JPS609248B2 - 感光性混合物 - Google Patents
感光性混合物Info
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- JPS609248B2 JPS609248B2 JP51103779A JP10377976A JPS609248B2 JP S609248 B2 JPS609248 B2 JP S609248B2 JP 51103779 A JP51103779 A JP 51103779A JP 10377976 A JP10377976 A JP 10377976A JP S609248 B2 JPS609248 B2 JP S609248B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスルホニゥム化合物に関するものであり、さら
に具体的にいえば、芳香族スルホニウム化合物の光増感
に関するものである。
に具体的にいえば、芳香族スルホニウム化合物の光増感
に関するものである。
スルホニウム塩は約30仇m以下の波長に於てのみ紫外
線を吸収することが知られており、そしてその吸収スペ
クトルは本質的には分子のアニオン部分と無関係である
。
線を吸収することが知られており、そしてその吸収スペ
クトルは本質的には分子のアニオン部分と無関係である
。
この限定されたスペクトル的応答は従って感光性組成物
中での光開始剤(photo風船tor)としての用途
に関して重大な個有の制約となる。例えば、印刷用板の
製造に於けるような写真印刷業界に於て、写真のネガフ
ィルムはランプと感光板との間に置かれる。しかし、こ
のネガフィルムは約34mm以下の波長をもつ有効な光
の透過を妨げる。さらに、感光性組成物が光硬化性コー
ティングとして使用されるときには、約30仇m以下の
波長の光は、そのコーティング中に存在するモノマー状
化合物、粘結剤、などによる光の吸収のために、コーテ
ィング中を通過するにつれて強度が落ちる。感光性組成
物のスペクトル的応答をひろげるために用いることがで
きる染料及びその他の物質の種類は数多〈知られている
が、芳香族スルホニウム塩の増感に於てどの物質が有用
であるかを予言することは不可能であった。
中での光開始剤(photo風船tor)としての用途
に関して重大な個有の制約となる。例えば、印刷用板の
製造に於けるような写真印刷業界に於て、写真のネガフ
ィルムはランプと感光板との間に置かれる。しかし、こ
のネガフィルムは約34mm以下の波長をもつ有効な光
の透過を妨げる。さらに、感光性組成物が光硬化性コー
ティングとして使用されるときには、約30仇m以下の
波長の光は、そのコーティング中に存在するモノマー状
化合物、粘結剤、などによる光の吸収のために、コーテ
ィング中を通過するにつれて強度が落ちる。感光性組成
物のスペクトル的応答をひろげるために用いることがで
きる染料及びその他の物質の種類は数多〈知られている
が、芳香族スルホニウム塩の増感に於てどの物質が有用
であるかを予言することは不可能であった。
事実、特定の物質のみが芳香族スルホニウム塩の増感に
有用であることが発見されたのである。例えば、トリプ
レット(triplet)増感剤として知られている。
周知でかつ広範に使用されている種類のエネルギー伝達
(ener趣transfer)増感剤、例えば、ベン
ゾフェノン、アセトフヱノンなど、は芳香族スルホニウ
ム塩の増感に対してそれほど有効でない。本発明によれ
ば、芳香族スルホニウム化合物と;【aー 式 (式中、〜1,Ar2及びA〆は置換又は非置換のフェ
ニル又はフェニレン基であり、Zは酸素、硫黄又はであ
る)をもつ芳香族三級アミ ン: 【b’式 (式中、Yはフェニレン基、ジフェニレン基及びAジー
○−〜9からなる群から選ばれる2価の基であり、〜4
,〜5,Ar6,Ar7,Ar8、及びル9はフェニル
基である)か又は、式 (式中、Yはフェニレン基、ジフェニレン基、及びAで
一〇−Ar9からなる群から選ばれる2価の基であり、
A〆,ふ5,〜6,Ar7,〜8、及びAギはフヱニル
基又はフェニレン基であり、n又はmは1に等しい)を
もつ芳香族三級ジアミン;【c} 置換又は非置換の、
3〜5個の芳香族多環化合物;からなる群から選ばれる
増感性化合物、 とを含む感光性混合物が提供される。
有用であることが発見されたのである。例えば、トリプ
レット(triplet)増感剤として知られている。
周知でかつ広範に使用されている種類のエネルギー伝達
(ener趣transfer)増感剤、例えば、ベン
ゾフェノン、アセトフヱノンなど、は芳香族スルホニウ
ム塩の増感に対してそれほど有効でない。本発明によれ
ば、芳香族スルホニウム化合物と;【aー 式 (式中、〜1,Ar2及びA〆は置換又は非置換のフェ
ニル又はフェニレン基であり、Zは酸素、硫黄又はであ
る)をもつ芳香族三級アミ ン: 【b’式 (式中、Yはフェニレン基、ジフェニレン基及びAジー
○−〜9からなる群から選ばれる2価の基であり、〜4
,〜5,Ar6,Ar7,Ar8、及びル9はフェニル
基である)か又は、式 (式中、Yはフェニレン基、ジフェニレン基、及びAで
一〇−Ar9からなる群から選ばれる2価の基であり、
A〆,ふ5,〜6,Ar7,〜8、及びAギはフヱニル
基又はフェニレン基であり、n又はmは1に等しい)を
もつ芳香族三級ジアミン;【c} 置換又は非置換の、
3〜5個の芳香族多環化合物;からなる群から選ばれる
増感性化合物、 とを含む感光性混合物が提供される。
増感された芳香族スルホニウム化合物に関連する多くの
利点がある。
利点がある。
例えば、感光性組成物に於て、光硬化速度が増し、そし
て、より安全でより安価な露光ランプが効果的に使用で
きる。本発明に従って増感することができる芳香族スル
ホニウム化合物は式 をもち、(式中、R,,R2およびR3は置換又は非置
換ァリール基及び低級アルキル基からなる群から選ばれ
、R,,R2,R3の少なくとも1個は芳香族基であり
、X‐はアニオンである。
て、より安全でより安価な露光ランプが効果的に使用で
きる。本発明に従って増感することができる芳香族スル
ホニウム化合物は式 をもち、(式中、R,,R2およびR3は置換又は非置
換ァリール基及び低級アルキル基からなる群から選ばれ
、R,,R2,R3の少なくとも1個は芳香族基であり
、X‐はアニオンである。
アニオン、×、の特定の性質は本発明の目的に対して限
定的なものでなくあるいは臨界的でないが、多くの用途
に対して、芳香族スルホニウム化合物がXがテトラフロ
ロボレート、ヘキサフロロホスフヱート、ヘキサフロロ
アーセネート、及びへキサフロロアンチモネートから選
ばれる錨塩の形にあることが好ましい。芳香族スルホニ
ウム塩は当業に於て知られており認められている。
定的なものでなくあるいは臨界的でないが、多くの用途
に対して、芳香族スルホニウム化合物がXがテトラフロ
ロボレート、ヘキサフロロホスフヱート、ヘキサフロロ
アーセネート、及びへキサフロロアンチモネートから選
ばれる錨塩の形にあることが好ましい。芳香族スルホニ
ウム塩は当業に於て知られており認められている。
トリアリル置換スルホニウム化合物は例えば、J.○r
g.Chem.332671−75(1958)の日.
ウィーガンドらの「ハロゲン化トリアリールスルホニゥ
ムの合成と反応」に記載された方法によってつくること
ができる。アルキル置換基をもつ芳香族スルホニウム塩
はK.オークボらのJ.○rg.Chem.36 31
49一55(1971)に記載の方法によってつくるこ
とができる。トリアリール置換スルホニウム化合物をつ
くる好ましい方法は、スルホニウム鏡塩がつくられる本
文中引用の米国特許第2807648号に記載されてい
る。スルホニウム銭塩はハロゲン化物塩のような対応す
る単純塩から、所望の錨塩アニオンの金属塩またはアン
モニウム塩との複分解によってつくることができる。ス
ルホニウ.ム錨塩は少くとも一つのそして好ましくは三
つの芳香族基で以て置換される。
g.Chem.332671−75(1958)の日.
ウィーガンドらの「ハロゲン化トリアリールスルホニゥ
ムの合成と反応」に記載された方法によってつくること
ができる。アルキル置換基をもつ芳香族スルホニウム塩
はK.オークボらのJ.○rg.Chem.36 31
49一55(1971)に記載の方法によってつくるこ
とができる。トリアリール置換スルホニウム化合物をつ
くる好ましい方法は、スルホニウム鏡塩がつくられる本
文中引用の米国特許第2807648号に記載されてい
る。スルホニウム銭塩はハロゲン化物塩のような対応す
る単純塩から、所望の錨塩アニオンの金属塩またはアン
モニウム塩との複分解によってつくることができる。ス
ルホニウ.ム錨塩は少くとも一つのそして好ましくは三
つの芳香族基で以て置換される。
代表的な基は4乃至2の固の炭素原子をもつ芳香族基で
あり、フェニル、チヱニル及びフラニル基から選ばれる
。これらの芳香族基は任意的には一つ以上の縮合ベンゼ
ン環(例えばナフチル及び類似物:ペンゾチヱニル、ジ
ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、ジベンゾフラニル、
など)をもっていてよし、。このような芳香族基はまた
、所望ならば、次の基の一つ以上により置換されるか、
あるいはこの鈴塩が用いられるべき特定組成物の中に存
在する他の成分と本質的に反応しない他の基によって置
換されてよい:すなわち、ハロゲン、ニトロ、アリール
、ェステル基(例えば、メトキシカルボニル、ェトキシ
カルボニル、及びフェノキシカルボニルのようなアルコ
オキシカルボニル、アセトキシ及びプロピオニルオキシ
のようなアシルオキシ)、スルホェステル基(例えば、
メトキシスルホニル及びブトキシスルホニル、フェノキ
シスルホニル、などのようなアルコオキシスルホニル)
、アミド基(例えば、アセタミド、ブチラミド、エチル
スルホンアミド、など)、カルバミル基(例えば、カル
バミル、N−アルキルカルバミル、Nーフエニルカルバ
ミル、など)、スルフアミル基(例えば、スルフアミル
、N−アルキルスルフアミル、N,N−ジアルキルスル
フアミル、N−フエニルスルフアミル、など)、アルコ
オキシ基(例えば、メトキシ、ェトキシ、プトキシ、な
と)、アリール基(例えば、フェニル)、アルキル基(
例えば、メチル、エチル、ブチル、など)、アリールオ
キシ基(例えば、フェノキシ)、アルキルスルホニル(
例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、など)
〜アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル
)、パーフロロアルキル基(例えば、トリフロロメチル
、パーフロロェチル、など)並びに、パーフロロアルキ
ルスルホニル基(例えば、トリフロロメチルスルホニル
、パーフロロブチルスルホニル、など)、である。適切
な芳香族スルホニゥム錯塩光開始剤には次のものが含ま
れる。
あり、フェニル、チヱニル及びフラニル基から選ばれる
。これらの芳香族基は任意的には一つ以上の縮合ベンゼ
ン環(例えばナフチル及び類似物:ペンゾチヱニル、ジ
ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、ジベンゾフラニル、
など)をもっていてよし、。このような芳香族基はまた
、所望ならば、次の基の一つ以上により置換されるか、
あるいはこの鈴塩が用いられるべき特定組成物の中に存
在する他の成分と本質的に反応しない他の基によって置
換されてよい:すなわち、ハロゲン、ニトロ、アリール
、ェステル基(例えば、メトキシカルボニル、ェトキシ
カルボニル、及びフェノキシカルボニルのようなアルコ
オキシカルボニル、アセトキシ及びプロピオニルオキシ
のようなアシルオキシ)、スルホェステル基(例えば、
メトキシスルホニル及びブトキシスルホニル、フェノキ
シスルホニル、などのようなアルコオキシスルホニル)
、アミド基(例えば、アセタミド、ブチラミド、エチル
スルホンアミド、など)、カルバミル基(例えば、カル
バミル、N−アルキルカルバミル、Nーフエニルカルバ
ミル、など)、スルフアミル基(例えば、スルフアミル
、N−アルキルスルフアミル、N,N−ジアルキルスル
フアミル、N−フエニルスルフアミル、など)、アルコ
オキシ基(例えば、メトキシ、ェトキシ、プトキシ、な
と)、アリール基(例えば、フェニル)、アルキル基(
例えば、メチル、エチル、ブチル、など)、アリールオ
キシ基(例えば、フェノキシ)、アルキルスルホニル(
例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、など)
〜アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル
)、パーフロロアルキル基(例えば、トリフロロメチル
、パーフロロェチル、など)並びに、パーフロロアルキ
ルスルホニル基(例えば、トリフロロメチルスルホニル
、パーフロロブチルスルホニル、など)、である。適切
な芳香族スルホニゥム錯塩光開始剤には次のものが含ま
れる。
トリフエニルスルホニウム テトラフロロボレートメチ
ルジフエニルスルホニウム テトラフロロボレートジメ
チルフエニルスルホニウム ヘキサフロロホスフエート
トリフエニルスルホニウム ヘキサフロロホスフエート
トリフエニルスルホニウム ヘキサフロロアンチモネー
トジフエニルナフチルスルホニウム ヘキサフロロアー
セネートトリトリルスルホニウム ヘキサフロロホスフ
エートアニシルジフエニルスルホニウム ヘキサフロロ
アンチモネート4ープトキシフエニルジフエニルスルホ
ニウムテトラフロロボレート4ークロロフエニルジフエ
ニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートトリス(
4−フエノキシフエニル)スルホニウムヘキサフロロホ
スフエートジ(4−エトキシフエニル)メチルスルホニ
ウム ヘキサフロロアーセネート4ーアセトニルフエニ
ルジフエニルスルホニウム テトラフロロボレートトリ
ス(4−チオメトキシフヱニル)スルホニウム ヘキサ
フロロホスフエートジ(メトキシスルホニルフエニル)
メチルスルホニウム ヘキサフロロアンチモネートジ(
メトキシナフチル)メチルスルホニウムテトラフロロボ
レートジ(力ルボメトキシフエニル)メチルスルホニウ
ム ヘキサフロロホスフヱート4ーアセタミドフエニル
ジフエニルスルホニウムテトラフロロポレートジメチル
ナフチルスルホニウム ヘキサフロロホスフエートトリ
フロロメチルジフエニルスルホニウム テトラフ00ボ
レートメチル(N−メチルフエノチアジニル)スルホニ
ウム ヘキサフロロアンチモネートフエニルメチルベン
ジルスルホニウム ヘキサフロロホスフエート10ーメ
チルフエノキサチイニウム ヘキサフロロホスフエート
5ーメチルチアンスレニウム ヘキサフロロホスフエー
ト10−フエニルー9,9−ジメチルチオキサンテニウ
ム ヘキサフロロホスフエート10−フヱニルー9ーオ
キソチオサンテニウムテトラフロロボレート5−メチル
−10−オキソチアントレニウム テトラフロロボレー
ト5−メチル−10,10−ジオキソチアンスレニウム
ヘキサフロロホスフエート本発明に於て使用される芳
香族スルホニウム錯塩の中で、好ましい塩はトリフェニ
ルスルホニウム ヘキサフロロホスフエートのようなト
リアリール置換塩である。
ルジフエニルスルホニウム テトラフロロボレートジメ
チルフエニルスルホニウム ヘキサフロロホスフエート
トリフエニルスルホニウム ヘキサフロロホスフエート
トリフエニルスルホニウム ヘキサフロロアンチモネー
トジフエニルナフチルスルホニウム ヘキサフロロアー
セネートトリトリルスルホニウム ヘキサフロロホスフ
エートアニシルジフエニルスルホニウム ヘキサフロロ
アンチモネート4ープトキシフエニルジフエニルスルホ
ニウムテトラフロロボレート4ークロロフエニルジフエ
ニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートトリス(
4−フエノキシフエニル)スルホニウムヘキサフロロホ
スフエートジ(4−エトキシフエニル)メチルスルホニ
ウム ヘキサフロロアーセネート4ーアセトニルフエニ
ルジフエニルスルホニウム テトラフロロボレートトリ
ス(4−チオメトキシフヱニル)スルホニウム ヘキサ
フロロホスフエートジ(メトキシスルホニルフエニル)
メチルスルホニウム ヘキサフロロアンチモネートジ(
メトキシナフチル)メチルスルホニウムテトラフロロボ
レートジ(力ルボメトキシフエニル)メチルスルホニウ
ム ヘキサフロロホスフヱート4ーアセタミドフエニル
ジフエニルスルホニウムテトラフロロポレートジメチル
ナフチルスルホニウム ヘキサフロロホスフエートトリ
フロロメチルジフエニルスルホニウム テトラフ00ボ
レートメチル(N−メチルフエノチアジニル)スルホニ
ウム ヘキサフロロアンチモネートフエニルメチルベン
ジルスルホニウム ヘキサフロロホスフエート10ーメ
チルフエノキサチイニウム ヘキサフロロホスフエート
5ーメチルチアンスレニウム ヘキサフロロホスフエー
ト10−フエニルー9,9−ジメチルチオキサンテニウ
ム ヘキサフロロホスフエート10−フヱニルー9ーオ
キソチオサンテニウムテトラフロロボレート5−メチル
−10−オキソチアントレニウム テトラフロロボレー
ト5−メチル−10,10−ジオキソチアンスレニウム
ヘキサフロロホスフエート本発明に於て使用される芳
香族スルホニウム錯塩の中で、好ましい塩はトリフェニ
ルスルホニウム ヘキサフロロホスフエートのようなト
リアリール置換塩である。
トリアリール置換塩はモノ−及びジー、アリール置換塩
よりも熱的に安定であるので好ましく、従って可便時間
の長いことが望まれる硬化系に於て使用されてよい。ト
リアリール置換鍔塩はまた本発明に従ってより染料増感
をし易い。本発明の実施に有用である増感剤は次の範囲
に於て見出される:〔11 式 をもち、(式中、Arl.Arq又びAP‘ま道換又は
非置換のフェニル又はフェニレン基であり、同種又は異
種であってよく、Zは酸素、硫黄又はである、芳香族三
級アミン。
よりも熱的に安定であるので好ましく、従って可便時間
の長いことが望まれる硬化系に於て使用されてよい。ト
リアリール置換鍔塩はまた本発明に従ってより染料増感
をし易い。本発明の実施に有用である増感剤は次の範囲
に於て見出される:〔11 式 をもち、(式中、Arl.Arq又びAP‘ま道換又は
非置換のフェニル又はフェニレン基であり、同種又は異
種であってよく、Zは酸素、硫黄又はである、芳香族三
級アミン。
芳香族基は所望ならばヒド。
キシル、アルコオキシ、ァシルまたはァルキルのような
基で以て置換されてよい。【2} (式中、Yはフェニレン基、ジフェニレン基及びAず−
○−〜9からなる群から選ばれる2価の基であり、〜4
,〜5,Ar6,Ar7,Ar8、及び〜9はフェニル
基である)か又は、式 (式中、Yはフェニレン基、ジフェニレン基、及びA〆
−○−Ar9からなる群から選ばれる2価の基であり、
Zは上述と同じであり、ふ4,Aよ,Af,Ar7,A
ず、及びAぐはフェニル基又はフェニレン基であり、n
又はmは1に等しい)をもつ、芳香族三級ジアミン。
基で以て置換されてよい。【2} (式中、Yはフェニレン基、ジフェニレン基及びAず−
○−〜9からなる群から選ばれる2価の基であり、〜4
,〜5,Ar6,Ar7,Ar8、及び〜9はフェニル
基である)か又は、式 (式中、Yはフェニレン基、ジフェニレン基、及びA〆
−○−Ar9からなる群から選ばれる2価の基であり、
Zは上述と同じであり、ふ4,Aよ,Af,Ar7,A
ず、及びAぐはフェニル基又はフェニレン基であり、n
又はmは1に等しい)をもつ、芳香族三級ジアミン。
芳香族基は所望ならば、ヒドロキシ、アルコオキシ、ア
シルまたはアルキルのような基で以て置換されてよい。
【31 少くとも3個の縮合ベンゼン環をもち、かつF
.A.マツトセンのJ.Chem.Ph$ics.24
、602(1956)の方法に計算される約7.$vよ
り小さいイオン化エネルギーをもつ、芳香族多環化合物
。
シルまたはアルキルのような基で以て置換されてよい。
【31 少くとも3個の縮合ベンゼン環をもち、かつF
.A.マツトセンのJ.Chem.Ph$ics.24
、602(1956)の方法に計算される約7.$vよ
り小さいイオン化エネルギーをもつ、芳香族多環化合物
。
この化合物は所望ならば、アルキル、アルコオキシ、ア
リール、アリールオキシ、アラールキル、アルカリール
、などで以て置換されてよい上記有用種類のなかに入る
代表的増感剤には次のものが含まれる:トリフエニルア
ミン ジナフチルフエニルアミン N,N ジフエニルーN一p−〆トキシフエニルアミン
9−(N,N−ジフエニルアミノ)−アンスラセンN,
N,N′,N′ーテトラフエニルーpーフエニレンジア
ミンN,N,N′,N′、テトラフエニルベンジジンN
ーフエニルフエノチアジンNーフヱニルフエノキサジン N,N′ージフエニルジベンゾピベラジンNーフエニル
ー9,10ージヒドロアクリジンN−ナフチルアクリド
ン4,4′ージフエニルアミノジフエニルエーテルアン
スラセン2ーエチル−9,10−ジメトキシアンスラセ
ン9一メトキシアンスラセン9,10−ジメチルアンス
ラセン 1,2ーベンズアンスラセン べリレン ルブレン テトラフエニルピレン 9,10ージフエニルアンスラセン テトラセン ペンタセン アンサンスレン 一般的にいえば、増感された芳香族スルホニゥム錆塩は
カチオン性反応(カチオン的に重合可能なモノマ−の重
合のような)に対する光開始剤として主として有用であ
る。
リール、アリールオキシ、アラールキル、アルカリール
、などで以て置換されてよい上記有用種類のなかに入る
代表的増感剤には次のものが含まれる:トリフエニルア
ミン ジナフチルフエニルアミン N,N ジフエニルーN一p−〆トキシフエニルアミン
9−(N,N−ジフエニルアミノ)−アンスラセンN,
N,N′,N′ーテトラフエニルーpーフエニレンジア
ミンN,N,N′,N′、テトラフエニルベンジジンN
ーフエニルフエノチアジンNーフヱニルフエノキサジン N,N′ージフエニルジベンゾピベラジンNーフエニル
ー9,10ージヒドロアクリジンN−ナフチルアクリド
ン4,4′ージフエニルアミノジフエニルエーテルアン
スラセン2ーエチル−9,10−ジメトキシアンスラセ
ン9一メトキシアンスラセン9,10−ジメチルアンス
ラセン 1,2ーベンズアンスラセン べリレン ルブレン テトラフエニルピレン 9,10ージフエニルアンスラセン テトラセン ペンタセン アンサンスレン 一般的にいえば、増感された芳香族スルホニゥム錆塩は
カチオン性反応(カチオン的に重合可能なモノマ−の重
合のような)に対する光開始剤として主として有用であ
る。
例えば、増感された銭塩はェポキサイド、オキセタン、
ビニルェステル、ラクトン、などの重合または共重合に
対する光開始剤として特に適している。増感された銭塩
はまたフリーラジカル重合(例えば、ビニルモノマーの
重合)に対する光開始剤としても有用である。一般的に
いえば、本発明実施に於て用いられる増感剤の量は芳香
族錆塩1部あたりの増感剤が重量で約0.01乃至1部
、好ましくは約0.1乃至1部である。
ビニルェステル、ラクトン、などの重合または共重合に
対する光開始剤として特に適している。増感された銭塩
はまたフリーラジカル重合(例えば、ビニルモノマーの
重合)に対する光開始剤としても有用である。一般的に
いえば、本発明実施に於て用いられる増感剤の量は芳香
族錆塩1部あたりの増感剤が重量で約0.01乃至1部
、好ましくは約0.1乃至1部である。
一定の組成物の中に含まれるべき増感剤の量を決定する
際に考慮すべき因子は、期待される露光条件、硬化され
るべき組成物の厚さ、組成物中の増感剤の溶解度、並び
に増感剤を利用する際に通常考えられるその他の因子、
を含んでいる。本発明は次の制約をつける意味のもので
ない実施例によってさらに解説されるが、「部」は特記
しないかぎり重量部のことをいう。
際に考慮すべき因子は、期待される露光条件、硬化され
るべき組成物の厚さ、組成物中の増感剤の溶解度、並び
に増感剤を利用する際に通常考えられるその他の因子、
を含んでいる。本発明は次の制約をつける意味のもので
ない実施例によってさらに解説されるが、「部」は特記
しないかぎり重量部のことをいう。
実施例 1−11
次の物質から成る母液がつくられた:
100夕のェポキシ樹脂(芳香族グリシジルェーテル型
ェポキサィド 当量重量183)4夕の?3SPF6 10夕のアセトン 第1表中の物質の各々20の9を母液試料各5夕の中に
溶解し、ポリエステル フィルムの上に50ミクロンの
厚さ(湿潤時)にナイフで被覆する。
ェポキサィド 当量重量183)4夕の?3SPF6 10夕のアセトン 第1表中の物質の各々20の9を母液試料各5夕の中に
溶解し、ポリエステル フィルムの上に50ミクロンの
厚さ(湿潤時)にナイフで被覆する。
このコ−ティングの試料を334nmより大きい波長の
光のみを通過させるコーニングフィルターを通して露光
する。露光ランプはGE日虹刀高圧水銀灯で距離は7イ
ンチであった。粘着しない表面をつくり出す露光時間が
完全硬化をもたらすに要する露光時間とともに測定され
た。これらの時間は標準用試料からの結果とともに第1
表に記録されている。第1表 実施例 12−15 次の物質から成る母液がつくられた: 即夕のポリ(メチルビニルエーテル/マレイン酸)コポ
リマー7夕のジアセンアクリルアマイド 1夕のメチレンビスアクリルアマイド 0.5夕のぐ3S+PF‐/6 第0表中の増感剤10の夕をこの母液5夕へ添加し、ゼ
ラチンを下塗りしたポリエステルフィルム上に温潤時の
厚さ50ミクロンにナイフで塗布する。
光のみを通過させるコーニングフィルターを通して露光
する。露光ランプはGE日虹刀高圧水銀灯で距離は7イ
ンチであった。粘着しない表面をつくり出す露光時間が
完全硬化をもたらすに要する露光時間とともに測定され
た。これらの時間は標準用試料からの結果とともに第1
表に記録されている。第1表 実施例 12−15 次の物質から成る母液がつくられた: 即夕のポリ(メチルビニルエーテル/マレイン酸)コポ
リマー7夕のジアセンアクリルアマイド 1夕のメチレンビスアクリルアマイド 0.5夕のぐ3S+PF‐/6 第0表中の増感剤10の夕をこの母液5夕へ添加し、ゼ
ラチンを下塗りしたポリエステルフィルム上に温潤時の
厚さ50ミクロンにナイフで塗布する。
乾燥した試料をランプ下でフオトグラフィック ステツ
プ タブレツト(photogaphicstepbl
et)を通じかつ実施例1一11に記載の距離で光した
。露光された試料は禾重合領域を溶出し去るため水で以
て贋霧した。不溶化されたステップ(sにp)の数は光
重合の相対的速度の指標である。第2表 実施例 16−18 次の物質から成る母液がつくられた: 30夕のヱポキシ樹脂(芳香族グリシジルェーナル型:
ヱポキサイド当量重量185)1.2夕のトリ−pート
リルスルホニウムへキサフロロアンチモネート 3夕のアセトン 第3表の増感剤20の9をこの母液5夕へ添加し、ポリ
エステルフィルム上へ湿潤時の厚さ50ミクロンでナイ
フで塗布、空気乾燥した。
プ タブレツト(photogaphicstepbl
et)を通じかつ実施例1一11に記載の距離で光した
。露光された試料は禾重合領域を溶出し去るため水で以
て贋霧した。不溶化されたステップ(sにp)の数は光
重合の相対的速度の指標である。第2表 実施例 16−18 次の物質から成る母液がつくられた: 30夕のヱポキシ樹脂(芳香族グリシジルェーナル型:
ヱポキサイド当量重量185)1.2夕のトリ−pート
リルスルホニウムへキサフロロアンチモネート 3夕のアセトン 第3表の増感剤20の9をこの母液5夕へ添加し、ポリ
エステルフィルム上へ湿潤時の厚さ50ミクロンでナイ
フで塗布、空気乾燥した。
このコーティングの試料を実施例1一11で記載の同じ
フィルターを通して露光し、ただし露光ランプは275
ワットのゼネラル エレクトリックサンランプであり、
距離は5インチであった。完全硬化をもたらす露光時間
を測定し、第3表に記録した。第3表 実施例 19−24 次の物質から成る母液がつくられた: 50夕のェポキシ樹脂(芳香族グリシジルェーブル型:
ェポキサィド当量重量 1852夕の◇2S十CH3P
F6 第4表中の増感剤各20の9をこの母液試料5夕の中に
溶解した。
フィルターを通して露光し、ただし露光ランプは275
ワットのゼネラル エレクトリックサンランプであり、
距離は5インチであった。完全硬化をもたらす露光時間
を測定し、第3表に記録した。第3表 実施例 19−24 次の物質から成る母液がつくられた: 50夕のェポキシ樹脂(芳香族グリシジルェーブル型:
ェポキサィド当量重量 1852夕の◇2S十CH3P
F6 第4表中の増感剤各20の9をこの母液試料5夕の中に
溶解した。
これらの溶液を次に、ポリエステルフィルム上へ湿潤時
の厚さ50ミクロンでナイフで塗布し、空気乾燥した。
各試料を実施例1一11中に記述したのと同じフィルタ
ーを通して露光した。露光は275ワットのゼネラル
エレクトリック サンランプで以て5インチの距離でな
された。非粘着性表面をつくり出すのに必要とする露光
時間が測定され、第4表に記録されている。第4表実施
例 25−27 光重合性コーティング組成物を第5表に表示の成分から
つくり、その際、相対的量は重量で示している。
の厚さ50ミクロンでナイフで塗布し、空気乾燥した。
各試料を実施例1一11中に記述したのと同じフィルタ
ーを通して露光した。露光は275ワットのゼネラル
エレクトリック サンランプで以て5インチの距離でな
された。非粘着性表面をつくり出すのに必要とする露光
時間が測定され、第4表に記録されている。第4表実施
例 25−27 光重合性コーティング組成物を第5表に表示の成分から
つくり、その際、相対的量は重量で示している。
これらの組成物を2ミル(50ミクロン)の厚さのポリ
エステルフィルム上へ湿潤時の厚さ2ミル(50ミクロ
ン)でナイフで塗布し、次いで1時間空気乾燥し、最終
的厚みとして1.4ミル(35ミクロン)のフィルムの
厚みが得られた。第5表各コーティングの試料を次にゼ
ネラル ヱレクトリック ■日虹7水銀蒸気ランプへ7
インチの距離で、各試料と水銀灯との間に置かれたコー
ニングガラス■フィルター No.○−52(実施例1
−11に於て用いられたのと同じフィルター)で以て、
露光した。
エステルフィルム上へ湿潤時の厚さ2ミル(50ミクロ
ン)でナイフで塗布し、次いで1時間空気乾燥し、最終
的厚みとして1.4ミル(35ミクロン)のフィルムの
厚みが得られた。第5表各コーティングの試料を次にゼ
ネラル ヱレクトリック ■日虹7水銀蒸気ランプへ7
インチの距離で、各試料と水銀灯との間に置かれたコー
ニングガラス■フィルター No.○−52(実施例1
−11に於て用いられたのと同じフィルター)で以て、
露光した。
このフィルターは334nm以下の波長の光の0.5%
以下を透過する。芳香族スルホニゥム鈴塩は約32仇m
以下の波長の光のみを吸収し、従って、フィルターはス
ルホニウム錆塩を光分解するに必要な活性化光を有効に
とどめる。10分の露光では実施例25の試料に何ら光
硬化を示させなかった。
以下を透過する。芳香族スルホニゥム鈴塩は約32仇m
以下の波長の光のみを吸収し、従って、フィルターはス
ルホニウム錆塩を光分解するに必要な活性化光を有効に
とどめる。10分の露光では実施例25の試料に何ら光
硬化を示させなかった。
1分及び2.筋ごの露光時間は、実施例26及び27の
試料をそれぞれ、上面から下面まで完全に硬化させた。
試料をそれぞれ、上面から下面まで完全に硬化させた。
実施例 28−30光重合性コーティング組成物を第6
表に表示の分からつくられた。
表に表示の分からつくられた。
その際、相対的量は重量で示されている。これらの組成
物を次にゼラチンを塗りしたポリエステルフィルムの上
へ湿潤時の羊3ミル(75ミクロン)でナイフで塗布し
、次に1時間空気乾燥した。第6表 このコーティングの各々の試料は、275ワットのゼネ
ラル エレクトリック サンランプへ5インチの距離で
、各試料とランプとの間に置かれたコーニング ガラス
■フイルター No.0一52で以て、露光された。
物を次にゼラチンを塗りしたポリエステルフィルムの上
へ湿潤時の羊3ミル(75ミクロン)でナイフで塗布し
、次に1時間空気乾燥した。第6表 このコーティングの各々の試料は、275ワットのゼネ
ラル エレクトリック サンランプへ5インチの距離で
、各試料とランプとの間に置かれたコーニング ガラス
■フイルター No.0一52で以て、露光された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 芳香族スルホニウム化合物と、 (a) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Ar^1,Ar^2及びAr^3は置換又は
非置換のフエニル又はフエニレン基であり、Zは酸素、
硫黄又は▲数式、化学式、表等があります▼ である)をもつ芳香族三級ア ミン; (b) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Yはフエニレン基、ジフエニレン基及びAr
^8−O−Ar^9からなる群から選ばれる2価の基で
あり、Ar^4,Ar^5,Ar^6,Ar^7,Ar
^8,及びAr^9はフエニル基である)か又は、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Yは、フエニレン基、ジフエニレン基、及び
Ar^8−O−Ar^9からなる群から選ばれる2価の
基であり、Zは上述と同じであり、Ar^4,Ar^5
,Ar^6,Ar^7,Ar^8,及びAr^9はフエ
ニル基又はフエニレン基であり、n又はmは1に等しい
)をもつ芳香族三級ジアミン;(c) 置換又は非置換
の、3〜5個の芳香族多環化合物;からなる群から選ば
れる増感性化合物、 とからなる感光性混合物。 2 (a) 重合性モノマーと、 (b) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1,R_2およびR_3は置換又は非置
換アリール及び低級アルキル基からなる群から選ばれ、
R_1,R_2,R_3の少なくとも1個は芳香族基で
あり、そしてX^−はテトラフルオロボレート、ヘキサ
フルオロホスフエートおよびヘキサフルオロアンチモネ
ートからなる群から選ばれるハロゲン含有錯アニオン又
はハロゲンイオンである)をもつ芳香族スルホニウム錯
塩と、(c)(i) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Ar^1,Ar^2及びAr^3は置換又は
非置換のフエニル又はフエニレン基であり、Zは酸素、
硫黄又は▲数式、化学式、表等があります▼ である)をもつ芳香族三級ア ミン; (ii) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Yはフエニレン基、ジフエニレン基及びAr
^8−O−Ar^9からなる群から選ばれる2価の基で
あり、Ar^4,Ar^5,Ar^6,Ar^7,Ar
^8,及びAr^9はフエニル基である)か又は、式▲
数式、化学式、表等があります▼ (式中、Yはフエニレン基、ジフエニレン基、及びAr
^8−O−Ar^9からなる群から選ばれる2価の基で
あり、Zは上述と同じであり、Ar^4,Ar^5,A
r^6,Ar^7,Ar^8、及びAr^9はフエニル
基又はフエニレン基であり、n又はmは1に等しい)を
もつ芳香族三級ジアミン; (iii) 置換又は非置換の、3〜5個の芳香族多環
化合物;からなる群から選ばれる増感性化合物、 とからなる光重合性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/609,896 US4069054A (en) | 1975-09-02 | 1975-09-02 | Photopolymerizable composition containing a sensitized aromatic sulfonium compound and a cationacally polymerizable monomer |
| US609896 | 1975-09-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5230420A JPS5230420A (en) | 1977-03-08 |
| JPS609248B2 true JPS609248B2 (ja) | 1985-03-08 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51103779A Expired JPS609248B2 (ja) | 1975-09-02 | 1976-09-01 | 感光性混合物 |
Country Status (7)
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| US (1) | US4069054A (ja) |
| JP (1) | JPS609248B2 (ja) |
| BR (1) | BR7605794A (ja) |
| CA (1) | CA1081522A (ja) |
| DE (1) | DE2639396A1 (ja) |
| FR (1) | FR2322653A1 (ja) |
| GB (1) | GB1565544A (ja) |
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