnetic tape scanning device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7740584A JPS6053377B2 (en) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Method for manufacturing guide drum for magnetic tape scanning device |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53072110A Division JPS5833612B2 (en) | 1978-06-16 | 1978-06-16 | magnetic tape scanning device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6069855A JPS6069855A (en) | 1985-04-20 |
| JPS6053377B2 true JPS6053377B2 (en) | 1985-11-25 |
Family
ID=13632998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7740584A Expired JPS6053377B2 (en) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Method for manufacturing guide drum for magnetic tape scanning device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6053377B2 (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62138344U (en) * | 1986-02-25 | 1987-09-01 | ||
| US4805459A (en) * | 1988-02-29 | 1989-02-21 | Aerospace Testing Lab, Inc. | Ultrasonic testing method |
| JP3926759B2 (en) | 2003-03-28 | 2007-06-06 | 日産ディーゼル工業株式会社 | Automatic vehicle start control device |
| CN111279093B (en) | 2017-10-31 | 2021-10-12 | 本田技研工业株式会社 | Clutch control device |
| EP3699449B1 (en) | 2017-10-31 | 2022-07-20 | Honda Motor Co., Ltd. | Clutch control device |
-
1984
- 1984-04-16 JP JP7740584A patent/JPS6053377B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6069855A (en) | 1985-04-20 |
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