JPS6059904B2 - スルホネ−ト誘導体およびその製造方法 - Google Patents
スルホネ−ト誘導体およびその製造方法Info
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- JPS6059904B2 JPS6059904B2 JP1121480A JP1121480A JPS6059904B2 JP S6059904 B2 JPS6059904 B2 JP S6059904B2 JP 1121480 A JP1121480 A JP 1121480A JP 1121480 A JP1121480 A JP 1121480A JP S6059904 B2 JPS6059904 B2 JP S6059904B2
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なスルホネート誘導体およびその製造方法
に関する。
に関する。
本発明に係るスルホネート誘導体は一般式〔式中、R1
は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルコキ
シアルキル基、アラルキル基、環状アルキル基又は置換
基を有し若しくは有しないアリール(置換基としては炭
素数1〜12のアルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲ
ン、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アセトアミノ基
、ニトロ基又はエチレンジオキシメチル基)、R2は炭
素数1〜15のアルキル基又は炭素数2〜15のアルケ
ニル基〕で示されるスルホネート誘導体である。
は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルコキ
シアルキル基、アラルキル基、環状アルキル基又は置換
基を有し若しくは有しないアリール(置換基としては炭
素数1〜12のアルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲ
ン、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アセトアミノ基
、ニトロ基又はエチレンジオキシメチル基)、R2は炭
素数1〜15のアルキル基又は炭素数2〜15のアルケ
ニル基〕で示されるスルホネート誘導体である。
上記一般式(1)のR1における炭素数1〜4のアルキ
ル基の例としてはメチル、エチル、プロピル、ブチルを
、炭素数2〜6のアルコキシアルキル基の例としてはエ
トキシメチル、メトキシエチル、エトキシプロピル、メ
トキシブチル等を、アラルキル基の例としては炭素数7
〜10のアラルキル基、例えばベンジル、フェネチル、
フェニルプロピル、ベンゼン核にメチル、エチル等を置
換基として有するベンジル、フェネチル等を、環状アル
キル基としては炭素数5〜8の環状アルキルー基、例え
ばシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル等
を、アリール基の例としてはフェニル、ナフチル等を、
また該アリールの置換基としての炭素数1〜12のアル
キル基の例としては、メチル、プロピル、ヘキシル、デ
シル、ドデシルー等、低級アルコキシ基の例としては炭
素数1〜6のアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ
、ヘキシルオキシ等、ハロゲンの例としては弗素、塩素
、臭素、沃素を挙げることができる。またR2における
炭素数1〜15のアルキル基の例としてはメチル、エチ
ル、プロピル、ヘキシル、デシル、ドデシル、ペンタデ
シル等を、炭素数2〜15のアルケニル基の例としては
ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、デセニル、テ
トラデセニル等を挙げることができる。
ル基の例としてはメチル、エチル、プロピル、ブチルを
、炭素数2〜6のアルコキシアルキル基の例としてはエ
トキシメチル、メトキシエチル、エトキシプロピル、メ
トキシブチル等を、アラルキル基の例としては炭素数7
〜10のアラルキル基、例えばベンジル、フェネチル、
フェニルプロピル、ベンゼン核にメチル、エチル等を置
換基として有するベンジル、フェネチル等を、環状アル
キル基としては炭素数5〜8の環状アルキルー基、例え
ばシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル等
を、アリール基の例としてはフェニル、ナフチル等を、
また該アリールの置換基としての炭素数1〜12のアル
キル基の例としては、メチル、プロピル、ヘキシル、デ
シル、ドデシルー等、低級アルコキシ基の例としては炭
素数1〜6のアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ
、ヘキシルオキシ等、ハロゲンの例としては弗素、塩素
、臭素、沃素を挙げることができる。またR2における
炭素数1〜15のアルキル基の例としてはメチル、エチ
ル、プロピル、ヘキシル、デシル、ドデシル、ペンタデ
シル等を、炭素数2〜15のアルケニル基の例としては
ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、デセニル、テ
トラデセニル等を挙げることができる。
本発明の上記化合物は新規化合物であつて、エステラー
ゼ阻害作用およびキモトリプシン阻害作用を有しており
、抗高脂血症剤、抗炎症剤および)免疫抑制剤として有
用な化合物てある。
ゼ阻害作用およびキモトリプシン阻害作用を有しており
、抗高脂血症剤、抗炎症剤および)免疫抑制剤として有
用な化合物てある。
本発明の一般式(1)で示される化合物は例えば次に示
すA法およびB法の2方法によつて製造される。
すA法およびB法の2方法によつて製造される。
(式中、R2は前記に同じ)で示される化合物と一般式
”(式中、R1は前記に同じ、mはO又は1〜2の整数
)で示されるスルホン酸化合物を反応させる方法。
”(式中、R1は前記に同じ、mはO又は1〜2の整数
)で示されるスルホン酸化合物を反応させる方法。
くB法〉
一般式
(式中、R2は前記に同じ)で示される化合物と一般式
(式中、R1は前記に同じ)で示されるスルホン酸銀塩
を反応させる方法。
(式中、R1は前記に同じ)で示されるスルホン酸銀塩
を反応させる方法。
本発明におけるA法は通常溶媒中て行なわれ、溶媒とし
ては反応に関与しないものである限り、特に限定されな
いが、一般にジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセト
ニトリル、クロロホルム、ジクロルメタン等の非プロト
ン性溶媒、石油エーテル、リグロイン等が好適に用いら
れる。
ては反応に関与しないものである限り、特に限定されな
いが、一般にジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセト
ニトリル、クロロホルム、ジクロルメタン等の非プロト
ン性溶媒、石油エーテル、リグロイン等が好適に用いら
れる。
化合物(■)とスルホン酸化合物(■)の使用割合は適
宜選択すればよいが、一般には化合物(■)に対し、ス
ルホン酸化合物(■)を等モル以上使用するのが有利で
ある。また反応温度は一般に約−10〜60℃て、好ま
しくは約0℃〜室温程度において有利に進行する。A法
において原料として用いられる化合物(■)は通常公知
の化合物(■)とジアゾメタンから、次のような公知の
反応を経て製造することができる。
宜選択すればよいが、一般には化合物(■)に対し、ス
ルホン酸化合物(■)を等モル以上使用するのが有利で
ある。また反応温度は一般に約−10〜60℃て、好ま
しくは約0℃〜室温程度において有利に進行する。A法
において原料として用いられる化合物(■)は通常公知
の化合物(■)とジアゾメタンから、次のような公知の
反応を経て製造することができる。
(式中、R2は前記に同じ)。
化合物(■)とジアゾメタンの反応は通常溶媒中におい
て行なわれる。溶媒としては、例えばジメチルエーテル
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、アセトニトリル、クロロホルム、ジク
ロルメタン等の非プロトン性溶媒、石油エーテル、リグ
ロイン等が用いられる。化合物(■)とジアゾメタンの
使用割合は一般に化合物(■)に対してジアゾメタンを
約2倍モル以上使用するのが有利である。また反応温度
は約−10℃〜室温程度において有利に進行する。以上
の反応により化合物(■)が生成し、これはクロマトグ
ラフィー、再結晶等の通常の分離手段により単離可能で
あるが、多くの場合単離せずに次の反応に用いる事が出
来る。本発明におけるB法は通常無溶液かまたは溶媒中
で行なわれる。
て行なわれる。溶媒としては、例えばジメチルエーテル
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、アセトニトリル、クロロホルム、ジク
ロルメタン等の非プロトン性溶媒、石油エーテル、リグ
ロイン等が用いられる。化合物(■)とジアゾメタンの
使用割合は一般に化合物(■)に対してジアゾメタンを
約2倍モル以上使用するのが有利である。また反応温度
は約−10℃〜室温程度において有利に進行する。以上
の反応により化合物(■)が生成し、これはクロマトグ
ラフィー、再結晶等の通常の分離手段により単離可能で
あるが、多くの場合単離せずに次の反応に用いる事が出
来る。本発明におけるB法は通常無溶液かまたは溶媒中
で行なわれる。
溶媒としては反応に関与しないものである限り、特に限
定されないが、一般にはメタノール、エタノール等の低
級アルコール、アセトン、アセトニリル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド等の極性溶
媒が好適に用いられる。化合物(■)と化合物(V)の
使用割合は適宜選択すればよいが、一般に等モル使用す
るのが有利てある。また反応温度も適宜選択すればよい
が、一般に室温〜溶媒の沸点程度において有利に進行す
る。B法において原料として用いられる化合物(■)は
、公知化合物または一部新規化合物であるが、これらは
公知の方法、例えば次のような反応を経て製造すること
ができる。
定されないが、一般にはメタノール、エタノール等の低
級アルコール、アセトン、アセトニリル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド等の極性溶
媒が好適に用いられる。化合物(■)と化合物(V)の
使用割合は適宜選択すればよいが、一般に等モル使用す
るのが有利てある。また反応温度も適宜選択すればよい
が、一般に室温〜溶媒の沸点程度において有利に進行す
る。B法において原料として用いられる化合物(■)は
、公知化合物または一部新規化合物であるが、これらは
公知の方法、例えば次のような反応を経て製造すること
ができる。
(式中、R2は前記に同じ、Mはナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属)。
等のアルカリ金属)。
化合物(■)と化合物(■)の反応は通常無溶媒かまた
は溶媒中で行なわれる。溶媒としては反応に関与しない
ものである限り特に限定されないが、一般にメタノール
、エタノール等の低級アルコール類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の極性溶媒またはアセトン等が用いら
れる。化合物(■)と化合物(■)の使用割合は適宜選
択すればよいが一般に等モル使用するのが有利である。
また反応温度も適宜選択すればよいが、一般に約0℃か
ら溶媒の沸点、好ましくは室温〜約60℃において有利
に進行する。上記反応により得られた化合物(■)は単
離し、“または単離せずに本発明原料として用いること
ができる。上記A法およびB法により新規化合物(1)
が生成し、これは通常の分離手段、カラムクロマトグラ
フィー、再結晶、減圧蒸留等により単離可能・である。
は溶媒中で行なわれる。溶媒としては反応に関与しない
ものである限り特に限定されないが、一般にメタノール
、エタノール等の低級アルコール類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の極性溶媒またはアセトン等が用いら
れる。化合物(■)と化合物(■)の使用割合は適宜選
択すればよいが一般に等モル使用するのが有利である。
また反応温度も適宜選択すればよいが、一般に約0℃か
ら溶媒の沸点、好ましくは室温〜約60℃において有利
に進行する。上記反応により得られた化合物(■)は単
離し、“または単離せずに本発明原料として用いること
ができる。上記A法およびB法により新規化合物(1)
が生成し、これは通常の分離手段、カラムクロマトグラ
フィー、再結晶、減圧蒸留等により単離可能・である。
一般式(1)で示されるスルホネート誘導体の代表的な
化合物1〜113を表1に示す。
化合物1〜113を表1に示す。
表中MSはマススペクトルを示し、NMRはCDCl3
中で測定したδ(Ppm)値を示す。ただし化合物10
3につ)いてはジメチルホルムアミドーへ中で測定した
値である。次に本発明を具体的に説明するため、実施例
を掲げる。
中で測定したδ(Ppm)値を示す。ただし化合物10
3につ)いてはジメチルホルムアミドーへ中で測定した
値である。次に本発明を具体的に説明するため、実施例
を掲げる。
実施例1N−メチルーN−ニトロソウレア109から常
法により100m1のジアゾメタンエーテル溶液(ジア
ゾメタンとして2.8g含有)を調製する。
法により100m1のジアゾメタンエーテル溶液(ジア
ゾメタンとして2.8g含有)を調製する。
氷冷下、ジアゾメタンエーテル溶液にn−ブチルクロラ
イド1.7yを滴下し、滴下後3紛攪拌の後、反応液中
の過剰なジアゾメタンを室温下、窒素気流を通じて除く
。エーテル溶液は減圧下留去し、残一液をカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル、展開溶媒クロロマルム)で
分離精製し、淡黄色油状の1−ジアゾー2−ペンタノン
1.75ダを得た。(収率97.8%)MS(Mつ11
2 NMR(CDCl3)δ(Ppm) 5.18S(2H)、2.22t(2H)、1.80〜
1.32m(2H)、0.88L(31()得られた1
−ジアゾー2−ペンタノン1.1Vをエーテル30m1
に溶解し室温下、エタンスルホン酸1.6yを徐々に加
え、窒素の発生がなくなるまで攪拌する。
イド1.7yを滴下し、滴下後3紛攪拌の後、反応液中
の過剰なジアゾメタンを室温下、窒素気流を通じて除く
。エーテル溶液は減圧下留去し、残一液をカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル、展開溶媒クロロマルム)で
分離精製し、淡黄色油状の1−ジアゾー2−ペンタノン
1.75ダを得た。(収率97.8%)MS(Mつ11
2 NMR(CDCl3)δ(Ppm) 5.18S(2H)、2.22t(2H)、1.80〜
1.32m(2H)、0.88L(31()得られた1
−ジアゾー2−ペンタノン1.1Vをエーテル30m1
に溶解し室温下、エタンスルホン酸1.6yを徐々に加
え、窒素の発生がなくなるまで攪拌する。
反応後エーテル層は水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
したのち、減圧下で溶媒を留去し、得られた油状物をカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒クロロ
ホルム)で分離精製し、無色透明な油状の2−オキソペ
ンチルエタンスルホネート(化合物1)を1.0y得た
。(収率52.6%)MS(M+)194 NMR(CDCl3) δ(Ppm) 4.7(ト)(2H)、3.22q(21()、2.4
2L(?)、1.90〜1.40rT1(2H)、1.
44t(3H)、0.92t(3H)実施例2実施例1
と同様の操作により化合物2〜5を合成した。
したのち、減圧下で溶媒を留去し、得られた油状物をカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒クロロ
ホルム)で分離精製し、無色透明な油状の2−オキソペ
ンチルエタンスルホネート(化合物1)を1.0y得た
。(収率52.6%)MS(M+)194 NMR(CDCl3) δ(Ppm) 4.7(ト)(2H)、3.22q(21()、2.4
2L(?)、1.90〜1.40rT1(2H)、1.
44t(3H)、0.92t(3H)実施例2実施例1
と同様の操作により化合物2〜5を合成した。
実施例31−ジアゾー2−ペンタノン1.2fをエーテ
ル50m1に溶解し室温下ベンゼンスルホン酸モノハイ
ドレート2.3yを除々に加え、以下実施例1の方法に
準じて無色透明な油状の2−オキソペンチルベンゼンス
ルホネート(化合物6)を2.0y得た。
ル50m1に溶解し室温下ベンゼンスルホン酸モノハイ
ドレート2.3yを除々に加え、以下実施例1の方法に
準じて無色透明な油状の2−オキソペンチルベンゼンス
ルホネート(化合物6)を2.0y得た。
(収率77.2%)MS(Mつ242
NMR(CDCl3)δ(Ppm)
7.35〜8.00rn(5H)、4.4? (2H)
、2.42t(2H)、1.80〜1.32rn(?)
、0.87t(狙)実施例4実施例3と同様の操作によ
り化合物7〜14を合成した。
、2.42t(2H)、1.80〜1.32rn(?)
、0.87t(狙)実施例4実施例3と同様の操作によ
り化合物7〜14を合成した。
実施例5
1−ジアゾー2−ペンタノン1.0gをクロロホルム5
0mLに溶解し、o−トルエンスルホン酸2.2yを徐
々に加え、以下実施例1の方法に準じて無色透明な油状
の2−オキソペンチルー0−トルエンスルホネート(化
合物29)を1.37y得た(収率59.9%)MS(
Mつ256 NMR(CDCl3)δ(Ppm) 7.92d(1H)、7.70〜7.20rT1(3H
)、4.49S(2H)、2.(3)(狙)、2.4α
(?)、1.80〜1.4師(2H)、0.90L(3
H)実施例6 実施例5と同様の操作により化合物26〜2F!830
〜33を合成した。
0mLに溶解し、o−トルエンスルホン酸2.2yを徐
々に加え、以下実施例1の方法に準じて無色透明な油状
の2−オキソペンチルー0−トルエンスルホネート(化
合物29)を1.37y得た(収率59.9%)MS(
Mつ256 NMR(CDCl3)δ(Ppm) 7.92d(1H)、7.70〜7.20rT1(3H
)、4.49S(2H)、2.(3)(狙)、2.4α
(?)、1.80〜1.4師(2H)、0.90L(3
H)実施例6 実施例5と同様の操作により化合物26〜2F!830
〜33を合成した。
実施例7
1−ジアゾー2−ヘキサノン1.0ダをエーテル50m
1に溶解し、室温下、p−メトキシベンゼンスルホン酸
2.5fを徐々に加え、以下実施例1の方法に準じて無
色透明な油状の2−オキソヘキシル,一p−メトキシベ
ンゼンスルホネート(化合物35)を1.6y得た。
1に溶解し、室温下、p−メトキシベンゼンスルホン酸
2.5fを徐々に加え、以下実施例1の方法に準じて無
色透明な油状の2−オキソヘキシル,一p−メトキシベ
ンゼンスルホネート(化合物35)を1.6y得た。
(収率70.3%)MS(Mつ286NMR(CDCl
3)δ(Ppm) 77.80c1(2H)、6.97d(2H)、4.4
4S(2H)、3.82S(3H)、2.4別(2H)
、1.70〜1.00rn(4H)、0.81t(3H
)実施例8 実施例7と同様の操作により、化合物3眠36〜542
を合成した。
3)δ(Ppm) 77.80c1(2H)、6.97d(2H)、4.4
4S(2H)、3.82S(3H)、2.4別(2H)
、1.70〜1.00rn(4H)、0.81t(3H
)実施例8 実施例7と同様の操作により、化合物3眠36〜542
を合成した。
実施例9
1−ジアゾー2−オクタノン1.0fをジオキサン30
m1に溶解し室温下、p−エトキシベンゼンスピヒホン
酸2.0yを徐々に加え、窒素の発生がなくOなるまで
攪拌する。
m1に溶解し室温下、p−エトキシベンゼンスピヒホン
酸2.0yを徐々に加え、窒素の発生がなくOなるまで
攪拌する。
反応後減圧下で溶媒を留去し、残液はエーテル50m1
て抽出し、水洗後無水硫酸ナトリウムて乾燥する。乾燥
後、減圧下で溶媒を留去し、得た油状物カラムクロマト
グラフィー(シリカゲル、展開溶媒クロロホルム)で分
離精製し、Mp.38〜39−エトキシベンゼンスルホ
ネート(化合物46)を1.26yを得た。
て抽出し、水洗後無水硫酸ナトリウムて乾燥する。乾燥
後、減圧下で溶媒を留去し、得た油状物カラムクロマト
グラフィー(シリカゲル、展開溶媒クロロホルム)で分
離精製し、Mp.38〜39−エトキシベンゼンスルホ
ネート(化合物46)を1.26yを得た。
(収率59.0%)MS(Mつ328
NMR(CDCl3) δ(Ppm)
7.80d(2H)、6.95d(2H)、4.44S
(2H)、4.06q(2H)、2.44t(2H)、
1.60〜1.10rn(8H)、0.82t(3H)
実施例10実施例9と同様の操作により化合物47〜5
8を合成した。
(2H)、4.06q(2H)、2.44t(2H)、
1.60〜1.10rn(8H)、0.82t(3H)
実施例10実施例9と同様の操作により化合物47〜5
8を合成した。
実施例11
1−ジアゾー2−ウンデカノン1.2Vをエーテル50
m1に溶解し室温下、p−ク咀レベンゼンスルホン酸1
.6yを徐々に加え、窒素の発生がなくなるまて攪拌す
る。
m1に溶解し室温下、p−ク咀レベンゼンスルホン酸1
.6yを徐々に加え、窒素の発生がなくなるまて攪拌す
る。
反応後水洗し、エーテル層は無水硫酸ナトリウムで乾燥
する。乾燥後減圧下て溶媒を留去し、残渣をエ−テルー
石油エーテルで再結晶を行い、Mp.5l〜51.5℃
の2−オキソーウンデシルーp−クロルベンゼンスルホ
ネート(化合物68)を1.62y得た。(収率75.
3%)MS(Mつ360NMR(CDCl3) δ(P
pm) 7.81d(2H)、7.46d(2H)、4.5(ト
)(?)、2.4■(2H)、1.70〜1.05n1
(14H)、0.82t(3H)元素分析(Cl7H2
5ClSO4) CH 計算値(%)56.586.99 分析値(%)56.377.29 実施例12 実施例11と同様の操作により化合物64〜67、69
s70を合成した。
する。乾燥後減圧下て溶媒を留去し、残渣をエ−テルー
石油エーテルで再結晶を行い、Mp.5l〜51.5℃
の2−オキソーウンデシルーp−クロルベンゼンスルホ
ネート(化合物68)を1.62y得た。(収率75.
3%)MS(Mつ360NMR(CDCl3) δ(P
pm) 7.81d(2H)、7.46d(2H)、4.5(ト
)(?)、2.4■(2H)、1.70〜1.05n1
(14H)、0.82t(3H)元素分析(Cl7H2
5ClSO4) CH 計算値(%)56.586.99 分析値(%)56.377.29 実施例12 実施例11と同様の操作により化合物64〜67、69
s70を合成した。
実施例13
1−ジアゾー2−ノナノ〕ノ1.0yをエーテル30m
1に溶解し室温下、2・4・6−トリメチルペン.ゼン
スルホン酸ジハイドレート2.0Vを徐々に加え、以下
実施例1の方法に準じて無色透明な油状の2−オキソノ
ナニルー2・4・6−トリメチルベンゼンスルホネート
(化合物77)を1.4y得た。
1に溶解し室温下、2・4・6−トリメチルペン.ゼン
スルホン酸ジハイドレート2.0Vを徐々に加え、以下
実施例1の方法に準じて無色透明な油状の2−オキソノ
ナニルー2・4・6−トリメチルベンゼンスルホネート
(化合物77)を1.4y得た。
(収率69.0%)MS(Mつ340
NMR(CDCl3)δ(Ppm)
6.93$(2H)、4.38S(2H)、2.56S
(6H)、2.46L(2H)、2.25s(3H)、
2.78〜1.00n1(10H)、0.82L(3H
)実施例14 実施例13と同様の操作により化合物78〜羽を合成し
た。
(6H)、2.46L(2H)、2.25s(3H)、
2.78〜1.00n1(10H)、0.82L(3H
)実施例14 実施例13と同様の操作により化合物78〜羽を合成し
た。
実施例15
1−ジアゾー2−ペンタノン1.0yと2・3●4●6
−テトラメチルーベンゼンスルホン酸2.3fとをエー
テル30m1中窒素が発生しなくなるまで反応させた後
水洗し、乾燥後減圧下エーテルを留去する。
−テトラメチルーベンゼンスルホン酸2.3fとをエー
テル30m1中窒素が発生しなくなるまで反応させた後
水洗し、乾燥後減圧下エーテルを留去する。
得られた残渣をエタノ−ルー水から再結晶を行ないMp
.49〜50℃の2−オキソペンチル2・3・4・6−
テトラメチルベンゼンスルホネート(化合物95)を1
.6V得た。(収率60.0%)MS(Mつ2987N
MR(CDCl3)δ(Ppm) 6.94S(1H)、4.(38S(2H)、2.5?
(?)、2.44t(2H)、2.24S(3H)、2
.16S(3H)、1.77〜1.35n1(2H)、
0.85t(3H)実施例16 1実施例15と同様の操作により化合物93.94、9
6〜113を合成した。
.49〜50℃の2−オキソペンチル2・3・4・6−
テトラメチルベンゼンスルホネート(化合物95)を1
.6V得た。(収率60.0%)MS(Mつ2987N
MR(CDCl3)δ(Ppm) 6.94S(1H)、4.(38S(2H)、2.5?
(?)、2.44t(2H)、2.24S(3H)、2
.16S(3H)、1.77〜1.35n1(2H)、
0.85t(3H)実施例16 1実施例15と同様の操作により化合物93.94、9
6〜113を合成した。
実施例17
1−クロルー2−ペンタノン1.2gをアセトン50m
1に溶解しヨウ化カリウム1.7yを加えて5時間室温
で攪拌する。
1に溶解しヨウ化カリウム1.7yを加えて5時間室温
で攪拌する。
次にp−トルエンスルホン酸銀2.8gを加えて24T
f間室温で攪拌する。反応後不溶物を泊別し、枦液を減
圧下で濃縮して得た油状物をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、展開溶媒クロロホルム)で分離精製し、
Mp.33〜35℃の2−オキソペンチルーp−トルエ
ンスルホート(化合物16)を2.04y得た。(収率
80.0%)MS(Mつ256NMR(CDCI3)
δ(Ppm) 7.78d(2FI)、7.31d(2H)、4.4C
(2H)、2.41S(3H)、2.41t(2H)、
1.80〜1.30rr](2H)、0.82t(3H
)実施例18 実施例17と同様の操作により化合物15.17〜25
を合成した。
f間室温で攪拌する。反応後不溶物を泊別し、枦液を減
圧下で濃縮して得た油状物をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、展開溶媒クロロホルム)で分離精製し、
Mp.33〜35℃の2−オキソペンチルーp−トルエ
ンスルホート(化合物16)を2.04y得た。(収率
80.0%)MS(Mつ256NMR(CDCI3)
δ(Ppm) 7.78d(2FI)、7.31d(2H)、4.4C
(2H)、2.41S(3H)、2.41t(2H)、
1.80〜1.30rr](2H)、0.82t(3H
)実施例18 実施例17と同様の操作により化合物15.17〜25
を合成した。
実施例19
1−ヨードー2−ヘプタノン2.2yとp−エトキシベ
ンゼンスルホン酸銀3.2yとを実施例17と同様の操
作により、Mp.35〜35.5℃の2−オキソーヘブ
チルーp−エトキシベンゼンスルホネート(化合物45
)を2.3V得た。
ンゼンスルホン酸銀3.2yとを実施例17と同様の操
作により、Mp.35〜35.5℃の2−オキソーヘブ
チルーp−エトキシベンゼンスルホネート(化合物45
)を2.3V得た。
(収率73.2%)MS(Mつ314NMR(CDCl
3)δ(Ppm) 7.80ci(2H)、6.96d(2H)、7.42
S(2H)、4.06q(2H)、2.47(2H)、
1.90〜1.04m(6H)、1.40t(3H)、
0.82t(3H)実施例20 実施例19と同様の操作で化合物43〜44を合成した
。
3)δ(Ppm) 7.80ci(2H)、6.96d(2H)、7.42
S(2H)、4.06q(2H)、2.47(2H)、
1.90〜1.04m(6H)、1.40t(3H)、
0.82t(3H)実施例20 実施例19と同様の操作で化合物43〜44を合成した
。
実施例21
1−クロルー2−ペンタノン1.2yをアセトン50m
1に溶解し、ヨウ化カリウム1.7yを加えて5時間室
温で攪拌する。
1に溶解し、ヨウ化カリウム1.7yを加えて5時間室
温で攪拌する。
次にp−ヒドロキシベンゼンスルホン酸銀2.9fを加
えて1満間室温で攪拌する。反応後不溶物をp別し枦液
を減圧下で濃縮して得られた残渣をクロロホルム100
mtで抽出し水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。乾
燥後減圧下で溶媒を留去し、得られた残渣をエタノ−ル
ー水より再結晶を行ないMP.85〜8rCの2−オキ
ソトリデカンーp−ヒドロキシベンゼンスルホネート(
化合物59)を1.8y得た。(収率70.0%)MS
(Mつ258NMR(CDCl3) δ(Ppm) 7.65d(2H)、6.82d(2H)、4.45S
(2H)、2.4CL(2H)、1.80〜1.301
T1(2FI)、0.82t(3H)、6.80〜7.
50b(1H)実施例22 実施例21と同様の操作により、化合物60〜63を合
成した。
えて1満間室温で攪拌する。反応後不溶物をp別し枦液
を減圧下で濃縮して得られた残渣をクロロホルム100
mtで抽出し水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。乾
燥後減圧下で溶媒を留去し、得られた残渣をエタノ−ル
ー水より再結晶を行ないMP.85〜8rCの2−オキ
ソトリデカンーp−ヒドロキシベンゼンスルホネート(
化合物59)を1.8y得た。(収率70.0%)MS
(Mつ258NMR(CDCl3) δ(Ppm) 7.65d(2H)、6.82d(2H)、4.45S
(2H)、2.4CL(2H)、1.80〜1.301
T1(2FI)、0.82t(3H)、6.80〜7.
50b(1H)実施例22 実施例21と同様の操作により、化合物60〜63を合
成した。
実施例23
1−クロルー2−ペンタノン6.0yをアセトン100
m1に溶解し、ヨウ化カリウム8.0yを加えて室温で
5時間攪拌する。
m1に溶解し、ヨウ化カリウム8.0yを加えて室温で
5時間攪拌する。
反応後不溶物をp別し戸液を減圧下濃縮する。残液はエ
ーテル100m1で抽出し、チオ硫酸ナトリウムで洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥後減圧下で溶
媒を留去し、得られた油状物を減圧蒸留して沸点96〜
部℃/24〜25顛Hgの1−ヨードー2−ペンタノン
6.0yを得た。(収率54.3%)MS(M+)22
2NMR(CDCl3)δ(Ppm) 3.80S(2H)、2.70t(2H)、1.65q
(2H)、0.92L(3H)1−ヨードー2−ペンタ
ノン0.4fをアセトニトリル30m1に溶解し、2・
4・6−トリメチルベンゼンスルホン酸銀0.7yを加
えて4叫間室温で攪拌する。
ーテル100m1で抽出し、チオ硫酸ナトリウムで洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥後減圧下で溶
媒を留去し、得られた油状物を減圧蒸留して沸点96〜
部℃/24〜25顛Hgの1−ヨードー2−ペンタノン
6.0yを得た。(収率54.3%)MS(M+)22
2NMR(CDCl3)δ(Ppm) 3.80S(2H)、2.70t(2H)、1.65q
(2H)、0.92L(3H)1−ヨードー2−ペンタ
ノン0.4fをアセトニトリル30m1に溶解し、2・
4・6−トリメチルベンゼンスルホン酸銀0.7yを加
えて4叫間室温で攪拌する。
反応後不溶物を戸別しp液を減圧下で濃縮する。得られ
た油状物はエーテル50m1で抽出し、水洗後無水硫酸
ナトリウムで乾燥する。乾燥後減圧下で溶媒を留去し、
得られた残渣をエタノ−ルー水から再結晶を行ない、M
p.57.5〜58.5℃の2−オキソーペンチルー2
・4・6−トリメチルベンゼンスルホネート(化合物7
3)を0.5y得た。(収率94.0%)MS(Mつ2
84 NMR(CDCl3)δ(Ppm) 6.89S(2H)、4.36S(2H)、2.6(ト
)(■)、2.4阻(2H)、2.3(ト)(3H)、
1.80〜1.32n1(2H)、0.8愼(3H)元
素分析(Cl4H2OSO4) CH 計算値(%)59.137.09 分析値(%)58.957.37 実施例24 実施例23と同様の操作により化合物71〜72、74
〜76を合成した。
た油状物はエーテル50m1で抽出し、水洗後無水硫酸
ナトリウムで乾燥する。乾燥後減圧下で溶媒を留去し、
得られた残渣をエタノ−ルー水から再結晶を行ない、M
p.57.5〜58.5℃の2−オキソーペンチルー2
・4・6−トリメチルベンゼンスルホネート(化合物7
3)を0.5y得た。(収率94.0%)MS(Mつ2
84 NMR(CDCl3)δ(Ppm) 6.89S(2H)、4.36S(2H)、2.6(ト
)(■)、2.4阻(2H)、2.3(ト)(3H)、
1.80〜1.32n1(2H)、0.8愼(3H)元
素分析(Cl4H2OSO4) CH 計算値(%)59.137.09 分析値(%)58.957.37 実施例24 実施例23と同様の操作により化合物71〜72、74
〜76を合成した。
実施例25
1−クロルー2−ドデカノン2.3yをアセトン100
mtに溶解し、ヨウ化カリウム1.7′を加えて5時間
室温で攪拌する。
mtに溶解し、ヨウ化カリウム1.7′を加えて5時間
室温で攪拌する。
次に2・3・5・6−テトラメチルベンゼンスルホン酸
銀3.3gを加えて40℃で1C@間攪拌する。反応後
以下実施例17と同様に分離精製しMp.36〜37.
5℃の2−オキソドデシlルー2●3●5●6−テトラ
メチルベンゼンスルホネート(化合物92)を2.8y
得た。(収率71.5%)MS(Mつ396 NMR(CDCl3)δ(Ppm) 7.18(1H)、4.40S(2H)、2.5011
.(6H)、2.24>(6H)、2.48t(2H)
、1.80〜1.00m(16H)、0.84t(3H
)実施例26 実施例25と同様の操作により化合物89〜91を合成
した。
銀3.3gを加えて40℃で1C@間攪拌する。反応後
以下実施例17と同様に分離精製しMp.36〜37.
5℃の2−オキソドデシlルー2●3●5●6−テトラ
メチルベンゼンスルホネート(化合物92)を2.8y
得た。(収率71.5%)MS(Mつ396 NMR(CDCl3)δ(Ppm) 7.18(1H)、4.40S(2H)、2.5011
.(6H)、2.24>(6H)、2.48t(2H)
、1.80〜1.00m(16H)、0.84t(3H
)実施例26 実施例25と同様の操作により化合物89〜91を合成
した。
次に本発明化合物(1)のエステラーゼ阻害作用および
キモトリプシン阻害作用の試験結果について説明する。
キモトリプシン阻害作用の試験結果について説明する。
1 エステラーゼ阻害作用0.1モルのトリス塩酸緩衝
液(PH8.O)の一定量に基質としてメチルブチレー
目0μモル50%エタノール溶液を加え、さらにこれに
表1の本発明化合物の50%エタノール溶液を加えた後
、ただちに酵素液として、精製したラット肝臓マイクロ
ゾーム画分エステラーゼ溶液(3rC11時間にて9μ
モルのメチルブチレートを水解するように調整する)を
加え、3rCにて6吟間反応を行つた。
液(PH8.O)の一定量に基質としてメチルブチレー
目0μモル50%エタノール溶液を加え、さらにこれに
表1の本発明化合物の50%エタノール溶液を加えた後
、ただちに酵素液として、精製したラット肝臓マイクロ
ゾーム画分エステラーゼ溶液(3rC11時間にて9μ
モルのメチルブチレートを水解するように調整する)を
加え、3rCにて6吟間反応を行つた。
反応終了後メチルブチレートのアルカリ性ヒドロキシル
アミンによるヒドロキサム酸誘導体に第二鉄塩を加えて
、生する赤色を比色(波長540r]WL)し、残存す
るメチルブチレート含量を定量した。
アミンによるヒドロキサム酸誘導体に第二鉄塩を加えて
、生する赤色を比色(波長540r]WL)し、残存す
るメチルブチレート含量を定量した。
本発明化合物の各種濃度(3点以上)におけるエステラ
ーゼ阻害率を縦軸にプロットし、その濃度の対数を横軸
にプロットして得られた直線より50%阻害濃度(IC
5O)を求めた。2 キモトリプシン阻害作用0.1モ
ルのトリス塩酸緩衝液(PH&0)の一定量に酵素液と
してキモトリプシンの0.1ユニットを加え、さらに表
1の本発明化合物の50%エタノール溶液を本発明化合
物が1刈0−4モルの濃度となるように加えた後3TC
にて2@間反応を行つた。
ーゼ阻害率を縦軸にプロットし、その濃度の対数を横軸
にプロットして得られた直線より50%阻害濃度(IC
5O)を求めた。2 キモトリプシン阻害作用0.1モ
ルのトリス塩酸緩衝液(PH&0)の一定量に酵素液と
してキモトリプシンの0.1ユニットを加え、さらに表
1の本発明化合物の50%エタノール溶液を本発明化合
物が1刈0−4モルの濃度となるように加えた後3TC
にて2@間反応を行つた。
反応終了後直ちに基質としてN−アセチルーL−チロシ
ンエチルエステル(ATEE)を10μモル加えて、3
rCにて3吟間反応を行つた。
ンエチルエステル(ATEE)を10μモル加えて、3
rCにて3吟間反応を行つた。
反応終了後ATEEの残存量をエステラーゼ阻害活性測
定法と同様のヒドロキサム酸法にて定量した。キモトリ
プシン阻害率(%)は下式により算出した。A:本発明
の無添加反応系のエステル水解量B:本発明化合物の添
加反応系のエステル水解量以上の方法による本発明化合
物のエステラーゼに対する50%阻害濃度(IC5O)
およびキモトリプシン阻害率を表2に示す。
定法と同様のヒドロキサム酸法にて定量した。キモトリ
プシン阻害率(%)は下式により算出した。A:本発明
の無添加反応系のエステル水解量B:本発明化合物の添
加反応系のエステル水解量以上の方法による本発明化合
物のエステラーゼに対する50%阻害濃度(IC5O)
およびキモトリプシン阻害率を表2に示す。
表2より明らかなように本発明化合物はエステラーゼ阻
害作用およびキモトリプシン阻害作用を有し、抗高脂血
症剤、抗炎症剤、免疫抑制剤として有用である。
害作用およびキモトリプシン阻害作用を有し、抗高脂血
症剤、抗炎症剤、免疫抑制剤として有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 R_1SO_3CH_2COR_2………( I )〔式
中、R_1は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6
のアルコキシアルキル基、アラルキル基、環状アルキル
基又は置換基を有し若しくは有しないアリール基(置換
基としては炭素数1〜12のアルキル基、低級アルコキ
シ基、ハロゲン、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ア
セトアミノ基、ニトロ基又はエチレンジオキシメチル基
)、R_2は炭素数1〜15のアルキル基又は炭素数2
〜15のアルケニル基〕で示されるスルホネート誘導体
。 2 一般式〔 I 〕においてR_1が置換フェニル基(
置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、低級アル
コキシ基、ハロゲン、ヒドロキシル基、カルボキシル基
、アセトアミノ基、ニトロ基又はエチレンジオキシメチ
ル)である特許請求の範囲第1項記載のスルホネート誘
導体。3 一般式 N_2CHCOR_2………(II) 〔式中、R_2は炭素数1〜15のアルキル基又は炭素
数2〜15のアルケニル基〕で示される化合物一般式R
_1SO_3H・mH_2O………(III)〔式中、R
_1は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアル
コキシアルキル基、アラルキル基、環状アルキル基又は
置換基を有し若しくは有しないアリール基(置換基とし
ては炭素数1〜12のアルキル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アセトア
ミノ基、ニトロ基又はエチレンジオキシメチル基)、m
は0又は1〜2の整数〕で示される化合物を反応させる
ことを特徴とする一般式R_1SO_3CH_2COR
_2………( I )〔式中、R_1およびR_2は前記
に同じ〕で示されるスルホネート誘導体の製造方法。 4 一般式 ICH_2COR_2………(IV) 〔式中、R_2は炭素数1〜15のアルキル基又は炭素
数2〜15のアルケニル基)で示される化合物と一般式
R_1SO_3Ag………(V)〔式中、R_1は炭素
数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルコキシアル
キル基、アラルキル基、環状アルキル基又は置換基を有
し若しくは有しないアリール基(置換基としては炭素数
1〜12のアルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、アセトアミノ基、ニ
トロ基又はエチレンジオキシメチル基)〕で示される化
合物を反応させることを特徴とする一般式R_1SO_
3CH_2COR_2………( I )〔式中、R_1お
よびR_2は前記に同じ)で示されるスルホネート誘導
体の製造方法。
Priority Applications (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121480A JPS6059904B2 (ja) | 1980-01-31 | 1980-01-31 | スルホネ−ト誘導体およびその製造方法 |
| US06/225,979 US4411911A (en) | 1980-01-31 | 1981-01-19 | Method of treating hyperlipidemia and inflammation with sulfonate derivatives |
| GB8101888A GB2068371B (en) | 1980-01-31 | 1981-01-22 | Sulphonate derivatives |
| AU66677/81A AU527933B2 (en) | 1980-01-31 | 1981-01-28 | Sulphonate derivatives |
| CA000369549A CA1167046A (en) | 1980-01-31 | 1981-01-28 | Sulfonate derivatives |
| IT8167106A IT1210604B (it) | 1980-01-31 | 1981-01-28 | Derivati solfonati |
| CH599/81A CH655098A5 (de) | 1980-01-31 | 1981-01-29 | Sulfonatderivate, verfahren zu deren herstellung sowie pharmazeutische mittel, dieselben enthaltend. |
| FR8101712A FR2475041A1 (fr) | 1980-01-31 | 1981-01-29 | Esters sulfoniques de ceto-alcools, leur preparation et medicament contenant ces substances |
| DE19813103144 DE3103144A1 (de) | 1980-01-31 | 1981-01-30 | Neue sulfonate, verfahren zu deren herstellung sowie diese enthaltende arzneimittel |
| ES499527A ES8201964A1 (es) | 1980-01-31 | 1981-01-30 | Procedimiento de preparar derivados sulfonato |
| NLAANVRAGE8100494,A NL185343C (nl) | 1980-01-31 | 1981-02-02 | Gevormde farmaceutische preparaten met antilipemische ontstekingswerende en immuniteitregelende werking en daarvoor geschikte sulfonaatverbindingen en een bereidingswijze. |
| US06/492,873 US4489091A (en) | 1980-01-31 | 1983-05-09 | Antilipemic and anti-inflammatory compositions containing sulfonate derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121480A JPS6059904B2 (ja) | 1980-01-31 | 1980-01-31 | スルホネ−ト誘導体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56108758A JPS56108758A (en) | 1981-08-28 |
| JPS6059904B2 true JPS6059904B2 (ja) | 1985-12-27 |
Family
ID=11771725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1121480A Expired JPS6059904B2 (ja) | 1980-01-31 | 1980-01-31 | スルホネ−ト誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059904B2 (ja) |
-
1980
- 1980-01-31 JP JP1121480A patent/JPS6059904B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56108758A (en) | 1981-08-28 |
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