JPS606495B2 - 熱現像性感光材料 - Google Patents
熱現像性感光材料Info
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- JPS606495B2 JPS606495B2 JP15435377A JP15435377A JPS606495B2 JP S606495 B2 JPS606495 B2 JP S606495B2 JP 15435377 A JP15435377 A JP 15435377A JP 15435377 A JP15435377 A JP 15435377A JP S606495 B2 JPS606495 B2 JP S606495B2
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- JP
- Japan
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- nitrogen
- heat
- containing organic
- silver
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- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49836—Additives
- G03C1/49845—Active additives, e.g. toners, stabilisers, sensitisers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、熱現像性感光材料に関するものであり、詳し
くは、共役酸のｐＫａが０．５〜１０．０の値をもつ含
窒素有機塩基を含有せしめる事により、感光度を著しく
増加せしめた熱現像性感光材料に関するものである。
くは、共役酸のｐＫａが０．５〜１０．０の値をもつ含
窒素有機塩基を含有せしめる事により、感光度を著しく
増加せしめた熱現像性感光材料に関するものである。
従来のハロゲン化銀乳剤を使用する写真法は、感度、階
調性、画質の点で極めて優れているが、現像、定着処理
が緑式で時間がかかり、かつ各処理で有害薬品を使い、
それが作業者の手に触れたり、また廃水処理を必要とす
る等の種々の問題があった。
調性、画質の点で極めて優れているが、現像、定着処理
が緑式で時間がかかり、かつ各処理で有害薬品を使い、
それが作業者の手に触れたり、また廃水処理を必要とす
る等の種々の問題があった。
そこで、液処理をせず乾式の短時間処理で簡単に画像形
成できる熱現像性感光材料が提案され、今日まで種々の
努力がなされてきた。この熱現像性感光材料の画像形成
主剤は有機銀塩酸化剤であり、該材料には露光−熱現像
で画像形成できるタイプ（以後このタイプのものを前活
性タイプと言う。）のものと、加熱前処理−露光−熱現
像で画像形成できるタイプ（以後このタイプのものを後
活性タイプと言う。）のものの両方が提案されている。
前者の前活性タイプのものは、有機銀塩酸化剤とそれに
触媒接触した少量のハロゲン化銀と還元剤とを主成分と
したものであり、後者の後活性タイプのものは加熱前処
理を施こした時に始めて感光性が付与され、加熱前処理
を施こすまでは室内光下では非感光性である。しかし、
これらいずれのタイプの熱現像性感光材料も湿式のハロ
ゲン化銀写真に比して著しく感光度が低いという欠点を
有している。
成できる熱現像性感光材料が提案され、今日まで種々の
努力がなされてきた。この熱現像性感光材料の画像形成
主剤は有機銀塩酸化剤であり、該材料には露光−熱現像
で画像形成できるタイプ（以後このタイプのものを前活
性タイプと言う。）のものと、加熱前処理−露光−熱現
像で画像形成できるタイプ（以後このタイプのものを後
活性タイプと言う。）のものの両方が提案されている。
前者の前活性タイプのものは、有機銀塩酸化剤とそれに
触媒接触した少量のハロゲン化銀と還元剤とを主成分と
したものであり、後者の後活性タイプのものは加熱前処
理を施こした時に始めて感光性が付与され、加熱前処理
を施こすまでは室内光下では非感光性である。しかし、
これらいずれのタイプの熱現像性感光材料も湿式のハロ
ゲン化銀写真に比して著しく感光度が低いという欠点を
有している。
この為、該材料の汎用感材としての利用が狭ばめられて
いるが現状である。そこで、本発明者等は前記の欠点を
克服すべ〈鋭意研究を重ねた結果、ハロゲン分子を感光
性ハロゲン化銀形成成分の全部又は一部として使用し、
さらに共役酸のｐＫａが０．５〜１０．０の値をもつ合
筆素有機塩基を含有せしめる事により感度、生感材の安
定性ともに著しくすぐれた熱現像性感光材料がえられる
事を見し、出した。
いるが現状である。そこで、本発明者等は前記の欠点を
克服すべ〈鋭意研究を重ねた結果、ハロゲン分子を感光
性ハロゲン化銀形成成分の全部又は一部として使用し、
さらに共役酸のｐＫａが０．５〜１０．０の値をもつ合
筆素有機塩基を含有せしめる事により感度、生感材の安
定性ともに著しくすぐれた熱現像性感光材料がえられる
事を見し、出した。
従来知られている事実からはト熱現像性感光材料の生感
材の安定性は含窒素有機塩基が存在すると著しく悪化す
る事が予想される。従って、塩基を添加することによっ
て生感材の安定性を損なわずに増感できると云う本発明
の効果は「従来の常識からは全く予想のつかない驚〈べ
きことである。恐らく、本発明の組成は、塩基が存在し
ない状態では〜酸性であり、かつ強い酸化力をもつハロ
ゲン分子が共存しているため、塩基を用いて安定性を損
わず、著しい増感が達成されるものと推定される。本発
明は、ａ）有機銀塩酸化剤〜ｂ）ルロゲン分子、ｃ）銀
イオンのための還元剤、及びｄ）共役酸のｐＫａが０．
５〜１０。
材の安定性は含窒素有機塩基が存在すると著しく悪化す
る事が予想される。従って、塩基を添加することによっ
て生感材の安定性を損なわずに増感できると云う本発明
の効果は「従来の常識からは全く予想のつかない驚〈べ
きことである。恐らく、本発明の組成は、塩基が存在し
ない状態では〜酸性であり、かつ強い酸化力をもつハロ
ゲン分子が共存しているため、塩基を用いて安定性を損
わず、著しい増感が達成されるものと推定される。本発
明は、ａ）有機銀塩酸化剤〜ｂ）ルロゲン分子、ｃ）銀
イオンのための還元剤、及びｄ）共役酸のｐＫａが０．
５〜１０。
０の値をもつ含窒素有機塩基を含有する事を特徴とする
。
。
本発明に用いられる成分ｄ）の含窒素有機塩基としては
、ピリジン、キノリン、インキノリン、アクリジン、フ
エナントリジントピリダジン、ピリミジン、ピラジン、
シンノリン「フタラジントキナゾリン、キノキサリン、
フヱナジン、フエナントロリン、プテリジン、ピラゾー
ル「イミダゾール、ベンズィミダゾールやその置換体が
挙げられる。
、ピリジン、キノリン、インキノリン、アクリジン、フ
エナントリジントピリダジン、ピリミジン、ピラジン、
シンノリン「フタラジントキナゾリン、キノキサリン、
フヱナジン、フエナントロリン、プテリジン、ピラゾー
ル「イミダゾール、ベンズィミダゾールやその置換体が
挙げられる。
置換基としては、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基」置換アリール基〜ニトロ基、ハロゲン基、ニトリ
ル基「アルコキシ基、カルボキシァルキル基、等々が挙
げられるが、これに限定されるものではなく、有機塩基
の共役酸のｐＫａが０．５〜１０．０の間にある誘導体
は有効である。
ル基」置換アリール基〜ニトロ基、ハロゲン基、ニトリ
ル基「アルコキシ基、カルボキシァルキル基、等々が挙
げられるが、これに限定されるものではなく、有機塩基
の共役酸のｐＫａが０．５〜１０．０の間にある誘導体
は有効である。
またＮ−アルキルモルフオリン、トリアルキルァミン等
も共役酸のｐＫａが１０．０を越えない場合は使用でき
る。しかしアセチジンのごとく（ｐＫａｌｌ．３）高い
ｐＫａを有するものは「少量を用いても得られる感光材
料は保存に対し著しく不安定である。
も共役酸のｐＫａが１０．０を越えない場合は使用でき
る。しかしアセチジンのごとく（ｐＫａｌｌ．３）高い
ｐＫａを有するものは「少量を用いても得られる感光材
料は保存に対し著しく不安定である。
一方、２−フルオロピリジン（ｐＫａ・・・０．４）の
ごときｐＫａの小さいものでは、ほとんど増感がみられ
ない。
ごときｐＫａの小さいものでは、ほとんど増感がみられ
ない。
同一分子内に酸性プロトンをもたない含窒素有機塩基は
、前述の多数のものが該当する。又、同一分子内に酸性
プロトンをもつ塩基では、例えばペンズイミダゾール、
ピラゾールのごとくプロトンのｐＫａが１２より大なる
場合には増感がみられるがペンズトリアゾール、テトラ
ゾールのごとくプロトンのｐＫａが１２より小さいもの
では、大きな増感はみられない。これらの条件に加え、
酸化に対し安定で、酸性の条件に安定なものはさらに好
ましい。
、前述の多数のものが該当する。又、同一分子内に酸性
プロトンをもつ塩基では、例えばペンズイミダゾール、
ピラゾールのごとくプロトンのｐＫａが１２より大なる
場合には増感がみられるがペンズトリアゾール、テトラ
ゾールのごとくプロトンのｐＫａが１２より小さいもの
では、大きな増感はみられない。これらの条件に加え、
酸化に対し安定で、酸性の条件に安定なものはさらに好
ましい。
ピリジン「キノリン〜インキノリンもキナゾリン〜フタ
ラジン「キノキサリン「ピリミジン、ピラゾールや「そ
の譲導体である。具体的な誘導体を下記に列挙する。２
ークロルピリジン「３ークロルピリジン、２−フロムピ
リジンｔ３−フロムピリジン「２−メチルピリジン、３
Ｍメチルピリジン、４ーメチルピリジン「２−イソプロ
ピルピリジン、２−ｔ−ブチルピリジン、３ーフエニル
ピリジント２，６ージ−ｔ−ブチルピリジン〜３ーアセ
チルピリジン〜８，８‘ージピルジル、ｙ，ｙ′ージピ
ルジル、２−メチルキノリント３ーメチルキノリン、４
ーメチルキノリン「２ークロルキノリン、４−クロルキ
ノリン、１−メトキシイソキノリン「４ーメチルピリミ
ジン、２Ｗジメチルアミノピリミジン、２ーメトキシキ
ナゾリン、２−メチルキノキサリン、１−メチルピラゾ
ール、などである。
ラジン「キノキサリン「ピリミジン、ピラゾールや「そ
の譲導体である。具体的な誘導体を下記に列挙する。２
ークロルピリジン「３ークロルピリジン、２−フロムピ
リジンｔ３−フロムピリジン「２−メチルピリジン、３
Ｍメチルピリジン、４ーメチルピリジン「２−イソプロ
ピルピリジン、２−ｔ−ブチルピリジン、３ーフエニル
ピリジント２，６ージ−ｔ−ブチルピリジン〜３ーアセ
チルピリジン〜８，８‘ージピルジル、ｙ，ｙ′ージピ
ルジル、２−メチルキノリント３ーメチルキノリン、４
ーメチルキノリン「２ークロルキノリン、４−クロルキ
ノリン、１−メトキシイソキノリン「４ーメチルピリミ
ジン、２Ｗジメチルアミノピリミジン、２ーメトキシキ
ナゾリン、２−メチルキノキサリン、１−メチルピラゾ
ール、などである。
ｐＫａの値及び測定法は例えばへテロ環の化学入門（Ａ
ｄｒｉｅｎＡｉｂｅｎ著「中西番爾訳、丸善）化学便覧
（丸善）「及びアシドーべ−スェキュィリブリア（Ａｃ
ｉｄ‐既ｓｅＥｏｕｉｒｉｂｒｉａ）（Ｅ．Ｊ．Ｋｉｎ
ｇ著ｔＰｅｒ鱗ｍｏｎＰｒｅｓｓ、ＮｅｗＹｏｒｋ．１
９６５）を参照した。次に成分ａ）の有機銀塩酸化剤と
しては〜光に対して極めて安定なものであり、加熱現像
された時還元剤と反応して銀画像を生ずるものである。
ｄｒｉｅｎＡｉｂｅｎ著「中西番爾訳、丸善）化学便覧
（丸善）「及びアシドーべ−スェキュィリブリア（Ａｃ
ｉｄ‐既ｓｅＥｏｕｉｒｉｂｒｉａ）（Ｅ．Ｊ．Ｋｉｎ
ｇ著ｔＰｅｒ鱗ｍｏｎＰｒｅｓｓ、ＮｅｗＹｏｒｋ．１
９６５）を参照した。次に成分ａ）の有機銀塩酸化剤と
しては〜光に対して極めて安定なものであり、加熱現像
された時還元剤と反応して銀画像を生ずるものである。
ラウリン酸銀、パルミチン酸銀「ステアリン酸銀、アラ
キン酸銀「べへン酸銀、などの高級脂肪酸銀及びペンズ
トリアゾール銀もサッカリン銀などが挙げられる。中で
も熱現像時のかぶりの少し、〜ステァリン酸銀、ァラキ
ン酸銀」べへン酸銀が最も好ましい。成分ｂ）のハロゲ
ン分子は、ヨウ素分子、臭素分子、ョウ化臭素、塩化ヨ
ウ素、塩化臭素である。
キン酸銀「べへン酸銀、などの高級脂肪酸銀及びペンズ
トリアゾール銀もサッカリン銀などが挙げられる。中で
も熱現像時のかぶりの少し、〜ステァリン酸銀、ァラキ
ン酸銀」べへン酸銀が最も好ましい。成分ｂ）のハロゲ
ン分子は、ヨウ素分子、臭素分子、ョウ化臭素、塩化ヨ
ウ素、塩化臭素である。
このうち、ヨウ素分子は常態で固体であり、取扱にが容
易であり最も好ましいものである。これらのハロゲン分
子の少くとも一部分は、画像形成材料用の乳剤調製時又
は画像形成材料の加熱処理時に感光性ハロゲン化銀を形
成するが「他のハロゲンイオン源をハロゲン化銀形成成
分としてハロゲン分子と併用する事もできる。次に成分
ｃ）の銀イオンのための還元剤としては、通常この分野
で用いられているものは「いずれも使用可能であり、特
に好ましいものは阻害フフノール類である。
易であり最も好ましいものである。これらのハロゲン分
子の少くとも一部分は、画像形成材料用の乳剤調製時又
は画像形成材料の加熱処理時に感光性ハロゲン化銀を形
成するが「他のハロゲンイオン源をハロゲン化銀形成成
分としてハロゲン分子と併用する事もできる。次に成分
ｃ）の銀イオンのための還元剤としては、通常この分野
で用いられているものは「いずれも使用可能であり、特
に好ましいものは阻害フフノール類である。
例えば、Ｑ，Ｑ′−（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフエニル）ジメチルエーテル、２，６ービス（
３一ｔ−ブチル−２−ヒドロキシー５′−メチルベンジ
ル）一４ーメチルフエノール「２，２′ーメチレンビス
（４，６−ジーｔーブチルフエノール）、２，２′ーメ
チレンビス（６一ｔープチルー４−エチルフェノール）
、２，４，４−トリメチルベンチルビス−（２ーヒドロ
キシ−３，５ージメチルフエニル）メタンなどがある。
その他ハイドロキノン、２，２−ジヒドロキシ−１，１
′ービナフチル、没食子酸メチル等も好ましい。以上の
還元剤は二種以上混合して使用してもよい。次に上記の
成分以外に必要に応じて、この分野で通常用いられる分
光増感染料、色調剤、熱かぶり防止剤、画像安定化剤等
を含むことができる。
ドロキシフエニル）ジメチルエーテル、２，６ービス（
３一ｔ−ブチル−２−ヒドロキシー５′−メチルベンジ
ル）一４ーメチルフエノール「２，２′ーメチレンビス
（４，６−ジーｔーブチルフエノール）、２，２′ーメ
チレンビス（６一ｔープチルー４−エチルフェノール）
、２，４，４−トリメチルベンチルビス−（２ーヒドロ
キシ−３，５ージメチルフエニル）メタンなどがある。
その他ハイドロキノン、２，２−ジヒドロキシ−１，１
′ービナフチル、没食子酸メチル等も好ましい。以上の
還元剤は二種以上混合して使用してもよい。次に上記の
成分以外に必要に応じて、この分野で通常用いられる分
光増感染料、色調剤、熱かぶり防止剤、画像安定化剤等
を含むことができる。
分光増感染料としては、シアニン、メロシアニン、ロダ
シアニソ系色素がよい。特にメロシアニン系色素は分光
増感能が高く好ましい。中でもィミノ基、又はカルボキ
シル基を有するメロシアニン系色素がよい。またこれら
の色素は組み合せて使用してもよい。また熱かぶり防止
剤としては、酢酸水銀、ハロゲン化水銀等の水銀イオン
、酢酸亜鉛、酢酸カルシウム、ロジン、フタル酸等が有
効である。次に画像安定化剤としては、テトラブロムブ
タン、ヘキサブロムシクロヘキサン「があげられる。ま
た、本発明に用いる感光材料には所望によりこの分野で
通常よく用いられるハレーション防止物質又はハレーシ
ョン防止染料をも含めることができる。
シアニソ系色素がよい。特にメロシアニン系色素は分光
増感能が高く好ましい。中でもィミノ基、又はカルボキ
シル基を有するメロシアニン系色素がよい。またこれら
の色素は組み合せて使用してもよい。また熱かぶり防止
剤としては、酢酸水銀、ハロゲン化水銀等の水銀イオン
、酢酸亜鉛、酢酸カルシウム、ロジン、フタル酸等が有
効である。次に画像安定化剤としては、テトラブロムブ
タン、ヘキサブロムシクロヘキサン「があげられる。ま
た、本発明に用いる感光材料には所望によりこの分野で
通常よく用いられるハレーション防止物質又はハレーシ
ョン防止染料をも含めることができる。
以上の熱現像性感光材料の各成分及び各添加剤等は種々
の結合剤中に分散させて使用することが−できる。
の結合剤中に分散させて使用することが−できる。
結合剤としては、ポリビニルブチラール、ポルビニルホ
ルマール、ポリビニルピロリドン、ポリスチレン、ポリ
メチルメタアクリレート、ポリカーボネート、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニル共重
合体、セルロースアセテ−トブチレート、エチルセルロ
−ス、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリアミ
ド樹脂、ポリビニルアルコール、ゼラチン「コロジオン
等があげることができる。これらは二種以上混合して使
用する事もできる。また、上記結合剤中に分散せしめた
各成分及び各添加剤を塗布する支持体としては、加熱に
対して安定なものであるならば特に現定はない。
ルマール、ポリビニルピロリドン、ポリスチレン、ポリ
メチルメタアクリレート、ポリカーボネート、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニル共重
合体、セルロースアセテ−トブチレート、エチルセルロ
−ス、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリアミ
ド樹脂、ポリビニルアルコール、ゼラチン「コロジオン
等があげることができる。これらは二種以上混合して使
用する事もできる。また、上記結合剤中に分散せしめた
各成分及び各添加剤を塗布する支持体としては、加熱に
対して安定なものであるならば特に現定はない。
例えば、ポリエチレンテレフタレート」ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール、セルロースエステル、等の
プラスチックフィルム、アルミニウム等の金属箔、ガラ
ス、各種紙等が適当である。また、前記の各成分及び各
添加剤を前記結合剤中に分散させ、支持体上に塗布する
。また、前記の各成分及び各添加剤はそれぞれ二層又は
それ以上の層に分散させた格好で積層して用いてもよい
。
ト、ポリビニルアセタール、セルロースエステル、等の
プラスチックフィルム、アルミニウム等の金属箔、ガラ
ス、各種紙等が適当である。また、前記の各成分及び各
添加剤を前記結合剤中に分散させ、支持体上に塗布する
。また、前記の各成分及び各添加剤はそれぞれ二層又は
それ以上の層に分散させた格好で積層して用いてもよい
。
以上の組成よりなる熱現像性感光材料は、加熱前処理に
より感度を増大する。加熱前処理の温度は、９０ｏ〜１
５０００が好ましく、加熱時間は、加熱温度が高い程、
短くなる。加熱現像は、９００Ｃ〜１６０ｏｏ、好まし
くは、１１０００〜１３５ｏｏの範囲で行う。加熱方法
は、通常この分野で用いられる方法が適宜用いられる。
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが本発明
はこれによって限定されるものではない。実施例１ べへン酸銀４部とメチルエチルケトン：トルェン混合液
（２：１重量比）２＄部を２４時間ボールミリングする
事によりべへン酸銀懸濁液を調製した。
より感度を増大する。加熱前処理の温度は、９０ｏ〜１
５０００が好ましく、加熱時間は、加熱温度が高い程、
短くなる。加熱現像は、９００Ｃ〜１６０ｏｏ、好まし
くは、１１０００〜１３５ｏｏの範囲で行う。加熱方法
は、通常この分野で用いられる方法が適宜用いられる。
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが本発明
はこれによって限定されるものではない。実施例１ べへン酸銀４部とメチルエチルケトン：トルェン混合液
（２：１重量比）２＄部を２４時間ボールミリングする
事によりべへン酸銀懸濁液を調製した。
この懸濁液を用いて、次の組成物を混合し、ポリエステ
ルフィルム上に塗布した。塗布乳剤 第一層目 べへン酸銀懸濁液１２．０タポリビニルブチラール３．
０タメチルエチルケトン１２．０タ酢酸水銀０．０５夕
ヨウ素０．１２９含窒素有機塩基化合物、添加量及びｐ
Ｋａは表１に示す。
ルフィルム上に塗布した。塗布乳剤 第一層目 べへン酸銀懸濁液１２．０タポリビニルブチラール３．
０タメチルエチルケトン１２．０タ酢酸水銀０．０５夕
ヨウ素０．１２９含窒素有機塩基化合物、添加量及びｐ
Ｋａは表１に示す。
２層目
酢酸セルロ−ス１．２タアセトン１６．３夕フタラジノ
ン０．２８夕２，２′−メチレンビス（６−ｔーブチル
ー４−エチルフェノール）○‐７０夕第一層目組成の添
加は上記の記述順序に従った。
ン０．２８夕２，２′−メチレンビス（６−ｔーブチル
ー４−エチルフェノール）○‐７０夕第一層目組成の添
加は上記の記述順序に従った。
第一層目塗布乾燥後、第２層目を塗布した。得られた感
光フィルムは通常光では非感光性であるので階中１００
ｑｏで５秒間予備加熱を施した後、５００Ｗキセノンラ
ンプで１′現砂露光し、１３０００で１秒間現像した。
得られた画像の光学密度最大０．Ｄ．ｍａｘ及び光学密
度最小０．Ｄ．ｍｉｎ、及び生フィルムを温度５０ｑｏ
、相対湿度９０％の条件に２盛時間さらした後、上記同
じ画像形成過程により画像形成したものの０．Ｄ．ｍａ
ｘ、０．Ｄ．ｍｉｎを生フィルムの安定性として表１に
示した。以下表１、ロ、ｍ中の含窒素有機塩基は、その
含窒素有機塩基を含有する感光フィルムを示す。
光フィルムは通常光では非感光性であるので階中１００
ｑｏで５秒間予備加熱を施した後、５００Ｗキセノンラ
ンプで１′現砂露光し、１３０００で１秒間現像した。
得られた画像の光学密度最大０．Ｄ．ｍａｘ及び光学密
度最小０．Ｄ．ｍｉｎ、及び生フィルムを温度５０ｑｏ
、相対湿度９０％の条件に２盛時間さらした後、上記同
じ画像形成過程により画像形成したものの０．Ｄ．ｍａ
ｘ、０．Ｄ．ｍｉｎを生フィルムの安定性として表１に
示した。以下表１、ロ、ｍ中の含窒素有機塩基は、その
含窒素有機塩基を含有する感光フィルムを示す。
表１含窒素有機塩基重奏湊二見豊津）共役酸の。
‐０肌ａＸ。‐Ｕ肌ｉｎ生フィルム安定性ｐＫａ０．Ｕ
。ｍａｘ０．Ｄ．ｍｉｎ存し−−０，３４０．０６０．
１７０．０７ヒリジン０．３０５．２１．８８０．０６
１．８３０．０７キノリン０．３０４．９２．５５０．
０６２．５００．０６インキノリン０．３０５．４２．
６３０．０７２．５４０．０７ピリダソン０．３０２．
３１．５５０．０６１．４８０．０８ピリミソン０．３
０１．３２．２００．０８１．２１０．０９フタラジン
０．０５３．５２．２３０．０６２．３００．０６キナ
ゾリン０．６０３．５２．４１０．０６２．１３０．０
７キノキサリン０．６００．７１．９００．０６１．９
００．０６ピラゾｍル０．０５２．５２．３８０．０７
２．４４０．０９ピロリソン０．０５１１．３１．８３
０．１０１．６６０．３０（比較試料）実施例２ 実施例１のべへン酸銀乳剤を用いて、次の組成物を混合
し「ポリエステルフィルム上に塗布した。
。ｍａｘ０．Ｄ．ｍｉｎ存し−−０，３４０．０６０．
１７０．０７ヒリジン０．３０５．２１．８８０．０６
１．８３０．０７キノリン０．３０４．９２．５５０．
０６２．５００．０６インキノリン０．３０５．４２．
６３０．０７２．５４０．０７ピリダソン０．３０２．
３１．５５０．０６１．４８０．０８ピリミソン０．３
０１．３２．２００．０８１．２１０．０９フタラジン
０．０５３．５２．２３０．０６２．３００．０６キナ
ゾリン０．６０３．５２．４１０．０６２．１３０．０
７キノキサリン０．６００．７１．９００．０６１．９
００．０６ピラゾｍル０．０５２．５２．３８０．０７
２．４４０．０９ピロリソン０．０５１１．３１．８３
０．１０１．６６０．３０（比較試料）実施例２ 実施例１のべへン酸銀乳剤を用いて、次の組成物を混合
し「ポリエステルフィルム上に塗布した。
第一層目
べへン酸銀懸濁液ｉ２．０多ポリビニルブチラ叫ル３．
０タメチルヱチルケトン１２．０タ酢酸水銀０．０５夕
ジフエニルテルルジブロマイド０．０５タョゥ素０．１
０夕含窒素有機塩基化合物名、添加量は表川こ示す。
０タメチルヱチルケトン１２．０タ酢酸水銀０．０５夕
ジフエニルテルルジブロマイド０．０５タョゥ素０．１
０夕含窒素有機塩基化合物名、添加量は表川こ示す。
第２層目
ポリメチルメタクリレート１．２夕メチルエチルケトン
１６．３タフタラジノン０．２８夕２，２−メチレンビ
ス−（６一ｔ−ブチル−４ーメチルフヱノール）０．７
０タ第一層目の添加順序は上記の記述順序に従がった。
１６．３タフタラジノン０．２８夕２，２−メチレンビ
ス−（６一ｔ−ブチル−４ーメチルフヱノール）０．７
０タ第一層目の添加順序は上記の記述順序に従がった。
第一層目塗布乾燥後、第２層目塗布した。得られた感光
フィルムは通常光では非感光性であるので階中、１１０
００で１秒間予備加熱を施した後、３００Ｗのタングス
テンランプで１′６０秒間露光後、１２０００で３秒間
現像した。得られた画像の最大光学密度〇Ｄ．ｍａｘ及
び最小光学密度〇Ｄ．ｍｉｎ、及び生フィルムを温度６
０００、相対湿度９０％の条件に１時間さらした後「上
記と同じ画像形成過程により画像形成したものの０．Ｄ
．ｍａｘ、０．Ｄ．ｍｉｎを生フィルムを安定性として
表０１こ示す。表ロ 含窒素有機塩基含窒素有二勝毎共役酸の。
フィルムは通常光では非感光性であるので階中、１１０
００で１秒間予備加熱を施した後、３００Ｗのタングス
テンランプで１′６０秒間露光後、１２０００で３秒間
現像した。得られた画像の最大光学密度〇Ｄ．ｍａｘ及
び最小光学密度〇Ｄ．ｍｉｎ、及び生フィルムを温度６
０００、相対湿度９０％の条件に１時間さらした後「上
記と同じ画像形成過程により画像形成したものの０．Ｄ
．ｍａｘ、０．Ｄ．ｍｉｎを生フィルムを安定性として
表０１こ示す。表ロ 含窒素有機塩基含窒素有二勝毎共役酸の。
‐Ｄ，ｍａＸ。‐Ｄ‐ｍｉｎｄ壬Ｄ二こａをも客寮岳ｎ
基の添加量のｐＫａなし−−０．２００．０６０．１８
０．０８キノリン０．３０４．９１．９９０．０７１‐
８１０．０７２−メチルキノリン０．３０５．４１．８
６０．０６１．８５０．０６５−メチルキノリン０．３
０４．６１．９００．０６１．９１０．０６３ークロル
キノリン０．３０２．４１．６００．０６１．４３０．
０６ピリジン０−３０５．２１．４７０．０７１１３０
０．０７ｏ，ｏ′−ジピリソル０．１５４．４１．８８
０．０６１．８７０．０６２Ｍ｛一ブチルピリジン０．
３０５．８２．０１０．０７２．１００．０８２，６−
ジインブロビルピリジン０．３０５．３１．９７０．０
６２．１００．０９３−アセチルピリジン０．３０３．
２１．６８０．０７１．５６０．０７ピリミジン０．３
０１．３１．５４０．０８‐１．４４０．０８４−メチ
ルピリミジン０．２０２．０１．７３０．０８１．７４
０．０８フタラジン０．１０３．５２．２５０．０６２
．２００．０６ピラゾ０．１０２．５１．５８０．０７
１．５００．０９３−メチルピラゾール０．１０３．６
１．９００．０６２．０００．０９ペンズトリアゾール
０．３０１．６０．５３０．０６０．４８０．０６（比
較試料）テトラゾール０．３００．４２０．０５０．３
６０．０６（比較試料）なは、ベンズトリアゾールとテ
トラゾールの酸性プロトンのｐＫａは、前者が８．５７
、後者が４．９である。
基の添加量のｐＫａなし−−０．２００．０６０．１８
０．０８キノリン０．３０４．９１．９９０．０７１‐
８１０．０７２−メチルキノリン０．３０５．４１．８
６０．０６１．８５０．０６５−メチルキノリン０．３
０４．６１．９００．０６１．９１０．０６３ークロル
キノリン０．３０２．４１．６００．０６１．４３０．
０６ピリジン０−３０５．２１．４７０．０７１１３０
０．０７ｏ，ｏ′−ジピリソル０．１５４．４１．８８
０．０６１．８７０．０６２Ｍ｛一ブチルピリジン０．
３０５．８２．０１０．０７２．１００．０８２，６−
ジインブロビルピリジン０．３０５．３１．９７０．０
６２．１００．０９３−アセチルピリジン０．３０３．
２１．６８０．０７１．５６０．０７ピリミジン０．３
０１．３１．５４０．０８‐１．４４０．０８４−メチ
ルピリミジン０．２０２．０１．７３０．０８１．７４
０．０８フタラジン０．１０３．５２．２５０．０６２
．２００．０６ピラゾ０．１０２．５１．５８０．０７
１．５００．０９３−メチルピラゾール０．１０３．６
１．９００．０６２．０００．０９ペンズトリアゾール
０．３０１．６０．５３０．０６０．４８０．０６（比
較試料）テトラゾール０．３００．４２０．０５０．３
６０．０６（比較試料）なは、ベンズトリアゾールとテ
トラゾールの酸性プロトンのｐＫａは、前者が８．５７
、後者が４．９である。
比較例実施例１のヨウ素に代えて、アンモニニウムブロ
マィド０．１０夕を用いた以外実施例１と同じ操作を繰
り返して、フィルムを作成した。
マィド０．１０夕を用いた以外実施例１と同じ操作を繰
り返して、フィルムを作成した。
得られた感光フィルムを５００Ｗキセノンランプで１′
８秒露光し、１３０００で１秒間現像した。得られた画
像の最大光学密度０．Ｄ．ｍａｘ及び最小光学密度０．
Ｄ．ｍｉｎ及び生フィルムを温度５０００、相対湿度９
０％の条件に２４時間さらした後、上記と同じ画像形成
過程で画像形成したものの０．Ｄ．ｍａｘ、０．Ｄ．ｍ
ｉｎを生フィルム安定性として表ｍに示す。第ｍ 含窒素有機塩基電毒素端整湊共蕪Ｋ宅の。
８秒露光し、１３０００で１秒間現像した。得られた画
像の最大光学密度０．Ｄ．ｍａｘ及び最小光学密度０．
Ｄ．ｍｉｎ及び生フィルムを温度５０００、相対湿度９
０％の条件に２４時間さらした後、上記と同じ画像形成
過程で画像形成したものの０．Ｄ．ｍａｘ、０．Ｄ．ｍ
ｉｎを生フィルム安定性として表ｍに示す。第ｍ 含窒素有機塩基電毒素端整湊共蕪Ｋ宅の。
Claims (1)
- １ 少なくともａ）有機銀塩酸化剤、ｂ）ヨウ素分子、
ｃ）銀イオンのための還元剤、及びｄ）ピリジン、キノ
リン、イソキノリン、アクリジン、フエナントリジン、
ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、シンノリン、フタ
ラジン、キナゾリン、キノキサリン、フエナジン、フエ
ナントロリン、プテリジン、ピラゾール、イミダゾール
、ベンズイミダゾール及びその置換体から選ばれた含窒
素有機塩基であり、かつ該含窒素有機塩基が同一分子内
に酸性プロトンをもたず、共役酸のｐＫａが０．５〜１
０の値をもつ含窒素有機塩基、又は、同一分子内に酸性
プロトンをもち、共役酸のｐＫａが０．５〜１０の値を
もつ含窒素有機塩基、の四成分を含有することを特徴と
する予備加熱によつて感光化される熱現像性感光材料。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15435377A JPS606495B2 (ja) | 1977-12-23 | 1977-12-23 | 熱現像性感光材料 |
| US05/969,620 US4212937A (en) | 1977-12-23 | 1978-12-14 | Heat developable photosensitive materials |
| BE192438A BE872799A (fr) | 1977-12-23 | 1978-12-15 | Matieres photosensibles thermo-developpables |
| GB7849188A GB2013914B (en) | 1977-12-23 | 1978-12-20 | Heat developable photosensitive materials |
| FR7836156A FR2412870A1 (fr) | 1977-12-23 | 1978-12-22 | Materiaux photosensibles developpables a chaud |
| DE2855932A DE2855932C2 (de) | 1977-12-23 | 1978-12-23 | Thermophotographisches Aufzeichnungsmaterial |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15435377A JPS606495B2 (ja) | 1977-12-23 | 1977-12-23 | 熱現像性感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5487213A JPS5487213A (en) | 1979-07-11 |
| JPS606495B2 true JPS606495B2 (ja) | 1985-02-19 |
Family
ID=15582296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15435377A Expired JPS606495B2 (ja) | 1977-12-23 | 1977-12-23 | 熱現像性感光材料 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606495B2 (ja) |
| BE (1) | BE872799A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0454299U (ja) * | 1990-09-14 | 1992-05-08 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4585734A (en) * | 1985-02-01 | 1986-04-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photothermographic toners |
| US5434043A (en) * | 1994-05-09 | 1995-07-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photothermographic element with pre-formed iridium-doped silver halide grains |
| US6146822A (en) * | 1997-06-06 | 2000-11-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Thermographic or photothermographic image recording elements |
-
1977
- 1977-12-23 JP JP15435377A patent/JPS606495B2/ja not_active Expired
-
1978
- 1978-12-15 BE BE192438A patent/BE872799A/fr not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0454299U (ja) * | 1990-09-14 | 1992-05-08 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5487213A (en) | 1979-07-11 |
| BE872799A (fr) | 1979-06-15 |
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