JPS6054320B2 - Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製造方法 - Google Patents
Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- -1 amino-3-cephem-3-ol-4-carboxylic acid compound Chemical class 0.000 claims description 250
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 58
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 57
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 49
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 47
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 39
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 36
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 20
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 19
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000005039 triarylmethyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 claims description 4
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 7
- 238000003797 solvolysis reaction Methods 0.000 claims 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 51
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 33
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 26
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 25
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 24
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 21
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 19
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 19
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 15
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 13
- 125000005237 alkyleneamino group Chemical group 0.000 description 13
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 12
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 11
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 10
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical class 0.000 description 9
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000005276 alkyl hydrazino group Chemical group 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 7
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 7
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 6
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 5
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 5
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 5
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002085 enols Chemical class 0.000 description 5
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 5
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 5
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 5
- ODUCDPQEXGNKDN-UHFFFAOYSA-N nitroxyl Chemical compound O=N ODUCDPQEXGNKDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 125000004797 2,2,2-trichloroethoxy group Chemical group ClC(CO*)(Cl)Cl 0.000 description 4
- 125000006016 2-bromoethoxy group Chemical group 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000534944 Thia Species 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 4
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 4
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 3
- 125000005236 alkanoylamino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 description 3
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005002 aryl methyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 3
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 125000002349 hydroxyamino group Chemical group [H]ON([H])[*] 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- SXBDXXFTJVHSAF-ZCFIWIBFSA-N (6r)-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-3-en-8-one Chemical class S1C=CCN2C(=O)C[C@H]21 SXBDXXFTJVHSAF-ZCFIWIBFSA-N 0.000 description 2
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical compound CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006012 2-chloroethoxy group Chemical group 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006136 alcoholysis reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Chemical class 0.000 description 2
- 125000005036 alkoxyphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005530 alkylenedioxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- CLRSZXHOSMKUIB-UHFFFAOYSA-M benzenediazonium chloride Chemical compound [Cl-].N#[N+]C1=CC=CC=C1 CLRSZXHOSMKUIB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000004683 dihydrates Chemical class 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 238000001640 fractional crystallisation Methods 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 2
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 2
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 2
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- RZWQDAUIUBVCDD-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenethiolate Chemical compound [Na+].[S-]C1=CC=CC=C1 RZWQDAUIUBVCDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005958 tetrahydrothienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 2
- GVVFCAFBYHYGEE-OGFXRTJISA-N (2r)-2-amino-2-phenylacetyl chloride;hydron;chloride Chemical compound Cl.ClC(=O)[C@H](N)C1=CC=CC=C1 GVVFCAFBYHYGEE-OGFXRTJISA-N 0.000 description 1
- NIBKDWIGIKUFKL-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trichloroethanol Chemical compound OC(Cl)C(Cl)Cl NIBKDWIGIKUFKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004515 1,2,4-thiadiazol-3-yl group Chemical group S1N=C(N=C1)* 0.000 description 1
- 125000001305 1,2,4-triazol-3-yl group Chemical group [H]N1N=C([*])N=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004520 1,3,4-thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- SHCFCJUJGBRSPO-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CCCCC1C1(N)CCCCC1 SHCFCJUJGBRSPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005976 1-phenylethyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- MSYLETHDEIJMAF-UHFFFAOYSA-N 2,2-diphenylacetyl chloride Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C(=O)Cl)C1=CC=CC=C1 MSYLETHDEIJMAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004174 2-benzimidazolyl group Chemical group [H]N1C(*)=NC2=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C12 0.000 description 1
- LDLCZOVUSADOIV-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethanol Chemical compound OCCBr LDLCZOVUSADOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003006 2-dimethylaminoethyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005975 2-phenylethyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- MDQHTWMXYBVSHU-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilylacetamide Chemical compound C[Si](C)(C)CC(N)=O MDQHTWMXYBVSHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDFXRVAOBHEBGJ-UHFFFAOYSA-N 3-(cyclononen-1-yl)-4,5,6,7,8,9-hexahydro-1h-diazonine Chemical compound C1CCCCCCC=C1C1=NNCCCCCC1 QDFXRVAOBHEBGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001541 3-thienyl group Chemical group S1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical class [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010073254 Colicins Proteins 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical class [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTLZVHNRZJPSMI-UHFFFAOYSA-N N-ethylpiperidine Chemical compound CCN1CCCCC1 HTLZVHNRZJPSMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004157 Nitrosyl chloride Substances 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical class [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical group CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M Tributyltin chloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(CCCC)CCCC GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 1
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005042 acyloxymethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005075 adamantyloxy group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)O* 0.000 description 1
- 125000005076 adamantyloxycarbonyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)OC(=O)* 0.000 description 1
- 238000005377 adsorption chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005092 alkenyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005108 alkenylthio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000033 alkoxyamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005263 alkylenediamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 150000003939 benzylamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000006014 bromoethoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Chemical class 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000006011 chloroethoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical class [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006622 cycloheptylmethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 1
- 125000000298 cyclopropenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000003073 divalent carboacyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical class 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000006627 ethoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002496 iodine Chemical class 0.000 description 1
- PELJISAVHGXLAL-UHFFFAOYSA-N iodomethyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OCI PELJISAVHGXLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000654 isopropylidene group Chemical group C(C)(C)=* 0.000 description 1
- 125000005928 isopropyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000006626 methoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical group [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004708 n-butylthio group Chemical group C(CCC)S* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- VPCDQGACGWYTMC-UHFFFAOYSA-N nitrosyl chloride Chemical compound ClN=O VPCDQGACGWYTMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019392 nitrosyl chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 1
- 125000005543 phthalimide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000612 phthaloyl group Chemical group C(C=1C(C(=O)*)=CC=CC1)(=O)* 0.000 description 1
- 230000004962 physiological condition Effects 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005030 pyridylthio group Chemical group N1=C(C=CC=C1)S* 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004527 pyrimidin-4-yl group Chemical group N1=CN=C(C=C1)* 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002112 pyrrolidino group Chemical group [*]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- FCQRKDSALKMOGU-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triphenylphosphane;trichloride Chemical compound Cl[Rh](Cl)Cl.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FCQRKDSALKMOGU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 description 1
- JWHOQZUREKYPBY-UHFFFAOYSA-N rubonic acid Natural products CC1(C)CCC2(CCC3(C)C(=CCC4C5(C)CCC(=O)C(C)(C)C5CC(=O)C34C)C2C1)C(=O)O JWHOQZUREKYPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011833 salt mixture Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 125000003638 stannyl group Chemical group [H][Sn]([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005797 stannylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical group 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003513 tertiary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000005505 thiomorpholino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/59—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3 with hetero atoms directly attached in position 3
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエノール誘導体、詳しくは式
〔この式でＲ２はヒドロキシル基であるかまたは式中の
カルボニル基−Ｃ（＝０）−といつしよになつて保護さ
れたカルボキシル基を形成している基Ｒ３であり、そし
てＲ３はアルキル基、アラルキル基またはアシル基であ
る〕で表わされるＯ一置換された７β−アミノー３−セ
フエムー３−オールー４−カルボン酸化合物または塩形
成基をもつこのような化合物の塩の製造に関するもので
ある。
カルボニル基−Ｃ（＝０）−といつしよになつて保護さ
れたカルボキシル基を形成している基Ｒ３であり、そし
てＲ３はアルキル基、アラルキル基またはアシル基であ
る〕で表わされるＯ一置換された７β−アミノー３−セ
フエムー３−オールー４−カルボン酸化合物または塩形
成基をもつこのような化合物の塩の製造に関するもので
ある。
本発明によるエノール誘導体は３−セフエムー３−オー
ル化合物のエーテルおよびエステルである。
ル化合物のエーテルおよびエステルである。
式−Ｃ（＝０）−Ｒ８で示される保護されたカルボキシ
ル基は主にエステル化されたカルボキシル基であるが、
普通の混合無水物基または置換されている場合のあるカ
ルバモイル基またはヒドラジノカルボニル基であること
もできる。
ル基は主にエステル化されたカルボキシル基であるが、
普通の混合無水物基または置換されている場合のあるカ
ルバモイル基またはヒドラジノカルボニル基であること
もできる。
故に、基Ｒ８は基−Ｃ（＝Ｏ）−といつしよにエステル
化されたカルボキシル基を形成している炭素原子の数が
好ましくは１媚までの有機基でエーテル化されたヒドロ
キシル基であることができる。
化されたカルボキシル基を形成している炭素原子の数が
好ましくは１媚までの有機基でエーテル化されたヒドロ
キシル基であることができる。
このような有機基は例えば脂肪族、脂環式、脂環一脂肪
族、芳香族または芳香脂肪族の基、殊にこの種類の置換
されている場合のある炭化水素基ならびに複素環式また
は複素環一脂肪族基である。また、基Ｒ企基は有機シリ
ルオキシ基または有機金属性基でエーテル化された水酸
基例えば相当する有機スタンニルオキシ基、殊に炭素原
子を好ましくは田個までもつている置換されている場合
のある炭化水素基例えば脂肪族炭化水素基１〜３個によ
つてそして場合によつては塩素原子のようなハロゲン原
子によつて置換されているシリルオキシ基またはスタン
ニルオキシ基であることもできる。
族、芳香族または芳香脂肪族の基、殊にこの種類の置換
されている場合のある炭化水素基ならびに複素環式また
は複素環一脂肪族基である。また、基Ｒ企基は有機シリ
ルオキシ基または有機金属性基でエーテル化された水酸
基例えば相当する有機スタンニルオキシ基、殊に炭素原
子を好ましくは田個までもつている置換されている場合
のある炭化水素基例えば脂肪族炭化水素基１〜３個によ
つてそして場合によつては塩素原子のようなハロゲン原
子によつて置換されているシリルオキシ基またはスタン
ニルオキシ基であることもできる。
基−Ｃ（＝０）−といつしよに無水物基主に混合無水物
基を形成している基Ｒ３は殊にアシルオキシ基であつて
、この基は炭素原子を好ましくは１８個までもつている
有機カルボン酸例えば脂肪族、脂環式、脂環一脂肪族、
芳香族または芳香脂肪族カルボン酸または炭酸半エステ
ルのような炭酸半誘導体の相当する基てある。
基を形成している基Ｒ３は殊にアシルオキシ基であつて
、この基は炭素原子を好ましくは１８個までもつている
有機カルボン酸例えば脂肪族、脂環式、脂環一脂肪族、
芳香族または芳香脂肪族カルボン酸または炭酸半エステ
ルのような炭酸半誘導体の相当する基てある。
基−Ｃ（＝０）一といつしよにカルバモイル基を形成し
ている基Ｒ介は置換されている場合のあるアミノ基であ
る。
ている基Ｒ介は置換されている場合のあるアミノ基であ
る。
この置換基は炭素原子を好ましくは１８個までもつてい
る置換されている場合のある１価または２価の炭化水素
基、例えば炭素原子１８個までをもつている置換されて
いる場合のある１価または２価の脂肪族、脂環式、脂環
一脂肪族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基、さらに
炭素原子田個まてをもつ相当する複素環式または複素環
一脂肪族基および（または）官能性基例えば官能的に変
えられていることのできるヒドロキシル基殊に遊離ヒド
ロキシル基、さらにエーテル化またはエステル化された
ヒドロキシル基（そのエーテル化またはエステル化して
いる基は例えば前記の意味をもちそして好ましくは炭素
原子１８個までをもつている）またはアシル基主に炭素
原子を好ましくはｌ田固までもつ有機カルボン酸または
炭酸半誘導体のアシル基である。式−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ身
で示される置換されたヒドラジノカルボニル基において
は、その１方または両方の窒素原子が置換されているこ
とができる。
る置換されている場合のある１価または２価の炭化水素
基、例えば炭素原子１８個までをもつている置換されて
いる場合のある１価または２価の脂肪族、脂環式、脂環
一脂肪族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基、さらに
炭素原子田個まてをもつ相当する複素環式または複素環
一脂肪族基および（または）官能性基例えば官能的に変
えられていることのできるヒドロキシル基殊に遊離ヒド
ロキシル基、さらにエーテル化またはエステル化された
ヒドロキシル基（そのエーテル化またはエステル化して
いる基は例えば前記の意味をもちそして好ましくは炭素
原子１８個までをもつている）またはアシル基主に炭素
原子を好ましくはｌ田固までもつ有機カルボン酸または
炭酸半誘導体のアシル基である。式−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ身
で示される置換されたヒドラジノカルボニル基において
は、その１方または両方の窒素原子が置換されているこ
とができる。
置換基としては主に炭素原子を好ましくは１８個までも
つている置換されていることのできる１価または２価の
炭素水素基、例えば炭素原子１媚までをもつている置換
されていることのできる１価または２価の脂肪族、脂環
式、脂環一脂肪族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基
、さらに炭素原子１８！ｍまでをもつている相当する複
素環式または複素環一脂肪族基および（または）官能性
基例えばアシル基主に炭素原子を好ましくは１媚までも
つている有機カルボン酸または炭酸半誘導体のアシル基
が挙げられる。アシル基としてのＲ３は主にぎ酸を含め
た有機カルボン酸例えば脂環式、脂環一脂肪族、芳香脂
肪族、複素環式または複素環一脂肪族カルボン酸のアシ
ル基、殊に脂肪族カルボン酸、さらに芳香族カルボン酸
および炭酸半誘導体のアシル基である。本明細書に記載
の一般用語は例えば次の意味をもつている。
つている置換されていることのできる１価または２価の
炭素水素基、例えば炭素原子１媚までをもつている置換
されていることのできる１価または２価の脂肪族、脂環
式、脂環一脂肪族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基
、さらに炭素原子１８！ｍまでをもつている相当する複
素環式または複素環一脂肪族基および（または）官能性
基例えばアシル基主に炭素原子を好ましくは１媚までも
つている有機カルボン酸または炭酸半誘導体のアシル基
が挙げられる。アシル基としてのＲ３は主にぎ酸を含め
た有機カルボン酸例えば脂環式、脂環一脂肪族、芳香脂
肪族、複素環式または複素環一脂肪族カルボン酸のアシ
ル基、殊に脂肪族カルボン酸、さらに芳香族カルボン酸
および炭酸半誘導体のアシル基である。本明細書に記載
の一般用語は例えば次の意味をもつている。
脂肪族基（相当する有機カルボン酸の脂肪族基を含む）
ならびに相当するイリデン基は置換されている場合のあ
る１価または２価の脂肪族炭化水素基、殊に炭素原子を
例えば７個までそして好ましくは４個までもつているこ
とのできる低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基または低級アルキリデン基である。
ならびに相当するイリデン基は置換されている場合のあ
る１価または２価の脂肪族炭化水素基、殊に炭素原子を
例えば７個までそして好ましくは４個までもつているこ
とのできる低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基または低級アルキリデン基である。
このような基は場合によつては官能性基によつて、例え
ば遊離のまたはエーテル化またはエステル化されたヒド
ロキシル基またはメルカプト基、例えば低級アルコキシ
基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキレ・ンジオキ
シ基、置換されている場合のあるフェニルオキシ基また
はフェニル低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、置
換されている場合のあるフェニルチオ基またはフェニル
低級アルキルチオ基、複素環一チオ基または複素環一低
級アルキル・チオ基、置換されている場合のある低級ア
ルコキシカルボニルオキシ基または低級アルカノイルオ
キシ基、またはハロゲン原子、さらにオキソ基、ニトロ
基、置換されている場合のあるアミノ基例えば低級アル
キルアミノ基、ジ低級アルキルアミ）ノ基、低級アルキ
レンアミノ基、オキサ低級アルキレンアミノ基またはア
ザ低級アルキレンアミノ基ならびにアシルアミノ基例え
ば低級アルカノイルアミノ基、低級アルコキシカルボニ
ルアミノ基、ハロゲン低級アルコキシカルボニルアミノ
基、置換されている場合のあるフェニル低級アルコキシ
カルボニルアミノ基、置換されている場合のあるカルバ
モイルアミノ基、ウレイドカルボニルアミノ基またはグ
アニジカルボニルアミノ基、さらにアルカリ金属塩のよ
うな塩の形で存在する場合のあるスルホアミノ基、アジ
ド基、低級アルカノイル基やベンゾイル基のようなアシ
ル基、官能的に変えられている場合のあるカルボキシル
基例えば塩の形にあるカルボキシル基、低級アルコキシ
カルボニル基のようなエステル化されたカルボキシル基
、Ｎ一低級アルキルーまたはＮ−Ｎ−ジ低級アルキル−
カルバモイル基のような置換されている場合のあるカル
バモイル基、さらに、置換されている場合のあるウレイ
ドカルボニル基またはグアニジノカルボニル基、または
シアノ基、官能的に変えられている場合のあるスルホ基
例えばスルファモイル基または塩の形にあるスルホ基、
またはＯ−モノーまたはＯ・０″−ジー置換されている
場合のあるホスホノ基（その置換基は例えば置換されて
いる場合のある低級アルキル基、フェニル基またはフェ
ニル低級アルキル基であつて、０一非置換または０−モ
ノ置換されたホスホノ基はアルカリ金属塩のような塩の
形であることもできる）によつてモノ置換、ジ置換また
はポリ置換されていることができる。２価脂肪族カルボ
ン酸の脂肪族基を含めて２価の脂肪族基は例えば低級ア
ルキレン基または低級アルケニレン基であつて、これら
は場合によつては前記脂肪族基のようにモノ置換、ジ置
換またはポリ置換されていることがてきそして（または
）．その鎖中に酸素、窒素またはいおう原子のようなヘ
テロ原子が介在していることができる。
ば遊離のまたはエーテル化またはエステル化されたヒド
ロキシル基またはメルカプト基、例えば低級アルコキシ
基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキレ・ンジオキ
シ基、置換されている場合のあるフェニルオキシ基また
はフェニル低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、置
換されている場合のあるフェニルチオ基またはフェニル
低級アルキルチオ基、複素環一チオ基または複素環一低
級アルキル・チオ基、置換されている場合のある低級ア
ルコキシカルボニルオキシ基または低級アルカノイルオ
キシ基、またはハロゲン原子、さらにオキソ基、ニトロ
基、置換されている場合のあるアミノ基例えば低級アル
キルアミノ基、ジ低級アルキルアミ）ノ基、低級アルキ
レンアミノ基、オキサ低級アルキレンアミノ基またはア
ザ低級アルキレンアミノ基ならびにアシルアミノ基例え
ば低級アルカノイルアミノ基、低級アルコキシカルボニ
ルアミノ基、ハロゲン低級アルコキシカルボニルアミノ
基、置換されている場合のあるフェニル低級アルコキシ
カルボニルアミノ基、置換されている場合のあるカルバ
モイルアミノ基、ウレイドカルボニルアミノ基またはグ
アニジカルボニルアミノ基、さらにアルカリ金属塩のよ
うな塩の形で存在する場合のあるスルホアミノ基、アジ
ド基、低級アルカノイル基やベンゾイル基のようなアシ
ル基、官能的に変えられている場合のあるカルボキシル
基例えば塩の形にあるカルボキシル基、低級アルコキシ
カルボニル基のようなエステル化されたカルボキシル基
、Ｎ一低級アルキルーまたはＮ−Ｎ−ジ低級アルキル−
カルバモイル基のような置換されている場合のあるカル
バモイル基、さらに、置換されている場合のあるウレイ
ドカルボニル基またはグアニジノカルボニル基、または
シアノ基、官能的に変えられている場合のあるスルホ基
例えばスルファモイル基または塩の形にあるスルホ基、
またはＯ−モノーまたはＯ・０″−ジー置換されている
場合のあるホスホノ基（その置換基は例えば置換されて
いる場合のある低級アルキル基、フェニル基またはフェ
ニル低級アルキル基であつて、０一非置換または０−モ
ノ置換されたホスホノ基はアルカリ金属塩のような塩の
形であることもできる）によつてモノ置換、ジ置換また
はポリ置換されていることができる。２価脂肪族カルボ
ン酸の脂肪族基を含めて２価の脂肪族基は例えば低級ア
ルキレン基または低級アルケニレン基であつて、これら
は場合によつては前記脂肪族基のようにモノ置換、ジ置
換またはポリ置換されていることがてきそして（または
）．その鎖中に酸素、窒素またはいおう原子のようなヘ
テロ原子が介在していることができる。
脂環式基または脂環一脂肪族基（相当する有機カルボン
酸における脂環式基または脂環一脂肪族基を含む）なら
びに相当する脂環式または脂環−！脂肪族イリデン基は
置換されている場合のある単環式または２環式脂環式ま
たは脂環一脂肪族炭化水素基、例えば単環式、２環式ま
たは多環式のシクロアルキル基またはシクロアルケニル
基、さらにシクロアルキリデン基、またはシクロアルキ
ル４一またはシクロアルケニルー低級アルキル基または
一低級アルケニル基、さらにシクロアルキルー低級アル
キリデン基またはシクロアルケニルー低級アルキリデン
基である。
酸における脂環式基または脂環一脂肪族基を含む）なら
びに相当する脂環式または脂環−！脂肪族イリデン基は
置換されている場合のある単環式または２環式脂環式ま
たは脂環一脂肪族炭化水素基、例えば単環式、２環式ま
たは多環式のシクロアルキル基またはシクロアルケニル
基、さらにシクロアルキリデン基、またはシクロアルキ
ル４一またはシクロアルケニルー低級アルキル基または
一低級アルケニル基、さらにシクロアルキルー低級アル
キリデン基またはシクロアルケニルー低級アルキリデン
基である。
これらの基においてシクロアルキルおよびシクロアルキ
リデンは例えば環炭素原子を１２個まで、例えば３〜８
個、好ましくは３〜６個もつており、またシクロアルケ
ニルは例えば環炭素原子を１２個まで、例えば３〜８個
、例えば５〜８個、好ましくは５個または６個もちそし
て２重結合１個または２個をもつており、そして脂環一
脂肪族基の脂肪族部分は炭素原子を例えば７個まで、好
ましくは４個までもつていることができる。これら脂環
式基または脂環一ノ脂肪族基は所望ならば置換されてい
る場合のある脂肪族炭化水素基によつて、例えば前に挙
げた置換されている場合のある低級アルキル基によつて
または例えば前記脂肪族炭化水素基のように官能性基に
よつてモノ置換、ジ置換またはポリ置換さ・れているこ
とができる。芳香族基（相当するカルボン酸の芳香族基
を含む）は置換されている場合のある芳香族炭化水素基
、例えば単環式、２環式または多環式の芳香族炭化水素
基、殊にフェニル基ならびにビフエニリ゛ル基またはナ
フチル基であつて、これらは例えば前記の脂肪族および
脂環式炭化水素基のように場合によつてはモノ置換、ジ
置換またはポリ置換されていることができる。
リデンは例えば環炭素原子を１２個まで、例えば３〜８
個、好ましくは３〜６個もつており、またシクロアルケ
ニルは例えば環炭素原子を１２個まで、例えば３〜８個
、例えば５〜８個、好ましくは５個または６個もちそし
て２重結合１個または２個をもつており、そして脂環一
脂肪族基の脂肪族部分は炭素原子を例えば７個まで、好
ましくは４個までもつていることができる。これら脂環
式基または脂環一ノ脂肪族基は所望ならば置換されてい
る場合のある脂肪族炭化水素基によつて、例えば前に挙
げた置換されている場合のある低級アルキル基によつて
または例えば前記脂肪族炭化水素基のように官能性基に
よつてモノ置換、ジ置換またはポリ置換さ・れているこ
とができる。芳香族基（相当するカルボン酸の芳香族基
を含む）は置換されている場合のある芳香族炭化水素基
、例えば単環式、２環式または多環式の芳香族炭化水素
基、殊にフェニル基ならびにビフエニリ゛ル基またはナ
フチル基であつて、これらは例えば前記の脂肪族および
脂環式炭化水素基のように場合によつてはモノ置換、ジ
置換またはポリ置換されていることができる。
芳香族カルボン酸の２価の芳香族基はとりわけ１●２−
アリーレン基特に１●２−フェニレン基であつて、これ
らは例えば前記の脂肪族および脂環式炭化水素基のよう
に場合によつてはモノ置換、ジ置換またはポリ置換され
ていることができる。
アリーレン基特に１●２−フェニレン基であつて、これ
らは例えば前記の脂肪族および脂環式炭化水素基のよう
に場合によつてはモノ置換、ジ置換またはポリ置換され
ていることができる。
前記の芳香脂肪族基（相当するカルボン酸における芳香
脂肪族基を含む）およびまた芳香脂肪族イリデン基は例
えば置換されている場合のある芳香脂肪族炭化水素基、
例えば置換されている場合のある単環式、２環式または
多環式芳香族炭化水素基を３個まてもつている置換され
ている場合のある脂肪族炭化水素基てあつて、とりわけ
フェニルー低級アルキル基またはフェニルー低級アルケ
ニル基、ならびにフェニルー低級アルキニル基およびま
たフェニルー低級アルキリデン基であり、そしてこのよ
うな基は例えばフェニル基１〜３個をもつておりそして
場合によつては例えば前記の脂肪族および脂環式基のよ
うにその芳香族および（または）脂肪族部分においてモ
ノ置換、ジ置換またはポリ置換されていることができる
。
脂肪族基を含む）およびまた芳香脂肪族イリデン基は例
えば置換されている場合のある芳香脂肪族炭化水素基、
例えば置換されている場合のある単環式、２環式または
多環式芳香族炭化水素基を３個まてもつている置換され
ている場合のある脂肪族炭化水素基てあつて、とりわけ
フェニルー低級アルキル基またはフェニルー低級アルケ
ニル基、ならびにフェニルー低級アルキニル基およびま
たフェニルー低級アルキリデン基であり、そしてこのよ
うな基は例えばフェニル基１〜３個をもつておりそして
場合によつては例えば前記の脂肪族および脂環式基のよ
うにその芳香族および（または）脂肪族部分においてモ
ノ置換、ジ置換またはポリ置換されていることができる
。
複素環式基（複素環一脂肪族基におけるもの、および相
当するカルボン酸における複素環式基または複素環一脂
肪族基を含む）は芳香族性をもつ特に単環式ならびに２
環式または多環式のアザ環式、チア環式、オキサ環式、
チアザ環式、チアジアザ環式、オキサアザ環式、ジアザ
環式、トリアザ環式またはテトラアザ環式基およびさら
にこの種類の相当する部分的にまたは全体的に飽和され
た複素環式基であつて、このような基は場合によつては
例えば前記の脂環式基のようにモノ基換、ジ置換または
ポリ置換されていることができる。
当するカルボン酸における複素環式基または複素環一脂
肪族基を含む）は芳香族性をもつ特に単環式ならびに２
環式または多環式のアザ環式、チア環式、オキサ環式、
チアザ環式、チアジアザ環式、オキサアザ環式、ジアザ
環式、トリアザ環式またはテトラアザ環式基およびさら
にこの種類の相当する部分的にまたは全体的に飽和され
た複素環式基であつて、このような基は場合によつては
例えば前記の脂環式基のようにモノ基換、ジ置換または
ポリ置換されていることができる。
複素環一脂肪族基における脂肪族部分は例えば相当する
脂環一脂肪族基または芳香脂肪族基に与えた意味をもつ
。炭酸半誘導体のアシル基は相当する半エステルのアシ
ル基（このエステル基の有機基は置換されている場合の
ある脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族の炭化水
素基または複素環一脂肪族基である）、とりわけ炭酸の
低級アルキル半エステルのアシル基（これは例えばその
α−またはβ一位置て置換されていることができる）お
よびその有機基において置換されている場合のある炭酸
の低級アルケニル、シクロアルキル、フェニルまたはフ
ェニルー低級アルキル半エステルのアシル基であるのが
好ましい。
脂環一脂肪族基または芳香脂肪族基に与えた意味をもつ
。炭酸半誘導体のアシル基は相当する半エステルのアシ
ル基（このエステル基の有機基は置換されている場合の
ある脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族の炭化水
素基または複素環一脂肪族基である）、とりわけ炭酸の
低級アルキル半エステルのアシル基（これは例えばその
α−またはβ一位置て置換されていることができる）お
よびその有機基において置換されている場合のある炭酸
の低級アルケニル、シクロアルキル、フェニルまたはフ
ェニルー低級アルキル半エステルのアシル基であるのが
好ましい。
炭酸半エステルのアシル基は、さらに、その低級アルキ
ル部分が複素環式基例えば芳香族性の前記複素環式基の
１つをもつている炭酸の低級アルキル半エステルの相当
する基であつて、その低級アルキル基および複素環式基
はいずれも場合によつては置換されていることができる
。さらに、炭酸半誘導体のアシル基はハロゲン化されて
いる場合のあるＮ一低級アルキルカルバモイル基のよう
なＮ一置換されている場合のあるカルバモイル基である
こともできる。エーテル化されたヒドロキシル基は主と
して置換されている場合のある低級アルコキシ基（その
置換基は主として遊離のまたは官能的に変性例えばエー
テル化またはエステル化された水酸基、殊に低級アルコ
キシ基またはハロゲン原子である）、さらに低級アルケ
ニルオキシ基、シクロアルキルオキシ基または置換され
ている場合のあるフェニルオキシ基、ならびに複素環−
オキシ基または複素環一低級アルコキシ基、殊に置換さ
れている場合のあるフェニル低級アルコキシ基である。
ル部分が複素環式基例えば芳香族性の前記複素環式基の
１つをもつている炭酸の低級アルキル半エステルの相当
する基であつて、その低級アルキル基および複素環式基
はいずれも場合によつては置換されていることができる
。さらに、炭酸半誘導体のアシル基はハロゲン化されて
いる場合のあるＮ一低級アルキルカルバモイル基のよう
なＮ一置換されている場合のあるカルバモイル基である
こともできる。エーテル化されたヒドロキシル基は主と
して置換されている場合のある低級アルコキシ基（その
置換基は主として遊離のまたは官能的に変性例えばエー
テル化またはエステル化された水酸基、殊に低級アルコ
キシ基またはハロゲン原子である）、さらに低級アルケ
ニルオキシ基、シクロアルキルオキシ基または置換され
ている場合のあるフェニルオキシ基、ならびに複素環−
オキシ基または複素環一低級アルコキシ基、殊に置換さ
れている場合のあるフェニル低級アルコキシ基である。
置換されている場合のあるアミノ基は例えばアミノ基、
低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
アルキレンアミノ基、オキサ低級アルキレンアミノ基、
チア低級アルキレンアミノ基、アザ低級アルキレンアミ
ノ基、ヒドロキシアミノ基、低級アルコキシアミノ基、
低級アルカノイルオキシアミノ基、低級アルコキシカル
ボニルアミノ基または低級アルカノイルアミノ基である
。
低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
アルキレンアミノ基、オキサ低級アルキレンアミノ基、
チア低級アルキレンアミノ基、アザ低級アルキレンアミ
ノ基、ヒドロキシアミノ基、低級アルコキシアミノ基、
低級アルカノイルオキシアミノ基、低級アルコキシカル
ボニルアミノ基または低級アルカノイルアミノ基である
。
置換されている場合のあるヒドラジノ基は例えばヒドラ
ジノ基、２一低級アルキルヒドラジノ基、２●２−ジ低
級アルキルヒドラジノ基、２一低級アルコキシカルボニ
ルヒドラジノ基または２−低級アルカノイルヒドラジノ
基である。
ジノ基、２一低級アルキルヒドラジノ基、２●２−ジ低
級アルキルヒドラジノ基、２一低級アルコキシカルボニ
ルヒドラジノ基または２−低級アルカノイルヒドラジノ
基である。
低級アルキル基は例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基
、第２ブチル基、第３ブチル基、ならびにｎ−ペンチル
基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基
またはｎ−ヘプチル基であり、また低級アルケニル基は
例えばビニル基、アリル基、イソプロペニル基、２−ま
たは３−メタリル基または３−ブテニル基であることが
でき、低級アルキニル基は例えばプロパルギル基または
２−ブチニル基であることができ、そして低級アルキリ
デン基は例えばイソプロピリデン基またはイソブチリデ
ン基であることができる。
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基
、第２ブチル基、第３ブチル基、ならびにｎ−ペンチル
基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基
またはｎ−ヘプチル基であり、また低級アルケニル基は
例えばビニル基、アリル基、イソプロペニル基、２−ま
たは３−メタリル基または３−ブテニル基であることが
でき、低級アルキニル基は例えばプロパルギル基または
２−ブチニル基であることができ、そして低級アルキリ
デン基は例えばイソプロピリデン基またはイソブチリデ
ン基であることができる。
低級アルキレン基は例えば１・２−エチレン基、１・２
−または１・３−プロピレン基、１・４−ブチレン基、
１・５−ペンチレン基または１・６−ヘキシレン基であ
り、また低級アルケニレン基は例えば１・２−エテニレ
ン基または２ーブテンー１・４−イレン基である。
−または１・３−プロピレン基、１・４−ブチレン基、
１・５−ペンチレン基または１・６−ヘキシレン基であ
り、また低級アルケニレン基は例えば１・２−エテニレ
ン基または２ーブテンー１・４−イレン基である。
ヘテロ原子の介在する低級アルキレン基は例えば３−オ
キサー１●５−ペンチレン基のようなオキサ低級アルキ
レン基、３−チアー１●５−ペンチレン基のようなチア
低級アルキレン基、または３一低級アルキルー３−アザ
ー１・５−ペンチレン基例えば３−メチルー３−アザー
１・５−ペンチレン基のようなアザ低級アルキレン基で
ある。シクロアルキル基は例えばシクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基ま
たはシクロヘプチル基、ならびにアダマンチル基であり
、シクロアルケニル基は例えばシクロプロペニル基、１
−、２−または３−シクロペンテニル基、１−、２−ま
たは３−シクロヘキセニル基、３−シクロヘプテニル基
または１・４−シクロヘキサジエニル基であつて、シク
ロアルキリデン基は例えばシクロペンチリデン基または
シクロヘキシリデン基である。
キサー１●５−ペンチレン基のようなオキサ低級アルキ
レン基、３−チアー１●５−ペンチレン基のようなチア
低級アルキレン基、または３一低級アルキルー３−アザ
ー１・５−ペンチレン基例えば３−メチルー３−アザー
１・５−ペンチレン基のようなアザ低級アルキレン基で
ある。シクロアルキル基は例えばシクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基ま
たはシクロヘプチル基、ならびにアダマンチル基であり
、シクロアルケニル基は例えばシクロプロペニル基、１
−、２−または３−シクロペンテニル基、１−、２−ま
たは３−シクロヘキセニル基、３−シクロヘプテニル基
または１・４−シクロヘキサジエニル基であつて、シク
ロアルキリデン基は例えばシクロペンチリデン基または
シクロヘキシリデン基である。
シクロアルキルー低級アルキル基またはシクロアルキル
ー低級アルケニル基は例えばシクロプロピルー、シクロ
ペンチルー、シクロヘキシルーまたはシクロヘプチル−
メチル基、−１１−エチレン基（〕ＣＨ−ＣＨ３）、−
１２−エチレン基（−ＣＨ２−ＣＨ２一）、−１１−プ
ロピレン基（〉ＣＨ−ＣＨ２一ＣＨ３）、−１●２−プ
ロピレン基（一℃Ｈ２−ＹＨ−℃Ｈ３）、−１．３−プ
。
ー低級アルケニル基は例えばシクロプロピルー、シクロ
ペンチルー、シクロヘキシルーまたはシクロヘプチル−
メチル基、−１１−エチレン基（〕ＣＨ−ＣＨ３）、−
１２−エチレン基（−ＣＨ２−ＣＨ２一）、−１１−プ
ロピレン基（〉ＣＨ−ＣＨ２一ＣＨ３）、−１●２−プ
ロピレン基（一℃Ｈ２−ＹＨ−℃Ｈ３）、−１．３−プ
。
５７７基（−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−）、−ビニル基
またはーアリル基であつて、シクロアルケニルー低級ア
ルキル基またはシクロアルケニルー低級アルケニル基は
例えば１−、２−または３−シクロペンテルー１−、２
−または３−シクロヘキセニルーまたは１−、２−また
は３−シクロヘプテニルーメチル基、−１●１−エチレ
ン基（〉ＣＨ−ＣＨ３）、一１・２−エチレン基（−Ｃ
Ｈ２−ＣＨ２−）、一１・１−プロピレン基（〉ＣＨ−
ＣＨ２−ＣＨ３）、一１．２−プＡ５ＯＬ／７基（一℃
Ｈ２−ＳＨ−℃Ｈ３）、−１３−プロピレン基（ＣＨ２
−ＣＨ２−ＣＨ２、一）、−ビニル基またはーアリル基
である。
またはーアリル基であつて、シクロアルケニルー低級ア
ルキル基またはシクロアルケニルー低級アルケニル基は
例えば１−、２−または３−シクロペンテルー１−、２
−または３−シクロヘキセニルーまたは１−、２−また
は３−シクロヘプテニルーメチル基、−１●１−エチレ
ン基（〉ＣＨ−ＣＨ３）、一１・２−エチレン基（−Ｃ
Ｈ２−ＣＨ２−）、一１・１−プロピレン基（〉ＣＨ−
ＣＨ２−ＣＨ３）、一１．２−プＡ５ＯＬ／７基（一℃
Ｈ２−ＳＨ−℃Ｈ３）、−１３−プロピレン基（ＣＨ２
−ＣＨ２−ＣＨ２、一）、−ビニル基またはーアリル基
である。
シクロアルキルー低級アルキリデン基は例えばシクロヘ
キシルメチレン基でありそしてシクロアルケニルー低級
アルキリデン基は例えば３−シクロヘキセニルメチレン
基である。ナフチル基は１−または２−ナフチル基であ
つて、ビフエニリル基は例えば４−ビフエニリル基であ
る。
キシルメチレン基でありそしてシクロアルケニルー低級
アルキリデン基は例えば３−シクロヘキセニルメチレン
基である。ナフチル基は１−または２−ナフチル基であ
つて、ビフエニリル基は例えば４−ビフエニリル基であ
る。
フェニルー低級アルキル基またはフェニルー低級アルケ
ニル基は例えばベンジル基、１−または′２−フェニル
エチル基、１−、２−または３−フェニルプロピル基、
ジフェニルメチル基、トリチル基、１−または２−ナ７
チルメチル基のようなナフチルー低級アルキル基、スチ
リル基またはシンナミル基であつて、フェニルー低級ア
ルキリデン基は例えばベンジリデン基である。
ニル基は例えばベンジル基、１−または′２−フェニル
エチル基、１−、２−または３−フェニルプロピル基、
ジフェニルメチル基、トリチル基、１−または２−ナ７
チルメチル基のようなナフチルー低級アルキル基、スチ
リル基またはシンナミル基であつて、フェニルー低級ア
ルキリデン基は例えばベンジリデン基である。
複素環式基はとりわけ芳香族性をもつ置換されている場
合のある複素環式基、例えば相当する単環式のモノアザ
環式、モノチア環式またはモノオキサ環式基例えば２−
ピリル基や３−ピリル基のようなピリル基、２−、３−
または４−ピリジル基のようなピリジル基およびピリジ
ニウム基、２−または３−チエニル基のようなチエニル
基またフは２−フリル基のようなフリル基、２環式のモ
ノアザ環式、モノオキサ環式またはモノチア環式基例え
ば２−または３−インドリル基のようなインドリル基、
２−または４−キノリニル基のようなキノリニル基、１
−イソキノリニル基のようなイソキノリニル基、２−ま
たは３−ベンゾフラニル基のようなベンゾフラニル基ま
たは２−または３一ベンゾチエニル基のようなベンゾチ
エニル基、単環式のジアザ環式、トリアザ環式、テトラ
アザ環式、オキサアザ環式、チアザ環式またはチアジ・
アザ環式基、例えば２−イミダゾリル基のようなイミダ
ゾリル基、２−または４−ピリミジニル基のようなピリ
ミジニル基、１・２・４−トリアゾールー３−イル基の
ようなトリアゾリル基、１一または５−テトラゾリル基
のようなテトラゾリル基、２−オキサゾリル基のような
オキサゾリル基、３−または４−イソオキサゾリル基の
ようなイソオキサゾリル基、２−チアゾリル基のような
チアゾリル基、３−または４−イソチアゾリル基のよう
なイソチアゾリル基、または１・２・４一チアジアゾー
ルー３−イル基やｌ●３●４−チアジアゾールー２−イ
ル基のような１・２・４−または１・３・４−チアジア
ゾリル基、あるいは２環式のジアザ環式、オキサアザ環
式またはチアザ環式基例えば２−ベンズイミダゾリル基
のようなベンズミダゾリル基、２−ベンズオキサゾリル
基のようなベンズオキサゾリル基または２−ベンズチア
ゾリル基のようなベンズチアゾリル基である。
合のある複素環式基、例えば相当する単環式のモノアザ
環式、モノチア環式またはモノオキサ環式基例えば２−
ピリル基や３−ピリル基のようなピリル基、２−、３−
または４−ピリジル基のようなピリジル基およびピリジ
ニウム基、２−または３−チエニル基のようなチエニル
基またフは２−フリル基のようなフリル基、２環式のモ
ノアザ環式、モノオキサ環式またはモノチア環式基例え
ば２−または３−インドリル基のようなインドリル基、
２−または４−キノリニル基のようなキノリニル基、１
−イソキノリニル基のようなイソキノリニル基、２−ま
たは３−ベンゾフラニル基のようなベンゾフラニル基ま
たは２−または３一ベンゾチエニル基のようなベンゾチ
エニル基、単環式のジアザ環式、トリアザ環式、テトラ
アザ環式、オキサアザ環式、チアザ環式またはチアジ・
アザ環式基、例えば２−イミダゾリル基のようなイミダ
ゾリル基、２−または４−ピリミジニル基のようなピリ
ミジニル基、１・２・４−トリアゾールー３−イル基の
ようなトリアゾリル基、１一または５−テトラゾリル基
のようなテトラゾリル基、２−オキサゾリル基のような
オキサゾリル基、３−または４−イソオキサゾリル基の
ようなイソオキサゾリル基、２−チアゾリル基のような
チアゾリル基、３−または４−イソチアゾリル基のよう
なイソチアゾリル基、または１・２・４一チアジアゾー
ルー３−イル基やｌ●３●４−チアジアゾールー２−イ
ル基のような１・２・４−または１・３・４−チアジア
ゾリル基、あるいは２環式のジアザ環式、オキサアザ環
式またはチアザ環式基例えば２−ベンズイミダゾリル基
のようなベンズミダゾリル基、２−ベンズオキサゾリル
基のようなベンズオキサゾリル基または２−ベンズチア
ゾリル基のようなベンズチアゾリル基である。
相当する部分的にまたは全体に飽和された基は例えば２
−テトラヒドロチエニル基のようなテトラヒドロチエニ
ル基、２−テトラヒドロフリル基のようなテトラヒドロ
フリル基または２−または４−ピペリジル基のようなピ
ペリジル基である。複素環一脂肪族基は複素環式基特に
上記の基をもつ低級アルキル基または低級アルケニル基
である。前記の複素環式基は、例えば置換されている場
合のある脂肪族または芳香族炭化水素基時にメチル基の
ような低級アルキル基によつてまたは場合によつては塩
素原子のようなハロゲン原子により置換されたフェニル
基例えばフェニル基または４−クロルフェニル基によつ
てまたは例えば前記脂肪族炭化水素基のように官能性基
によつて置換されていることができる。低級アルコキシ
基は例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基
、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基
、第２ブトキシ基、第３ブトキシ基、ｎーベントキシ基
または第３ベントキシ基である。
−テトラヒドロチエニル基のようなテトラヒドロチエニ
ル基、２−テトラヒドロフリル基のようなテトラヒドロ
フリル基または２−または４−ピペリジル基のようなピ
ペリジル基である。複素環一脂肪族基は複素環式基特に
上記の基をもつ低級アルキル基または低級アルケニル基
である。前記の複素環式基は、例えば置換されている場
合のある脂肪族または芳香族炭化水素基時にメチル基の
ような低級アルキル基によつてまたは場合によつては塩
素原子のようなハロゲン原子により置換されたフェニル
基例えばフェニル基または４−クロルフェニル基によつ
てまたは例えば前記脂肪族炭化水素基のように官能性基
によつて置換されていることができる。低級アルコキシ
基は例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基
、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基
、第２ブトキシ基、第３ブトキシ基、ｎーベントキシ基
または第３ベントキシ基である。
これらの基は例えばハロゲノー低級アルコキシ基特に２
−ハロゲノー低級アルコキシ基例えば２・２・２−トリ
クロルエトキシ、２−クロルー、２−ブロムーまたは２
−ヨードーエトキシ基におけるように置換されているこ
とができる。低級アルケニルオキシ基は例えばビニルオ
キシ基またはアリルオキシ基であり、低級アルキレンジ
オキシ基は例えばメチレンジオキシ基、エチレンジオキ
シ基またはイソプロピリデンジオキシ基であり、シクロ
アルコキシ基は例えばシクロペンチルオキシ基、シクロ
ヘキシルオキシ基またはアダマンチルオキシ基であり、
フェニルー低級アルコキシ基は例えばベンジルオキシ基
または１−または２−フェニルエトキシ基、ジフェニル
メトキシ基または４・４″ージメトキシージフェニルメ
トキシ基であり、また複素環−オキシ基または複素環一
低級アルコキシ基は例えば２ーピリジルメトキシ基のよ
うなピリジルー低級アルコキシ基、フルフリルオキシ基
のようなフリルー低級アルコキシ基または２−テニルオ
キシ基のようなチエニルー低級アルコキシ基である。低
級アルキルチオ基は例えばメチルチオ基、エチルチオ基
またはｎ−ブチルチオ基であり、低級アルケニルチオ基
は例えばアリルチオ基であつて、フェニルー低級アルキ
ルチオ基は例えばベンジルチオ基であり、また複素環式
基または複素環−脂肪族基でエーテル化されたメルカプ
ト基は特に４−ピリジルチオ基のようなピリジルチオ基
、２−イミダゾリルチオ基のようなイミダゾリルチオ基
、２−チアゾリルチオ基のようなチアゾリルチオ基、１
・２・４−チアジアゾールー３−イルチオ基や１●３●
４−チアジアゾールー２−イルチオ基のような１・２・
４−または１・３・４ーチアジアゾリルチオ基または１
−メチルー５−テトラゾリルチオ基のようなテトラゾリ
ルチオ基である。
−ハロゲノー低級アルコキシ基例えば２・２・２−トリ
クロルエトキシ、２−クロルー、２−ブロムーまたは２
−ヨードーエトキシ基におけるように置換されているこ
とができる。低級アルケニルオキシ基は例えばビニルオ
キシ基またはアリルオキシ基であり、低級アルキレンジ
オキシ基は例えばメチレンジオキシ基、エチレンジオキ
シ基またはイソプロピリデンジオキシ基であり、シクロ
アルコキシ基は例えばシクロペンチルオキシ基、シクロ
ヘキシルオキシ基またはアダマンチルオキシ基であり、
フェニルー低級アルコキシ基は例えばベンジルオキシ基
または１−または２−フェニルエトキシ基、ジフェニル
メトキシ基または４・４″ージメトキシージフェニルメ
トキシ基であり、また複素環−オキシ基または複素環一
低級アルコキシ基は例えば２ーピリジルメトキシ基のよ
うなピリジルー低級アルコキシ基、フルフリルオキシ基
のようなフリルー低級アルコキシ基または２−テニルオ
キシ基のようなチエニルー低級アルコキシ基である。低
級アルキルチオ基は例えばメチルチオ基、エチルチオ基
またはｎ−ブチルチオ基であり、低級アルケニルチオ基
は例えばアリルチオ基であつて、フェニルー低級アルキ
ルチオ基は例えばベンジルチオ基であり、また複素環式
基または複素環−脂肪族基でエーテル化されたメルカプ
ト基は特に４−ピリジルチオ基のようなピリジルチオ基
、２−イミダゾリルチオ基のようなイミダゾリルチオ基
、２−チアゾリルチオ基のようなチアゾリルチオ基、１
・２・４−チアジアゾールー３−イルチオ基や１●３●
４−チアジアゾールー２−イルチオ基のような１・２・
４−または１・３・４ーチアジアゾリルチオ基または１
−メチルー５−テトラゾリルチオ基のようなテトラゾリ
ルチオ基である。
エステル化されたヒドロキシル基はとりわけハロゲン原
子例えばふつ素、塩素、臭素またはよう素原子、ならび
に低級アルカノイルオキシ基例えばアセトキシ基または
プロピオニルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキ
シ基例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカル
ボニルオキシ基またはｔ−ブチルオキシカルボニルオキ
シ基、２−ハロゲノ低級アルコキシカルボニルオキシ基
例えば２・２●２−トリクロルエトキシカルボニルオキ
シ基、２−ブロムエトキシカルボニルオキシ基または２
−ヨードエトキシカルボニルオキシ基、またはアリール
カルボニルメトキシカルボニルオキシ基例えばフエナシ
ルオキシカルボニルオキシ基である。
子例えばふつ素、塩素、臭素またはよう素原子、ならび
に低級アルカノイルオキシ基例えばアセトキシ基または
プロピオニルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキ
シ基例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカル
ボニルオキシ基またはｔ−ブチルオキシカルボニルオキ
シ基、２−ハロゲノ低級アルコキシカルボニルオキシ基
例えば２・２●２−トリクロルエトキシカルボニルオキ
シ基、２−ブロムエトキシカルボニルオキシ基または２
−ヨードエトキシカルボニルオキシ基、またはアリール
カルボニルメトキシカルボニルオキシ基例えばフエナシ
ルオキシカルボニルオキシ基である。
低級アルコキシ−カルボニル基は例えばメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボ
ニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカ
ルボニル基またはｔーベントキシカルボニル基である。
ニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボ
ニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカ
ルボニル基またはｔーベントキシカルボニル基である。
Ｎ一低級アルキル−カルバモイル基またはＮ・Ｎ−ジ低
級アルキル−カルバモイル基は例えばＮ−メチルカルバ
モイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−Ｎ−ジメチ
ルカルバモイル基、Ｎ−Ｎ−ジエチルカルバモイル基で
あるが、Ｎ一低級アルキルスルファモイル基は例えばＮ
−メチルスルファモイル基またはＮ−Ｎ−ジメチルスル
ファモイル基である。アルカリ金属塩の形にあるカルボ
キシル基またはスルホ基は例えばナトリウム塩またはカ
リウム塩の形にあるカルボキシル基またはスルホ基であ
る。
級アルキル−カルバモイル基は例えばＮ−メチルカルバ
モイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−Ｎ−ジメチ
ルカルバモイル基、Ｎ−Ｎ−ジエチルカルバモイル基で
あるが、Ｎ一低級アルキルスルファモイル基は例えばＮ
−メチルスルファモイル基またはＮ−Ｎ−ジメチルスル
ファモイル基である。アルカリ金属塩の形にあるカルボ
キシル基またはスルホ基は例えばナトリウム塩またはカ
リウム塩の形にあるカルボキシル基またはスルホ基であ
る。
低級アルキルアミノ基またはジー低級アルキルアミノ基
は例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルア
ミノ基またはジエチルアミノ基であり、低級アルキレン
アミノ基は例えばピロリジＢノ基またはピペリジノ基で
あり、オキサー低級アルキレンアミノ基は例えばモルホ
リノ基、チア低級アルキレンアミノ基は例えばチオモル
ホリノ基そしてアザー低級アルキレンアミノ基は例えば
ピペラジノ基または４−メチルピペラジノ基である。
は例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルア
ミノ基またはジエチルアミノ基であり、低級アルキレン
アミノ基は例えばピロリジＢノ基またはピペリジノ基で
あり、オキサー低級アルキレンアミノ基は例えばモルホ
リノ基、チア低級アルキレンアミノ基は例えばチオモル
ホリノ基そしてアザー低級アルキレンアミノ基は例えば
ピペラジノ基または４−メチルピペラジノ基である。
アシルアミノ基は特にカルバモイル基、メチルカルバモ
イルアミノ基のような低級アルキルカルバモイルアミノ
基、ウレイドカルボニルアミノ基、グアニジノカルボニ
ルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ基例えば
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミ
ノ基またはｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、２・２・
２−トリクロルエトキシカルボニルアミノ基のようなハ
ロゲノ低級アルコキシカルボニルアミノ基、４−メトキ
シベンジルオキシカルボニルアミノ基のようなフェニル
低級アルコキシカルボニルアミノ基、アセチルアミノ基
やプロピオニルアミノ基のような低級アルカノイルアミ
ノ基、さらにフタルイミド基または塩例えばナトリウム
塩のようなアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形に
あることのできるスルホアミノ基である。低級アルカノ
イル基は例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基またはピバロイル基である。
イルアミノ基のような低級アルキルカルバモイルアミノ
基、ウレイドカルボニルアミノ基、グアニジノカルボニ
ルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ基例えば
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミ
ノ基またはｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、２・２・
２−トリクロルエトキシカルボニルアミノ基のようなハ
ロゲノ低級アルコキシカルボニルアミノ基、４−メトキ
シベンジルオキシカルボニルアミノ基のようなフェニル
低級アルコキシカルボニルアミノ基、アセチルアミノ基
やプロピオニルアミノ基のような低級アルカノイルアミ
ノ基、さらにフタルイミド基または塩例えばナトリウム
塩のようなアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形に
あることのできるスルホアミノ基である。低級アルカノ
イル基は例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基またはピバロイル基である。
０一低級アルキルーホスホノ基は例えばＯ−メチルーま
たはＯ−エチルーホスホノ基、Ｏ●０″−ジ低級アルキ
ルーホスホノ基は例えばＯ●０−ジメチルーホスホノ基
または０●０″−ジエチルーホスホノ基、Ｏ−フェニル
低級アルキルーホスホノ基は例えばＯ−ベンジルーホス
ホノ基そしてＯ一低級アルキルー０−フェニル低級アル
キルーホスホノ基は例えばＯ−ベンジルー０−メチルー
ホスホノ基である。
たはＯ−エチルーホスホノ基、Ｏ●０″−ジ低級アルキ
ルーホスホノ基は例えばＯ●０−ジメチルーホスホノ基
または０●０″−ジエチルーホスホノ基、Ｏ−フェニル
低級アルキルーホスホノ基は例えばＯ−ベンジルーホス
ホノ基そしてＯ一低級アルキルー０−フェニル低級アル
キルーホスホノ基は例えばＯ−ベンジルー０−メチルー
ホスホノ基である。
低級アルケニルオキシカルボニル基は例えばビニルオキ
シカルボニル基であつて、シクロアルコ．キシカルボニ
ル基およびフェニルー低級アルコキシカルボニル基は例
えばアダマンチルオキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル
基、ジフェニルメトキシカルボニル基またはα−４−ビ
フエニリルーα−メチルエトキシカルボニル基である。
シカルボニル基であつて、シクロアルコ．キシカルボニ
ル基およびフェニルー低級アルコキシカルボニル基は例
えばアダマンチルオキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル
基、ジフェニルメトキシカルボニル基またはα−４−ビ
フエニリルーα−メチルエトキシカルボニル基である。
その低級アルキル基が例えば単環式のモノアザ環式、モ
ノオキサ環式またはモノチア環式基をもつているような
低級アルコキシカルボニル基は例えばフルフリルオキシ
カルボニル基のようなフリル４一低級アルコキシカルボ
ニル基または２−テニルオキシカルボニル基のようなチ
エニルー低級アルコキシカルボニル基である。２一低級
アルキルヒドラジノ基および２●２一ジ低級アルキルヒ
ドラジノ基は例えば２−メチルヒドラジノ基または２●
２−ジメチルヒドラジノ基であり、２一低級アルコキシ
カルボニルヒドラジノ基は例えば２−メトキシカルボニ
ルヒドラジノ基、２−エトキシカルボニルヒドラジノ基
またはｔ−ブトキシカルボニルヒドラジノ基であつて、
低級アルカノイルヒドラジノ基は例えば２−アセチルヒ
ドラジノ基である。
ノオキサ環式またはモノチア環式基をもつているような
低級アルコキシカルボニル基は例えばフルフリルオキシ
カルボニル基のようなフリル４一低級アルコキシカルボ
ニル基または２−テニルオキシカルボニル基のようなチ
エニルー低級アルコキシカルボニル基である。２一低級
アルキルヒドラジノ基および２●２一ジ低級アルキルヒ
ドラジノ基は例えば２−メチルヒドラジノ基または２●
２−ジメチルヒドラジノ基であり、２一低級アルコキシ
カルボニルヒドラジノ基は例えば２−メトキシカルボニ
ルヒドラジノ基、２−エトキシカルボニルヒドラジノ基
またはｔ−ブトキシカルボニルヒドラジノ基であつて、
低級アルカノイルヒドラジノ基は例えば２−アセチルヒ
ドラジノ基である。
エーテル化されたヒドロキシル基ＲＧは、式中ｊのカル
ボニル基といつしよに、好ましくは容易に分裂できるか
または他の官能的に変えられたカルボキシル基（例えば
、カルバモイル基またはヒドラジノカルボニル基）に容
易に変えることのできるエステル化されたカルボキシル
基を形成している。
ボニル基といつしよに、好ましくは容易に分裂できるか
または他の官能的に変えられたカルボキシル基（例えば
、カルバモイル基またはヒドラジノカルボニル基）に容
易に変えることのできるエステル化されたカルボキシル
基を形成している。
このような基Ｒ３は例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基またはイソプロポキシ基のような低級ア
ルコキシ基であつて、これらはカルボニル基といつしよ
にエステル化されたカルボキシル基を形成しており、こ
れらを殊に２−セフエム化合物においては容易に遊離カ
ルボキシル基にまたは他の官能的に変えられたカルボキ
シル基に変えることができる。基−Ｃ（＝０）一といつ
しよに特に容易に分裂することのできるエステル化され
たカルボキシル基を形成しているエーテル化されたヒド
ロキシル基ＲＧは、例えば、ハロゲン原子として原子量
が１９以上のものをもつている２−ハロゲノー低級アル
コキシ基である。
−プロポキシ基またはイソプロポキシ基のような低級ア
ルコキシ基であつて、これらはカルボニル基といつしよ
にエステル化されたカルボキシル基を形成しており、こ
れらを殊に２−セフエム化合物においては容易に遊離カ
ルボキシル基にまたは他の官能的に変えられたカルボキ
シル基に変えることができる。基−Ｃ（＝０）一といつ
しよに特に容易に分裂することのできるエステル化され
たカルボキシル基を形成しているエーテル化されたヒド
ロキシル基ＲＧは、例えば、ハロゲン原子として原子量
が１９以上のものをもつている２−ハロゲノー低級アル
コキシ基である。
このような基は基−Ｃ（＝０）−といつしよに、中性ま
たは弱酸性条件下で化学的還元剤例えば含水酢酸の存在
下で亜鉛で処理することにより容易に分裂することので
きるエステル化されたカルボキシル基またはこのような
基に容易に変えることのできるエステル化されたカルボ
キシル基を形成している。このような基は例えば２・２
・２−トリクロルエトキシ基または２−ヨードエトキシ
基、あるいは２−ヨードエトキシ基に容易に変えること
のできる２−クロルエトキシ基または２−ブロムエトキ
シ基である。さらに、同様に中性または弱酸性条件下で
化学的還元剤例えは含水酢酸の存在下て亜鉛で処理する
ことによつてまたはナトリウムチオフェノラートのよう
な適当な親核反応剤で処理することによつて容易に分裂
することのできるエステル化されたカルボキシル基を基
−Ｃ（＝０）−といつしよに形成しているエーテル化さ
れたヒドロキシ基ＲＳとしては、アリールカルボニルメ
トキシ基（アリールは殊に置換されている場合のあるフ
ェニル基である）そして好ましくはフエナシルオキシ基
である。さらに、基Ｒ磨ま、そのアリール基が殊に単環
式の好ましくは置換されている芳香族炭化水素基である
アリールメトキシ基であることもできる。
たは弱酸性条件下で化学的還元剤例えば含水酢酸の存在
下で亜鉛で処理することにより容易に分裂することので
きるエステル化されたカルボキシル基またはこのような
基に容易に変えることのできるエステル化されたカルボ
キシル基を形成している。このような基は例えば２・２
・２−トリクロルエトキシ基または２−ヨードエトキシ
基、あるいは２−ヨードエトキシ基に容易に変えること
のできる２−クロルエトキシ基または２−ブロムエトキ
シ基である。さらに、同様に中性または弱酸性条件下で
化学的還元剤例えは含水酢酸の存在下て亜鉛で処理する
ことによつてまたはナトリウムチオフェノラートのよう
な適当な親核反応剤で処理することによつて容易に分裂
することのできるエステル化されたカルボキシル基を基
−Ｃ（＝０）−といつしよに形成しているエーテル化さ
れたヒドロキシ基ＲＳとしては、アリールカルボニルメ
トキシ基（アリールは殊に置換されている場合のあるフ
ェニル基である）そして好ましくはフエナシルオキシ基
である。さらに、基Ｒ磨ま、そのアリール基が殊に単環
式の好ましくは置換されている芳香族炭化水素基である
アリールメトキシ基であることもできる。
このような基は、中性または酸性条件下で照射好ましく
は紫外線照射によつて容易に分裂することのできるエス
テル化されたカルボキシル基を基一Ｃ（＝Ｏ）一といつ
しよに形成している。このようなアリールメトキシ基に
おけるアリール基は殊に低級アルコキシフエニリ基例え
ばメトキシフェニル基〔そのメトキシ基は主として３−
、４−および（または）５一位置にあるものする〕およ
び（または）とりわけニトロフェニル基（そのニトロ基
は好ましくは２一位置にあるものとする）である。この
ような基は特に低級アルコキシー、例えばメトキシーお
よび（または）ニトロ−ベンジルオキシ基、主として３
−または４−メトキシベンジルオキシ基、３・５−ジメ
トキシベンジルオキシ基、２−ニトロベンジルオキシ基
または４・５ージメトキシー２−ニトロベンジルオキシ
基である。さらに、エーテル化されたヒドロキシル基Ｒ
企は、酸性条件下で例えばトリフルオル酢酸またはぎ酸
で処理することにより容易に分裂できるエステル化され
たカルボキシル基を基−Ｃ（＝０）一といつしよに形成
している基であることもできる。
は紫外線照射によつて容易に分裂することのできるエス
テル化されたカルボキシル基を基一Ｃ（＝Ｏ）一といつ
しよに形成している。このようなアリールメトキシ基に
おけるアリール基は殊に低級アルコキシフエニリ基例え
ばメトキシフェニル基〔そのメトキシ基は主として３−
、４−および（または）５一位置にあるものする〕およ
び（または）とりわけニトロフェニル基（そのニトロ基
は好ましくは２一位置にあるものとする）である。この
ような基は特に低級アルコキシー、例えばメトキシーお
よび（または）ニトロ−ベンジルオキシ基、主として３
−または４−メトキシベンジルオキシ基、３・５−ジメ
トキシベンジルオキシ基、２−ニトロベンジルオキシ基
または４・５ージメトキシー２−ニトロベンジルオキシ
基である。さらに、エーテル化されたヒドロキシル基Ｒ
企は、酸性条件下で例えばトリフルオル酢酸またはぎ酸
で処理することにより容易に分裂できるエステル化され
たカルボキシル基を基−Ｃ（＝０）一といつしよに形成
している基であることもできる。
このような基は主として、そのメチル基が置換されてい
る場合のある炭化水素基殊に脂肪族または芳香族炭化水
素基例えばメチル基のような低級アルキル基および（ま
たは）フェニル基によつてポリ置換されているかまたは
電子供与性置換基をもつ炭素環式アリール基によつてま
たは環構成員として酸素またはいおう原子をもつ芳香族
性の複素環式基によつてモノ置換されているメトキシ基
であるかまたはそのメチル基が多環式脂肪族炭化水素基
における環構成員またはオキサ脂環式またはチア脂環式
基における酸素またはいおう原子に対するα一位置を占
める環構成員を成しているようなメトキシ基である。こ
の種類のポリ置換されたメトキシ基のうちで好ましいも
のはｔ一低級アルコキシ基例えばｔ−ブチルオキシ基ま
たはｔ−ペンチルオキシ基、置換されている場合のある
ジフェニルメトキシ基、例えばジフェニルメトキシ基ま
たは４・４″ージメトキシージフェニルメトキシ基、さ
らに２−（４一ビフエニリル）−２−プロピルオキシ基
であり、上記の置換されたアリール基または複素環式基
をもつメトキシ基は例えば４−メトキシベンジルオキシ
基や３●４−ジメトキシベンジルオキシ基のようなα一
低級アルコキシフェニルー低級アルコキシ基または２−
フルフリルカキシ基のようなフルフリルオキシ基である
。
る場合のある炭化水素基殊に脂肪族または芳香族炭化水
素基例えばメチル基のような低級アルキル基および（ま
たは）フェニル基によつてポリ置換されているかまたは
電子供与性置換基をもつ炭素環式アリール基によつてま
たは環構成員として酸素またはいおう原子をもつ芳香族
性の複素環式基によつてモノ置換されているメトキシ基
であるかまたはそのメチル基が多環式脂肪族炭化水素基
における環構成員またはオキサ脂環式またはチア脂環式
基における酸素またはいおう原子に対するα一位置を占
める環構成員を成しているようなメトキシ基である。こ
の種類のポリ置換されたメトキシ基のうちで好ましいも
のはｔ一低級アルコキシ基例えばｔ−ブチルオキシ基ま
たはｔ−ペンチルオキシ基、置換されている場合のある
ジフェニルメトキシ基、例えばジフェニルメトキシ基ま
たは４・４″ージメトキシージフェニルメトキシ基、さ
らに２−（４一ビフエニリル）−２−プロピルオキシ基
であり、上記の置換されたアリール基または複素環式基
をもつメトキシ基は例えば４−メトキシベンジルオキシ
基や３●４−ジメトキシベンジルオキシ基のようなα一
低級アルコキシフェニルー低級アルコキシ基または２−
フルフリルカキシ基のようなフルフリルオキシ基である
。
メトキシ基のメチル基を好ましくは３重に分枝した環構
成員としてもつている多環式脂肪族炭化水素基は例えば
１−アダマンチル基のようなアダマンチル基であり、そ
してメトキシ基のメチル基を酸素またはいおう原子に対
するα一位置の環構成員としてもつている上記のオキサ
ーまたはチアー脂環式基は例えば環原子５〜７個をもつ
２−オキサーまたは２−チアー低級アルキレン基または
一低級アルケニレン基、例えば２−テトラヒドロフリル
基、２−テトラヒドロピラニル基または２・３−ジヒド
ロー２−ピラニル基または相当するいおう化合物の基で
ある。さらに、基Ｒ８は加水分解によつて例えば弱塩基
性または弱酸性条件下て分裂することのできるエステル
化されたカルボキシル基を基−Ｃ（＝０）一といつしよ
に形成しているエーテル化されたヒドロキシル基である
こともできる。
成員としてもつている多環式脂肪族炭化水素基は例えば
１−アダマンチル基のようなアダマンチル基であり、そ
してメトキシ基のメチル基を酸素またはいおう原子に対
するα一位置の環構成員としてもつている上記のオキサ
ーまたはチアー脂環式基は例えば環原子５〜７個をもつ
２−オキサーまたは２−チアー低級アルキレン基または
一低級アルケニレン基、例えば２−テトラヒドロフリル
基、２−テトラヒドロピラニル基または２・３−ジヒド
ロー２−ピラニル基または相当するいおう化合物の基で
ある。さらに、基Ｒ８は加水分解によつて例えば弱塩基
性または弱酸性条件下て分裂することのできるエステル
化されたカルボキシル基を基−Ｃ（＝０）一といつしよ
に形成しているエーテル化されたヒドロキシル基である
こともできる。
このよう・な基は好ましくは活性化されたエステル基を
基一Ｃ（＝０）−といつしよに形成しているエーテル化
されたヒドロキシル基例えば４−ニトロフェニルオキシ
基や２・４ージニトロフェニルオキシ基のようなニトロ
フェニルオキシ基、４−ニトロベンジルオキシ基のよう
なニトロフェニル低級アルコキシ基、４−ヒドロキシー
３・５−ｔ−ブチルーベンジルオキシ基のようなヒドロ
キシー低級アルキル−ベンジルオキシ基、２・４・６−
トリクロルフェニルオキシ基や２・３・４・５・６−ペ
ノンタクロルフェニルオキシ基のようなポリハロゲノフ
エニルオキシ基、さらにシアノメトキシ基ならびにアシ
ルアミノメトキシ基例えばフタルイミノメトキシ基また
はサクシニルアミノメトキシ基である。また、基ＲＳは
水素添加条件の下で分裂できるエステル化されたカルボ
キシル基をカルボニル基−Ｃ（＝０）−といつしよに形
成しているエーテル化されたヒドロキシル基であること
もでき、これは例えばベンジルオキシ基、４−メトキシ
ベンジルオキシ基または４−ニトロベンジルオキシ基の
ような例えば低級アルコキシ基やニトロ基で置換されて
いることのできるα−フェニル低級アルコキシ基である
。
基一Ｃ（＝０）−といつしよに形成しているエーテル化
されたヒドロキシル基例えば４−ニトロフェニルオキシ
基や２・４ージニトロフェニルオキシ基のようなニトロ
フェニルオキシ基、４−ニトロベンジルオキシ基のよう
なニトロフェニル低級アルコキシ基、４−ヒドロキシー
３・５−ｔ−ブチルーベンジルオキシ基のようなヒドロ
キシー低級アルキル−ベンジルオキシ基、２・４・６−
トリクロルフェニルオキシ基や２・３・４・５・６−ペ
ノンタクロルフェニルオキシ基のようなポリハロゲノフ
エニルオキシ基、さらにシアノメトキシ基ならびにアシ
ルアミノメトキシ基例えばフタルイミノメトキシ基また
はサクシニルアミノメトキシ基である。また、基ＲＳは
水素添加条件の下で分裂できるエステル化されたカルボ
キシル基をカルボニル基−Ｃ（＝０）−といつしよに形
成しているエーテル化されたヒドロキシル基であること
もでき、これは例えばベンジルオキシ基、４−メトキシ
ベンジルオキシ基または４−ニトロベンジルオキシ基の
ような例えば低級アルコキシ基やニトロ基で置換されて
いることのできるα−フェニル低級アルコキシ基である
。
また、基Ｒ３は生理学的条件の下て分裂することのでき
るエステル化されたカルボキシル基をカルボニル基−Ｃ
（＝Ｏ）−といつしよに形成しているエーテル化された
ヒドロキシル基、主としてアシルオキシメトキシ基（そ
のアシル基は例えば有機カルボン酸、主に置換されてい
る場合のある低級アルカンカルボン酸の基であるかまた
はそのアシルオキシメチル部分はラクトンの基を形成し
ているものとする）であることもできる。
るエステル化されたカルボキシル基をカルボニル基−Ｃ
（＝Ｏ）−といつしよに形成しているエーテル化された
ヒドロキシル基、主としてアシルオキシメトキシ基（そ
のアシル基は例えば有機カルボン酸、主に置換されてい
る場合のある低級アルカンカルボン酸の基であるかまた
はそのアシルオキシメチル部分はラクトンの基を形成し
ているものとする）であることもできる。
このようなエーテル化されたヒドロキシル基は低級アル
カノイルオキシメトキシ基例えばアセチルオキシメトキ
シ基またはピバロイルオキシメトキシ基、アミノー低級
アルカノイルオキシメトキシ基殊にα−アミノー低級ア
ルカノイルオキシメトキシ基例えばグリシルオキシメト
キシ基、Ｌ−バリルオキシメトキシ基、Ｌ−ロイシルオ
キシメトキシ基、さらにフタリジルオキシ基である。シ
リルオキシ基またはスタニルオキシ基としてのＲ３は置
換基として好ましくは置換されている場合のある脂肪族
、脂環式、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基例えば低
級アルキル基、ハロゲノ．低級アルキル基、シクロアル
キル基、フェニル基またはフェニル低級アルキル基、ま
たは変性されている場合のある官能性基例えば低級アル
コキシ基のようなエーテル化されたヒドロキシル基また
は塩素原子のようなハロゲン原子をもつており、．主と
してトリメチルシリルオキシ基のようなトリ低級アルキ
ルシリルオキシ基、クロルーメトキシーメチルーシリル
基のようなハロゲノー低級アルコキシー低級アルキル−
シリル基またはトリーｎーブチルスタンニルオキシ基の
ようなトリ低級ア・ルキルスタンニルオキシ基である。
カノイルオキシメトキシ基例えばアセチルオキシメトキ
シ基またはピバロイルオキシメトキシ基、アミノー低級
アルカノイルオキシメトキシ基殊にα−アミノー低級ア
ルカノイルオキシメトキシ基例えばグリシルオキシメト
キシ基、Ｌ−バリルオキシメトキシ基、Ｌ−ロイシルオ
キシメトキシ基、さらにフタリジルオキシ基である。シ
リルオキシ基またはスタニルオキシ基としてのＲ３は置
換基として好ましくは置換されている場合のある脂肪族
、脂環式、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基例えば低
級アルキル基、ハロゲノ．低級アルキル基、シクロアル
キル基、フェニル基またはフェニル低級アルキル基、ま
たは変性されている場合のある官能性基例えば低級アル
コキシ基のようなエーテル化されたヒドロキシル基また
は塩素原子のようなハロゲン原子をもつており、．主と
してトリメチルシリルオキシ基のようなトリ低級アルキ
ルシリルオキシ基、クロルーメトキシーメチルーシリル
基のようなハロゲノー低級アルコキシー低級アルキル−
シリル基またはトリーｎーブチルスタンニルオキシ基の
ようなトリ低級ア・ルキルスタンニルオキシ基である。
基−Ｃ（＝０）−といつしよに好ましくは加水分解によ
つて分裂することのできる混合無水物基を形成している
アシルオキシ基としてのＲ８は例えば前記有機カルボン
酸または炭酸半誘導体のアシル基をもつており、例えば
場合によつてはふつ素や塩素原子のようなハロゲン原子
によつて好ましくはα一位置で置換されていることので
きる低級アルカノイルオキシ基例えばアセチルオキシ基
、ピバリルオキシ基またはトリクロルアセチルオキシ基
あるいは低級アルコキシカルボニルオキシ基例えばメト
キシカルボニルオキシ基またはエトキシカルボニルオキ
シ基である。
つて分裂することのできる混合無水物基を形成している
アシルオキシ基としてのＲ８は例えば前記有機カルボン
酸または炭酸半誘導体のアシル基をもつており、例えば
場合によつてはふつ素や塩素原子のようなハロゲン原子
によつて好ましくはα一位置で置換されていることので
きる低級アルカノイルオキシ基例えばアセチルオキシ基
、ピバリルオキシ基またはトリクロルアセチルオキシ基
あるいは低級アルコキシカルボニルオキシ基例えばメト
キシカルボニルオキシ基またはエトキシカルボニルオキ
シ基である。
さらに、置換されている場合のあるカルバモイル基また
はヒドラジノカルボニル基を基−Ｃ（＝０）−といつし
よに形成している基としてのＲＯは例えばアミノ基、メ
チルアミノ基やエチルアミノ基のような低級アルキルア
ミノ基、ジメチルアミノ基やジエチルアミノ基のような
ジ低級アルキルアミノ基、ピロリジノ基やピペリジノ基
のような低級アルキレンアミノ基、モルホリノ基のよう
なオキサ低級アルキレンアミノ基、ヒドロキシアミノ基
、ヒドラジノ基、２−メチルヒドラジノ基のような２一
低級アルキルヒドラジノ基または２・２−ジメチルヒド
ラジノ基のような２・２−ジ低級アルキルヒドラジノ基
である。
はヒドラジノカルボニル基を基−Ｃ（＝０）−といつし
よに形成している基としてのＲＯは例えばアミノ基、メ
チルアミノ基やエチルアミノ基のような低級アルキルア
ミノ基、ジメチルアミノ基やジエチルアミノ基のような
ジ低級アルキルアミノ基、ピロリジノ基やピペリジノ基
のような低級アルキレンアミノ基、モルホリノ基のよう
なオキサ低級アルキレンアミノ基、ヒドロキシアミノ基
、ヒドラジノ基、２−メチルヒドラジノ基のような２一
低級アルキルヒドラジノ基または２・２−ジメチルヒド
ラジノ基のような２・２−ジ低級アルキルヒドラジノ基
である。
置換されている場合のある脂肪族炭化水素基としてのＲ
３は殊に炭素原子７個まで、好ましくは４個までをもつ
低級アルキル基例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基ま
たは第２ブチル基、さらに低級アルケニル基例えばアリ
ル基、そのｔ−アミノ基と酸素原子との間に少くとも２
個の炭素原子が介在するｔ−アミノー低級アルキル基例
えば２−または３−ジ低級アルキルアミノー低級アルキ
ル基例えば２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチル
アミノエチル基または３−ジメチルアミノプロピル基、
またはそのエーテル化された水酸基殊に低級アルコキシ
基と酸素原子との間に少くとも２個の炭素原子が介在し
ているエーテル化されたヒドロキシー低級アルキル基例
えば２一または３一低級アルコキシー低級アルキル基例
えば２−メトキシエチル基または２−エトキシエチル基
である。
３は殊に炭素原子７個まで、好ましくは４個までをもつ
低級アルキル基例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基ま
たは第２ブチル基、さらに低級アルケニル基例えばアリ
ル基、そのｔ−アミノ基と酸素原子との間に少くとも２
個の炭素原子が介在するｔ−アミノー低級アルキル基例
えば２−または３−ジ低級アルキルアミノー低級アルキ
ル基例えば２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチル
アミノエチル基または３−ジメチルアミノプロピル基、
またはそのエーテル化された水酸基殊に低級アルコキシ
基と酸素原子との間に少くとも２個の炭素原子が介在し
ているエーテル化されたヒドロキシー低級アルキル基例
えば２一または３一低級アルコキシー低級アルキル基例
えば２−メトキシエチル基または２−エトキシエチル基
である。
置換されている場合のある芳香脂肪族炭化水素基として
のＲ３は主として置換されている場合のあるフェニル低
級アルキル基殊に置換されている場合のあるフェニル基
１〜３個をもつ１−フェニル低級アルキル基例えばベン
ジル基またはジフェニルメチル基であつて、その置換基
としては例えばエステル化またはエーテル化された水酸
基例えばふつ素、塩素または臭素原子のようなハロゲン
原子またはメトキシ基のような低級アルコキシ基が挙げ
られる。脂肪族カルボン酸のアシル基としてのＲ３は主
として置換されている場合のある低級アルカノイル基例
えばアセチル基、プロピオニル基またはピバロイル基で
あつて、これらは例えばエステル化またはエーテル化さ
れたヒドロキシル基例えばふつ素や塩素原子のようなハ
ロゲン原子またはメトキシ基やエトキシ基のような低級
アルコキシ基によつて置換されていることができる。
のＲ３は主として置換されている場合のあるフェニル低
級アルキル基殊に置換されている場合のあるフェニル基
１〜３個をもつ１−フェニル低級アルキル基例えばベン
ジル基またはジフェニルメチル基であつて、その置換基
としては例えばエステル化またはエーテル化された水酸
基例えばふつ素、塩素または臭素原子のようなハロゲン
原子またはメトキシ基のような低級アルコキシ基が挙げ
られる。脂肪族カルボン酸のアシル基としてのＲ３は主
として置換されている場合のある低級アルカノイル基例
えばアセチル基、プロピオニル基またはピバロイル基で
あつて、これらは例えばエステル化またはエーテル化さ
れたヒドロキシル基例えばふつ素や塩素原子のようなハ
ロゲン原子またはメトキシ基やエトキシ基のような低級
アルコキシ基によつて置換されていることができる。
芳香族カルボン酸のアシル基としてＲ３は例えば置換さ
れている場合のあるベンゾイル基、例えばベンゾイル基
または置換基としてエステル化またはエーテル化された
ヒドロキシル基例えばふつ素または塩素原子のようなハ
ロゲン原子、メトキシ基やエトキシ基のような低級アル
コキシ基またはメチル基のような低級アルキル基をもつ
ベンゾイル基である。炭酸半誘導体のアシル基としての
Ｒ３は殊にメトキシカルボニル基やエトキシカルボニル
基のような低級アルコキシカルボニル基である。塩は、
殊に遊離カルボキシル基をもつ式（１）の化合物の塩で
あつて、主として金属塩またはアンモニウム塩、例えば
ナトリウム、カリウム、マグネシウムまたはカルシウム
の塩のようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩
、ならびにアンモニアまたは適当な有機アミンとのアン
モニウム塩てある。塩の形成に使用できる有機アミンは
とりわけ脂肪族、脂環式、脂環一脂肪族および芳香脂肪
族の第１、第２または第３モノアミン、ジアミンまたは
ポリアミンならびに複素環式塩基であつて、このような
アミンはトリエチルアミンのような低級アルキルアミン
、２−ヒドロキシエチルアミン、ビスー（２−ヒドロキ
シエチル）−アミンまたはトリー（２−ヒドロキシエチ
ル）−アミンのようなヒドロキシー低級アルキルアミン
、４−アミノ安息香酸−２−ジエチルアミノーエチル．
エステルのようなりルボン酸の塩基性脂肪族エステル、
１−エチルピペリジンのような低級アルキレンアミン、
ビシクロヘキシルアミンのようなシクロアルキルアミン
またはＮ−Ｎ−ジベンジルエチレンジアミンのようなベ
ンジルアミンおよびまたピリジン、コリシンまたはキノ
リンのようなピリジン型の塩である。また、式（１）の
化合物は酸付加塩例えば塩酸、硫酸またはりん酸のよう
な無機酸または適当な有機カルボン酸またはスルホン酸
例えばトリフルオル酢酸または４−メチルフェニルスル
ホン酸との酸付加塩を形成することができる。遊離カル
ボキシル基を有する式（１）の化合物は分子内塩の形す
なわち双極イオンの形であることもできる。本発明によ
る新規化合物は薬理活性をもつ化合物を製造するための
価値ある中間体であり、これは例えば特願昭４８−７４
３５４に記載の方法によつて前記薬理活性化合物に変え
ることができる。
れている場合のあるベンゾイル基、例えばベンゾイル基
または置換基としてエステル化またはエーテル化された
ヒドロキシル基例えばふつ素または塩素原子のようなハ
ロゲン原子、メトキシ基やエトキシ基のような低級アル
コキシ基またはメチル基のような低級アルキル基をもつ
ベンゾイル基である。炭酸半誘導体のアシル基としての
Ｒ３は殊にメトキシカルボニル基やエトキシカルボニル
基のような低級アルコキシカルボニル基である。塩は、
殊に遊離カルボキシル基をもつ式（１）の化合物の塩で
あつて、主として金属塩またはアンモニウム塩、例えば
ナトリウム、カリウム、マグネシウムまたはカルシウム
の塩のようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩
、ならびにアンモニアまたは適当な有機アミンとのアン
モニウム塩てある。塩の形成に使用できる有機アミンは
とりわけ脂肪族、脂環式、脂環一脂肪族および芳香脂肪
族の第１、第２または第３モノアミン、ジアミンまたは
ポリアミンならびに複素環式塩基であつて、このような
アミンはトリエチルアミンのような低級アルキルアミン
、２−ヒドロキシエチルアミン、ビスー（２−ヒドロキ
シエチル）−アミンまたはトリー（２−ヒドロキシエチ
ル）−アミンのようなヒドロキシー低級アルキルアミン
、４−アミノ安息香酸−２−ジエチルアミノーエチル．
エステルのようなりルボン酸の塩基性脂肪族エステル、
１−エチルピペリジンのような低級アルキレンアミン、
ビシクロヘキシルアミンのようなシクロアルキルアミン
またはＮ−Ｎ−ジベンジルエチレンジアミンのようなベ
ンジルアミンおよびまたピリジン、コリシンまたはキノ
リンのようなピリジン型の塩である。また、式（１）の
化合物は酸付加塩例えば塩酸、硫酸またはりん酸のよう
な無機酸または適当な有機カルボン酸またはスルホン酸
例えばトリフルオル酢酸または４−メチルフェニルスル
ホン酸との酸付加塩を形成することができる。遊離カル
ボキシル基を有する式（１）の化合物は分子内塩の形す
なわち双極イオンの形であることもできる。本発明によ
る新規化合物は薬理活性をもつ化合物を製造するための
価値ある中間体であり、これは例えば特願昭４８−７４
３５４に記載の方法によつて前記薬理活性化合物に変え
ることができる。
本発明は殊に式（１）においてＲ２がヒドロキシル基、
低級アルコキシ基〔これは場合によつては好ましくはα
一位置において、例えば置換されている場合のあるアリ
ールオキシ基例えば４−メトキシフェニルオキシ基のよ
うな低級アルコキシフェニルオキシ基、アセチルオキシ
基やピバロイルオキシ基のような低級アルカノイルオキ
シ基、グリシルオキシ基、Ｌ−バリルオキシ基またはＬ
ーロイシルオキシ基のようなα−アミノ低級アルカノイ
ルオキシ基、アリールカルボニル基例えばベンゾイル基
、または置換されている場合のあるアリール基例えばフ
ェニル基、４−メトキシフェニル基のような低級アルコ
キシフェニル基、４ーニトロフェニル基のようなニトロ
フェニル基または４−ビフエニリル基のようなフエニリ
ル基によつてまたはβ一位置においてハロゲン原子例え
ば・塩素、臭素またはよう素原子によつてモノ置換また
はポリ置換されていることができる〕例えばメトキシ基
、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオ
キシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基また
はｔ−ペンチルオキシ基、・低級アルコキシ置換されて
いることのできるビス−フェニルオキシーメトキシ基例
えばビスー４−メトキシフェニルオキシーメトキシ基、
低級アルカノイルオキシ−メトキシ基例えばアセチルオ
キシメトキシ基またはピバロイルオキシメトキシ）基、
α−アミノ低級アルカノイルオキシ−メトキシ基例えば
グリシルオキシメトキシ基、フエナシルオキシ基、置換
されていることのできるフェニル低級アルコキシ基殊に
フェニルメトキシ基のような１−フェニル低級アルコキ
シ基（このような基は例えば置換基例えばメトキシ基の
ような低級アルコキシ基、ニトロ基またはフェニル基に
よつて置換されている場合のあるフェニル基１〜３個を
もつことができる）、例えばベンジルオキシ基、４−メ
トキシベンジルオキシ基、２−ビフエニリルー２−プロ
ピルオキシ基、４−ニトロベンジルオキシ基、ジフェニ
ルメトキシ基、４・４―ジメトキシージフエニルメトキ
シ基またはトリチルオキシ基、または２−ハロゲノ低級
アルコキシ基例えば２・２・２−ドエクロルエトキシ基
、２−クロルエトキシ基、２−ブロムエトキシ基または
２−ヨードエトキシ基である〕、さらに２−フタリジル
オキシ基ならびにアシルオキシ基（例えば、メトキシカ
ルボニルオキシ基やエトキシカルボニルオキシ基のよう
な低級アルコキシカルボニルオキシ基またはアセチルオ
キシ基やピバロイルオキシ基のような低級アルカノイル
オキシ基）、トリメチルシリルオキシ基のようなトリ低
級アルキルシリルオキシ基、またはアミノ基またはヒド
ラジノ基（これらは場合によつては例えばメチル基のよ
うな低級アルキル基またはヒドロキシル基によつて置換
されていることができる。例えば、アミノ基、メチルア
ミノ基のような低級アルキルアミノ基、ジメチルアミノ
基のようなジ低級アルキルアミノ基、ヒドラジノ基、２
−メチルヒドラジノ基のような２一低級アルキルヒドラ
ジノ基、２●２−ジメチルヒドラジノ基のような２●２
−ジ低級アルキルヒドラジノ基またはヒドロキシアミノ
基である）であり、そしてＲ３が低級アルキル基例えば
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基
、またはｎ−ブチル基、低級アルケニル基例えばアリル
基、置換されている場合のあるフェニル低級アルキル基
殊に例えばメトキシ基のような低級アルコキシ基で置換
されている場合のあるフェニル基１個または２個のもつ
１ーフェニル低級アルキル基例えばベンジル基またはジ
フェニルメチル基、低級アルカノイル基例えばアセチル
基またはプロピオニル基、低級アルコキシカルボニル基
例えばメトキシカルボニル基またはベンゾイル基（これ
は場合により例えばメチール基のような低級アルキル基
、メトキシ基のような低級アルコキシ基またはふつ素や
塩素原子のようなハロゲン原子で置換されていることが
できる）である３−セフエムー化合物または塩形成基を
もつこのような化合物の塩に関するものである。式（１
）の３−セフエムー化合物または塩形成塩をもつこれら
化合物の塩においては、主として、Ｒ２がヒドロキシル
基、低級アルコキシ基殊にα一位置で高度に分枝した低
級アルコキシ基例えばｔ−ブトキシ基、さらにメトキシ
基またはエトキシ基、２−ハロゲノ低級アルコキシ基ま
たは２・２・２−トリクロルエトキシ基、２−ヨード”
エトキシ基またはこの基に容易に変えることのできる２
−クロルエトキシ基または２−ブロムエトキシ基、フエ
ナシルオキシ基、低級アルコキシ基またはニトロ基て置
換されていることのできるフェニル基１〜３個をもつ１
−フェニル低級アルコキシ基例えば４−メトキシベンジ
ルオキシ基、４−ニトロベンジルオキシ基、ジフェニル
メトキシ基、４●４″ージメトキシージフェニルメトキ
シ基またはトリチルオキシ基、低級アルカノイルオキシ
メトキシ基例えばアセチオキシメトキシ基またはピバロ
イルオキシメトキシ基、α−アミノ低級アルカノイルオ
キシメトキシ基例えばグリシルオキシメトキシ基、２−
フタリジルオキシメトキシ基、低級アルコキシカルボニ
ルオキシ基例えばエトキシカルボニルオキシ基または低
級アルカノイルオキシ基例えばアセチルオキシ基、さら
にトリ低級アルキルシリルオキシ基例えばトリメチルシ
リルオキシ基であり、そしてＲ３は主として低級アルキ
ル基例えばメチル基、エチル基またはｎ−ブチル基、さ
らに低級アルケニル基例えばアリル基、１−フェニル低
級アルキル基例えばベンジル基またはジフェニルメチル
基、しかしまた低級アルカノイル基例えばアセチル基ま
たはプロピオニル基、低級アルコキシカルボニル基例え
ばメトキシカルボニル基またはベンゾイル基である。
低級アルコキシ基〔これは場合によつては好ましくはα
一位置において、例えば置換されている場合のあるアリ
ールオキシ基例えば４−メトキシフェニルオキシ基のよ
うな低級アルコキシフェニルオキシ基、アセチルオキシ
基やピバロイルオキシ基のような低級アルカノイルオキ
シ基、グリシルオキシ基、Ｌ−バリルオキシ基またはＬ
ーロイシルオキシ基のようなα−アミノ低級アルカノイ
ルオキシ基、アリールカルボニル基例えばベンゾイル基
、または置換されている場合のあるアリール基例えばフ
ェニル基、４−メトキシフェニル基のような低級アルコ
キシフェニル基、４ーニトロフェニル基のようなニトロ
フェニル基または４−ビフエニリル基のようなフエニリ
ル基によつてまたはβ一位置においてハロゲン原子例え
ば・塩素、臭素またはよう素原子によつてモノ置換また
はポリ置換されていることができる〕例えばメトキシ基
、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオ
キシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基また
はｔ−ペンチルオキシ基、・低級アルコキシ置換されて
いることのできるビス−フェニルオキシーメトキシ基例
えばビスー４−メトキシフェニルオキシーメトキシ基、
低級アルカノイルオキシ−メトキシ基例えばアセチルオ
キシメトキシ基またはピバロイルオキシメトキシ）基、
α−アミノ低級アルカノイルオキシ−メトキシ基例えば
グリシルオキシメトキシ基、フエナシルオキシ基、置換
されていることのできるフェニル低級アルコキシ基殊に
フェニルメトキシ基のような１−フェニル低級アルコキ
シ基（このような基は例えば置換基例えばメトキシ基の
ような低級アルコキシ基、ニトロ基またはフェニル基に
よつて置換されている場合のあるフェニル基１〜３個を
もつことができる）、例えばベンジルオキシ基、４−メ
トキシベンジルオキシ基、２−ビフエニリルー２−プロ
ピルオキシ基、４−ニトロベンジルオキシ基、ジフェニ
ルメトキシ基、４・４―ジメトキシージフエニルメトキ
シ基またはトリチルオキシ基、または２−ハロゲノ低級
アルコキシ基例えば２・２・２−ドエクロルエトキシ基
、２−クロルエトキシ基、２−ブロムエトキシ基または
２−ヨードエトキシ基である〕、さらに２−フタリジル
オキシ基ならびにアシルオキシ基（例えば、メトキシカ
ルボニルオキシ基やエトキシカルボニルオキシ基のよう
な低級アルコキシカルボニルオキシ基またはアセチルオ
キシ基やピバロイルオキシ基のような低級アルカノイル
オキシ基）、トリメチルシリルオキシ基のようなトリ低
級アルキルシリルオキシ基、またはアミノ基またはヒド
ラジノ基（これらは場合によつては例えばメチル基のよ
うな低級アルキル基またはヒドロキシル基によつて置換
されていることができる。例えば、アミノ基、メチルア
ミノ基のような低級アルキルアミノ基、ジメチルアミノ
基のようなジ低級アルキルアミノ基、ヒドラジノ基、２
−メチルヒドラジノ基のような２一低級アルキルヒドラ
ジノ基、２●２−ジメチルヒドラジノ基のような２●２
−ジ低級アルキルヒドラジノ基またはヒドロキシアミノ
基である）であり、そしてＲ３が低級アルキル基例えば
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基
、またはｎ−ブチル基、低級アルケニル基例えばアリル
基、置換されている場合のあるフェニル低級アルキル基
殊に例えばメトキシ基のような低級アルコキシ基で置換
されている場合のあるフェニル基１個または２個のもつ
１ーフェニル低級アルキル基例えばベンジル基またはジ
フェニルメチル基、低級アルカノイル基例えばアセチル
基またはプロピオニル基、低級アルコキシカルボニル基
例えばメトキシカルボニル基またはベンゾイル基（これ
は場合により例えばメチール基のような低級アルキル基
、メトキシ基のような低級アルコキシ基またはふつ素や
塩素原子のようなハロゲン原子で置換されていることが
できる）である３−セフエムー化合物または塩形成基を
もつこのような化合物の塩に関するものである。式（１
）の３−セフエムー化合物または塩形成塩をもつこれら
化合物の塩においては、主として、Ｒ２がヒドロキシル
基、低級アルコキシ基殊にα一位置で高度に分枝した低
級アルコキシ基例えばｔ−ブトキシ基、さらにメトキシ
基またはエトキシ基、２−ハロゲノ低級アルコキシ基ま
たは２・２・２−トリクロルエトキシ基、２−ヨード”
エトキシ基またはこの基に容易に変えることのできる２
−クロルエトキシ基または２−ブロムエトキシ基、フエ
ナシルオキシ基、低級アルコキシ基またはニトロ基て置
換されていることのできるフェニル基１〜３個をもつ１
−フェニル低級アルコキシ基例えば４−メトキシベンジ
ルオキシ基、４−ニトロベンジルオキシ基、ジフェニル
メトキシ基、４●４″ージメトキシージフェニルメトキ
シ基またはトリチルオキシ基、低級アルカノイルオキシ
メトキシ基例えばアセチオキシメトキシ基またはピバロ
イルオキシメトキシ基、α−アミノ低級アルカノイルオ
キシメトキシ基例えばグリシルオキシメトキシ基、２−
フタリジルオキシメトキシ基、低級アルコキシカルボニ
ルオキシ基例えばエトキシカルボニルオキシ基または低
級アルカノイルオキシ基例えばアセチルオキシ基、さら
にトリ低級アルキルシリルオキシ基例えばトリメチルシ
リルオキシ基であり、そしてＲ３は主として低級アルキ
ル基例えばメチル基、エチル基またはｎ−ブチル基、さ
らに低級アルケニル基例えばアリル基、１−フェニル低
級アルキル基例えばベンジル基またはジフェニルメチル
基、しかしまた低級アルカノイル基例えばアセチル基ま
たはプロピオニル基、低級アルコキシカルボニル基例え
ばメトキシカルボニル基またはベンゾイル基である。
本発明は主として式（１）においてＲ２が主としてヒド
ロキシル基、さらに低級アルコキシ基殊にα一位置で高
度に分枝した低級アルコキシ基例えばｔ−ブトキシ基、
２−ハロゲノー低級アルコキシ基例えば２・２・２−ト
リクロルエトキシ基、２−ヨードエトキシ基または２−
ブロムエトキシ基、または例えばメトキシ基のような低
級アルコキシ基で置換されている場合のあるジフェニル
メトキシ基例えばジフェニルメトキシ基または４●４″
ージメトキシージフェニルメトキシ基、さらにトリメチ
ルシリルオキシ基のようなトリ低級アルキルシリルオキ
シ基でありそしてＲ３は低級アルキル基例えばメチル基
、エチル基またはｎ−ブチル基、低級アルケニル基例え
ばアリル基またはフェニル低級アルキル基例えばベンジ
ル基、さらに低級アルカノイル基例えばアセチル基また
はプロピオニル基、または低級アルコキシカルボニル基
例えばメトキシカルボニル基である３−セフエムー化合
物またはこのような化合物の塩例えばＲ２がヒドロキシ
ル基である化合物のナトリウム塩のようなアルカリ金属
塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金属塩またはア
ミン塩を含めたアンモニウム塩、またはＲ２が水酸基で
ある化合物の分子内塩に関するものである。主として、
式（１）の３−セフエムー化合物またはこのような化合
物の塩においてはＲ２は主としてヒドロキシル基、さら
に２一位置でノ田ゲン原子例えば塩素、臭素またはよう
素原子で置換されている場合のある低級アルコキシ基殊
にα一位置て高度に分枝した低級アルコキシ基例えばｔ
−ブトキシ基、２−ハロゲノー低級アルコキシ基例えば
２・２・２−トリクロルエトキシ基、２−ヨードエトキ
シ基または２−ブロムエトキシ基、または例えばメトキ
シ基のような低級アルコキシ基で置換されている場合の
あるジフェニルメトキシ基例えばジフェニルメトキシ基
または４●４″ージメトキシージフェニルメトキシ基、
さらにトリメチルシリルオキシ基のようなトリ低級アル
キルシリルオキシ基でありそしてＲ３は低級アルキル基
例えばメチル基、エチル基またはｎ−ブチル基、低級ア
ルケニル基例えばアリル基、フェニル低級アルキル基例
えばベンジル基である。
ロキシル基、さらに低級アルコキシ基殊にα一位置で高
度に分枝した低級アルコキシ基例えばｔ−ブトキシ基、
２−ハロゲノー低級アルコキシ基例えば２・２・２−ト
リクロルエトキシ基、２−ヨードエトキシ基または２−
ブロムエトキシ基、または例えばメトキシ基のような低
級アルコキシ基で置換されている場合のあるジフェニル
メトキシ基例えばジフェニルメトキシ基または４●４″
ージメトキシージフェニルメトキシ基、さらにトリメチ
ルシリルオキシ基のようなトリ低級アルキルシリルオキ
シ基でありそしてＲ３は低級アルキル基例えばメチル基
、エチル基またはｎ−ブチル基、低級アルケニル基例え
ばアリル基またはフェニル低級アルキル基例えばベンジ
ル基、さらに低級アルカノイル基例えばアセチル基また
はプロピオニル基、または低級アルコキシカルボニル基
例えばメトキシカルボニル基である３−セフエムー化合
物またはこのような化合物の塩例えばＲ２がヒドロキシ
ル基である化合物のナトリウム塩のようなアルカリ金属
塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金属塩またはア
ミン塩を含めたアンモニウム塩、またはＲ２が水酸基で
ある化合物の分子内塩に関するものである。主として、
式（１）の３−セフエムー化合物またはこのような化合
物の塩においてはＲ２は主としてヒドロキシル基、さら
に２一位置でノ田ゲン原子例えば塩素、臭素またはよう
素原子で置換されている場合のある低級アルコキシ基殊
にα一位置て高度に分枝した低級アルコキシ基例えばｔ
−ブトキシ基、２−ハロゲノー低級アルコキシ基例えば
２・２・２−トリクロルエトキシ基、２−ヨードエトキ
シ基または２−ブロムエトキシ基、または例えばメトキ
シ基のような低級アルコキシ基で置換されている場合の
あるジフェニルメトキシ基例えばジフェニルメトキシ基
または４●４″ージメトキシージフェニルメトキシ基、
さらにトリメチルシリルオキシ基のようなトリ低級アル
キルシリルオキシ基でありそしてＲ３は低級アルキル基
例えばメチル基、エチル基またはｎ−ブチル基、低級ア
ルケニル基例えばアリル基、フェニル低級アルキル基例
えばベンジル基である。
本発明は主として７β−アミノー３一低級アルコキシー
３−セフエムー４−カルボン酸（その低級アルコキシ基
は炭素原子を４個までもつもの、例えばエトキシ基また
はｎ−ブトキシ基、しかし主にメトキシ基である）およ
びそれらのジフェニルメチルエステルそして７β−アミ
ノー３−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸およ
び相当するジフェニルメチルエステルに関するものであ
る。
３−セフエムー４−カルボン酸（その低級アルコキシ基
は炭素原子を４個までもつもの、例えばエトキシ基また
はｎ−ブトキシ基、しかし主にメトキシ基である）およ
びそれらのジフェニルメチルエステルそして７β−アミ
ノー３−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸およ
び相当するジフェニルメチルエステルに関するものであ
る。
本発明方法によれば、式
（この式でＲ２とＲ３とは前記と同じ意味であるが、Ｒ
２は好ましくは基ＲＯであり、Ｒ８はアミノ保護基であ
りそしてＲ３は水素原子またはアシル基であるかまたは
Ｒ８とＲ８とはその両方で２価のアミノ保護基を表わす
）で表わされる化合物において、７一位置のアミノ基を
遊離化し、そして所望により、得られた式（１）の化合
物において式−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ金の保護されたカルボキ
シル基を遊離のまたは他の保護されたカルボキシル基に
変え、そして（または）所望により、得られた塩形成基
をもつ化合物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物
または他の塩に変え、そして（または）所望により、得
られた異性体化合物の混合物を個々の異性体に分離する
ことによつて、式（１）の化合物またはそれらの塩が得
られる。
２は好ましくは基ＲＯであり、Ｒ８はアミノ保護基であ
りそしてＲ３は水素原子またはアシル基であるかまたは
Ｒ８とＲ８とはその両方で２価のアミノ保護基を表わす
）で表わされる化合物において、７一位置のアミノ基を
遊離化し、そして所望により、得られた式（１）の化合
物において式−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ金の保護されたカルボキ
シル基を遊離のまたは他の保護されたカルボキシル基に
変え、そして（または）所望により、得られた塩形成基
をもつ化合物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物
または他の塩に変え、そして（または）所望により、得
られた異性体化合物の混合物を個々の異性体に分離する
ことによつて、式（１）の化合物またはそれらの塩が得
られる。
アミノ保護基Ｒ８は水素原子で置換できる基、主にアシ
ル基Ｍ１さらにトリアリールメチル基殊にトリチル基、
ならびに有機シリル基または有機スタンニル基である。
ル基Ｍ１さらにトリアリールメチル基殊にトリチル基、
ならびに有機シリル基または有機スタンニル基である。
基Ｒ８のアシル基を含めて基Ａｃは主に炭素原子を好ま
しくは１媚までもつている有機カルボン酸のアシル基、
殊に置換されている場合のある脂肪族、脂環一脂肪族、
芳香・族、芳香脂肪族、複素環式または複素環一脂肪族
のカルボン酸（ぎ酸を含める）のアシル基ならびに炭酸
半誘導体のアシル基である。基Ｒ８とＲ８とが連結して
形成している２価のアミノ保護基は殊に炭素原子を好ま
しくは１８個まで．もつている有機ジカルボン酸の２価
アシル基、主に脂肪族または芳香族ジカルボン酸のジア
シル基である。
しくは１媚までもつている有機カルボン酸のアシル基、
殊に置換されている場合のある脂肪族、脂環一脂肪族、
芳香・族、芳香脂肪族、複素環式または複素環一脂肪族
のカルボン酸（ぎ酸を含める）のアシル基ならびに炭酸
半誘導体のアシル基である。基Ｒ８とＲ８とが連結して
形成している２価のアミノ保護基は殊に炭素原子を好ま
しくは１８個まで．もつている有機ジカルボン酸の２価
アシル基、主に脂肪族または芳香族ジカルボン酸のジア
シル基である。
式（Ｘ■）の化合物において、７一位置の保護されたア
ミノ基をそれ自体公知の方法によつて遊）離アミノ基に
変えることができる。
ミノ基をそれ自体公知の方法によつて遊）離アミノ基に
変えることができる。
すなわち、アミノ保護基Ｒ８またはＲ８、殊に容易に分
裂できるアシル基をそれ自体公知の方法によつて、例え
ばｔ−ブトキシカルボニル基のようなα一位置で高度に
分枝した低級アルコキシカルボニル基はこれをトリフル
オル酢酸で処理することによつて、また２●２●２−ト
リクロルエトキシカルボニル基や２−ヨードエトキシカ
ルボニル基のような２−ハロゲノ低級アルコキシカルボ
ニル基またはフエナシルオキシカルボニル基はこれを適
当な金属または金属化合物例えは亜鉛または２価クロム
の塩化物や酢酸塩のような２価クロム化合物で、有利に
はこの金属または金属化合物といつしよに発生期の水素
を生成するような水素給体の存在の下で、好ましくは含
水酢酸の存在の下で処理することによつて、除去するこ
とができる。
裂できるアシル基をそれ自体公知の方法によつて、例え
ばｔ−ブトキシカルボニル基のようなα一位置で高度に
分枝した低級アルコキシカルボニル基はこれをトリフル
オル酢酸で処理することによつて、また２●２●２−ト
リクロルエトキシカルボニル基や２−ヨードエトキシカ
ルボニル基のような２−ハロゲノ低級アルコキシカルボ
ニル基またはフエナシルオキシカルボニル基はこれを適
当な金属または金属化合物例えは亜鉛または２価クロム
の塩化物や酢酸塩のような２価クロム化合物で、有利に
はこの金属または金属化合物といつしよに発生期の水素
を生成するような水素給体の存在の下で、好ましくは含
水酢酸の存在の下で処理することによつて、除去するこ
とができる。
さらに、式（Ｘ■）の化合物において、式−Ｃ（＝０）
−Ｒ２のカルボキシル基が好ましくは例えばシリル化を
含めたエステル化によつて、例えばトリメチルクロルシ
ランのような適当な有機ハロゲノけい素化合物またはト
リーｎ−ブチルすずクロライドのような有機ハロゲノす
ず（■）化合物との反応によつて保護されたカルボキシ
ル基である場合には、アシル基Ｒ８またはＲ８（これら
の基中に存在することのできる遊離の官能性基は場合に
よつては保護されていることができる）を除去するよう
に、イミド−ハライド形成剤で処理し、得られたイミド
−ハライドをアルコールと反応させそしてこうして生成
したイミノエーテルを分裂することができる。
−Ｒ２のカルボキシル基が好ましくは例えばシリル化を
含めたエステル化によつて、例えばトリメチルクロルシ
ランのような適当な有機ハロゲノけい素化合物またはト
リーｎ−ブチルすずクロライドのような有機ハロゲノす
ず（■）化合物との反応によつて保護されたカルボキシ
ル基である場合には、アシル基Ｒ８またはＲ８（これら
の基中に存在することのできる遊離の官能性基は場合に
よつては保護されていることができる）を除去するよう
に、イミド−ハライド形成剤で処理し、得られたイミド
−ハライドをアルコールと反応させそしてこうして生成
したイミノエーテルを分裂することができる。
この反応の過程中に、保護例えば有機シリル基で保護し
ておいたカルボキシル基をすでに遊離させることができ
る。ハロゲン原子が親電子性中心原子に結合しているイ
ミド−ハライド形成剤はとりわけ酸ハロゲンー化物、例
えば酸臭化物および特に酸塩化物である。
ておいたカルボキシル基をすでに遊離させることができ
る。ハロゲン原子が親電子性中心原子に結合しているイ
ミド−ハライド形成剤はとりわけ酸ハロゲンー化物、例
えば酸臭化物および特に酸塩化物である。
これらは主として無機酸とりわけりん含有酸の酸ハロゲ
ン化物例えばオキシハロゲン化リン、３ハロゲン化りん
および特に５ハロゲン化りん、例えばオキシ塩化りん、
３塩化りんおよび主に５．塩化りん、ならびにピロカテ
キルー３塩化りん、ならびにいおう含有酸またはカルボ
ン酸の酸ノ和ゲン化物特に塩化物、例えば塩化チオニル
、ホスゲンまたは塩化オキザリルである。上記イミド−
ハライド形成剤の１つと反応させ−るには、一般に適当
な塩基特に有機塩基とりわけ第３アミン例えば第３脂肪
族モノアミンまたはジアミン例えばトリー低級アルキル
アミン例えばトリメチルアミン、トリエチルアミンまた
はＮ●ＮージイソプロピルーＮ−エチルーアミン、また
はＮ″●Ｎ●Ｎ′●Ｎ″−テトラー低級アルキルー低級
アルキレンジアミン例えばＮ−Ｎ−Ｎ″・Ｎ″−テトラ
メチルー１●５−ペンチレンジアミンまたはＮ−Ｎ●Ｎ
″・Ｎ″−テトラメチルー１●６−ヘキシレンジアミン
、単環式または２環式のモノアミンまたはジアミン例え
ばＮ一置換（例えばＮ一低級アルキル化）されたアルキ
レンアミン、アザアルキレンアミンまたはオキサアルキ
レンアミン例”えばＮ−メチルピペリジンまたはＮ−メ
チルモルホリン、または２・３●４・６●７・８−ヘキ
サヒドローピローロ〔１・２−ａ〕ピリミジン（すなわ
ち、ジアザビシクロノネン、ＤＢＮ）、または第３芳香
族アミン例えばジー低級アルキルアニリン例えばＮ−Ｎ
−ジメチルアニリンまたはとりわけ第３複素環式単環式
または２環式塩基例えばキノリンやイソキノリン、特に
ピリジンの存在の下で、好ましくはハロゲン化（例えば
塩素化）されている場合のある脂肪族または芳香族炭化
水素例えば塩化メチレンのような溶媒の存在下で反応さ
せる。
ン化物例えばオキシハロゲン化リン、３ハロゲン化りん
および特に５ハロゲン化りん、例えばオキシ塩化りん、
３塩化りんおよび主に５．塩化りん、ならびにピロカテ
キルー３塩化りん、ならびにいおう含有酸またはカルボ
ン酸の酸ノ和ゲン化物特に塩化物、例えば塩化チオニル
、ホスゲンまたは塩化オキザリルである。上記イミド−
ハライド形成剤の１つと反応させ−るには、一般に適当
な塩基特に有機塩基とりわけ第３アミン例えば第３脂肪
族モノアミンまたはジアミン例えばトリー低級アルキル
アミン例えばトリメチルアミン、トリエチルアミンまた
はＮ●ＮージイソプロピルーＮ−エチルーアミン、また
はＮ″●Ｎ●Ｎ′●Ｎ″−テトラー低級アルキルー低級
アルキレンジアミン例えばＮ−Ｎ−Ｎ″・Ｎ″−テトラ
メチルー１●５−ペンチレンジアミンまたはＮ−Ｎ●Ｎ
″・Ｎ″−テトラメチルー１●６−ヘキシレンジアミン
、単環式または２環式のモノアミンまたはジアミン例え
ばＮ一置換（例えばＮ一低級アルキル化）されたアルキ
レンアミン、アザアルキレンアミンまたはオキサアルキ
レンアミン例”えばＮ−メチルピペリジンまたはＮ−メ
チルモルホリン、または２・３●４・６●７・８−ヘキ
サヒドローピローロ〔１・２−ａ〕ピリミジン（すなわ
ち、ジアザビシクロノネン、ＤＢＮ）、または第３芳香
族アミン例えばジー低級アルキルアニリン例えばＮ−Ｎ
−ジメチルアニリンまたはとりわけ第３複素環式単環式
または２環式塩基例えばキノリンやイソキノリン、特に
ピリジンの存在の下で、好ましくはハロゲン化（例えば
塩素化）されている場合のある脂肪族または芳香族炭化
水素例えば塩化メチレンのような溶媒の存在下で反応さ
せる。
この反応においては、イミド−ハライド形成剤および塩
基をほぼ当モル量で使うことができるが、塩基を過剰に
または当量より少い量で、例えば約０．２〜１倍量また
は約１Ｃ＠の過剰量までの量、特に約３〜５倍過剰量の
量て使うこともできる。このイミド−ハライド形成例と
の反応を冷却しながら、例えば約−５０〜＋１０℃で行
うのが好ましいが、原料の安定性および生成物の安定性
が一層高い温度を許容するならば一層高い温度すなわち
例えば約７５℃までの温度で反応させることもできる。
基をほぼ当モル量で使うことができるが、塩基を過剰に
または当量より少い量で、例えば約０．２〜１倍量また
は約１Ｃ＠の過剰量までの量、特に約３〜５倍過剰量の
量て使うこともできる。このイミド−ハライド形成例と
の反応を冷却しながら、例えば約−５０〜＋１０℃で行
うのが好ましいが、原料の安定性および生成物の安定性
が一層高い温度を許容するならば一層高い温度すなわち
例えば約７５℃までの温度で反応させることもできる。
こうして生成したイミド−ハライド生成物を一般に単離
しないで、好ましくは前記塩基の１つの存在の下で、ア
ルコールと反応させてイミノエーテルを得る。
しないで、好ましくは前記塩基の１つの存在の下で、ア
ルコールと反応させてイミノエーテルを得る。
アルコールとしては例えば脂肪族または芳香脂肪族アル
コール、とりわけハロゲン化（例えば塩素化）のような
置換されている場合のある低級アルカノールまたは別に
ヒドロキシル基をさらにもつ低級アルカノール、例えば
エタノール、プロパノール、ブタノール、特にメタノー
ル、ならびに２●２●２−トリクロルエタノールや２−
ブロムエタノールのような２−ハロゲノ低級アルカノー
ル、およびまた置換されている場合のあるフェニルー低
級アルカノール例えばベンジルアルコールが適する。こ
のアルコールを一般に過剰量例えば１０ＣＰｉまでの過
剰量で使い、そしてその工程を冷却しながら例えば約−
５０〜＋１０℃で行うのが好ましい。こうして生成した
イミノエーテル生成物を有利には単離せずに分裂するこ
とができる。
コール、とりわけハロゲン化（例えば塩素化）のような
置換されている場合のある低級アルカノールまたは別に
ヒドロキシル基をさらにもつ低級アルカノール、例えば
エタノール、プロパノール、ブタノール、特にメタノー
ル、ならびに２●２●２−トリクロルエタノールや２−
ブロムエタノールのような２−ハロゲノ低級アルカノー
ル、およびまた置換されている場合のあるフェニルー低
級アルカノール例えばベンジルアルコールが適する。こ
のアルコールを一般に過剰量例えば１０ＣＰｉまでの過
剰量で使い、そしてその工程を冷却しながら例えば約−
５０〜＋１０℃で行うのが好ましい。こうして生成した
イミノエーテル生成物を有利には単離せずに分裂するこ
とができる。
このイミノエーテルの分裂は適当なヒドロキシル化合物
で処理することによつて、好ましくは加水分解またはさ
らにアルコーリシスによつて達せられる。アルコーリシ
スを、上記イミノエーテルの生成に引続いて過剰量のア
ルコールを使つて行うのが適する。この場合に、水また
はアルコール特にメタノールのような低級アルカノール
、またはアルコールのような有機溶媒の水との混合物を
使うのが好ましい。式（Ｘ■）の化合物におけるアシル
アミノ基のアシル基Ｒ８の中では、例えば５−アミノー
５−カルボキシーバレリル基〔そのカルボキシル基は例
えばエステル化によつて、特にジフェニルメチル基によ
つて、そして（または）アミノ基は例えばアシル化によ
つて、特に有機カルボン酸のアシル基例えばジクロルア
セチル基のようなハロゲノ低級アルカノイル基またはフ
タロイル基によつて保護されていることもできる〕は塩
化ニトロシルのようなニトロシル化剤、ベンゼンジアゾ
ニウムクロライドのような炭素環式アレンージアゾニウ
ム塩またはＮ−ハロゲンーアミドまたはＮ−ハロゲンー
イミド例えばＮ−ブロムこはく酸イミドのような陽性ハ
ロゲン原子を放出する反応剤で、好ましくは適当な溶媒
または溶媒混合物例えばニトロー低級アルカンまたはシ
アノー低級アルカンといつしよにぎ酸の中て処理し、そ
の反応生成物を水または低級アルカノール例えばメタノ
ールのようなヒドロキシル基をもつ化合物と混合するか
、または基Ｒ８としての５−アミノー５−カルボキシー
バレリル基におけるアミノ基が非置換でありそしてカル
ボキシル基が例えばエステル化によつて保護されており
そしてＲ８がアシル基であるのが好ましいが水素原子で
あることもできる場合には、ジオキサンまたはハロゲン
化された脂肪族炭化水素例えば塩化メチレンのような適
当な溶媒の中で放置し、そして必要ならばこうして生成
した遊離のまたはモノアシル化されたアミノ化合物をそ
れ自体公知の方法によつて後処理することによつて、分
裂させることができる。
で処理することによつて、好ましくは加水分解またはさ
らにアルコーリシスによつて達せられる。アルコーリシ
スを、上記イミノエーテルの生成に引続いて過剰量のア
ルコールを使つて行うのが適する。この場合に、水また
はアルコール特にメタノールのような低級アルカノール
、またはアルコールのような有機溶媒の水との混合物を
使うのが好ましい。式（Ｘ■）の化合物におけるアシル
アミノ基のアシル基Ｒ８の中では、例えば５−アミノー
５−カルボキシーバレリル基〔そのカルボキシル基は例
えばエステル化によつて、特にジフェニルメチル基によ
つて、そして（または）アミノ基は例えばアシル化によ
つて、特に有機カルボン酸のアシル基例えばジクロルア
セチル基のようなハロゲノ低級アルカノイル基またはフ
タロイル基によつて保護されていることもできる〕は塩
化ニトロシルのようなニトロシル化剤、ベンゼンジアゾ
ニウムクロライドのような炭素環式アレンージアゾニウ
ム塩またはＮ−ハロゲンーアミドまたはＮ−ハロゲンー
イミド例えばＮ−ブロムこはく酸イミドのような陽性ハ
ロゲン原子を放出する反応剤で、好ましくは適当な溶媒
または溶媒混合物例えばニトロー低級アルカンまたはシ
アノー低級アルカンといつしよにぎ酸の中て処理し、そ
の反応生成物を水または低級アルカノール例えばメタノ
ールのようなヒドロキシル基をもつ化合物と混合するか
、または基Ｒ８としての５−アミノー５−カルボキシー
バレリル基におけるアミノ基が非置換でありそしてカル
ボキシル基が例えばエステル化によつて保護されており
そしてＲ８がアシル基であるのが好ましいが水素原子で
あることもできる場合には、ジオキサンまたはハロゲン
化された脂肪族炭化水素例えば塩化メチレンのような適
当な溶媒の中で放置し、そして必要ならばこうして生成
した遊離のまたはモノアシル化されたアミノ化合物をそ
れ自体公知の方法によつて後処理することによつて、分
裂させることができる。
ホルミル基Ｒ８は、酸性剤例えばｐ−トルエンスルホン
酸または塩酸、弱塩基性剤例えば希薄なアンモニアまた
は脱カルボニル化剤例えばトリスー（トリフェニルホス
フィン）一ロジウムクロライドて処理することによつて
除去することもできる。
酸または塩酸、弱塩基性剤例えば希薄なアンモニアまた
は脱カルボニル化剤例えばトリスー（トリフェニルホス
フィン）一ロジウムクロライドて処理することによつて
除去することもできる。
トリチル基のようなトリアリールメチル基Ｒ８は、例え
ば無機酸のような酸性剤例えば塩酸で処理することによ
つて除去できる。
ば無機酸のような酸性剤例えば塩酸で処理することによ
つて除去できる。
式（Ｘ■）の化合物は、例えば式
で表わされるセフエムー３−オン化合物またはその２・
３−または３・４一位置に２重結合をもつ相当するエノ
ールを、３一位置に式−０−Ｒ３の官能性に変性された
ヒドロキシル基をもつエノール誘導体に変え、そして所
望により式−Ｃ（＝０）−Ｒ３の保護されたカルボキシ
ル基を遊離のまたは他の保護されたカルボキシル基に変
えることによつて得られる。
３−または３・４一位置に２重結合をもつ相当するエノ
ールを、３一位置に式−０−Ｒ３の官能性に変性された
ヒドロキシル基をもつエノール誘導体に変え、そして所
望により式−Ｃ（＝０）−Ｒ３の保護されたカルボキシ
ル基を遊離のまたは他の保護されたカルボキシル基に変
えることによつて得られる。
このエノール誘導体は前記の方法によつて製造すること
ができる。本発明方法によつて得られた、式−Ｃ（＝０
）・−Ｒ８の保護殊にエステル化されたカルボキシル基
をもつ式（１）の化合物において、これをそれ自体公知
の方法によつて例えば基ＲＧの種類によつて、遊離カル
ボキシル基に変えることができる。
ができる。本発明方法によつて得られた、式−Ｃ（＝０
）・−Ｒ８の保護殊にエステル化されたカルボキシル基
をもつ式（１）の化合物において、これをそれ自体公知
の方法によつて例えば基ＲＧの種類によつて、遊離カル
ボキシル基に変えることができる。
エステル化例えば低級アルキル基殊にメチル・基または
エチル基でエステル化されたカルボキシル基を弱塩基性
媒質中て加水分解することにより、例えばアルカリ金属
またはアルカリ土類金属の水酸化物または炭酸塩例えば
水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムの水溶液で好ま
しくは約９）〜１０のＰＨ値でそして場合によつては低
級アルカノールの存在の下で処理することにより、遊離
カルボキシル基に変えることができる。適当な２−ハロ
ゲノ低級アルキル基またはアリールカルボニルメチル基
でエステル化されたカルボキシル基はこれを例えば化学
的還元剤例えば亜鉛のような金属または２価クロム塩例
えば２価クロムの塩化物のような還元性金属塩で、一般
にその金属によつて発生期の水素を生成することのでき
る水素給体例えば酸主に酢酸またはぎ酸あるいはアルコ
ール（好ましくはこれらに水を加える）の存在の下で処
理することによつて、またアリールカルボニルメチル基
でエステル化されたカルボキシル基はこれをナトリウム
チオフェノラートまたはよう化ナトリウムのような親核
性の好ましくは塩形成性の反応剤で処理することによつ
て、また適当なアリールメチル基でエステル化されたカ
ルボキシル基はこれを例えば照射によつて〔好ましくは
そのアリールメチル基が３−、４−および（または）５
−位置において例えば低級アルコキシ基および（または
）ニトロ基で置換されている場合のあるベンジル基であ
れば例えば２９０ｗ１，μ以下の紫外線を使いそしてそ
のアリールメチル基が例えば２一位置でニトロ基によつ
て置換されたベンジル基であれば例えば２９０ｗＬ，μ
以上の長波長紫外線を使う〕、またｔ−ブチル基やジフ
ェニルメチル基のような適当に置換されたメチル基でエ
ステル化されたカルボキシル基はこれを例えばぎ酸また
はトリフルオル酢酸のような適当な酸性剤で、場合によ
つてはフェノールやアニソールのような親核性化合物を
加えて処理することによつて、また活性エステル化され
たカルボキシル基およびまた無水物の形にあるカルボキ
シル基はこれを加水分解例えば塩酸、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液またはＰＨ約７〜９のりん酸カリウム緩衝水溶
液のような酸性または弱塩基性の水性剤で処理すること
によつて、そしてまた水素添加分解で分裂できるエステ
ル化されたカルボキシル基はこれを例えばパラジウム触
媒のような貴金属触媒の存在の下で水素で処理すること
によつて分裂させることができる。保護例えばシリル化
またはスタンニル化によつて保護されているカルボキシ
ル基は、これを常法によつて例えば水またはアルコール
で処理して遊離化することができる。式−Ｃ（＝０）−
Ｒ２のエステル化された基をもつ得られた化合物におい
ては、この基を同じ式で表わされる基に変えることがで
きる。
エチル基でエステル化されたカルボキシル基を弱塩基性
媒質中て加水分解することにより、例えばアルカリ金属
またはアルカリ土類金属の水酸化物または炭酸塩例えば
水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムの水溶液で好ま
しくは約９）〜１０のＰＨ値でそして場合によつては低
級アルカノールの存在の下で処理することにより、遊離
カルボキシル基に変えることができる。適当な２−ハロ
ゲノ低級アルキル基またはアリールカルボニルメチル基
でエステル化されたカルボキシル基はこれを例えば化学
的還元剤例えば亜鉛のような金属または２価クロム塩例
えば２価クロムの塩化物のような還元性金属塩で、一般
にその金属によつて発生期の水素を生成することのでき
る水素給体例えば酸主に酢酸またはぎ酸あるいはアルコ
ール（好ましくはこれらに水を加える）の存在の下で処
理することによつて、またアリールカルボニルメチル基
でエステル化されたカルボキシル基はこれをナトリウム
チオフェノラートまたはよう化ナトリウムのような親核
性の好ましくは塩形成性の反応剤で処理することによつ
て、また適当なアリールメチル基でエステル化されたカ
ルボキシル基はこれを例えば照射によつて〔好ましくは
そのアリールメチル基が３−、４−および（または）５
−位置において例えば低級アルコキシ基および（または
）ニトロ基で置換されている場合のあるベンジル基であ
れば例えば２９０ｗ１，μ以下の紫外線を使いそしてそ
のアリールメチル基が例えば２一位置でニトロ基によつ
て置換されたベンジル基であれば例えば２９０ｗＬ，μ
以上の長波長紫外線を使う〕、またｔ−ブチル基やジフ
ェニルメチル基のような適当に置換されたメチル基でエ
ステル化されたカルボキシル基はこれを例えばぎ酸また
はトリフルオル酢酸のような適当な酸性剤で、場合によ
つてはフェノールやアニソールのような親核性化合物を
加えて処理することによつて、また活性エステル化され
たカルボキシル基およびまた無水物の形にあるカルボキ
シル基はこれを加水分解例えば塩酸、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液またはＰＨ約７〜９のりん酸カリウム緩衝水溶
液のような酸性または弱塩基性の水性剤で処理すること
によつて、そしてまた水素添加分解で分裂できるエステ
ル化されたカルボキシル基はこれを例えばパラジウム触
媒のような貴金属触媒の存在の下で水素で処理すること
によつて分裂させることができる。保護例えばシリル化
またはスタンニル化によつて保護されているカルボキシ
ル基は、これを常法によつて例えば水またはアルコール
で処理して遊離化することができる。式−Ｃ（＝０）−
Ｒ２のエステル化された基をもつ得られた化合物におい
ては、この基を同じ式で表わされる基に変えることがで
きる。
例えば、２−クロルエトキシカルボニル基または２−ブ
ロムエトキシカルボニル基をアセトンのような適当な溶
媒の存在の下でよう化ナトリウムのようなよう素塩で処
理して２−ヨードエトキシカルボニル基に変えることが
できる。式（１）の化合物の塩はそれ自体公知の方法に
よつて製造される。
ロムエトキシカルボニル基をアセトンのような適当な溶
媒の存在の下でよう化ナトリウムのようなよう素塩で処
理して２−ヨードエトキシカルボニル基に変えることが
できる。式（１）の化合物の塩はそれ自体公知の方法に
よつて製造される。
すなわち、酸性基をもつ式（１）の化合物を例えば適当
なりルボン酸のアルカリ金属塩のような金属化合物例え
ばα一エチルカプロン酸のナトリウム塩でまたはアンモ
ニアまたは適当な有機アミンで処理することによつて、
”その塩を生成することができる。この目的には、その
塩形成剤を化学量論的量または僅かに過剰な量で使うの
が好ましい。また、式（１）の化合物の酸付加塩は常法
によつて、例えば酸または適当な陰イオン交換剤で処理
することによつて得られる。塩形成するアミノ基と遊離
カルボキシル基とをもつ式（１）の化合物の分子内塩は
、例えはその酸付加塩のような塩を等電点まで例えば弱
塩基で中和するかまたは液状イオン交換剤で処理するこ
とによつて生成される。塩はこれを常法により遊離化合
物に変えることができる。
なりルボン酸のアルカリ金属塩のような金属化合物例え
ばα一エチルカプロン酸のナトリウム塩でまたはアンモ
ニアまたは適当な有機アミンで処理することによつて、
”その塩を生成することができる。この目的には、その
塩形成剤を化学量論的量または僅かに過剰な量で使うの
が好ましい。また、式（１）の化合物の酸付加塩は常法
によつて、例えば酸または適当な陰イオン交換剤で処理
することによつて得られる。塩形成するアミノ基と遊離
カルボキシル基とをもつ式（１）の化合物の分子内塩は
、例えはその酸付加塩のような塩を等電点まで例えば弱
塩基で中和するかまたは液状イオン交換剤で処理するこ
とによつて生成される。塩はこれを常法により遊離化合
物に変えることができる。
例えば、金属塩およびアンモニウム塩を適当な酸で処理
することによつて、また酸付加塩を例えば適当な塩基性
剤で処理することによつて、遊離化合物に変えることが
できる。得られた異性体混合物は、これをそれ自体公知
の方法によつて、例えばジアステレオマー異性体の混合
物を分別結晶化、吸着クロマトグラフィ（カラムクロマ
トグラフィまたは薄層クロマトグラフィ）または他の適
当な分離方法によつて個々の異性体に分けることができ
る。
することによつて、また酸付加塩を例えば適当な塩基性
剤で処理することによつて、遊離化合物に変えることが
できる。得られた異性体混合物は、これをそれ自体公知
の方法によつて、例えばジアステレオマー異性体の混合
物を分別結晶化、吸着クロマトグラフィ（カラムクロマ
トグラフィまたは薄層クロマトグラフィ）または他の適
当な分離方法によつて個々の異性体に分けることができ
る。
得られたラセミ体は、これを常法によつて、適当ならば
適当な塩形成基を導入した後に、例えば光学活性の塩形
成剤とのジアステレオマー塩混合物を生成し、この混合
物を各ジアステレオマー塩に分けそしてこうして分けた
ジアステレオマー塩を遊離化合物に変えることによつて
、また光学活性の溶媒から分別結晶化することによつて
、個々の対掌体に分けることができる。本発明は、その
工程で中間体として生成する化合物を原料として使いそ
して残りの工程段階を行うかまたはその工程を任意の段
階で中断するような態様をも包含する。
適当な塩形成基を導入した後に、例えば光学活性の塩形
成剤とのジアステレオマー塩混合物を生成し、この混合
物を各ジアステレオマー塩に分けそしてこうして分けた
ジアステレオマー塩を遊離化合物に変えることによつて
、また光学活性の溶媒から分別結晶化することによつて
、個々の対掌体に分けることができる。本発明は、その
工程で中間体として生成する化合物を原料として使いそ
して残りの工程段階を行うかまたはその工程を任意の段
階で中断するような態様をも包含する。
さらに、原料を誘導体の形で使うことができるしまたは
その反応中に生成させることができる。なお、原料およ
び反応条件としては、先に殊に好ましいものとして挙げ
た化合物が得られるように選ぶのが好ましい。
その反応中に生成させることができる。なお、原料およ
び反応条件としては、先に殊に好ましいものとして挙げ
た化合物が得られるように選ぶのが好ましい。
なお、本明細書において、ｊ低級ｊと示された有機基は
特に定義してない限り炭素原子を７個まで、好ましくは
４個までもつものである。
特に定義してない限り炭素原子を７個まで、好ましくは
４個までもつものである。
ｊアシル基ｊは炭素原子を２帽まで、好ましくは１２個
までそして主として７個までもつものである。次に実施
例によつて本発明をさらに具体的に説明する。例１ ７β−Ｔｅｒｔ−ブトキシカルボキシルアミノー３ーメ
トキシー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル〔４．９６ｙ（１０ミリモル）〕の塩化メチ
レン（２５ｍ１）中溶液をトリフルオロ酢酸２５ｍ１及
びアニソール５ｍ１で処理する。
までそして主として７個までもつものである。次に実施
例によつて本発明をさらに具体的に説明する。例１ ７β−Ｔｅｒｔ−ブトキシカルボキシルアミノー３ーメ
トキシー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル〔４．９６ｙ（１０ミリモル）〕の塩化メチ
レン（２５ｍ１）中溶液をトリフルオロ酢酸２５ｍ１及
びアニソール５ｍ１で処理する。
０℃において１時間混合物を攪拌し、次いで蒸発せしめ
る。
る。
残留物を水５０ｍ１で処理し、酢酸エチルで２回抽出す
る。０．１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を添加することに
より、水相をＰＨ４．ｌに調整する。
る。０．１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を添加することに
より、水相をＰＨ４．ｌに調整する。
アセトンを添加しそして氷浴中で１時間攪拌すると、７
β−アミノー３−メトキシー３−セフエムー４一カルボ
ン酸が沈殿する。これを戸別し、そして乾燥する。融点
：３００℃以上（分解）；Ｒｆ値：〜０．０５〔シリカ
ゲル、ｎ−ブタノール／酢酸／水（７１．５：７．５：
２１）〕 ；Ｗ−スペクトル（イ）．１ＮＮａ０Ｈ）λ
．〜＝２７０ｒ１ＷＬ（ε＝７６００）；ＩＲ−スペク
トル（ＮｕｊＯｌ）：５．５９、６．Ｉ０ｓ６．２２、
６．４４、６．５５μ及びその他の吸収バンド。
β−アミノー３−メトキシー３−セフエムー４一カルボ
ン酸が沈殿する。これを戸別し、そして乾燥する。融点
：３００℃以上（分解）；Ｒｆ値：〜０．０５〔シリカ
ゲル、ｎ−ブタノール／酢酸／水（７１．５：７．５：
２１）〕 ；Ｗ−スペクトル（イ）．１ＮＮａ０Ｈ）λ
．〜＝２７０ｒ１ＷＬ（ε＝７６００）；ＩＲ−スペク
トル（ＮｕｊＯｌ）：５．５９、６．Ｉ０ｓ６．２２、
６．４４、６．５５μ及びその他の吸収バンド。
例２
７β一トリチルアミノー３−メトキシー３−セフエムー
４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル０．５２ｇ（
１．０ミリモル）と蟻酸５ｍ１との混合物を５０℃にお
いて１紛間加熱し、次いで蒸発せしめる。
４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル０．５２ｇ（
１．０ミリモル）と蟻酸５ｍ１との混合物を５０℃にお
いて１紛間加熱し、次いで蒸発せしめる。
残留物を水中に溶解せしめ、酢酸エチルで２回抽出する
。水相をＰＨ４．ｌに調整する。アセトンを添加し、０
℃において１時間攪拌すると、７βーアミノー３−メト
キシー３−セフエムー４−カルボン酸が析出する。これ
を炉別しそして減圧乾燥する。ＩＲ−スペクトル（Ｎｕ
ｊＯｌ）吸収帯：５．５ｇ．６．１０、６．２２、６．
４４、６．６５μ、及びその他。例３７β−アミノー３
−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル１．６５ｙとアニソール２ｍ１との懸濁
液を予冷したトリフルオル酢酸２０Ｒｔと混合して氷浴
中でｌ紛間かきまぜる。
。水相をＰＨ４．ｌに調整する。アセトンを添加し、０
℃において１時間攪拌すると、７βーアミノー３−メト
キシー３−セフエムー４−カルボン酸が析出する。これ
を炉別しそして減圧乾燥する。ＩＲ−スペクトル（Ｎｕ
ｊＯｌ）吸収帯：５．５ｇ．６．１０、６．２２、６．
４４、６．６５μ、及びその他。例３７β−アミノー３
−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル１．６５ｙとアニソール２ｍ１との懸濁
液を予冷したトリフルオル酢酸２０Ｒｔと混合して氷浴
中でｌ紛間かきまぜる。
この混合物を冷えたトルエン１００ＴｆＬｔで希釈しそ
して減圧下で蒸発する。その暗褐色残分を高真空下で乾
かしそしてジエチルエーテルを加えてかきまぜる。その
沈殿を枦別し、アセトンおよびジエチルエーテルで洗つ
てから乾かす。こうして得た７β−アミノー３−メトキ
シー３−セフエムー４−カルボン酸のトリフルオル酢酸
塩を水１０ｍ１に溶かし、この水溶液を酢酸エチル１０
ｍ１ずつで２回洗いそしてトリエチルアミンの１０％メ
タノール溶液を加えてＰＨを４．５にする。これをアセ
トンで希釈して、０℃で１時間かきまぜる。その沈殿を
沖別し、アセトンとジエチルエーテルとの１：２の混合
物で洗いそして高真空下で乾かす。こうして７β−アミ
ノー３−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸が分
子内塩の形で得られる。薄層クロマトグラム（シリカゲ
ル）：Ｒｆ〜０．１６（系：ｎ−ブタノール・酢酸・水
６７：１０：２３）、紫外吸収スペクトル（０．１Ｎの
塩酸中）：λ．Ｎ８ｘ＝２６１ｍμ（ε＝５４００）。
上記の方法によつて作つた７β−アミノー３−メトキシ
ー３−セフエムー４−カルボン酸をトリメチルクロルシ
ランで処理してそのカルボキシル基をトリメチルシリル
基で保護されたカルボキシル基に変えることができ（な
お、そのシリル化剤を過剰に使つてアミノ基も同様に保
護されたアミノ基に変えることができる）、こうしてト
リメチ１ルシリル化した７β−アミノー３−メトキシー
３−セフエムー４−カルボン酸をジフェニルアセチルク
ロライドで処理してそのアミノ基をアシル化することが
できる。
して減圧下で蒸発する。その暗褐色残分を高真空下で乾
かしそしてジエチルエーテルを加えてかきまぜる。その
沈殿を枦別し、アセトンおよびジエチルエーテルで洗つ
てから乾かす。こうして得た７β−アミノー３−メトキ
シー３−セフエムー４−カルボン酸のトリフルオル酢酸
塩を水１０ｍ１に溶かし、この水溶液を酢酸エチル１０
ｍ１ずつで２回洗いそしてトリエチルアミンの１０％メ
タノール溶液を加えてＰＨを４．５にする。これをアセ
トンで希釈して、０℃で１時間かきまぜる。その沈殿を
沖別し、アセトンとジエチルエーテルとの１：２の混合
物で洗いそして高真空下で乾かす。こうして７β−アミ
ノー３−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸が分
子内塩の形で得られる。薄層クロマトグラム（シリカゲ
ル）：Ｒｆ〜０．１６（系：ｎ−ブタノール・酢酸・水
６７：１０：２３）、紫外吸収スペクトル（０．１Ｎの
塩酸中）：λ．Ｎ８ｘ＝２６１ｍμ（ε＝５４００）。
上記の方法によつて作つた７β−アミノー３−メトキシ
ー３−セフエムー４−カルボン酸をトリメチルクロルシ
ランで処理してそのカルボキシル基をトリメチルシリル
基で保護されたカルボキシル基に変えることができ（な
お、そのシリル化剤を過剰に使つてアミノ基も同様に保
護されたアミノ基に変えることができる）、こうしてト
リメチ１ルシリル化した７β−アミノー３−メトキシー
３−セフエムー４−カルボン酸をジフェニルアセチルク
ロライドで処理してそのアミノ基をアシル化することが
できる。
これを常法により水の存在下で後処理すれば、３−メト
キシー７β−フェニル５アセチルアミノー３−セフエム
ー４−カルボン酸が得られる。釈−スペクトル（ＣＨ，
Ｃｌ２）吸収帯：３．０３ｓ５．６０ｓ５．７本５．９
２、＆２本６．６７μ。例４７β−アミノー３−メトキ
シーセフー３−エム０−４−カルボン酸一ハイドロクロ
ライドージオキサネート１ｇ（２．８２ｍＭ）を乾いた
塩化メチレン２０ｍ１中に懸濁し、これに窒素ガス雰囲
気下において室温でビスー（トリメチルシリル）−アセ
トアミド１．６５ｍｔを加える。
キシー７β−フェニル５アセチルアミノー３−セフエム
ー４−カルボン酸が得られる。釈−スペクトル（ＣＨ，
Ｃｌ２）吸収帯：３．０３ｓ５．６０ｓ５．７本５．９
２、＆２本６．６７μ。例４７β−アミノー３−メトキ
シーセフー３−エム０−４−カルボン酸一ハイドロクロ
ライドージオキサネート１ｇ（２．８２ｍＭ）を乾いた
塩化メチレン２０ｍ１中に懸濁し、これに窒素ガス雰囲
気下において室温でビスー（トリメチルシリル）−アセ
トアミド１．６５ｍｔを加える。
４扮間後にこの透明な溶液を０℃に冷却しそしてこれに
固体のＤ−α−フェニルグリシルクロライドー塩酸塩９
００ｍ９（４．３７ｗＬＭ）を加える。
固体のＤ−α−フェニルグリシルクロライドー塩酸塩９
００ｍ９（４．３７ｗＬＭ）を加える。
５分間の後にプロピレンオキシド０．７ｍ１（１０７Ｔ
ＬＭ）を加える。
ＬＭ）を加える。
この懸濁液を窒素ガス雰囲気下において０℃で１時間攪
拌してから、メタノール０．５ｍ１を加えると、７β−
（Ｄ−α−フェニルグリシルアミノ）−３−メトキシー
セフー３−エムー４−カルボン酸一塩酸塩が結晶の形で
析出する。この塩酸塩を沖別し、水９ｍ１に溶かしそし
てこの溶液を１Ｎの水酸化ナトリウム溶液でＰＨ４．６
に調整する。こうして生成した７β一（Ｄ−α−フェニ
ルグリシルアミノ）−３−メトキシーセフー３−エムー
４−カルボン酸の分子内塩の二水和物をｐ別し、アセト
ンおよびジエチルエーテルで洗つてから乾かす。融点１
７４〜１７６℃（分解）、〔α〕？＝＋１３２Ｑ（Ｃ＝
０．７１屯０．１Ｎの塩酸中）、薄層クロマトグラム（
シリカゲル）Ｒｆ値〜０．１８〔系：ｎ−ブタノール／
酢酸／水（６７：１０：２３）〕、ＵＶ−スペクトル（
０．１Ｎの炭酸水素ナトリウム溶液中）：λ、ｏ＝２６
９ｒ１ＴｒＬ（Ｅ＝７０００）、ＩＲ−スペクトル（鉱
油）：５．７２、５．９４、６．２３および６．６０μ
に特性バンド。例５ ７β−アミノー３−メトキシーセフー３−エムー４−カ
ルボン酸（分子内塩）９９３ｍ９（４．３２ｒｒＬＭ）
を塩化メチレン１０ｍ１中に懸濁し、これにＮ・０−ビ
スー（トリメチルシリル）−アセトアミド１．３７ｍ１
（５．６７ＴＩ．Ｍ）を加えて、窒素ガス雰囲気下にお
いて室温で４紛間攪拌する。
拌してから、メタノール０．５ｍ１を加えると、７β−
（Ｄ−α−フェニルグリシルアミノ）−３−メトキシー
セフー３−エムー４−カルボン酸一塩酸塩が結晶の形で
析出する。この塩酸塩を沖別し、水９ｍ１に溶かしそし
てこの溶液を１Ｎの水酸化ナトリウム溶液でＰＨ４．６
に調整する。こうして生成した７β一（Ｄ−α−フェニ
ルグリシルアミノ）−３−メトキシーセフー３−エムー
４−カルボン酸の分子内塩の二水和物をｐ別し、アセト
ンおよびジエチルエーテルで洗つてから乾かす。融点１
７４〜１７６℃（分解）、〔α〕？＝＋１３２Ｑ（Ｃ＝
０．７１屯０．１Ｎの塩酸中）、薄層クロマトグラム（
シリカゲル）Ｒｆ値〜０．１８〔系：ｎ−ブタノール／
酢酸／水（６７：１０：２３）〕、ＵＶ−スペクトル（
０．１Ｎの炭酸水素ナトリウム溶液中）：λ、ｏ＝２６
９ｒ１ＴｒＬ（Ｅ＝７０００）、ＩＲ−スペクトル（鉱
油）：５．７２、５．９４、６．２３および６．６０μ
に特性バンド。例５ ７β−アミノー３−メトキシーセフー３−エムー４−カ
ルボン酸（分子内塩）９９３ｍ９（４．３２ｒｒＬＭ）
を塩化メチレン１０ｍ１中に懸濁し、これにＮ・０−ビ
スー（トリメチルシリル）−アセトアミド１．３７ｍ１
（５．６７ＴＩ．Ｍ）を加えて、窒素ガス雰囲気下にお
いて室温で４紛間攪拌する。
この透明な溶液を０℃に冷却しそしてＤ−α−フェニル
グリシル．酸クロライドー塩酸塩１．１１ｇ（５．４Ｔ
ｒＬＭ）を加える。５分間後にプロピレンオキシド０．
４ｍ１（５．６ｍＭ）を加える。
グリシル．酸クロライドー塩酸塩１．１１ｇ（５．４Ｔ
ｒＬＭ）を加える。５分間後にプロピレンオキシド０．
４ｍ１（５．６ｍＭ）を加える。
この懸濁液を窒素ガス雰囲気下において０℃で１時間攪
拌してからメタノール０．６ｍ１を加える。こうして晶
出した７β−（Ｄ−α−５フェニルグリシルアミド）−
３−メトキシーセフー３−エムー４−カルボン酸一塩酸
塩を炉別し、０℃で水１５ｍ１に溶かしそしてこの溶液
に１Ｎ水酸化ナトリウム溶液５ｍ１を加えてＰＨを約４
に調整する。この溶液を室温まで加温し、トリエチルア
ミンを加えてＰＨを約４．８にすると、７β−（Ｄ−α
ーフェニルグリシルアミド）−３−メトキシーセフー３
−エムー４−カルボン酸が二水和物の形で晶出する。Ｉ
Ｒ−スペクトル（鉱油中）特異帯：５．７２、５．味Ａ
２３及び６．６０μ。例６ ７β−アミノー３−メトキシー３−セフエムー４−カル
ボン酸ヒドロクロリドジオキサネート（１ミリモル）の
水（２０ｍ１）中混合物を、氷−メタノール混合物で冷
却しながら、ＰＨが８．５となるまで１Ｎ水酸化カリウ
ム水溶液で処理する。
拌してからメタノール０．６ｍ１を加える。こうして晶
出した７β−（Ｄ−α−５フェニルグリシルアミド）−
３−メトキシーセフー３−エムー４−カルボン酸一塩酸
塩を炉別し、０℃で水１５ｍ１に溶かしそしてこの溶液
に１Ｎ水酸化ナトリウム溶液５ｍ１を加えてＰＨを約４
に調整する。この溶液を室温まで加温し、トリエチルア
ミンを加えてＰＨを約４．８にすると、７β−（Ｄ−α
ーフェニルグリシルアミド）−３−メトキシーセフー３
−エムー４−カルボン酸が二水和物の形で晶出する。Ｉ
Ｒ−スペクトル（鉱油中）特異帯：５．７２、５．味Ａ
２３及び６．６０μ。例６ ７β−アミノー３−メトキシー３−セフエムー４−カル
ボン酸ヒドロクロリドジオキサネート（１ミリモル）の
水（２０ｍ１）中混合物を、氷−メタノール混合物で冷
却しながら、ＰＨが８．５となるまで１Ｎ水酸化カリウ
ム水溶液で処理する。
０．１トル且つ４０℃の条件下においてこの溶液を蒸発
せしめ、残留物を高真空において乾燥する。
せしめ、残留物を高真空において乾燥する。
得られたノカリウム塩をジメチルホルムアミド２５ｍ１
中に溶解せしめそして−２（代）においてｌ紛以内に１
当量のヨードメチルピバレートで処理する。窒素雰囲気
下、−２０℃において３紛間、この混合物を攪拌し、そ
して酢酸エチルで希釈した後、塩化ナトリ・ウム飽和水
溶液で２回抽出し、硫酸ナトリウム上て乾燥しそして蒸
発せしめる。粗製生成物をシリカゲルでクロマトグラフ
処理して、７β−アミノー３−メトキシー３−セフエム
ー４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステルを得
る。これは２−セフエム異性体を若干含む場合もある。
訳一スペクトル（塩化メチレン）：１７９０−１ｃｍ及
びその他に吸収バンド。例７ 水（２０Ｔｎ１）及びアセトニトリル（２０ｍ１）中ｐ
−ニトロベンジル７−アミノー３−メトキシー３ーセフ
エムー４−カルボキシレート（７３０ｍ９）溶液を濃塩
酸で一時ＰＨｌまで酸性化する。
中に溶解せしめそして−２（代）においてｌ紛以内に１
当量のヨードメチルピバレートで処理する。窒素雰囲気
下、−２０℃において３紛間、この混合物を攪拌し、そ
して酢酸エチルで希釈した後、塩化ナトリ・ウム飽和水
溶液で２回抽出し、硫酸ナトリウム上て乾燥しそして蒸
発せしめる。粗製生成物をシリカゲルでクロマトグラフ
処理して、７β−アミノー３−メトキシー３−セフエム
ー４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステルを得
る。これは２−セフエム異性体を若干含む場合もある。
訳一スペクトル（塩化メチレン）：１７９０−１ｃｍ及
びその他に吸収バンド。例７ 水（２０Ｔｎ１）及びアセトニトリル（２０ｍ１）中ｐ
−ニトロベンジル７−アミノー３−メトキシー３ーセフ
エムー４−カルボキシレート（７３０ｍ９）溶液を濃塩
酸で一時ＰＨｌまで酸性化する。
その後直ちに、この溶液を１Ｎ水酸化ナトリウムでＰＨ
２．５まで逆滴定する。次いで、この溶液を蒸発乾固し
、そして残留物をＴＨＦ４Ｏｍｌｌメタノール８０ｍ１
及び水６ｍ１の混合物中に溶解せしめる。然る後に、水
素圧５０ｐＳｉ下、室温において２時間この溶液を５％
パラジウム担持炭素（エタノール中であらかじめ還元さ
れている）７３０ｍｇの存在下において水素添加する。
触媒を枦去し、ＴＨＦ及び水で洗浄する。
２．５まで逆滴定する。次いで、この溶液を蒸発乾固し
、そして残留物をＴＨＦ４Ｏｍｌｌメタノール８０ｍ１
及び水６ｍ１の混合物中に溶解せしめる。然る後に、水
素圧５０ｐＳｉ下、室温において２時間この溶液を５％
パラジウム担持炭素（エタノール中であらかじめ還元さ
れている）７３０ｍｇの存在下において水素添加する。
触媒を枦去し、ＴＨＦ及び水で洗浄する。
合した洗液及び淵液を蒸発せしめ、そして水性残渣を酢
酸エチルでスラリーにする。スラリーのＰＨを３．５に
調整し、そして水相を分離し、酢酸エチルで洗浄する。
水相を容量４ｍ１に濃縮し次いで冷却すると、７−アミ
ノー３−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸が結
晶質固体として沈殿する。赤外線吸収スペクトル（Ｎｕ
わ１Ｍｕ１１）：５．６１ミクロン（ｐ−ラクタムカル
ボニル）に吸収ピーク。Ｎ．Ｍ．Ｒ．（ＤＭＳＯｄ６）
：６．３５（Ｓ．．２Ｈ，．Ｃ２Ｈ２）、６．２０（Ｓ
．．３Ｈ．．Ｃ３メトキシル）、５．３０（ＤｌｌＨ，
．Ｃ６Ｈ）及び４．９４（ＤｌｌＨ，．Ｃ７Ｈ）ＴａＵ
にシグナル。
酸エチルでスラリーにする。スラリーのＰＨを３．５に
調整し、そして水相を分離し、酢酸エチルで洗浄する。
水相を容量４ｍ１に濃縮し次いで冷却すると、７−アミ
ノー３−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸が結
晶質固体として沈殿する。赤外線吸収スペクトル（Ｎｕ
わ１Ｍｕ１１）：５．６１ミクロン（ｐ−ラクタムカル
ボニル）に吸収ピーク。Ｎ．Ｍ．Ｒ．（ＤＭＳＯｄ６）
：６．３５（Ｓ．．２Ｈ，．Ｃ２Ｈ２）、６．２０（Ｓ
．．３Ｈ．．Ｃ３メトキシル）、５．３０（ＤｌｌＨ，
．Ｃ６Ｈ）及び４．９４（ＤｌｌＨ，．Ｃ７Ｈ）ＴａＵ
にシグナル。
紫外線吸収スペクトル（ＰＨ７緩衝液）：λＪ．８Ｏ＝
２６８ｎ７ＴＬ（Ｅ＝６５００）。
２６８ｎ７ＴＬ（Ｅ＝６５００）。
例８
塩化メチレン（２０７ｎ１）中７β−アミノー３−メト
キシー３−セフエムー４α一カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステルの４−メチルフェニルースルホネート（１ｙ
）の溶液をＰＨ７〜８の燐酸塩緩衝液といつしよに振盪
する。
キシー３−セフエムー４α一カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステルの４−メチルフェニルースルホネート（１ｙ
）の溶液をＰＨ７〜８の燐酸塩緩衝液といつしよに振盪
する。
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥せしめ、０℃において
塩化水素で飽和しそして同温度に３紛間放置する。この
混合物を減圧下において低温で蒸発せしめる。残渣を水
４ｍ１中に溶解せしめそして塩化メチレンで抽出する。
水相をジオキサン４０ｍ１で処理する。７β−アミノー
３−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸ヒドロク
ロリドジオキサネートの結晶を淵別し、そして水及びジ
オキサンから再結晶する。
塩化水素で飽和しそして同温度に３紛間放置する。この
混合物を減圧下において低温で蒸発せしめる。残渣を水
４ｍ１中に溶解せしめそして塩化メチレンで抽出する。
水相をジオキサン４０ｍ１で処理する。７β−アミノー
３−メトキシー３−セフエムー４−カルボン酸ヒドロク
ロリドジオキサネートの結晶を淵別し、そして水及びジ
オキサンから再結晶する。
融点：〉３００℃。紫外線スペクトル（０．１Ｎ炭酸水
素ナトリウム）：λ１〜＝２７０ｒ１７ＴＬ（ε＝７６
００）。
素ナトリウム）：λ１〜＝２７０ｒ１７ＴＬ（ε＝７６
００）。
〔α〕芭０＝＋１３４ｒ±１Ｔ（Ｃ＝１；０．５Ｎ炭酸
水素ナトリウム）。例９ 例１又は例２と同様にし、但し７β−Ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノー３−メトキシー３−セフエムー４
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル又は７β一トリ
チルアミノー３−メトキシー３一セフエムー４−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステルの代りに７β−ベンジル
オキシカルボニルアミノー３−メトキシー３−セフエム
ー４−カルボン酸ジフェニルメチルエステルを酸性剤で
処理することにより次の化合物を得る。
水素ナトリウム）。例９ 例１又は例２と同様にし、但し７β−Ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノー３−メトキシー３−セフエムー４
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル又は７β一トリ
チルアミノー３−メトキシー３一セフエムー４−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステルの代りに７β−ベンジル
オキシカルボニルアミノー３−メトキシー３−セフエム
ー４−カルボン酸ジフェニルメチルエステルを酸性剤で
処理することにより次の化合物を得る。
７β−アミノー３−メトキシー３−セフエムー４−カル
ボン酸；ＩＲ−スペクトル（Ｎｕね１）：吸収帯５．５
９、６．１へ６．２２、６．４屯６．６５μ、及びその
他。
ボン酸；ＩＲ−スペクトル（Ｎｕね１）：吸収帯５．５
９、６．１へ６．２２、６．４屯６．６５μ、及びその
他。
例１０例１又は例２と同様にし、但し７β−Ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアミノー３−メトキシー３−セフエ
ムー４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル又は７β
一トリチルアミノー３−メトキシー３−セフエムー４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステルの代りに７β−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノー３−ｎ−ブチルオキシ
ー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル、７β−ベンジルオキシカルボニルアミノー３−エ
チルオキシー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル、７β−ベンジルオキシカルボｌニルー
アミノー３−ベンジルオキシー３−セフエムー４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステルを酸性剤で処理するこ
とにより次の化合物を得る。
ブトキシカルボニルアミノー３−メトキシー３−セフエ
ムー４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル又は７β
一トリチルアミノー３−メトキシー３−セフエムー４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステルの代りに７β−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノー３−ｎ−ブチルオキシ
ー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル、７β−ベンジルオキシカルボニルアミノー３−エ
チルオキシー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル、７β−ベンジルオキシカルボｌニルー
アミノー３−ベンジルオキシー３−セフエムー４−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステルを酸性剤で処理するこ
とにより次の化合物を得る。
７β−アミノー３−ｎ−ブチルオキシー３−セフエムー
４−カルボン酸ジフエニルメチルエステ７ル、ＩＲ−ス
ペクトル（ＣＨ２Ｃｌ２）：吸収帯５．６３、５．８へ
６．２５μ：７β−アミノー３−エチルオキシー３−セ
フエムー４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル、Ｉ
Ｒ−スペクトル（ＣＨ２Ｃｌ２）：吸収帯５．６屯５．
７８、６．２４μ；及び、７β−アミノー３−ベンジル
オキシー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル、ＩＲ−スペクトル（ＣＨ２Ｃｌ２）：吸収
帯５．６３、５．８０１６．２４μ。
４−カルボン酸ジフエニルメチルエステ７ル、ＩＲ−ス
ペクトル（ＣＨ２Ｃｌ２）：吸収帯５．６３、５．８へ
６．２５μ：７β−アミノー３−エチルオキシー３−セ
フエムー４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル、Ｉ
Ｒ−スペクトル（ＣＨ２Ｃｌ２）：吸収帯５．６屯５．
７８、６．２４μ；及び、７β−アミノー３−ベンジル
オキシー３−セフエムー４−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル、ＩＲ−スペクトル（ＣＨ２Ｃｌ２）：吸収
帯５．６３、５．８０１６．２４μ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次の式（ＸIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIII）▲数式、
化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿２はヒドロキシル基、または基Ｒ＾Ａ＿２
（該Ｒ＾Ａ＿２は式中のカルボニル基−Ｃ（＝Ｏ）−と
いつしよになつてエステル化された形態で保護されたカ
ルボキシル基を形成している基である）であり；Ｒ＿３
はアルキル基またはアラルキル基であり；Ｒ＾Ａ＿０は
アミノ保護アシル、トリアリールメチル、有機シリル又
は有機スタンニル基であり；そしてＲ＾ｂ＿０は水素で
ある、〕で表わされる化合物において、アシドリンスに
より７位のアミノ基を遊離せしめ；そして所望により、
塩形成基をもつ得られた化合物を塩に変えまたは得られ
た塩を遊離化合物に変え；そして／または所望により、
得られた異性体化合物の混合物を個々の異性体に分離す
ることを特徴とする、式（ I ）▲数式、化学式、表等
があります▼（ I ）〔式中、Ｒ＿２とＲ＿３とは前記
と同じ意味である〕で表わされるＯ−置換された７β−
アミノ−３−セフエム−３−オール−４−カルボン酸化
合物またはその塩の製造方法。 ２ 次の式（ＸIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIII）〔式中、
Ｒ＾Ａ＿０は式中のカルボニル基−Ｃ（＝０）−といつ
しよになつてエステル化された形態で保護されたカルボ
キシル基を形成している基であり；Ｒ＿３はアルキル基
またはアラルキル基であり；Ｒ＾Ａ＿０はアミノ保護ア
シル、トリアリールメチル、有機シリル又は有機スタン
ニル基であり；そしてＲ＾ｂ＿０は水素である、〕で表
わされる化合物において、アシドリンスにより７位のア
ミノ基を遊離せしめ；そして得られた化合物において式
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ＾Ａ＿０の保護されたカルボキシル基
を、加溶媒分解または還元によつて、遊離のカルボキシ
ル基に変え；そして所望により、塩形成基をもつ得られ
た化合物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物に変
え；そして／または所望により、得られた異性体化合物
の混合物を個々の異性体に分離することを特徴とする、
式（ I ′）、▲数式、化学式、表等があります▼（ I
′）〔式中、Ｒ＿３は前記と同じ意味である〕で表わ
されるＯ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３
−オール−４−カルボン酸化合物またはその塩の製造方
法。 ３ 次の式（ＸIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIII）〔式中Ｒ
＿２は基Ｒ＾Ａ＿２（該Ｒ＾Ａ＿２は式中のカルボニル
基−Ｃ（＝Ｏ）−といつしよになつてエステル化された
形態で保護されたカルボキシル基を形成している基であ
る）であり；Ｒ＿３はアルキル基またはアラルキル基で
あり；Ｒ＾Ａ＿０はアミノ保護アシル、トリアリールメ
チル、有機シリル又は有機スタンニル基であり；そして
Ｒ＾ｂ＿０は水素である、〕で表わされる化合物におい
て、アシドリンスにより７位のアミノ基を遊離せしめ；
そして得られた化合物において、式−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ＾
Ａ＿０の保護されたカルボキシル基から加溶媒分解もし
くは還元により保護基を脱離せしめて遊離カルボキシル
基を形成しそしてエステル化剤で処理することによりこ
の遊離カルボキシル基を再び保護することによつて、保
護されたカルボキシル基を他の保護されたカルボキシル
基に変え；そして所望により、塩形成基をもつ得られた
化合物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物に変え
；そして／または所望により、得られた異性体化合物の
混合物を個々の異性体に分離することを特徴とする、式
（ I ″）、▲数式、化学式、表等があります▼（ I ″
）〔式中、Ｒ＾Ａ＿２とＲ＿３とは前記と同じ意味であ
る〕で表わされる￥Ｏ￥−置換された７β−アミノ−３
−セフエム−３−オール−４−カルボン酸化合物または
その塩の製造方法。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH978872A CH587268A5 (en) | 1972-06-29 | 1972-06-29 | Substd carboxylic acid derivs - broad spectrum antibiotics and inters |
| CH9788/72 | 1972-06-29 | ||
| CH12195/72 | 1972-08-17 | ||
| CH18722/72 | 1972-12-22 | ||
| CH2655/73 | 1973-02-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5976089A JPS5976089A (ja) | 1984-04-28 |
| JPS6054320B2 true JPS6054320B2 (ja) | 1985-11-29 |
Family
ID=4355646
Family Applications (9)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54169494A Expired JPS5951957B2 (ja) | 1972-06-29 | 1979-12-27 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
| JP54169495A Expired JPS5938955B2 (ja) | 1972-06-29 | 1979-12-27 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
| JP54169493A Expired JPS5934196B2 (ja) | 1972-06-29 | 1979-12-27 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
| JP55094119A Expired JPS6019916B2 (ja) | 1972-06-29 | 1980-07-11 | ０−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
| JP9928280A Granted JPS5668684A (en) | 1972-06-29 | 1980-07-18 | Manufacture of oosubstituted 7 betaaaminoo33 cephemm33oll44carboxylic acid compound |
| JP9928380A Granted JPS5649390A (en) | 1972-06-29 | 1980-07-18 | Manufacture of 1 oxide of 33cephem compound |
| JP56017382A Expired JPS597716B2 (ja) | 1972-06-29 | 1981-02-07 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
| JP58146770A Expired JPS6054320B2 (ja) | 1972-06-29 | 1983-08-12 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製造方法 |
| JP58146771A Expired JPS6053037B2 (ja) | 1972-06-29 | 1983-08-12 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製造方法 |
Family Applications Before (7)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54169494A Expired JPS5951957B2 (ja) | 1972-06-29 | 1979-12-27 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
| JP54169495A Expired JPS5938955B2 (ja) | 1972-06-29 | 1979-12-27 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
| JP54169493A Expired JPS5934196B2 (ja) | 1972-06-29 | 1979-12-27 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
| JP55094119A Expired JPS6019916B2 (ja) | 1972-06-29 | 1980-07-11 | ０−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
| JP9928280A Granted JPS5668684A (en) | 1972-06-29 | 1980-07-18 | Manufacture of oosubstituted 7 betaaaminoo33 cephemm33oll44carboxylic acid compound |
| JP9928380A Granted JPS5649390A (en) | 1972-06-29 | 1980-07-18 | Manufacture of 1 oxide of 33cephem compound |
| JP56017382A Expired JPS597716B2 (ja) | 1972-06-29 | 1981-02-07 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58146771A Expired JPS6053037B2 (ja) | 1972-06-29 | 1983-08-12 | Ｏ−置換された７β−アミノ−３−セフエム−３−オ−ル−４−カルボン酸化合物の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (9) | JPS5951957B2 (ja) |
| CH (1) | CH587268A5 (ja) |
| PL (1) | PL104396B1 (ja) |
| SU (2) | SU609469A3 (ja) |
| ZA (1) | ZA734050B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021008846A1 (de) | 2019-07-12 | 2021-01-21 | Alzchem Trostberg Gmbh | Verfahren zur herstellung einer metastabilen kristallmodifikation von n-(aminoiminomethyl)-2-aminoethansäure (iv) |
| WO2021008848A1 (de) | 2019-07-12 | 2021-01-21 | Alzchem Trostberg Gmbh | Konzentrat zur herstellung einer tränklösung |
| WO2021028149A1 (de) | 2019-08-09 | 2021-02-18 | Alzchem Trostberg Gmbh | Konzentrat zur herstellung einer tränklösung (ii) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4045435A (en) * | 1974-10-09 | 1977-08-30 | Eli Lilly And Company | Preparation of cephalosporin ethers |
| JPH064638B2 (ja) * | 1985-05-17 | 1994-01-19 | 大塚化学株式会社 | β−ラクタム誘導体の製造方法 |
| ATE111468T1 (de) * | 1987-02-27 | 1994-09-15 | Banyu Pharma Co Ltd | Cephalosporinderivate, verfahren zu ihrer herstellung und antibakterielle mittel. |
| JPH0651816U (ja) * | 1992-12-15 | 1994-07-15 | 株式会社ニコン | 測量機のクランプ装置 |
| DE102010003919A1 (de) | 2010-04-13 | 2011-10-13 | Wacker Chemie Ag | Oberflächenbehandlung von zementären Untergründen |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3234223A (en) * | 1962-02-16 | 1966-02-08 | Ciba Geigy Corp | Preparation of 7-amino-cephalosporanic acid and derivatives |
| GB1070312A (en) * | 1962-11-23 | 1967-06-01 | Glaxo Lab Ltd | Preparation of 7-aminocephalosporanic acid |
| CH447172A (de) * | 1963-03-15 | 1967-11-30 | Ciba Geigy | Verfahren zur Herstellung von 7-Amino-cephalosporansäure-estern |
| US3503964A (en) * | 1966-11-29 | 1970-03-31 | Ciba Geigy Corp | Process for the manufacture of esters of 7-aminocephalosporanic acid |
| US3549628A (en) * | 1967-07-07 | 1970-12-22 | Lilly Co Eli | Side chain cleavage in desacetoxycephalosporin esters |
| US3647786A (en) * | 1968-10-03 | 1972-03-07 | Lilly Co Eli | Preparation of cephalosporin sulfoxides |
| US3641014A (en) * | 1968-10-03 | 1972-02-08 | Lilly Co Eli | Reduction of delta**3-cephalosporin sulfoxides |
| US3641018A (en) * | 1969-06-26 | 1972-02-08 | Lilly Co Eli | Process for preparing 7-amino cephalosporanic acid |
| GB1308822A (en) * | 1970-04-14 | 1973-03-07 | Beecham Group Ltd | 4-isopropylidene-3-oxocephams |
| JPS5035079B1 (ja) * | 1970-10-17 | 1975-11-13 |
-
1972
- 1972-06-29 CH CH978872A patent/CH587268A5/de not_active IP Right Cessation
-
1973
- 1973-06-14 ZA ZA734050A patent/ZA734050B/xx unknown
- 1973-06-27 SU SU731940201A patent/SU609469A3/ru active
- 1973-06-27 SU SU1940203A patent/SU542474A3/ru active
- 1973-06-29 PL PL1973173571A patent/PL104396B1/pl unknown
-
1979
- 1979-12-27 JP JP54169494A patent/JPS5951957B2/ja not_active Expired
- 1979-12-27 JP JP54169495A patent/JPS5938955B2/ja not_active Expired
- 1979-12-27 JP JP54169493A patent/JPS5934196B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-07-11 JP JP55094119A patent/JPS6019916B2/ja not_active Expired
- 1980-07-18 JP JP9928280A patent/JPS5668684A/ja active Granted
- 1980-07-18 JP JP9928380A patent/JPS5649390A/ja active Granted
-
1981
- 1981-02-07 JP JP56017382A patent/JPS597716B2/ja not_active Expired
-
1983
- 1983-08-12 JP JP58146770A patent/JPS6054320B2/ja not_active Expired
- 1983-08-12 JP JP58146771A patent/JPS6053037B2/ja not_active Expired
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021008846A1 (de) | 2019-07-12 | 2021-01-21 | Alzchem Trostberg Gmbh | Verfahren zur herstellung einer metastabilen kristallmodifikation von n-(aminoiminomethyl)-2-aminoethansäure (iv) |
| WO2021008843A1 (de) | 2019-07-12 | 2021-01-21 | Alzchem Trostberg Gmbh | Metastabile kristallmodifikation und verfahren zu deren herstellung (i) |
| WO2021008844A1 (de) | 2019-07-12 | 2021-01-21 | Alzchem Trostberg Gmbh | Metastabile kristallmodifikation und verfahren zu deren herstellung (ii) |
| WO2021008845A1 (de) | 2019-07-12 | 2021-01-21 | Alzchem Trostberg Gmbh | Verfahren zur herstellung einer metastabilen kristallmodifikation von n-(aminoiminomethyl)-2-aminoethansäure (iii) |
| WO2021008848A1 (de) | 2019-07-12 | 2021-01-21 | Alzchem Trostberg Gmbh | Konzentrat zur herstellung einer tränklösung |
| EP4296262A1 (de) | 2019-07-12 | 2023-12-27 | Alzchem Trostberg GmbH | Verfahren zur herstellung einer metastabilen kristallmodifikation von n-(aminoiminomethyl)-2-aminoethansäure (iv) |
| WO2021028149A1 (de) | 2019-08-09 | 2021-02-18 | Alzchem Trostberg Gmbh | Konzentrat zur herstellung einer tränklösung (ii) |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5934196B2 (ja) | 1984-08-21 |
| ZA734050B (en) | 1974-05-29 |
| CH587268A5 (en) | 1977-04-29 |
| JPS56127392A (en) | 1981-10-06 |
| JPS5938955B2 (ja) | 1984-09-20 |
| JPS5951957B2 (ja) | 1984-12-17 |
| JPS55105690A (en) | 1980-08-13 |
| SU609469A3 (ru) | 1978-05-30 |
| JPS618071B2 (ja) | 1986-03-11 |
| JPS5649390A (en) | 1981-05-02 |
| JPS6053037B2 (ja) | 1985-11-22 |
| JPS5639093A (en) | 1981-04-14 |
| JPS5976089A (ja) | 1984-04-28 |
| JPS5668684A (en) | 1981-06-09 |
| JPS55105692A (en) | 1980-08-13 |
| SU542474A3 (ru) | 1977-01-05 |
| JPS618070B2 (ja) | 1986-03-11 |
| JPS55105691A (en) | 1980-08-13 |
| JPS5976090A (ja) | 1984-04-28 |
| JPS6019916B2 (ja) | 1985-05-18 |
| PL104396B1 (pl) | 1979-08-31 |
| JPS597716B2 (ja) | 1984-02-20 |
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