JPS6058671B2 - 加速粒子照射による殺菌方法および殺菌装置 - Google Patents
加速粒子照射による殺菌方法および殺菌装置Info
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- JPS6058671B2 JPS6058671B2 JP56082460A JP8246081A JPS6058671B2 JP S6058671 B2 JPS6058671 B2 JP S6058671B2 JP 56082460 A JP56082460 A JP 56082460A JP 8246081 A JP8246081 A JP 8246081A JP S6058671 B2 JPS6058671 B2 JP S6058671B2
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- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は加速粒子照射による殺菌方法および殺菌装
置に関する。
置に関する。
種種の殺菌方法が広く知られかつ実施されてい るが
、そのいずれも重大な欠点を伴なう。
、そのいずれも重大な欠点を伴なう。
煮沸による殺菌では芽胞菌が充分に殺菌できない。被殺
菌物を高温の空気または高温高圧の水蒸気にさらすいわ
ゆる熱殺菌方法では被殺菌物が耐熱性でなければならず
、従つて被殺菌物の材質が極めて限定される。高周波加
熱またはマイクロ波加熱のような別の加熱手段による殺
菌方法でも同様の欠点が存する。酸化エチレンのような
殺菌剤をガス状態にして被殺菌物を収容した容器に充満
させるガス殺菌方法では、適当な殺菌効果を得るために
ガスの濃度、温度、湿度および圧力などの諸条件を適当
な値に調節しなければならないが、この調節が厄介であ
りしかもこれら諸条件の変動で殺菌効果に大きな変化が
生じる。しかもその効果をあげるには長時間を要し、ま
た長時間作業を続けたのちでも被殺菌物の形状が複雑な
場合にはガスが十分に被殺菌物に浸透せず殺菌の不十分
な個所が生じるおそれがある。さらにこの殺菌方法に使
用される酸化エチレンのような殺菌剤は有毒である’が
、これが被殺菌物に吸着されて長時間残留する。被殺菌
物に紫外線を照射する紫外線殺菌方法においては比較的
短時間で殺菌効果が得られるが、紫外線ランプの汚れな
どで紫外線の強度がかなり低下して殺菌効果が低減する
。しかも細菌の密度がＩＱ’個／ｃ♯ｆまたはそれ以上
のように大なると細菌自体の陰影効果によつて殺菌効果
が不十分になる。この発明の目的は、上述した従来の各
種殺菌方法の欠点を除去した新規な殺菌方法とこの方法
の実施に適した殺菌装置とを提供することにある。この
目的の達成のため、この発明による殺菌方法は、毒性を
有しない気体をイオン化し、これによつて形成されたイ
オンを加速して被殺菌物に照射し、被殺菌物に付着して
いる細菌を照射のエネルギによつて殺菌することを特徴
とする。必要に応じイオンが中性化されたのちに被殺菌
物に照射される。また、この発明による殺菌装置は、真
空に排気てきる気密殺菌容器の中で被殺菌物を支持でき
る支持部材と、毒性のない気体を導入できこの気体をイ
オン化するように構成されたイオン発生器との間に、前
記イオン化によつて形成されたイオンを加速する加速器
を、前記の加速されたイオンで前記殺菌容器の中の被殺
菌物を照射できるように配置し、被殺菌物に付着してい
る細菌を照射のエネルギによつて殺菌できるようにした
ことを特徴とする。この場合に必要に応じ中性化器が設
けられてイオンが中性化されたのちに被殺菌物に照射さ
れる。従つてこの発明による殺菌方法および殺菌装置は
、煮沸、高温の空気、高温高圧の水蒸気、高周波加熱、
マイクロ波加熱、殺菌剤のガス、紫外線などを全く利用
しないので、これらを利用した従来の殺菌方法の欠点を
全く有しない殺菌を達成できる。
菌物を高温の空気または高温高圧の水蒸気にさらすいわ
ゆる熱殺菌方法では被殺菌物が耐熱性でなければならず
、従つて被殺菌物の材質が極めて限定される。高周波加
熱またはマイクロ波加熱のような別の加熱手段による殺
菌方法でも同様の欠点が存する。酸化エチレンのような
殺菌剤をガス状態にして被殺菌物を収容した容器に充満
させるガス殺菌方法では、適当な殺菌効果を得るために
ガスの濃度、温度、湿度および圧力などの諸条件を適当
な値に調節しなければならないが、この調節が厄介であ
りしかもこれら諸条件の変動で殺菌効果に大きな変化が
生じる。しかもその効果をあげるには長時間を要し、ま
た長時間作業を続けたのちでも被殺菌物の形状が複雑な
場合にはガスが十分に被殺菌物に浸透せず殺菌の不十分
な個所が生じるおそれがある。さらにこの殺菌方法に使
用される酸化エチレンのような殺菌剤は有毒である’が
、これが被殺菌物に吸着されて長時間残留する。被殺菌
物に紫外線を照射する紫外線殺菌方法においては比較的
短時間で殺菌効果が得られるが、紫外線ランプの汚れな
どで紫外線の強度がかなり低下して殺菌効果が低減する
。しかも細菌の密度がＩＱ’個／ｃ♯ｆまたはそれ以上
のように大なると細菌自体の陰影効果によつて殺菌効果
が不十分になる。この発明の目的は、上述した従来の各
種殺菌方法の欠点を除去した新規な殺菌方法とこの方法
の実施に適した殺菌装置とを提供することにある。この
目的の達成のため、この発明による殺菌方法は、毒性を
有しない気体をイオン化し、これによつて形成されたイ
オンを加速して被殺菌物に照射し、被殺菌物に付着して
いる細菌を照射のエネルギによつて殺菌することを特徴
とする。必要に応じイオンが中性化されたのちに被殺菌
物に照射される。また、この発明による殺菌装置は、真
空に排気てきる気密殺菌容器の中で被殺菌物を支持でき
る支持部材と、毒性のない気体を導入できこの気体をイ
オン化するように構成されたイオン発生器との間に、前
記イオン化によつて形成されたイオンを加速する加速器
を、前記の加速されたイオンで前記殺菌容器の中の被殺
菌物を照射できるように配置し、被殺菌物に付着してい
る細菌を照射のエネルギによつて殺菌できるようにした
ことを特徴とする。この場合に必要に応じ中性化器が設
けられてイオンが中性化されたのちに被殺菌物に照射さ
れる。従つてこの発明による殺菌方法および殺菌装置は
、煮沸、高温の空気、高温高圧の水蒸気、高周波加熱、
マイクロ波加熱、殺菌剤のガス、紫外線などを全く利用
しないので、これらを利用した従来の殺菌方法の欠点を
全く有しない殺菌を達成できる。
見出されたところによれば、上述したような特徴を有す
るこの発明の殺菌装置によつて低温、短時間で被殺菌物
の形状および材質にかかわりなく．十分な殺菌効果が得
られる。
るこの発明の殺菌装置によつて低温、短時間で被殺菌物
の形状および材質にかかわりなく．十分な殺菌効果が得
られる。
かかる点から見てこの発明は極めて有効で無害な殺菌を
達成する。以下この発明の殺菌方法および殺菌装置の実
施例について図面を参照しながら詳説する。摘１図に図
示されるようにこの発明による殺菌！装置の第１実施例
は気密構成の殺菌容器１を有し、これの中には被殺菌物
例えば瓶２を支持する支持部材３例えは支持台または支
持棚が定置配置され、殺菌容器１の側部に設けられる被
殺菌物出入口は殺菌容器の外面に蝶着された扉４によつ
て・気密に閉鎖できる。
達成する。以下この発明の殺菌方法および殺菌装置の実
施例について図面を参照しながら詳説する。摘１図に図
示されるようにこの発明による殺菌！装置の第１実施例
は気密構成の殺菌容器１を有し、これの中には被殺菌物
例えば瓶２を支持する支持部材３例えは支持台または支
持棚が定置配置され、殺菌容器１の側部に設けられる被
殺菌物出入口は殺菌容器の外面に蝶着された扉４によつ
て・気密に閉鎖できる。
殺菌容器１の内部を例えば１×１０−５トール以下の真
空に排出し維持するため、殺菌容器１は真空排気系５に
連結される。この真空排気系５は例えば、殺菌容器１の
第１排気口６に開閉弁７を介して連結される油拡散ポン
プ８、油拡散ポンプ８の排気側に切換弁９を介して連結
される油回転真空ポンプ１０、および殺菌容器１の第２
排気口１１と切換弁９を連結する荒引き配管１２などに
よつて構成される。かかる真空排気系５の詳細な構成お
よび作動方法は当業者によく知られている。殺菌容器１
はさらに空気導入弁１３を備えた清浄空気導入口を有す
る。殺菌容器１は大きな上部開口１４を有し、これ・は
気密に構成された加速粒子発生系ハウジング１５の下端
開口１６に連結される。
空に排出し維持するため、殺菌容器１は真空排気系５に
連結される。この真空排気系５は例えば、殺菌容器１の
第１排気口６に開閉弁７を介して連結される油拡散ポン
プ８、油拡散ポンプ８の排気側に切換弁９を介して連結
される油回転真空ポンプ１０、および殺菌容器１の第２
排気口１１と切換弁９を連結する荒引き配管１２などに
よつて構成される。かかる真空排気系５の詳細な構成お
よび作動方法は当業者によく知られている。殺菌容器１
はさらに空気導入弁１３を備えた清浄空気導入口を有す
る。殺菌容器１は大きな上部開口１４を有し、これ・は
気密に構成された加速粒子発生系ハウジング１５の下端
開口１６に連結される。
ハウジング１５の中には上から順にイオン発生器１７、
加速器１８および中性化器１９が配置される。なおこれ
らのうちの若干は殺菌容器１の中に配置されてもよい。
イオン発生器１７はハウジング１５の上部に設けられた
気体導入口２０から導入される毒性を有しない気体例え
ばアルゴンのような不活性気体または酸素をイオン化す
る役をなし、例えばＲＦイオン源または熱陰極型イオン
源などによつて構成される。
加速器１８および中性化器１９が配置される。なおこれ
らのうちの若干は殺菌容器１の中に配置されてもよい。
イオン発生器１７はハウジング１５の上部に設けられた
気体導入口２０から導入される毒性を有しない気体例え
ばアルゴンのような不活性気体または酸素をイオン化す
る役をなし、例えばＲＦイオン源または熱陰極型イオン
源などによつて構成される。
加速器１８はイオン発生器１７で発生したイオンを加速
する役詳しく言えば加速し引出す役をなすものであつて
通常は電極によつて構成される。中性化器１９は熱電子
放射フィラメントまたは電荷交換セルなどによつて構成
され、加速器１８によつて加速されたイオンを中性化す
る作用をする。上述したイオン発生器１７、加速器１８
および中性化器１９の１例について第２図を参照して説
明すると、上方中央に配置され加熱用直流を印加される
熱フィラメント２１のまわりには陽極２２が配置され、
陽極２２のまわりには励磁用直流を印加される電磁石２
３が設けられ、さらに陽極２２の下方には陽極２２に対
して負の電圧を印加される陰極格子２４が配置される。
する役詳しく言えば加速し引出す役をなすものであつて
通常は電極によつて構成される。中性化器１９は熱電子
放射フィラメントまたは電荷交換セルなどによつて構成
され、加速器１８によつて加速されたイオンを中性化す
る作用をする。上述したイオン発生器１７、加速器１８
および中性化器１９の１例について第２図を参照して説
明すると、上方中央に配置され加熱用直流を印加される
熱フィラメント２１のまわりには陽極２２が配置され、
陽極２２のまわりには励磁用直流を印加される電磁石２
３が設けられ、さらに陽極２２の下方には陽極２２に対
して負の電圧を印加される陰極格子２４が配置される。
これらの部材２１，２２，２３、および２４によつてこ
れらで囲まれた空間の中にグロー放電が発生できそれに
よつてイオン化が達成される。よつてこれらの部材２１
，２２，２３および２４はイオン発生器１７を構成する
。前記陰極格子２４は接地されている支持部材３に対し
て例えば０から１０００Ｖの正の電圧を印加され、また
陰極格子２４の下方に配置される引出し格子２５は接地
に対して例えば−１００から−２００Ｖの負の電圧を印
加され、これら格子２４，２５はイオンを加速し引出す
加速器１８を構成する。引出し格子２５の下方には中性
化器１９を構成したイオンを中性化する作用をなす中性
化フィラメント２６が配置され、これは加熱用直流を印
加されその負の端子は接地される。引出し格子２５と中
性化フィラメント２６の間の空間のまわりには、接地に
対して負の電圧を印加されるリペラ２７が配置される。
２８は電源を示す。
れらで囲まれた空間の中にグロー放電が発生できそれに
よつてイオン化が達成される。よつてこれらの部材２１
，２２，２３および２４はイオン発生器１７を構成する
。前記陰極格子２４は接地されている支持部材３に対し
て例えば０から１０００Ｖの正の電圧を印加され、また
陰極格子２４の下方に配置される引出し格子２５は接地
に対して例えば−１００から−２００Ｖの負の電圧を印
加され、これら格子２４，２５はイオンを加速し引出す
加速器１８を構成する。引出し格子２５の下方には中性
化器１９を構成したイオンを中性化する作用をなす中性
化フィラメント２６が配置され、これは加熱用直流を印
加されその負の端子は接地される。引出し格子２５と中
性化フィラメント２６の間の空間のまわりには、接地に
対して負の電圧を印加されるリペラ２７が配置される。
２８は電源を示す。
第１図および第２図に示した殺菌装置によつて殺菌を行
なう場合には、最初に扉４が開けられて被殺菌物２が支
持部材３に載せられる。扉４を閉じたのちに真空排気系
５によつて殺菌容器１およびハウジング１５の中が例え
ば１×１０−５トール以下の真空に排気される。かかる
真空排気の作動方法は周知であるので詳述しない。次い
で気体導入口２０から前述したような毒性なしの気体が
殺菌容器１およびハウジング１５の中に導入されてこれ
らの中のかかる気体の圧力が１×１０−５ないし１×１
０−４トールのような値に調節される。この圧力はイオ
ン発生器１７と被殺菌物２の間の間隔がこの気体の平均
自由行程以内になるように選択される。次いで電源２８
によつて部材２１から２７に電流が供給され電圧が印加
されると、前述したことから明らかなように気体のイオ
ン化、イオンの加速（および引出し）、加速されたイオ
ンの中性化が起り中性気体分子が被殺菌物２を照射し、
被殺菌物に付着していた細菌が照射のエネルギによつて
殺菌される。殺菌作業が終了したのちに電源２８が切ら
れ、清浄空気が空気導入弁１３を備えた空気導入口から
殺菌容器１およびハウジング１５の中に導入され、被殺
菌物２が殺菌容器１から取出される。被殺菌物２を取出
すことなく保存する場合には殺菌容器１およびハウジン
グ１５の中を真空状態にして置くとによつて無菌的な保
存が達成される。支持部材３は照射作業中に水冷などに
よつて冷却して置くのが望ましい。上述の殺菌に要する
時間は数分のように短く、殺菌作業は毒性のない気体を
使用するので安全に遂行され、また被殺菌物の温度は実
質上上昇しない。さらに加速電圧を調節することによつ
て、被殺菌物の材質形状にかかわらずそれに適した殺菌
が被殺菌物を損傷することなく達成できる。上述したこ
の発明の殺菌装置を使用殺菌方法において、枯草菌芽胞
を１Ｃｆ′個／Ｃｌｔの密度でガラス板の面に塗布した
ものを被殺菌物とした試験結果を第３図に示す。この際
に気体としてはアルゴンが使用され、これが殺菌容器１
およびハウジング１５の中で５×１０−５トールの圧力
に維持された。被殺菌物２とイオン発生器１７の間の距
離はこの圧力におけるアルゴンの平均自由行程以下であ
る２５ｃｍであり、加速電圧として１０００■が採用さ
れた。殺菌処理時間と生菌数の関係は第３図に示す通り
であり、この第３図のグラフで横軸は処理時間を分で表
わし縦軸は生菌数を個／ｄで表わす。このグラフから明
らかなように約５分間で実質上完全な殺菌が達成された
。第４図は半連続的な殺菌に適した殺菌装置の実施例を
示し、ここで第１図に示したと同一または類似の構成要
素は同じ符号で示す。
なう場合には、最初に扉４が開けられて被殺菌物２が支
持部材３に載せられる。扉４を閉じたのちに真空排気系
５によつて殺菌容器１およびハウジング１５の中が例え
ば１×１０−５トール以下の真空に排気される。かかる
真空排気の作動方法は周知であるので詳述しない。次い
で気体導入口２０から前述したような毒性なしの気体が
殺菌容器１およびハウジング１５の中に導入されてこれ
らの中のかかる気体の圧力が１×１０−５ないし１×１
０−４トールのような値に調節される。この圧力はイオ
ン発生器１７と被殺菌物２の間の間隔がこの気体の平均
自由行程以内になるように選択される。次いで電源２８
によつて部材２１から２７に電流が供給され電圧が印加
されると、前述したことから明らかなように気体のイオ
ン化、イオンの加速（および引出し）、加速されたイオ
ンの中性化が起り中性気体分子が被殺菌物２を照射し、
被殺菌物に付着していた細菌が照射のエネルギによつて
殺菌される。殺菌作業が終了したのちに電源２８が切ら
れ、清浄空気が空気導入弁１３を備えた空気導入口から
殺菌容器１およびハウジング１５の中に導入され、被殺
菌物２が殺菌容器１から取出される。被殺菌物２を取出
すことなく保存する場合には殺菌容器１およびハウジン
グ１５の中を真空状態にして置くとによつて無菌的な保
存が達成される。支持部材３は照射作業中に水冷などに
よつて冷却して置くのが望ましい。上述の殺菌に要する
時間は数分のように短く、殺菌作業は毒性のない気体を
使用するので安全に遂行され、また被殺菌物の温度は実
質上上昇しない。さらに加速電圧を調節することによつ
て、被殺菌物の材質形状にかかわらずそれに適した殺菌
が被殺菌物を損傷することなく達成できる。上述したこ
の発明の殺菌装置を使用殺菌方法において、枯草菌芽胞
を１Ｃｆ′個／Ｃｌｔの密度でガラス板の面に塗布した
ものを被殺菌物とした試験結果を第３図に示す。この際
に気体としてはアルゴンが使用され、これが殺菌容器１
およびハウジング１５の中で５×１０−５トールの圧力
に維持された。被殺菌物２とイオン発生器１７の間の距
離はこの圧力におけるアルゴンの平均自由行程以下であ
る２５ｃｍであり、加速電圧として１０００■が採用さ
れた。殺菌処理時間と生菌数の関係は第３図に示す通り
であり、この第３図のグラフで横軸は処理時間を分で表
わし縦軸は生菌数を個／ｄで表わす。このグラフから明
らかなように約５分間で実質上完全な殺菌が達成された
。第４図は半連続的な殺菌に適した殺菌装置の実施例を
示し、ここで第１図に示したと同一または類似の構成要
素は同じ符号で示す。
これにおいて殺菌容器１はその右側で気密ゲート３０を
介して被殺菌物貯蔵室側の気密通路３１に連結され、左
側で気密ゲート３２を介して被殺菌物包装系側の気密通
路３３に連結される。気密通路３１および３３は適当な
それ自身の真空排気系３４および３５に連結される。こ
の殺菌装置においては例えば殺菌容器１（およびハウジ
ング１５）の中、気密通路３１の中および気密通路３３
の中が真空に排気した状態で気密ゲート３０を開き適当
な輸送手段３６によつて被殺菌物２が気密通路３１から
殺菌容器１の中へ移送される。次いで気密ゲート３０を
閉じたのちに（このときに気密ゲート３２も閉じている
）第１図および第２図について説明したと同様にして殺
菌が達成される。殺菌作業が終・了したのちに気密ゲー
ト３２が開かれ殺菌ずみの被殺菌物２が適当な輸送手段
３７によつて殺菌容器１から気密通路３３の中へ移送さ
れ、次いで気密ゲート３２が閉じられる。上述した作業
の繰返しによつて半連続的な殺菌が達成される。なお、
第１図および第４図に示した実施例において中性化器１
９が省略されてもよく、この場合には加速されたイオン
が直接に被殺菌物に照射される。
介して被殺菌物貯蔵室側の気密通路３１に連結され、左
側で気密ゲート３２を介して被殺菌物包装系側の気密通
路３３に連結される。気密通路３１および３３は適当な
それ自身の真空排気系３４および３５に連結される。こ
の殺菌装置においては例えば殺菌容器１（およびハウジ
ング１５）の中、気密通路３１の中および気密通路３３
の中が真空に排気した状態で気密ゲート３０を開き適当
な輸送手段３６によつて被殺菌物２が気密通路３１から
殺菌容器１の中へ移送される。次いで気密ゲート３０を
閉じたのちに（このときに気密ゲート３２も閉じている
）第１図および第２図について説明したと同様にして殺
菌が達成される。殺菌作業が終・了したのちに気密ゲー
ト３２が開かれ殺菌ずみの被殺菌物２が適当な輸送手段
３７によつて殺菌容器１から気密通路３３の中へ移送さ
れ、次いで気密ゲート３２が閉じられる。上述した作業
の繰返しによつて半連続的な殺菌が達成される。なお、
第１図および第４図に示した実施例において中性化器１
９が省略されてもよく、この場合には加速されたイオン
が直接に被殺菌物に照射される。
ノ 第１図はこの発明による殺菌装置の第１実施例の図
解図、第２図は第１図の殺菌装置に採用されたイオン発
生器、加速器および中性化器の配置および回路を略示す
る線図、第３図は第１図の装置を用した殺菌効果を表わ
すグラフ、第４図はこの発明による殺菌装置の第２実施
例の図解図である。 図面において１は殺菌容器、２は被殺菌物、３は支持部
材、１７はイオン発生器、１８は加速器、１９は中性化
器を示す。
解図、第２図は第１図の殺菌装置に採用されたイオン発
生器、加速器および中性化器の配置および回路を略示す
る線図、第３図は第１図の装置を用した殺菌効果を表わ
すグラフ、第４図はこの発明による殺菌装置の第２実施
例の図解図である。 図面において１は殺菌容器、２は被殺菌物、３は支持部
材、１７はイオン発生器、１８は加速器、１９は中性化
器を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 毒性を有しない気体をイオン化し、これによつて形
成されたイオンを加速してこれを被殺菌物に照射し、被
殺菌物に付着している細菌を照射のエネルギによつて殺
菌することを特徴とする加速粒子照射による殺菌方法。 ２ 加速されたイオンを中性化したのちに被殺菌物に照
射する特許請求の範囲第１項に記載の殺菌方法。３ 真
空に排気できる気密殺菌容器の中で被殺菌物を支持でき
る支持部材と、毒性のない気体を導入できこの気体をイ
オン化するように構成されたイオン発生器との間に、前
記イオン化によつて形成されたイオンを加速する加速器
を、前記の加速されたイオンで前記殺菌容器の中の被殺
菌物を照射できるように配置し、被殺菌物に付着してい
る細菌を照射のエネルギによつて殺菌できるようにした
ことを特徴とする加速粒子照射による殺菌装置。 ４ 加速されたイオンを中性化する中性化器を有し、中
性化器で発生した中性粒子を被殺菌物に照射するように
した特許請求の範囲第３項に記載の殺菌装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56082460A JPS6058671B2 (ja) | 1981-06-01 | 1981-06-01 | 加速粒子照射による殺菌方法および殺菌装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56082460A JPS6058671B2 (ja) | 1981-06-01 | 1981-06-01 | 加速粒子照射による殺菌方法および殺菌装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57200157A JPS57200157A (en) | 1982-12-08 |
| JPS6058671B2 true JPS6058671B2 (ja) | 1985-12-20 |
Family
ID=13775115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56082460A Expired JPS6058671B2 (ja) | 1981-06-01 | 1981-06-01 | 加速粒子照射による殺菌方法および殺菌装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6058671B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6260674U (ja) * | 1985-10-03 | 1987-04-15 |
-
1981
- 1981-06-01 JP JP56082460A patent/JPS6058671B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6260674U (ja) * | 1985-10-03 | 1987-04-15 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57200157A (en) | 1982-12-08 |
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