JPS608553B2 - MIS type semiconductor memory device - Google Patents
MIS type semiconductor memory deviceInfo
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- JPS608553B2 JPS608553B2 JP52100466A JP10046677A JPS608553B2 JP S608553 B2 JPS608553 B2 JP S608553B2 JP 52100466 A JP52100466 A JP 52100466A JP 10046677 A JP10046677 A JP 10046677A JP S608553 B2 JPS608553 B2 JP S608553B2
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- selection signal
- flip
- flop
- column
- type semiconductor
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/413—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
- G11C11/417—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the field-effect type
- G11C11/418—Address circuits
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はMIS型半導体記憶装置に関するものである。[Detailed description of the invention] The present invention relates to an MIS type semiconductor memory device.
肌S型半導体記憶装置として一般的に用いられるのは第
4図a,bに示すようにマトリックス状に構成されたメ
モリセルの各列に対してトル−、バーー対の信号を伝送
する一対のディジット線Dし・,DL・,Dし2,DL
2を配置してなるものである。同図aに示すものはワー
ド信号X,,X2(行選択信号)により選択された行に
属するすべてのメモリセルがディジツト線に連結され、
電力を消費する。これに対し同図b‘こ示すものはワー
ド信号とY(列)選択信号とによって選択された一つの
メモリセルのみがディジット線に連結されるので「無駄
な電力を消費をすることがないが「その反面において、
同図aに対し各メモリセルにつき2個のMISFETを
多く必要とし「 メモリセルの占有面積が大きくなり、
全体としてチップサイズが大きくなるという欠点を有す
る。したがって本発明はチップサイズを大きくすること
なく無駄な電力消費をなくすことを目的とする。Generally used as a skin S-type semiconductor memory device is a pair of memory cells for transmitting true and bar signals to each column of memory cells arranged in a matrix, as shown in FIGS. 4a and 4b. Digit line D・、DL・、Dshi2、DL
It is made by arranging 2. In the case shown in Figure a, all memory cells belonging to a row selected by word signals X, , X2 (row selection signal) are connected to a digit line.
Consumes electricity. On the other hand, in the case shown in Figure b', only one memory cell selected by the word signal and the Y (column) selection signal is connected to the digit line. “On the other hand,
Compared to a in the same figure, two more MISFETs are required for each memory cell, and the area occupied by the memory cell becomes larger.
This has the disadvantage that the overall chip size becomes large. Therefore, an object of the present invention is to eliminate unnecessary power consumption without increasing the chip size.
上記目的を達成するための本発明の一実施態様は、フリ
ップフロップ、行選択信号により駆動されるMISFE
Tとで構成されたメモリセルをマトリックス状に配置し
たMIS型半導体記憶装置において、行選択信号により
選択された複数のメモリセルの出力を、列方向に配置さ
れた1本のデイジット線に択一的に取り出す列選択信号
によって駆動されるMISFETを有することを特徴と
するものである。One embodiment of the present invention for achieving the above object is a flip-flop, a MISFE driven by a row selection signal.
In a MIS type semiconductor memory device in which memory cells configured with T are arranged in a matrix, the outputs of a plurality of memory cells selected by a row selection signal are selectively sent to one digit line arranged in a column direction. The device is characterized in that it has a MISFET driven by a column selection signal that is extracted as a signal.
本発明の他の実施態様は「 フリップフロツブ「列選択
信号により駆動される一対のM【SFET及び行選択信
号により駆動されるMISFETとで構成したメモリセ
ルをマトリックス状に配置し、行選択信号と列選択信号
とにより特定された一つのメモリセルにおけるフリップ
フロップを上記MISFETを介して列方向のディジッ
ト線に電気的に接続するようにしてなるMIS型半導体
記憶装置において、上記ディジット線のうち隣接する列
相互間に位置するものについては−本ずつのみ配置し、
列相互間に配置された各デイジツト線をその両側の列に
属するメモリセルとコモンデータ線との電気的接続手段
に用いてなることを特徴とするものである。Another embodiment of the present invention is a "flip-flop" in which memory cells each composed of a pair of MSFETs driven by a column selection signal and a MISFET driven by a row selection signal are arranged in a matrix, and In an MIS type semiconductor memory device in which a flip-flop in one memory cell specified by a column selection signal and a column selection signal is electrically connected to a digit line in a column direction via the MISFET, an adjacent one of the digit lines For those located between rows, place only one book at a time,
The device is characterized in that each digit line arranged between columns is used as an electrical connection means between memory cells belonging to columns on both sides and a common data line.
本発明の他の実施態様は、フリツプフロツプ、列選択信
号により駆動される一対のMISFET及び行選択信号
により駆動されるMISFETとで構成したメモリセル
をマトリックス状に配置し、一つのメモリセルにおける
フリップフロツプを上記MISFETを介して列方向の
ディジット線に電気的に接続してなるものであって、上
記デイジツト線のうち隣接する相互間に位置するものに
ついては一本ずつ配置し、メモリセルの選択に際して印
加される列選択信号により制御されるMISFETを通
じて当該選択に係る列の両側のディジツト線を一対のコ
モンデー夕線に電気的に接続するようにしてなることを
特徴とするものである。In another embodiment of the present invention, memory cells each including a flip-flop, a pair of MISFETs driven by a column selection signal, and a MISFET driven by a row selection signal are arranged in a matrix, and the flip-flops in one memory cell are arranged in a matrix. The digit lines are electrically connected to the digit lines in the column direction through the MISFETs, and the digit lines located between adjacent digit lines are arranged one by one, and a voltage is applied when selecting a memory cell. The digit lines on both sides of the selected column are electrically connected to a pair of common data lines through MISFETs controlled by the selected column selection signal.
本発明のさらに他の実施態様は、フリップフロップ及び
その両端子に接続された列選択信号により駆動される一
対のMISFETとからなるメモリセルを行方向に複数
個接続し、さらに複数列設けることによりマトリックス
状にメモリセルアレィを構成してなり「かつ列方向のデ
ィジット線のうち隣接する列相互間に位置するものにつ
いて一個ずつ配置し、行方向に接続されるメモリセル相
互の各接続点それぞれに一個ずつ接続した行選択信号に
より駆動される肌SFETを介してメモリセルにおける
フリツプフロツプとデイジット線との電気的接続を行う
ようにしてなることを特徴とするものである。Yet another embodiment of the present invention is to connect a plurality of memory cells in the row direction, each consisting of a flip-flop and a pair of MISFETs connected to both terminals thereof and driven by a column selection signal, and further provide a plurality of columns. The memory cell array is configured in a matrix, and one digit line is arranged for each digit line located between adjacent columns in the column direction, and each connection point between memory cells connected in the row direction is The flip-flop in the memory cell is electrically connected to the digit line through a single SFET driven by a row selection signal, which is connected one by one to the digit line.
以下本発明を実施例により説明する。The present invention will be explained below with reference to Examples.
第1図は本発明の一実施例を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.
MS,..〜MS3.4はそれぞれメモリセルである。M.S. .. ~MS3.4 are memory cells, respectively.
MSMを例にとり説明すると次の如くになる。R,は負
荷抵抗、M,は駆動肌SFETで、この両者で一つのィ
ンバータが構成され、同じく負荷抵抗R2と駆動MIS
FETとで構成されたィンバータと相互にたすきがけ接
続されてフリップフロップを成している。M3,Mは列
選択信号Y,により駆動されるMISFET、M5,M
6は行選択信号X,により駆動されるMISFETであ
る。地7〜M4,はディジット線DL,〜DL5にプリ
チャージするためのMISFET「M42〜M。Taking MSM as an example, the explanation is as follows. R, is a load resistance, and M, is a drive skin SFET, both of which constitute one inverter, and the load resistance R2 and drive MIS.
It is cross-connected to an inverter made up of FETs to form a flip-flop. M3, M are MISFETs driven by column selection signal Y, M5, M
6 is a MISFET driven by the row selection signal X. MISFETs M42 to M4 are used to precharge the digit lines DL and DL5.
oはデイジツト線DLをコモンデータ線(Common
DataLine)に接続するためのMISFETで
ある。このメモリセルフレィにおいては、従来のような
各列に対して一対のディジット線DL, DLを配置を
するのではなく、各列のメモリセル相互間には一個のデ
ィジツト線のみを配置することとし、その一個のディジ
ツト線であるときは右側のメモリセルとコモンデータ線
との接続を、他のあるときは左側のメモリセルとコモン
データ線との接続を行う。例えばディジット線DL2に
着目すると、第1列(Y,)が選択された場合はM42
とともにM43がオンし、OL,がM42を通じてコモ
ンデータ線の一方に接続されて例えばトルー信号を伝達
するのに対して、DL2はM43を通じてコモンデ−タ
線の他方に接続されて例えばバー信号を伝達する。o connects the digit line DL to the common data line (Common
This is a MISFET for connecting to the DataLine. In this memory cell array, instead of arranging a pair of digit lines DL and DL for each column as in the conventional case, only one digit line is arranged between memory cells in each column. , when it is one digit line, the right memory cell and the common data line are connected, and when there are other digit lines, the left memory cell and the common data line are connected. For example, focusing on digit line DL2, if the first column (Y,) is selected, M42
At the same time, M43 is turned on, and OL, is connected to one of the common data lines through M42 to transmit, for example, a true signal, while DL2 is connected to the other common data line through M43, and transmits, for example, a bar signal. do.
そして、第2列(Y2)が選択された場合はM45とと
もにM44がオンし、DL3がM街を通じてコモンデー
タ線の一方に接続されて例えばトル−信号を伝達するの
に対してDL2は地4を通じてコモンデータ線の他方に
接続されてバー信号を伝達する。このように一本のディ
ジツト線があるときは左側のメモリセルとコモンデータ
線との接続を、他のあるときは右側のメモリセルとコモ
ンデータ線との接続を行うので、ディジット線の数は従
来のほぼ半数ですむ。したがって、第4図bに示す回路
よりもメモリセルアレィの占有面積を小さくすることが
できる。勿論、X選択信号により特定された一つのメモ
リセルのみディジット線に第2図aに示すような無駄な
電力消費が生じるという欠点はない。第2図は×選択信
号、Y選択信号及びデイジツト線の読み出し信号を示す
波形図である。第3図はメモリセルアレィの占有面積を
より小さくした実施例を示す回路図である。When the second column (Y2) is selected, M44 as well as M45 are turned on, and DL3 is connected to one side of the common data line through M Street to transmit, for example, a toru signal, while DL2 is connected to the ground is connected to the other common data line through the common data line to transmit the bar signal. In this way, when there is one digit line, the memory cell on the left side is connected to the common data line, and when there is another digit line, the memory cell on the right side is connected to the common data line, so the number of digit lines is It only takes about half of the conventional cost. Therefore, the area occupied by the memory cell array can be made smaller than in the circuit shown in FIG. 4b. Of course, there is no disadvantage that wasteful power consumption as shown in FIG. 2a occurs in the digit line of only one memory cell specified by the X selection signal. FIG. 2 is a waveform diagram showing the x selection signal, the Y selection signal, and the digit line readout signal. FIG. 3 is a circuit diagram showing an embodiment in which the area occupied by the memory cell array is made smaller.
これは、メモリセルの行方向への接続を×選択信号によ
り駆動されるMISFETを介在させることなく行いも
隣接するメモリセル相互の接続点とディジット線とをX
選択信号により駆動される一つのMISFETを介して
接続してなるものである。This allows memory cells to be connected in the row direction without intervening MISFETs driven by an
They are connected via one MISFET driven by a selection signal.
この実施例を第1図に示す実施例と比較すると1個のメ
モリセルあたりMISFETの数が一個少なくなってい
る(但し、第1列に属するメモリセルに限りMISFE
Tの数は同数である。これは第1図に示す実施例におけ
る例えばM6とM,.の2個のMISFETを、本実施
例においては一個のMISFETM6で兼用させたこと
による。したがって本実施例によれば、ディジット線の
数がほぼ半減したのみならず、MISFETの数も1個
のメモリセル当り1個減少するので、第4図aに示す回
路とほぼ同じ占有面積で、第4図bと同様に無駄な電力
消費をなくすことができるのである。以上説明したよう
に本発明によれば、占有面積を増大させることなく無駄
な電力消費をなくすことができ極めて有効である。なお
、上記各実施例はメモリセルを構成するフリツプフロッ
プの負荷手段として抵抗を用いたものであるが、本発明
は負荷手段としてMISFETを用いたものにも適用す
ることができることはいうまでもない。When this embodiment is compared with the embodiment shown in FIG.
The number of T's is the same. This is for example M6 and M, . . . in the embodiment shown in FIG. This is because, in this embodiment, one MISFET M6 is used for both of the two MISFETs. Therefore, according to this embodiment, not only the number of digit lines is reduced by almost half, but also the number of MISFETs is reduced by one per memory cell, so that the circuit occupies almost the same area as the circuit shown in FIG. 4a. Similarly to FIG. 4b, wasteful power consumption can be eliminated. As explained above, according to the present invention, wasteful power consumption can be eliminated without increasing the occupied area, and it is extremely effective. Although each of the above embodiments uses a resistor as a load means for a flip-flop constituting a memory cell, it goes without saying that the present invention can also be applied to an MISFET as a load means.
第1図は本発明の一実施例を示す回路図、第2図はその
タイムチャート図、第3図は本発明の他の実施例を示す
回路図「第4図a,bは各従来例を示す回路図である。
M,〜M5o・・・・・・MISFETへR,〜R,2
・…・・抵抗。発′図弟Z図
弟3図
弟ィ図FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a time chart thereof, and FIG. 3 is a circuit diagram showing another embodiment of the present invention. It is a circuit diagram showing M, ~M5o... R to MISFET, ~R, 2
·…··resistance. Departure diagram Younger brother Z diagram Younger brother 3 diagram Younger brother I diagram
Claims (1)
対のMISFET及び行選択信号により駆動されるMI
SFETとで構成したメモリセルをマトリツクス状に配
置し、行選択信号と列選択信号とにより特定された一つ
のメモリセルにおけるフリツプフロツプを上記MISF
ETを介して列方向のデイジツト線に電気的に接続する
ようにしてなるMIS型半導体記憶装置において、上記
デイジツト線のうち隣接する列相互間に位置するものに
ついては一本ずつのみ配置し、列相互間に配置された各
デイジツト線をその両側の列に属するメモリセルとコモ
ンデータ線との電気的接続手段に用いてなることを特徴
とするMIS型半導体記憶装置。 2 フリツプフロツプ、列選択信号により駆動される一
対のMISFET及び行選択信号により駆動されるMI
SFETとで構成したメモリセルをマトリツクス状に配
置し、一つのメモリセルにおけるフリツプフロツプを上
記MISFETを介して列方向のデイジツト線に電気的
に接続してなるものであって、上記デイジツト線のうち
隣接する相互間に位置するものについては一本ずつ配置
し、メモリセルの選択に際して印加される列選択信号に
より制御されるMISFETを通じて当該選択に係る列
の両側のデイジツト線を一対のコモンデータ線に電気的
に接続するようにしてなることを特徴とするMIS型半
導体記憶装置。 3 フリツプフロツプ及びその一対の入出力端子に接続
された列選択信号により駆動される一対のMISFET
とからなるメモリセルを行方向に複数個接続し、さらに
複数列設けることによりマトリツクス状にメモリセルア
レイを構成してなり、かつ列方向のデイジツト線のうち
隣接する列相互間に位置するものについて一個ずつ配置
し、行方向に接続されるメモリセル相互の各接続点それ
ぞれに一個ずつ接続した行選択信号により駆動されるM
ISFETを介してメモリセルにおけるフリツプフロツ
プとデイジツト線との電気的接続を行うようにしてなる
ことを特徴とするMIS型半導体記憶装置。[Claims] 1. A flip-flop, a pair of MISFETs driven by a column selection signal, and an MI driven by a row selection signal.
Memory cells composed of SFETs are arranged in a matrix, and a flip-flop in one memory cell specified by a row selection signal and a column selection signal is connected to the above-mentioned MISF.
In a MIS type semiconductor memory device which is electrically connected to digit lines in the column direction via ET, only one digit line is arranged between adjacent columns among the digit lines. A MIS type semiconductor memory device characterized in that each digit line arranged between the digit lines is used as an electrical connection means between memory cells belonging to columns on both sides and a common data line. 2 flip-flop, a pair of MISFETs driven by the column selection signal and a pair of MISFETs driven by the row selection signal.
Memory cells configured with SFETs are arranged in a matrix, and a flip-flop in one memory cell is electrically connected to a digit line in the column direction via the MISFET, and one of the adjacent digit lines The digit lines on both sides of the selected column are electrically connected to a pair of common data lines through MISFETs that are controlled by the column selection signal applied when selecting a memory cell. 1. An MIS type semiconductor memory device, characterized in that the MIS type semiconductor memory device is connected to each other. 3 A pair of MISFETs driven by a column selection signal connected to a flip-flop and its pair of input/output terminals
A memory cell array is formed in a matrix by connecting a plurality of memory cells in the row direction and further providing a plurality of columns, and one digit line in the column direction located between adjacent columns. The memory cells are arranged in rows and driven by a row selection signal connected to each connection point between memory cells connected in the row direction.
A MIS type semiconductor memory device characterized in that a flip-flop in a memory cell and a digit line are electrically connected through an ISFET.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52100466A JPS608553B2 (en) | 1977-08-24 | 1977-08-24 | MIS type semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52100466A JPS608553B2 (en) | 1977-08-24 | 1977-08-24 | MIS type semiconductor memory device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5434726A JPS5434726A (en) | 1979-03-14 |
| JPS608553B2 true JPS608553B2 (en) | 1985-03-04 |
Family
ID=14274674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52100466A Expired JPS608553B2 (en) | 1977-08-24 | 1977-08-24 | MIS type semiconductor memory device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS608553B2 (en) |
Families Citing this family (8)
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| JPS6365199U (en) * | 1986-10-20 | 1988-04-28 | ||
| JPS6424596U (en) * | 1987-08-04 | 1989-02-09 | ||
| JPH01205790A (en) * | 1988-02-10 | 1989-08-18 | Ricoh Co Ltd | Static ram |
| JP2837682B2 (en) * | 1989-01-13 | 1998-12-16 | 株式会社日立製作所 | Semiconductor storage device |
| KR930005199A (en) * | 1991-08-30 | 1993-03-23 | 가나이 쓰토무 | Semiconductor memory |
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| JP2009259337A (en) * | 2008-04-17 | 2009-11-05 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
-
1977
- 1977-08-24 JP JP52100466A patent/JPS608553B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5434726A (en) | 1979-03-14 |
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