JPS609453B2 - Sterilization using seeded gas plasma - Google Patents
Sterilization using seeded gas plasmaInfo
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- JPS609453B2 JPS609453B2 JP55001425A JP142580A JPS609453B2 JP S609453 B2 JPS609453 B2 JP S609453B2 JP 55001425 A JP55001425 A JP 55001425A JP 142580 A JP142580 A JP 142580A JP S609453 B2 JPS609453 B2 JP S609453B2
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、物体又は物質を気体状又は蒸気状の化学物
質で処理することによってその物体又は物質を汚染して
いる全ての微生物を撲滅する、気体の滅菌に関するもの
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention relates to gas sterilization, which involves treating an object or substance with a gaseous or vaporous chemical to eradicate all microorganisms contaminating the object or substance. be.
このような滅菌法の必要性は、加熱滅菌、照射滅菌、又
は液状化学物質滅菌を行うことができない多くの滅菌利
用の機会から生じてきている。実際上、表面滅菌の目的
には、わずかに2種の気体乃至蒸気が商業上大規模に用
いられており、それはホルムアルデヒド蒸気とエチレン
オキサィドガスである。The need for such sterilization methods arises from the many sterilization applications where heat sterilization, radiation sterilization, or liquid chemical sterilization cannot be performed. In practice, only two gases or vapors are used on a large commercial scale for surface sterilization purposes: formaldehyde vapor and ethylene oxide gas.
しかし、いずれも欠点を有する。ホルムアルデヒド蒸気
は数十年間病院、農業及び工業の分野で鷺蒸剤として用
いられている。この方法には多くの制限がある。強力な
好気性及び嫌気性のバクテリア胞子を室温で殺すために
は少なくとも相対湿度70%の蒸気と少なくとも24時
間接触させる必要がある。この種類の蒸気は腐食性が非
常に大きく、蒸気は刺激性が強い。また高濃度のCH2
0は高湿度の空気中では80oo以上の温度でのみ安定
であることからホルムアルデヒドガスを高濃度に保持す
ることは極めて困難である。通常の室温ではホルムァル
デヒドはすみやかに重合し、水が存在すると容易に溶解
する。従って、ホルムアルデヒドによる気体滅菌は、誤
まった呼称とみなすことができる。なぜなら、ホルムア
ルデヒドガスの密閉空間内への導入は、ホルムアルデヒ
ドが溶け込んでいる湿性フィルムか又は固体ホルムアル
デヒドポリマーを、囲まれている空間の中にある全ての
利用可能な表面上へ散布する手法で大てし、は行われる
からである。非常に矛盾し、かついまいま否定的な結果
が、病院の消毒、病室、寝具等に於て、及び卵や隣卵所
の衛生設備化の如き農業上の応用に於て報告されている
。ホルムアルデヒド蒸気は浸透力が非常に弱く、かつ痕
跡量の塩酸と共に空気中で用いると、70午0、相対湿
度40%で迅速に発ガン剤であるビス−(クロロメチル
)−エーテルを生じる。上述の病院での利用の欠点を最
小にするために、最近新しい手法が開発された。However, both have drawbacks. Formaldehyde vapor has been used as a vaporizing agent in hospitals, agriculture and industry for decades. This method has many limitations. Contact with steam at a relative humidity of at least 70% for at least 24 hours is required to kill strong aerobic and anaerobic bacterial spores at room temperature. This type of steam is highly corrosive and the steam is highly irritating. Also, high concentration of CH2
Since formaldehyde gas is stable only at temperatures above 80 oo in high humidity air, it is extremely difficult to maintain formaldehyde gas at a high concentration. At normal room temperatures, formaldehyde polymerizes quickly and dissolves easily in the presence of water. Gas sterilization with formaldehyde can therefore be considered a misnomer. This is because the introduction of formaldehyde gas into an enclosed space can be accomplished by dispersing either a wet film in which formaldehyde is dissolved or a solid formaldehyde polymer onto all available surfaces within the enclosed space. Because , will be done. Very contradictory and currently negative results have been reported in hospital disinfection, hospital rooms, bedding, etc., and in agricultural applications such as egg and adjacent egg farm sanitization. Formaldehyde vapor has very weak penetrating power, and when used in air with trace amounts of hydrochloric acid, it rapidly forms bis-(chloromethyl)-ether, a carcinogen, at 70:00 pm and relative humidity of 40%. In order to minimize the disadvantages of hospital applications mentioned above, new techniques have recently been developed.
それはオートクレープ中で80午0にて大気圧以下の水
蒸気とホルムアルデヒドガスとを細合せて使用するもの
である。この方法は大部分の胞子形成微生物を通常の病
院における濃度で殺し、その際器具上に残留するアルデ
ヒドは減少する。この方法はオートクレープの単位立方
フート当り8夕のホルマリン濃度では2時間のさらし時
間を必要とする。しかし、長時間の接触と比較的高温で
あるにもかかわらず、この方法は米国における胞子撲滅
の公認分析化学者協会(AOAC、松sociatio
nofOfficialAmalyicaIChemi
sb)のテストの厳格な要求を満足させるものではない
。ホルムアルデヒド蒸気は、その毒性と刺激的性質に加
えて、前述のことから、室温での取扱いが難しく、大部
分の病院及び工業上の利用で満足のいく、迅速でかつ確
実な方法を提供するものでないことが明らかである。It uses water vapor and formaldehyde gas at a pressure below atmospheric pressure in an autoclave at 80:00. This method kills most spore-forming microorganisms at normal hospital concentrations, reducing aldehyde residue on the equipment. This method requires an exposure time of 2 hours at a formalin concentration of 8 hours per cubic foot of autoclave. However, despite the prolonged contact and relatively high temperatures, this method is a
noofOfficialAmalyicaIChemi
sb) does not meet the strict requirements of the test. Formaldehyde vapor is difficult to handle at room temperature due to its toxic and irritating properties as well as the aforementioned, making it a satisfactory, rapid, and reliable method for most hospital and industrial applications. It is clear that this is not the case.
過去20年間に、エチレンオキサィド(ETO)が病院
に於ても工業に於てもガス滅菌の最も普及した方法とな
った。Over the past two decades, ethylene oxide (ETO) has become the most popular method of gas sterilization in both hospitals and industry.
初期にはETOはホルムアルデヒド煙蒸にとってかわる
理想的方法とみられていたが、最近では毒性の点から極
めて重大な制限が保健局の注意を引いている。lET○
単位での医療器具の滅菌に必要な平均的な時間は30℃
で180分であるが、長時間の脱空気処理を続けなれば
ならない。Although ETO was initially seen as an ideal alternative to formaldehyde fumes, very serious limitations in terms of toxicity have recently come to the attention of health authorities. lET○
The average time required to sterilize a unit of medical equipment is 30°C.
However, the deairing process had to be continued for a long time.
例えば医療機器の脱空気時間は、脱空気機械内で2〜8
時間であるが、その時間は室温では1〜8日間の間で変
動する。ゴム製手袋では残留物により手に火傷を起させ
る可能性があり、血液運送用のチューブでは、残留物は
赤血球細胞に損傷を与えて溶血を起す。十分に脱気され
ていない気管内挿入管は気管炎又は組織の壊死を起させ
る。ETO残留物の毒性による危険性に加えて、純粋の
ETOの爆発性による他の事故も報告されている。For example, the deairing time of a medical device is 2 to 8 times in a deairing machine.
time, which varies between 1 and 8 days at room temperature. In rubber gloves, residue can cause hand burns, and in blood-carrying tubes, residue can damage red blood cells and cause hemolysis. Endotracheal tubes that are not adequately vented can cause tracheitis or tissue necrosis. In addition to the dangers due to the toxicity of ETO residues, other accidents have been reported due to the explosive nature of pure ETO.
空気中に3%程度のエチレンオキサィド蒸気があると、
燃焼が維持され、閉じ込められている場合には激しい爆
発がおこる。この問題を解決するために、C02やフッ
素炭化水素の如き希釈ガスをETOと混合することがあ
る種の商業的システムで行われている。従って、ETO
滅菌が広く用いられるようになったのは、それが理想的
な滅菌剤であるという理由からではなくて、毒物学上又
は環境上の点から何ら欠点のない、迅速な殺胞子作用能
力のある他のガス滅菌法がないと考えられたとによるこ
とが明らかである。When there is about 3% ethylene oxide vapor in the air,
If combustion is sustained and confined, a violent explosion will occur. To solve this problem, mixing diluent gases such as C02 or fluorocarbons with ETO is practiced in some commercial systems. Therefore, E.T.O.
Sterilization has become widely used not because it is an ideal sterilizing agent, but because it has rapid sporicidal ability without any drawbacks from a toxicological or environmental point of view. It is clear that this is because no other gas sterilization method was considered.
本発明は、よりすみやかな殺胞子作用、脱気の時間を要
しないこと、毒性残留物のないこと、及び爆発の危険性
がないことの利点を有する、ETO滅菌に代る滅菌法を
提供するものである。The present invention provides an alternative sterilization method to ETO sterilization that has the advantages of faster sporicidal action, no degassing time, no toxic residue, and no explosion risk. It is something.
更に、この発明は「単位時間当り‘こ処理する物質の容
量を比較したときに、操業コスト及び投資コストの点か
らみてより経済的な手法を提供するものである。本発明
に従えば、表面を大気圧以下の圧力下で少なくともアル
デヒド10の9/夕を含む低温気体プラズマと接触させ
ることからなる表面を滅菌する方法が提供される。Furthermore, the invention provides a more economical approach in terms of operating and investment costs when comparing the volume of material processed per unit time. A method is provided for sterilizing a surface, comprising contacting the surface with a cold gas plasma containing at least 9 parts of an aldehyde under subatmospheric pressure.
ここで用いられる“滅菌”の語句は枯草菌〔故cill
us subtilis ATCC(American
TypeCMureCollection)1965
9〕及びクロストリドリウム スポoゲネス菌〔Cl
ostridri肌sporogenes(ATCC3
584)〕に対するものである。The term “sterilization” used here refers to Bacillus subtilis [the late cill
us subtilis ATCC (American
TypeCMure Collection) 1965
9] and Clostridrium spoogenes [Cl
ostridri skin sporogenes (ATCC3
584)].
それは、これらの菌がAOAC(公認分析化学者協会の
公式分析法、第12版、1978王11月)の要請によ
る鱒蒸剤一不妊剤テストで用いられる耐性微生物である
ことによる。AOAC法による、前記の2種の耐性胞子
の撲滅は、ミコバクテリア、非脂質性の小ビールス、脂
質性の中程度ビールス及び植物性バクテリア Lveg
eねtive舷cteria)の如き、他の耐性が低い
微生物をも自動的に撲滅することになる。この発明によ
る低温気体プラズマの殺菌機構のよりよい理解は高耐性
胞子の物理的構造を考慮することによって可能となろう
。This is because these bacteria are resistant microorganisms used in the trout sterilizer test required by the AOAC (Official Analytical Methods of the Association of Certified Analytical Chemists, 12th edition, November 1978). The eradication of the above two types of resistant spores by the AOAC method is effective against mycobacteria, small non-lipid viruses, medium lipid viruses and plant bacteria Lveg.
It will also automatically eradicate other less resistant microorganisms, such as E. nectaria. A better understanding of the sterilization mechanism of the cold gas plasma according to this invention will be possible by considering the physical structure of the highly resistant spores.
第1図は典型的なバクテリア胞子の代表的な構造を示す
。典型的なバクテリア胞子はある種の胞子に特有のゆる
い袋である外膜により囲まれており、そして外側から内
側へと連続的に‘aージサルフアィド(一S−S一)に
富んだ蛋白質を含む多層構造のコート、【b’ムレイン
ポリマー(又はべプチドグリカン)を含む厚い皮質層、
{c}プラズマ膜、及び{dーコアヌは胞子プロトプラ
ストを持っている。外部からの作用物に対する胞子の第
一の耐性形状は、ケラチン様蛋白質を含む蛋白質性外部
コートからなっている。Figure 1 shows the representative structure of a typical bacterial spore. A typical bacterial spore is surrounded by an outer membrane, a loose sac characteristic of some spores, and contains proteins rich in 'a-disulfide (1S-S1) in a continuous manner from outside to inside. A multilayered coat, [b' a thick cortical layer containing murein polymers (or veptidoglycans);
{c} plasma membrane, and {d-koanu have spore protoplasts. The primary form of resistance of the spore to external agents consists of a proteinaceous outer coat containing keratin-like proteins.
ケラチン構造の安定性は多くの一次原子価架橋結合(ジ
スルファィド結合)と隣接するポリベプチド競闘の二次
原子価架橋結合(水素結合)によるものである。ケラチ
ン様蛋白質は特色としては強轍であり、塩水溶液、希酸
及び希塩基性溶液に不港性であり、蛋白分解酵素及び加
水分解に対して抵抗性を有する。層状の外側コートは、
従って化学変化を起いこくく、外部からの作用物に対し
て胞子を保護する主要な役割を果す。そのコートは、殺
減分子、励起原子又はラジカルの微生物プロトプラスト
内部への拡散に影響を与える物理的又は化学的変異によ
る殺菌作用において重要な役割を果すと考えられる。多
層構造の外部コートを変化させて、更に浸透し、皮質又
はプロトプラスト領域内で相互作用を起しうるためには
、高活性の薬剤が選択されねばならないが、イオン化し
た気体プラズマがバクテリア、菌類及び胞子類の保護層
を徹底的に変化させる反応性の原子、フリーラジカル、
及び分子を作るすぐれた薬剤であることが見出された。The stability of the keratin structure is due to the large number of primary valence cross-links (disulfide bonds) and the secondary valence cross-links (hydrogen bonds) of competing polypeptides adjacent to each other. Keratin-like proteins are characteristically highly rutted, intolerant to aqueous salt solutions, dilute acids and basic solutions, and resistant to proteolytic enzymes and hydrolysis. The layered outer coat is
Therefore, it resists chemical changes and plays a major role in protecting the spores from external agents. The coat is believed to play an important role in the bactericidal action through physical or chemical alterations that affect the diffusion of killing molecules, excited atoms or radicals into the interior of the microbial protoplasts. Highly active agents must be selected to alter the multilayered outer coat so that they can further penetrate and interact within the cortical or protoplast regions, but the ionized gas plasma is reactive atoms, free radicals, that radically alter the protective layer of the spores;
and was found to be an excellent drug making molecule.
この発明に従えば、イオン化した低温の非酸化気体プラ
ズマ中に少量のァルデヒド蒸気を存在させると胞子形成
及び非胞子形成微生物を撲滅することができる。本発明
においては、汚染を除去する物体が少量のアルデヒド、
通例は芳香族、ヘテロ環式、飽和或いは不飽和のアルデ
ヒドをシード添加した、低温気体プラズマの連続的な流
れにさらされる。In accordance with the present invention, the presence of a small amount of aldehyde vapor in an ionized cold non-oxidizing gas plasma can eradicate sporulating and non-spore forming microorganisms. In the present invention, the object to be decontaminated is a small amount of aldehyde,
It is exposed to a continuous flow of a cold gas plasma, typically seeded with an aromatic, heterocyclic, saturated or unsaturated aldehyde.
気体プラズマはイオン、電子及び中性粒子(speci
es)からなる一部イオン化されたガスである。Gaseous plasma contains ions, electrons and neutral particles (speci
It is a partially ionized gas consisting of es).
低温気体プラズマは気体の電気放電によって形成される
。A cold gas plasma is formed by an electrical discharge of a gas.
電気放電では自由電子が蟹場をかけられてエネルギーを
獲得し、このエネルギーを中性ガス分子との衝突によっ
て失う。エネルギー移動プロセスにより種々の反応性の
高い、準安定原子、フリーラジカル、及びイオンを含む
生成物が形成される。電気放電で生産されるオン化され
たガスが正しく“プラズマ”と呼ばれるためには、正電
荷担体と負電荷担体との濃度がほぼ等しいという必要条
件を満足させなければならない。In an electrical discharge, free electrons are subjected to a crab field and gain energy, which is then lost through collisions with neutral gas molecules. Energy transfer processes form a variety of highly reactive products, including metastable atoms, free radicals, and ions. In order for the energized gas produced by an electrical discharge to be properly called a "plasma", it must satisfy the requirement that the concentrations of positive and negative charge carriers are approximately equal.
この発明で使用されるプラズマはグロ−放電プラズマで
あり、又“低温”気体プラズマとも呼ばれるものである
。この型のプラズマは平均電子エネルギーが1〜1比V
で電子密度が1び〜1び2/地であるという特徴を有す
る。アーク又はプズマジェットにみられる条件とは違っ
て、電子とガスの温度は熱的平衡の欠如のために非常に
異なっている。グロー放電においては、電子温度はガ温
度よりも10倍から10M音も高い。後者の特性は熱的
に敏感な物質の表面を滅菌する時に重要である。この発
明で用いる低温気体プラズマにおいては、2つの型の反
応成分に分けることができる。The plasma used in this invention is a glow discharge plasma, also referred to as a "cold" gas plasma. This type of plasma has an average electron energy of 1 to 1 ratio V
It has the characteristic that the electron density is 1 to 1 and 2/ground. Unlike the conditions found in arcs or psuma jets, the electron and gas temperatures are very different due to the lack of thermal equilibrium. In glow discharge, the electron temperature is 10 times to 10 Mson higher than the gas temperature. The latter property is important when sterilizing thermally sensitive surfaces. The low temperature gas plasma used in this invention can be divided into two types of reactive components.
即ち1つは原子、イオン又はフリーラジカルからなるも
のであり、他は高エネルギーの、電子及び光子の如き小
粒子である。グロ−放電においては、多量の紫外線放射
(UV)が常に存在する。UV高エネルギー光子(3.
3〜6.2V)はそれぞれがDNA(デオキシリボ核酸
)及び他の核酸の最大吸収に相当することから強力な殺
菌効果を生ずる。しかし、直径が1肌にまで及ぶ胞子の
場合には、光子エネルギーは種々の胞子層によってすみ
やかに消散してしまい、このことは外側コートに対する
光化学反応を制限する。光子エネルギーは幾分、薄層の
表面の変更に限定され、従ってより小さな非胞子形成バ
クテリアを処理するときに効力が大きい。抵抗性の大き
い胞子の場合には、光子の作用によりジサルフアィドー
こ富む蛋白質性コートが部分的に変化をうけ、そのこと
でフリーラジカル、原子、又は励起分子のコア領域内へ
の拡散が促進される。One consists of atoms, ions or free radicals, the other is high energy, small particles such as electrons and photons. In glow discharges, large amounts of ultraviolet radiation (UV) are always present. UV high energy photons (3.
3 to 6.2 V) respectively correspond to the maximum absorption of DNA (deoxyribonucleic acid) and other nucleic acids, resulting in a strong bactericidal effect. However, for spores up to one skin diameter, the photon energy is rapidly dissipated by the various spore layers, which limits photochemical reactions to the outer coat. Photon energy is somewhat limited to modifying the surface of thin layers and is therefore more effective when treating smaller non-spore-forming bacteria. In the case of highly resistant spores, the action of photons causes a partial change in the disulfide-rich proteinaceous coat, which facilitates the diffusion of free radicals, atoms, or excited molecules into the core region. .
本発明においては、小量の気化したアルデヒドモノマー
及びフリーラジカルを低温気体プラズマ中に存在させる
と、気体プラズマの全体的な殺生物作用が著しく増大す
ることができる。In the present invention, the presence of small amounts of vaporized aldehyde monomer and free radicals in the cold gas plasma can significantly increase the overall biocidal action of the gas plasma.
アルデヒドをシード添加したプラズマ流を用いて殺胞子
作用が増すことについての厳密な機構は完全には理解さ
れていないが、いくつかの機構が考えられる。Although the exact mechanism for increased sporicidal efficacy using aldehyde-seeded plasma streams is not completely understood, several mechanisms are possible.
例えば、気相中に原子又は励起状態の酸素が存在するこ
とにより、アルデヒドが極く寿命の短かし、反応性のェ
ポキサィド、その他の中間体及びフリーラジカルを形成
し、それらが外側の層状のコート中にある蛋白質や核酸
と相互作用して、殺菌性のグループの拡散が増大するこ
とが考えられる。殺菌性グループの拡散の可能な第二の
段階は、主要成分がムレィンポリマー(又はべプチドグ
リカン)である皮質層の内部への浸透である。For example, the presence of atomic or excited oxygen in the gas phase causes aldehydes to form very short-lived, reactive epoxides, other intermediates, and free radicals, which form the outer layer. It is thought that the diffusion of bactericidal groups increases by interacting with proteins and nucleic acids present in the coat. A possible second step of the diffusion of bactericidal groups is penetration into the interior of the cortical layer, whose main component is murein polymer (or veptidoglycan).
ムレィンは架橋構造の網状大分子である。酸素原子とア
ルデヒドラジカルとのポリマーへの攻撃は、すみやかに
皮質層の堅固なポリマー構造を動揺させて変化させ、そ
の破壊が起る。更に、仮想上の変化過程の可能性として
アルデヒド‘こよるジピコリン酸の合成がある。Murrein is a reticular large molecule with a cross-linked structure. Attack of the polymer by oxygen atoms and aldehyde radicals quickly perturbs and alters the rigid polymeric structure of the cortical layers, resulting in its destruction. Furthermore, a possible hypothetical transformation process is the synthesis of dipicolinic acid by aldehyde.
胞子中にカルシウムとジピコリン酸(DPA)がほぼ等
モル量見出されることから、胞子の抵抗性において主要
な役割を果す塩錯体がそれらにより形成されることが長
い間推測されていた。胞子中にカルシウム塩が厳密に存
在するか否かは未解決の問題である。アルデヒドの皮質
内への迅速な接近、即ち主として気体プラズマ酸化の効
果はアスパラチックB−セミアルデヒドのアミノ基のブ
ロッキングを助けて直接的にDPA合成を妨げる可能性
がある。この後者の機構はアルデヒドの存在するプラズ
マガスに短時間さらすことですみやかに胞子又は胞子の
発芽能力を破壊することができる理由を説明する。Since calcium and dipicolinic acid (DPA) are found in approximately equimolar amounts in spores, it has long been assumed that they form salt complexes that play a major role in spore resistance. The exact presence of calcium salts in the spores is an open question. The rapid access of aldehydes into the cortex, primarily the effect of gas plasma oxidation, may help block the amino groups of asparatic B-semialdehyde and directly interfere with DPA synthesis. This latter mechanism explains why a brief exposure to plasma gas in the presence of aldehydes can quickly destroy the spores or their ability to germinate.
この発明のアルデヒドシード添法では他の気相滅菌法に
比べて、短時間の気体プラズマとの接触で殺胞子効果を
得ることができる。低温アルデヒドシード添加気体プラ
ズマの殺菌作用は時には、例えば10分以下のように、
早いのでコアやプロトプラスト内部で反応を起す可能性
は幾分小さい。Compared to other gas phase sterilization methods, the method of adding aldehyde seeds of this invention can achieve a sporicidal effect with a short time of contact with gas plasma. The germicidal action of low-temperature aldehyde-seeded gaseous plasmas can sometimes occur over a period of time, e.g. less than 10 minutes.
Since it is fast, the possibility of a reaction occurring inside the core or protoplast is somewhat small.
胞子の中央部は機能的には栄養芽体(vegative
bud)であって、遺伝的形質、抑制状態の蛋白合成シ
ステム、新酵素合成の開始に必要な酵素及び組織及び組
織性物質を含んでおり「かつエネルギー中間体の補給物
をも蓄えているらしい。外側コート、皮質及びプラズマ
膜で起る変化は、この発明で達成される殺菌効果を十分
に説明しうるものである。上述の気体プラズマ中での酸
化現象に関してはイオン化ガスの使用は純酸素に限定さ
れず、空気、二酸化炭素及びN20の如き酸素含有ガス
をも含む。酸化性のプラズマほど迅速ではないけれども
、アルゴン又はヘリウム、又は窒素プラズマの如き希ガ
スもアルデヒドをシード添加して、滅菌時間を短縮する
ことができる。従って、本発明により通常の酸化型及び
非酸化型気体プラズマでみとめられる時間よりも胞子殺
菌時間をかなり短縮することができる。The central part of the spore is functionally called a vegetative body.
bud), which contains genetic traits, a repressed protein synthesis system, the enzymes and tissues and tissue materials necessary to initiate new enzyme synthesis, and also appears to store a supply of energy intermediates. The changes that occur in the outer coat, cortex and plasma membrane are sufficient to explain the sterilizing effect achieved in this invention.With regard to the oxidation phenomena in gaseous plasmas mentioned above, the use of ionized gas is similar to that of pure oxygen. but also oxygen-containing gases such as air, carbon dioxide, and N20.Although not as rapid as oxidizing plasmas, noble gases such as argon or helium, or nitrogen plasmas can also be seeded with aldehydes to sterilize. Therefore, the present invention allows spore killing times to be significantly reduced over those found with conventional oxidizing and non-oxidizing gas plasmas.
励起イオン、気体分子及び光子が胞子の保護層を変化さ
せるのに対し、活性アルデヒドラジカルは変化組織に浸
透して、殺菌プロセスを促進する二次的な多くの致死反
応を開始させる。表面滅菌時間の迅速化は経済性のより
大きなプロセスをもたらし、100oo以下程度の高温
下でも気体プラズマに長時間さらすことにより分解する
可能性のある、熱に非常に敏感な物質を取扱える可能性
を提供するものである。気体プラズマにアルデヒドを加
えたときに何ら重大な腐食も有毒残留物も観測されない
。本発明で必要とする種類の気体プラズマを生産するた
めには、キャリャーガスが2種類の無線周波数法の1つ
を用いて励起される。Excited ions, gas molecules, and photons alter the spore's protective layer, whereas activated aldehyde radicals penetrate the altered tissue and initiate a number of secondary lethal reactions that accelerate the sterilization process. Faster surface sterilization times result in a more economical process, with the potential to handle highly heat-sensitive materials that can be degraded by prolonged exposure to gaseous plasma, even at temperatures as low as 100 ohms. It provides: No significant corrosion or toxic residues are observed when adding aldehydes to the gaseous plasma. To produce the type of gas plasma required by the present invention, the carrier gas is excited using one of two radio frequency methods.
第一の手法はリング型又は誘導放電法からなり、一方、
第二の方法は平行プレート又は容量性放電法である。処
理の区域は常にガラス、プラチック、又はアルミゥム製
の、大気圧以下の圧力、通常は0.1〜10肋Hgに保
たれた室からなるものであり、その室の中へはガスとア
ルデヒド蒸気の制御された流れが、たえず真空ポンプで
連続的に吸引することによって動いている。処理区域内
でのガスと蒸気とを励起するためには、発生器により放
射された無線周波数エネルギーが処理室の周囲に巻かれ
た誘導コイルを介して、又は室又は室の入口部の外側に
設置された容量性放電プレートによって結合される。処
理の間、無線周波数(RF)放電グローは実質的に全処
理室にわたって広がる。場合によっては、電極を処理室
内におくこともできる。RFエネルギーの放電ガス中へ
のカップリングを最大にする電気回路の設計には多くの
やり方がある。90%にまで到達しうるエネルギーカッ
プリングの最適化は気体の負荷インピーダンスを、増幅
器プレート出力回路とタンクコイルとのインピーダンス
に整合させることによって行うことができる。The first method consists of a ring type or induced discharge method, while
The second method is the parallel plate or capacitive discharge method. The processing area always consists of a chamber made of glass, plastic, or aluminum and maintained at subatmospheric pressure, usually between 0.1 and 10 Hg, into which gas and aldehyde vapors are introduced. A controlled flow of water is constantly being moved by the continuous suction of a vacuum pump. To excite the gases and vapors within the processing area, radio frequency energy emitted by the generator is passed through an induction coil wrapped around the processing chamber or outside the chamber or the entrance of the chamber. coupled by installed capacitive discharge plates. During processing, a radio frequency (RF) discharge glow spreads over substantially the entire processing chamber. In some cases, the electrodes can also be placed within the processing chamber. There are many ways to design electrical circuits that maximize the coupling of RF energy into the discharge gas. Optimization of the energy coupling, which can reach up to 90%, can be achieved by matching the gas load impedance to the impedance of the amplifier plate output circuit and tank coil.
最良のインピーダンス整合は、反応室と発生器との間の
同軸ケーブルにより連結されている低インピーダンス整
合回路網中の可変コンデンサーを調整することからなる
同調プロセスにより行われる。更に新しい設計では、処
理室と相対的に低出力の発生器とが高インピーダンスコ
ネクターを介して直接に結合される。このことで、複雑
な低インピーダンス回路網が省かれて電気パッケージが
単純化する。気体プラズマに対する電力カップリングの
間、小量の電力が常に熱的効果により失われる。発生器
に反射して戻される電力量も存在する。気体中に如何に
効率的にエネルギーが放出されているかを知るためには
、RF電力計をしばいま電気回路に加えて、進行電力と
反射電力との差をモニターする。気体プラズマ発生器は
一般には13.5メガヘルツ(MHz)で操作するが、
1〜3仙川zの周波数でも有効であり、また100MH
zまででもよい。The best impedance match is achieved by a tuning process consisting of adjusting a variable capacitor in a low impedance matching network connected by a coaxial cable between the reaction chamber and the generator. Newer designs couple the processing chamber directly to a relatively low power generator via a high impedance connector. This simplifies the electrical package by eliminating complex low impedance circuitry. During power coupling to a gas plasma, a small amount of power is always lost due to thermal effects. There is also an amount of power reflected back to the generator. To determine how efficiently energy is being released into the gas, an RF power meter is often added to the electrical circuit to monitor the difference between forward and reflected power. Gas plasma generators typically operate at 13.5 megahertz (MHz),
It is also effective at frequencies of 1 to 3 Sengawa z, and 100MHz
It may be up to z.
気体プラズマは、また周波数が100〜300000M
Hzの範囲のマイクロ波領域の高周波数で形成させるこ
ともできる。Gas plasma also has a frequency of 100 to 300,000M
It can also be formed at high frequencies in the microwave range in the Hz range.
実用上の見地から好ましいマイクロ波周波数は245m
M批である。マイクロ波領域では、原子又は励起分子粒
子は無線周波数で形成された粒子よりも寿命が長く、そ
れらはグロ−の無い領域内のかなり隔たった下流城にも
残存する。このことは分析上の見地からは長所であるが
、必要な電気回路がより複雑であり、従ってより高価で
あることで均衡が保たれる。マイクロ波気体励起を利用
する、処理室が通常空洞として設計される場合には、発
生器は一般にはマグネトロン型の装置であり、電磁エネ
ルギーが標準電波ガイドにより搬送される。気体励起周
波数に関係なく、気体プラズマ中に小量のアルデヒド蒸
気が存在すると胞子形成及び胞子非形成バクテリアの殺
菌に要する時間がかなり短縮されることが観測されてい
る。From a practical standpoint, the preferred microwave frequency is 245 m.
It is a criticism of M. In the microwave region, atomic or excited molecular particles have a longer lifetime than particles formed at radio frequencies, and they persist even at considerable distance downstream in the glow-free region. While this is an advantage from an analytical standpoint, it is balanced out by the fact that the required electrical circuitry is more complex and therefore more expensive. When using microwave gas excitation and the processing chamber is usually designed as a cavity, the generator is generally a magnetron-type device, and the electromagnetic energy is conveyed by a standard radio wave guide. Regardless of the gas excitation frequency, it has been observed that the presence of small amounts of aldehyde vapor in the gas plasma significantly reduces the time required to kill sporulating and non-spore forming bacteria.
本発明を添付の第2〜第4図を参照しながら更に詳しく
説明する。The present invention will be described in more detail with reference to the accompanying FIGS. 2-4.
図面を参照すると、第2図は半連続的方式の病院型の種
々の目的における滅菌に用いる低温シード添加プラズマ
(後述のLTSP参照)システムの要素を示したもので
ある。Referring to the drawings, FIG. 2 shows the elements of a low temperature seeded plasma (LTSP) system for use in semi-continuous hospital-type sterilization for various purposes.
このシステムはトンネル状の処理室1で構成され、この
処理室は両端にドア2を有するが、ドア2は左手の入口
側のみが図示されている。便いすて用、又は再使用可能
な、例えば腸管外溶液又は眼科薬品溶液のプラスチック
製びんが通常の自動レール・コンベヤ型システム(図示
せず)によって円筒状の室の中へ積載される。積載後、
前部と後部のドア2が電気的駆動機構システム3によっ
て自動的に閉じられる。積載されたトンネル処理室1が
次に、トラップ5と真空ポンプに連結した真空ラインシ
ステム4によって大気圧以下の圧力にするため減圧にさ
れる。大気圧以下の圧力は通常処理室1全体の内側で約
0.1〜1仇舷Hgである。イオン化するガスを次に圧
縮ガスラィン又は容器から搬送するが、このとき圧力と
流速を圧力ゲージと定流速膜又はニードルバルブ8とに
よって制御する。This system consists of a tunnel-shaped processing chamber 1, which has doors 2 at both ends, although only the left entrance side of the door 2 is shown. Plastic bottles, either toilet toilet or reusable, such as parenteral solutions or ophthalmic drug solutions, are loaded into the cylindrical chamber by a conventional automatic rail conveyor type system (not shown). After loading,
The front and rear doors 2 are automatically closed by an electric drive system 3. The loaded tunnel processing chamber 1 is then evacuated to subatmospheric pressure by means of a vacuum line system 4 connected to a trap 5 and a vacuum pump. The pressure below atmospheric pressure is usually about 0.1 to 1 m Hg inside the entire processing chamber 1. The gas to be ionized is then conveyed from a compressed gas line or vessel, the pressure and flow rate being controlled by a pressure gauge and a constant flow rate membrane or needle valve 8.
アルデヒド蒸気が、ガスを液状アルデヒド中へバルビン
グしてアルデヒド蒸気を発生させることによって容器9
から気体流に加えられる。流量計10がァルデヒド容器
9とトンネル室1の入口部との間に取付けられる。気体
と蒸気との混合物が、トンネル室内に均一に分布するよ
うに適当に設けられた多数の小孔を有する中空パイプラ
イン11を介して搬送される。トンネル室1内の空気を
大部分排気した後、気体−蒸気混合物が処理の区域に放
出される。Aldehyde vapor is produced in vessel 9 by valving gas into liquid aldehyde to generate aldehyde vapor.
added to the gas stream from A flow meter 10 is installed between the aldehyde container 9 and the entrance of the tunnel chamber 1. A mixture of gas and steam is conveyed through a hollow pipeline 11 having a number of suitably arranged small holes so as to be uniformly distributed within the tunnel chamber. After the air in the tunnel chamber 1 has been largely evacuated, the gas-steam mixture is discharged into the area of treatment.
気体−アルデヒド蒸気流はトンネル1の寸法と容量によ
って調整される。プラズマ形成は、整合回路網1 3と
電力計14、及びAC(交流)標準電流を13.58M
比の高周波数に変換するRF発生器15からなる電気回
路の一部であるRFコイル12を用いて、誘導及び容量
制御による適正なインピーダンス整合によって開始され
る。プラズマ放電を持続するのに用いるRF発生器15
は負荷インピーダンスの大きな変動に耐え得るものでな
ければならず、実質的にはDC(直流)電力源、水晶制
御RF振動子及び固体緩衝増幅器で構成される。最終的
な増幅は負荷インピーダンスの大きな変動を調節するた
め電力増幅管の周囲に設計された電力増幅により行われ
る。この型の装置によれば、全トンネル長さ上に広がっ
ている単一の誘導コイルは単一の電力発生器から励振さ
れるか又は一系列のより小さなコイル区分がより小さな
変調型RF発生器から作動される。RF励起の間、気体
プラズマ流は完全な滅菌を達成するに必要な時間、通常
は5〜20分間にわたって連続的に除去される。The gas-aldehyde vapor flow is adjusted by the dimensions and capacity of the tunnel 1. Plasma formation is performed using a matching network 13 and a wattmeter 14, and an AC (alternating current) standard current of 13.58M.
It begins with proper impedance matching by inductive and capacitive control, using an RF coil 12 that is part of an electrical circuit consisting of an RF generator 15 that converts to a high frequency ratio. RF generator 15 used to sustain plasma discharge
It must be able to withstand large variations in load impedance and essentially consists of a DC (direct current) power source, a crystal controlled RF resonator and a solid state buffer amplifier. Final amplification is performed by a power amplifier designed around the power amplifier tube to accommodate large variations in load impedance. According to this type of device, a single induction coil extending over the entire tunnel length is excited from a single power generator or a series of smaller coil sections are driven by a smaller modulating RF generator. It is activated from. During RF excitation, the gaseous plasma stream is continuously removed for the time necessary to achieve complete sterilization, typically 5 to 20 minutes.
次いで、RF励起は自動的に止められ、ガス流は中断さ
れて、真空ポンプが止められる。空気が二方向性バルブ
16によってトンネル室内に自動的に導入される。両端
のドアが電気的機構により開かれ、試料容器がレールス
ライドシステムでトンネルから自動的に引出される。ト
ンネル室1はここで新たな積載物を滅菌する態勢となる
。滅菌の全サイクル時間は、処理する物質と出力レベル
により一般には10〜3び分間である。第3図及び第3
A図は、第2図に示した滅菌トンネル型処理室1のそれ
ぞれ縦断面図及び横断面図である。The RF excitation is then automatically turned off, the gas flow is interrupted, and the vacuum pump is turned off. Air is automatically introduced into the tunnel chamber by means of a two-way valve 16. The doors at both ends are opened by an electrical mechanism and the sample container is automatically pulled out of the tunnel on a rail slide system. The tunnel chamber 1 is now ready to sterilize a new load. The total cycle time for sterilization is typically 10 to 3 minutes, depending on the material being processed and the power level. Figure 3 and 3
Figure A is a longitudinal cross-sectional view and a cross-sectional view, respectively, of the sterilization tunnel type processing chamber 1 shown in Figure 2.
トンネル17は主軸を取囲む円筒形状であり、実質的に
はガラス又はポリマー物質(例えばポリスルホン)の如
き抵抗性の高い非反応性の材料で作製した2個の同心円
筒状管18及び19からなり、それらはシリコン型○−
リング20の末端フランジで押えつけることによって保
持されている。外側パイプ18の内部に内側パイプが組
立てられると、環状の中空21が出来、その中空は底部
の閉口部から真空ポンプで吸引することにより、真空と
大気圧以下の圧力にされる。汚染を除去すべき物体の周
囲を大気圧以下の圧力にするために、溝又は孔23が内
側円筒19の底部に貫通している。滅菌する物体、例え
ば、腸管外溶液のプラチック製びんは平行六面体形状の
バスケット25の中に載直されバスケット25はローフ
ベャリングを装備した車輪27でレールトラック26上
を滑動する。滅菌サイクルの最初では、前部と端部ドア
28及び29が、ドアをヒンジ31の周囲に180o回
転させる電気的に作動する装置によって自動的に開かれ
る。トンネルの前部及び端部ドアは、室からの危険な光
子照射を妨げつつ、一方では気体プラズマグローの最大
強度を維持するために一般には階紫外線吸収性のポリマ
ー材料で作製される。環状○−リング32は外部空気の
侵入に対しドアを十分シールする役割を果す。反応性の
ガスとアルデヒド蒸気が貫通孔34によって小パイプ3
3を介して処理トンネルに導入される。ガスと蒸気導入
用の小パイプは一端がトンネル内に入っており、内側パ
イプ19の上部の位置にあって、全トンネル長さにわた
ってガスが均一に拡散するようにされている。第3図に
おいて、RF誘導コイル35は処理トンネル17の主外
面体の周囲に巻きつけられている。第4図は100MH
z〜30000oh日zのマイクロ波を利用する、本発
明の他の実施例を示す。The tunnel 17 is cylindrical in shape surrounding its main axis and consists essentially of two concentric cylindrical tubes 18 and 19 made of a highly resistive, non-reactive material such as glass or a polymeric material (e.g. polysulfone). , they are silicon type ○−
It is held in place by clamping down on the end flange of ring 20. When the inner pipe is assembled inside the outer pipe 18, an annular hollow 21 is formed, and the hollow is evacuated and brought to a pressure below atmospheric pressure by suction with a vacuum pump from the bottom closed part. A groove or hole 23 passes through the bottom of the inner cylinder 19 in order to create a subatmospheric pressure around the object to be decontaminated. The objects to be sterilized, for example plastic bottles of parenteral solutions, are reloaded into a parallelepiped-shaped basket 25, which slides on rail tracks 26 on wheels 27 equipped with loaf bearings. At the beginning of the sterilization cycle, the front and end doors 28 and 29 are automatically opened by an electrically operated device that rotates the doors 180° about the hinges 31. The front and end doors of the tunnel are generally made of UV-absorbing polymeric materials to prevent dangerous photon radiation from the chamber while maintaining maximum intensity of the gaseous plasma glow. The annular o-ring 32 serves to adequately seal the door against ingress of outside air. The reactive gas and aldehyde vapor are transferred to the small pipe 3 through the through hole 34.
3 into the processing tunnel. A small pipe for introducing gas and steam enters the tunnel at one end and is positioned at the top of the inner pipe 19 to ensure uniform diffusion of the gas over the entire length of the tunnel. In FIG. 3, RF induction coil 35 is wrapped around the main shell of processing tunnel 17. In FIG. Figure 4 is 100MH
Another embodiment of the present invention is shown which utilizes microwaves of z~30000 ohh per day.
第4図に示すマイクロ波気体プラズマは通常のマイクロ
波オーブンで用いられているのとよく似た金属製ハウジ
ング35からなる。ハウジングの中には低温マイクロ波
気体プラズマシステムの主要構成要素が配置されており
、その要素は変圧器、整流器及び出力パック37に収め
られている磁場回路によって主出力ライン38からのA
C電流をマイクロ波に変換するマグネトロンからなる。
マイクロ波エネルギーの高出力ビーム(代表例は245
0MHz)は導波管39に含まれており、低RPM(毎
分当りの回転数)で回わるファン41のブレード40の
反対を向いている。The microwave gas plasma shown in FIG. 4 consists of a metal housing 35 similar to that used in conventional microwave ovens. Located within the housing are the main components of the low temperature microwave gas plasma system, which are supplied with A from the main output line 38 by means of a transformer, rectifier and magnetic field circuit housed in the output pack 37.
It consists of a magnetron that converts C current into microwaves.
High power beam of microwave energy (typical example is 245
0 MHz) is contained in waveguide 39 and faces away from blades 40 of fan 41, which rotates at low RPM (rotations per minute).
このファンは出力ビームをオープン室の壁、天井、背部
及び底部に躍動させてそれを反射させる。オーブン室4
2の底部にはマイクロ波を透過するパィレックス製ガラ
スプレート43が処理室の金属製底部の約1インチ上に
懸架されている。表面を滅菌すべき器具又は物質44が
ガスを厳密にシールした容器45の内部におかれ、その
容器45はオーブン室42の内部のガラスプレート43
上に戦層されている。この容器45は、ポリプロピレン
、ポリエチレン、ポリスチレン及びテフロン(登録商標
)の如きポリマー材料、ボール紙板、紙又は特殊ガラス
組成物を含む。マイクロ波エネルギーに透過性の任意の
材料で構成することができる。この容器45はこれ又マ
イクロ波透過材料製の上蓋46を有する平行六面体形状
である。上蓋46は2個の開口部47と48を有し、各
々はストップコック又はバルブ49,50を備えていて
、0.1〜1仇松Hgの減圧下で気体−ガス蒸気混合物
を形成できるようになっている。This fan bounces the output beam and reflects it off the walls, ceiling, back and bottom of the open room. Oven chamber 4
A microwave transparent Pyrex glass plate 43 is suspended approximately 1 inch above the metal bottom of the processing chamber. The instruments or substances 44 whose surfaces are to be sterilized are placed inside a tightly gas-tight container 45 which is connected to a glass plate 43 inside the oven chamber 42.
There is a battle layer on top. The container 45 comprises polymeric materials such as polypropylene, polyethylene, polystyrene and Teflon, cardboard, paper or special glass compositions. It can be constructed of any material that is transparent to microwave energy. The container 45 has a parallelepiped shape with a top lid 46 also made of a microwave transparent material. The top cover 46 has two openings 47 and 48, each equipped with a stopcock or valve 49, 50, for forming a gas-gas vapor mixture under a reduced pressure of 0.1 to 1 mm Hg. It has become.
容器45は滅菌する対象物44、例えば図では眼科薬品
溶液用のプラスチック製びんを支える2枚の皿51を備
えている。血51は、通常は穴があげられてイオン化気
体プラズマの拡散をより均一化する。低部の皿には、プ
ラスチック製のカップ52が鉄込まれていて、気化させ
るアルデヒド溶液53が入れられている。マイクロ波の
熱効果により、マイクロ波エネルギーが加えられると気
体プラズマ中には徐々にアルデヒド溶液が気化する。イ
オン化するキャリアガスはガス容器(図示せず)から、
定流速用バルブ55、圧力計56、及び所望により流量
計を含む真空ラインを経て開□部47を介して容器45
に搬送される。積載容器を空にするに必要な低真空圧力
は、トラップ58と真空ポンプ59とに連結している真
空ライン57によって閉口部48を介して得られる。第
4図の実施例の完全な滅菌サイクルは下記のとおりであ
る。The container 45 comprises two dishes 51 that support objects 44 to be sterilized, for example plastic bottles for ophthalmic drug solutions in the figure. The blood 51 is usually perforated to make the diffusion of the ionized gas plasma more uniform. A plastic cup 52 is fitted in the lower pan and contains an aldehyde solution 53 to be vaporized. Due to the thermal effect of microwaves, the aldehyde solution gradually vaporizes in the gas plasma when microwave energy is applied. The carrier gas to be ionized is supplied from a gas container (not shown).
A vacuum line including a constant flow rate valve 55, a pressure gauge 56, and, if desired, a flow meter is passed through the opening 47 to the container 45.
transported to. The low vacuum pressure necessary to empty the load container is provided through closure 48 by vacuum line 57 which connects to trap 58 and vacuum pump 59. The complete sterilization cycle for the embodiment of FIG. 4 is as follows.
皿51に汚染を除去すべき装置を充填し、アルデヒド溶
液をカップ52に入れ、真空を働かせて空気を除去し、
キャリアガスを入れ、マイクロ波を所要時間、代表例で
は5〜20分間作動させて連続プラズマ流を持続させる
。さらしの終了時には、マイクロ波発生器41を自動的
に切り、キャリアガス流を止め、二方向性バルフにより
真空を元に戻す。マイクロ波オーブン室35のドアを次
に開き、容器45を、ストップコック49,50で固定
されている可操性チューブをはずして取除く。積載され
た容器は迅速にストップコック49,50を閉じること
によって無菌条件で、脱汚染装置を移動する必要時まで
滅菌状態に保持することができる。滅菌の全サイクルは
一般には10〜30分間である。処理中に表面温度が1
00ooに達することはない。酸化プラズマは処理表面
に検出しうる痕跡量の化学物質をも残存させないので、
汚染除去した装置の空気抜きは必要ではない。第2図、
3図、3A図及び4図に示した装置について上述した半
連続的滅菌プロセスは、パッケ−ジが小孔を有して、ィ
オンし励起した気体混合物が入りうるものであるならば
滅菌器具をパッケージ内に収納するのにも適している。Filling the dish 51 with the equipment to be decontaminated, placing the aldehyde solution in the cup 52 and applying a vacuum to remove the air;
The carrier gas is turned on and the microwave is turned on for the required time, typically 5-20 minutes to maintain a continuous plasma flow. At the end of the exposure, the microwave generator 41 is automatically turned off, the carrier gas flow is stopped, and the vacuum is restored by the bidirectional valve. The door of the microwave oven chamber 35 is then opened and the container 45 is removed by removing the flexible tube secured by the stopcocks 49,50. By quickly closing the stopcocks 49, 50, the loaded containers can be kept in aseptic conditions until it is necessary to move the decontamination device. The entire sterilization cycle generally takes 10 to 30 minutes. During processing, the surface temperature is 1
It never reaches 00oo. Oxidizing plasma leaves no detectable traces of chemicals on the treated surface.
Venting of decontaminated equipment is not necessary. Figure 2,
The semi-continuous sterilization process described above for the devices shown in Figures 3, 3A and 4 can be used to sterilize instruments if the package has small holes to allow entry of the ionized and excited gas mixture. It is also suitable for storing inside the package.
滅菌の終了時に、パッケージを無菌室条件下で移動して
、次に小滅菌テープを小孔にあててシールする。シール
用テープは手動によっても自動機械によっても固定され
る。本発明は種々の温度又は圧力下で、多種類の気体の
流速を変えて利用することができる。At the end of sterilization, the package is moved under sterile room conditions and a small sterile tape is then applied to the stoma to seal it. The sealing tape can be fixed either manually or by an automatic machine. The present invention can be used at various temperatures or pressures and by changing the flow rate of many types of gas.
更に、上述の装置の詳細な構造、それらの部村の大さき
と形状、例えばトンネル又は室の寸法及びその配列、例
えばマクロ波場へ蒸発によってアルデヒドを導入するこ
と、又はキャリャガスラィン中へバルブ器によってアル
デヒドを導入すること等は本発明の範囲内で変更するこ
とができるものであり、構成部材によっては他の均等な
手段に置換しうるものである。例えばRFコイル容量性
プレートに、そしてマグネトロンはクリストロソ又はア
ンプリトロン管に、それぞれ発明の精神から離れない範
囲で置換できるものである。本発明を次に下記の実施例
により説明する。Furthermore, the detailed structure of the above-mentioned devices, the size and shape of their sections, e.g. the dimensions of the tunnels or chambers and their arrangement, e.g. the introduction of aldehydes by evaporation into the macrowave field or into the carrier gas line. The introduction of aldehyde by means of a valve device, etc. may be modified within the scope of the present invention, and some components may be replaced by other equivalent means. For example, the RF coil could be replaced by a capacitive plate, and the magnetron could be replaced by a crystoroso or amplitron tube, each without departing from the spirit of the invention. The invention will now be illustrated by the following examples.
これらの実施例においては、公認分析化学者協会の公式
分析法(第12版、1973玉)記載されているUSD
A(米国農芸局)公認煙蒸殺胞子試験法によって得られ
た殺胞子データを全例に示した。抵抗性の高い2種の菌
株、即ちB.s岬tilis(ATCCI9659)と
CI.sporo鉾nes(ATCC)を実験に用いた
。胞子キャリャは乾燥胞子添付量として1ぴ〜1び微生
物を有する絹製縫合環状体(L)と磁製円筒(C)であ
る。胞子キャリャーは、処理室の上部でガス管に取付け
た細い綿糸でそれぞれ懸架した。また処理室の底部には
内部を1/2インチ厚みに外科用ガーゼを巻いた数種の
胞子テスト用細片をも加えた。In these examples, the USD
Sporicidal data obtained using the A (U.S. Agriculture and Agriculture Bureau) approved smoke vaporization spore-killing test method are shown for all cases. Two highly resistant strains, namely B. s cape tilis (ATCCI9659) and CI. Sporohokones (ATCC) was used in the experiment. The spore carriers are a silk suture ring (L) and a porcelain cylinder (C) with 1 to 1 microorganisms as a dry spore load. The spore carriers were each suspended by a thin cotton thread attached to a gas pipe in the upper part of the treatment chamber. Also added to the bottom of the chamber were several spore test strips wrapped inside with surgical gauze 1/2 inch thick.
これらの対照胞子細片〔AmericanSにmize
r社の“SPORDI”(登録商標)は母cmus s
肋tilis(glo!igii )とBacillu
ssにarothermophil雌から作られたもの
である。このs肋tilis株は乾燥状態の加熱で完全
殺菌するには3000Fで60分間を要すといわれてい
るが、一方エチレンオキサィドガス600の9/夕(相
対湿度50%)の存在下での撲滅には1300Fで1時
間40分を要する。全ての実験において、真空乾燥した
、B.s岬tilisとCI.sporogenesの
酸耐性AOAC菌株はSPORDI胞子よりもはるかに
抵抗性であることが判明したが、簡略化のため、SPO
RDI細片の結果は実施例中の表にはそのデータを示し
ていない。実施例 1第2図に示した装置で一連の実験
を行った。These control spore strips [AmericanS
“SPORDI” (registered trademark) by R company is the mother cmus
Glo tilis (glo!igii) and Bacillus
ss from an allothermophil female. It is said that it takes 60 minutes at 3000F to completely sterilize this S. costilis strain by heating in a dry state; It takes 1 hour and 40 minutes at 1300F to eradicate this. In all experiments, vacuum-dried B. Cape tilis and CI. Although acid-resistant AOAC strains of P. sporogenes were found to be much more resistant than SPORDI spores, for simplicity, SPO
The results for the RDI strips are not shown in the tables in the examples. Example 1 A series of experiments were conducted using the apparatus shown in FIG.
プラズマ形成に用いたキャリャガスは純酸素、アルゴン
、及び窒素である。キャリャガスに加えたアルデヒド蒸
気は以下のアルデヒド溶液を用いてバルブ器で製造した
:ホルマリン(8%ホルムアルデヒド)、アセトアルデ
ヒド、グリオキサール、マロンアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、スクシンアルデ十ヒド、ブチルアルデJヒ
ド、グルタルアルデヒド、2ーヒドロキシアジポアルデ
ヒド、クロトンアルデヒド、アクロレィン及びペンズア
ルデヒド。キャリャガス流速は室温(約20o〜25℃
)で80〜100cc/minであった。平均の内部圧
力は0.5肌Hgであった。放射周波数は13.5跡m
zで、プラズマ処理室内の平均電力密度は約0.015
ワット/地であった。連続気体プラズマ流内に維持され
たアルデヒドの最小量は約10の9/そであった。下記
の表1は種々の低温アルデヒドシード添加プラズマにつ
いてさらし時間の影響を評価する実験結果を示す。The carrier gases used for plasma formation were pure oxygen, argon, and nitrogen. Aldehyde vapors added to the carrier gas were prepared in a bulb using the following aldehyde solutions: formalin (8% formaldehyde), acetaldehyde, glyoxal, malonaldehyde, propionaldehyde, succinic aldehyde, butyraldehyde, glutaraldehyde, 2- Hydroxyadipaldehyde, crotonaldehyde, acrolein and penzaldehyde. The carrier gas flow rate is at room temperature (approximately 20°C to 25°C
) was 80 to 100 cc/min. The average internal pressure was 0.5 skin Hg. The radiation frequency is 13.5 meters
z, the average power density inside the plasma processing chamber is approximately 0.015
It was watt/earth. The minimum amount of aldehyde maintained within the continuous gas plasma flow was approximately 9/9/s. Table 1 below shows experimental results evaluating the effect of exposure time for various low temperature aldehyde seeded plasmas.
対照実験はガス単独(アルデヒド無添加)とホルムアル
デヒド又はグルタルアルデヒド蒸気を加えた非酸化性プ
ラズマ(水素ガス)とについてのものである。特定キャ
リャ−(環状体又は円筒)上の胞子形成バクテリャの各
種については、IN固の試料が用いられた。表中には、
結果を“合格”(Pass)又は“不合格”(ねil)
で示し、それぞれの英文頭文字は適当な培養と熱ショッ
ク後に“P”は1山固の試料のいずれにも生長がないこ
とを示し、“F”は1〜1の固の試料にバクテリャ成長
があることを示す。明確にするために、第1回目の“合
格”試験に先立って行われた“不合格”試験は省略した
。というのは短時間のさらし時間は“不合格”試験に対
応することが明らかなことによる。表1の結果から明ら
かなように、10〜3雌ご間の接触時間で満足な殺菌作
用が得られているが、個々の接触時間は気化に用いたア
ルデヒド‘こよって異なっている。略
実施例 2
さらし時間を約1流Nこし、出力を連続的に処理室の単
位のあたり0.001ワットから0.015〜0.1ワ
ット/地まで増加せしめたこと以外は実施例1と同じ条
件で、一連の実験を行った。Control experiments are for gas alone (no aldehyde added) and non-oxidizing plasma (hydrogen gas) with formaldehyde or glutaraldehyde vapor added. For each species of spore-forming bacteria on specific carriers (rings or cylinders), IN-solid samples were used. In the table,
Mark the result as “Pass” or “Fail”
"P" indicates no growth on any of the samples of 1 to 1 mass, and "F" indicates no bacterial growth on any of the samples of 1 to 1 mass after appropriate incubation and heat shock. Indicates that there is. For clarity, we have omitted the "fail" test that preceded the first "pass" test. This is because it is clear that a short exposure time corresponds to a "fail" test. As is clear from the results in Table 1, a satisfactory bactericidal effect was obtained with a contact time of 10 to 3 females, but the individual contact times differed depending on the aldehyde used for vaporization. Example 2 Same as Example 1 except that the exposure time was about 1 flow of N and the output was continuously increased from 0.001 watt per unit of processing chamber to 0.015 to 0.1 watt/ground. A series of experiments were conducted under the same conditions.
以下の表川こ示した結果から明らかなように最低の出力
密度では殺菌は行われなかったが、0.015〜0.1
ワット/が範囲ではいよいよすぐれた結果が得られた。As is clear from the results shown below in Omotekawa, sterilization was not carried out at the lowest power density, but 0.015 to 0.1
Even better results were obtained in the W/ range.
これらの結果は気体プラズマ中に痕跡量のアルヂヒドを
添加することによって殺菌力が増大することを示してい
る。この一連の実験で用いた気体の中では酸素が最高の
キャリャであることがわかる。第1回目の“合格”試験
に先立つ全ての“不合格”試験は表0から省略したが、
これは低出力密度が“不合格”試験に対応することが明
らかなことによる。口
船
実施例 3
他の一連の実験では、アルデヒドを2%溶液から気化さ
せたが、これはほぼ1筋ご間の運転で15ccの消費に
相当する。These results indicate that adding trace amounts of aldihydes to gaseous plasma increases the bactericidal power. It can be seen that oxygen is the highest carrier among the gases used in this series of experiments. All “fail” tests prior to the first “pass” test have been omitted from Table 0.
This is because low power densities clearly correspond to "fail" tests. Example 3 In another series of experiments, aldehydes were vaporized from a 2% solution, which corresponded to a consumption of 15 cc per run.
しかし、気体プラズマのサンプリングをした時には、ア
ルデヒド濃度は流速100cc/minで10の9/m
inに等しいことがみとめられた。気相中におけるこの
アルデヒド濃度は気化したアルデヒド溶液から予想され
る値のほぼ半分であり、約半分の活性アルデヒドが処理
室の壁に付着することを示すものである。表m(下記)
に列挙するアルデヒド濃度は通常の処理条件下で気体プ
ラズマ中に観測されたものである。However, when gas plasma was sampled, the aldehyde concentration was 10/9/m at a flow rate of 100 cc/min.
It was found to be equal to in. This aldehyde concentration in the gas phase is approximately half that expected from a vaporized aldehyde solution, indicating that approximately half of the active aldehyde is deposited on the walls of the process chamber. Table m (below)
The aldehyde concentrations listed in are those observed in gas plasmas under normal processing conditions.
結果から明らかなように、0.1M/minの低濃度で
は、試験に用いた3種のどのガスについても殺胞子活性
の増加は認められなった。1の9′minの濃度では矛
盾的な結果を示す。As is clear from the results, no increase in sporicidal activity was observed for any of the three gases used in the test at a low concentration of 0.1 M/min. A concentration of 9'min of 1 gives contradictory results.
10w9′minの濃度では、大てし、のアルデヒドは
気体プラズマの殺菌効率を高めている。At a concentration of 10w9'min, most aldehydes enhance the sterilization efficiency of gas plasma.
100の9′m;n濃度では、全てのアルデヒドが、ア
ルデヒド単独で又はアルデヒド添加水素の如き非酸化ガ
スで観測されている以上に胞子殺菌の増加を示した。At a 9'm;
白
船
実施例 4
下記の表Wは単一のアルデヒドを2種類のアルヂヒドの
混合組成物又はアルデヒドとアルデヒドではない殺生物
化合物、例えばフェノールを含む混合処法組成物に置換
したときに観測された結果を示す。Shirafune Example 4 Table W below was observed when a single aldehyde was replaced with a mixed composition of two aldehydes or a mixed formulation composition containing an aldehyde and a non-aldehyde biocidal compound, such as phenol. Show the results.
混合組成物はアルデヒドの全濃度が2つの処法で同じで
ある限りにおいては、単一のアルデヒド溶液の場合と同
じ結果を示している。フェノールの存在は気体プラズマ
中の殺菌増加剤としてのアルデヒドの効率に影響を与え
ない。表Wには報告されていないが、フェノール以外に
他の殺菌剤の種々の溶液を用いて多数の実験を行った。The mixed composition shows the same results as a single aldehyde solution as long as the total concentration of aldehyde is the same in the two treatments. The presence of phenol does not affect the efficiency of aldehydes as bactericidal enhancers in gaseous plasmas. Although not reported in Table W, a number of experiments were conducted using various solutions of other fungicides in addition to phenol.
アルデヒド濃度を同一に維持して、下記の成分を等しい
濃度で加えた:クロロィソシアン酸塩の如きハロゲン化
合物、例えばトリクロ−S−トリアジントリオン及びヨ
ードホール(iodophor)、例えばPVP−ョウ
素錯体;無機塩、例えば硫化セレン;ウンデシレン酸亜
鉛のアルコール溶液;第4級アンモニウム塩、例えばセ
チルーピリジニウムクロラィド;有機硫黄化合物、例え
ばメチレンビスチオシアネート及びN−アルキルトリメ
チレンジアミンの如き脂肪族アミン類の窒素化合物。The aldehyde concentration was kept the same and the following ingredients were added in equal concentrations: halogen compounds such as chloroisocyanate, e.g. triclo-S-triazinetrione and iodophor, e.g. PVP-iodine complex; salts such as selenium sulfide; alcoholic solutions of zinc undecylenate; quaternary ammonium salts such as cetylpyridinium chloride; organic sulfur compounds such as nitrogen of aliphatic amines such as methylene bisthiocyanate and N-alkyl trimethylene diamine. Compound.
いずれの場合にも、気相中にこれらの謎剤が存在するこ
とによる協同作用は検知されなかった。しかし、ハロゲ
ンの放出を伴う化学的な塩の解離にプラズマ気化が寄与
するときには活性のわずかな増加(添加功果)があるこ
とに注目されたい。イオン化したハロゲンの激しい腐食
効果もみとめられ、このことはシード添加した低温プラ
ズマガス中にそのような化学物質を使用することを非実
用的なものにする。三
船
実施例 5
第4図の装置で他の条列の実験を行った。In both cases, no synergy was detected due to the presence of these mystery agents in the gas phase. Note, however, that there is a slight increase in activity (doping effect) when plasma vaporization contributes to chemical salt dissociation with release of halogen. Severe corrosive effects of ionized halogens have also been observed, making the use of such chemicals in seeded cold plasma gases impractical. Mifune Example 5 Experiments with other rows were conducted using the apparatus shown in Figure 4.
これらの実験は実施例1〜4のケースよりも高周波数で
行ったので、マイクロ波グロー放電はポリスルホン製実
験容器の内部では均一性がより大きかった。気体プラズ
マ圧力(2伽Hg)は、マイクロ波放電がDC又はRF
放電よりも開始の困難と低圧(≦1肋Hg)での維持が
困難なことから、わずかに前述の試験よりも高くした。
マイクロ波気体プラズマ中ではフリーラジカルとイオン
化粒子の寿命と効率がより大きいために、接触時間は1
0分間に短縮された。Since these experiments were conducted at higher frequencies than in the case of Examples 1-4, the microwave glow discharge was more uniform inside the polysulfone experimental vessels. The gas plasma pressure (2℃Hg) is the same as when the microwave discharge is DC or RF.
It was slightly higher than the previous test because it is more difficult to start and maintain at a lower pressure (≦1 Hg) than a discharge.
Due to the greater lifetime and efficiency of free radicals and ionized particles in microwave gas plasmas, the contact time is
Shortened to 0 minutes.
マイクロ波透過性のポリスルホンープラスチック容器の
寸法は15×35×25cm(容量16.37そ)のも
のを用いた。共振室内の平均密度約0.02ワット/c
cの電磁エネルギーが公称周波数2540MHz(土2
9M比)で同調された。気体流速は900cc〜100
0cc/minに調整したが、これはプラズマ相中の平
均アルデヒド濃度18m9/minに相当するものであ
る。10分間の処理中に、2重量%の各アルデヒド溶液
が約18cc蒸発した。A microwave-transparent polysulfone-plastic container with dimensions of 15 x 35 x 25 cm (capacity: 16.3 cm) was used. Average density in the resonant chamber approximately 0.02 watts/c
The electromagnetic energy of c has a nominal frequency of 2540 MHz (earth 2
9M ratio). Gas flow rate is 900cc~100cc
It was adjusted to 0 cc/min, which corresponds to an average aldehyde concentration in the plasma phase of 18 m9/min. Approximately 18 cc of each 2% by weight aldehyde solution was evaporated during the 10 minute treatment.
この量は気体プラズマ中での反応のために実際に存在す
る量のほぼ2倍に相当する。表Vに示した結果から、電
磁的連続気体プラズマ放電において、小量の芳香族性、
ヘテロ環式、飽和或いは不飽和アルデヒドをシード添加
すると殺菌効率の増大することがわかる。フルフラール
を気化するときには、酸素流体中の濃度は0.0018
容量%であった。これは、フルフラールが空気中で2.
1容量%という低い爆発限界を有することによる。2%
水溶液がたえず気化中、約68ooというこの開放カッ
プのアルデヒドの引火点以下で保持された。This amount corresponds to approximately twice the amount actually present for reactions in gas plasmas. From the results shown in Table V, it can be seen that in electromagnetic continuous gas plasma discharge, a small amount of aromaticity,
Seeding with heterocyclic, saturated or unsaturated aldehydes is shown to increase disinfection efficiency. When furfural is vaporized, the concentration in the oxygen fluid is 0.0018
It was % by volume. This is because furfural is 2.
Due to its low explosive limit of 1% by volume. 2%
The aqueous solution was kept below the flash point of the open cup aldehyde, which was about 68 oo, during constant vaporization.
ペンズアルデヒド以外は、他の芳香族アルデヒド、例え
ばチオフェンアルデヒド、及びピリジン−2−アルデヒ
ドが定性的に同じ挙動を示した。P
船
この明細書の開示を総括すれば、本発明は実質的に従来
の気相滅菌法にまさる長所を有するプラズマガス滅菌法
を提供するものである。Other than penzaldehyde, other aromatic aldehydes such as thiophene aldehyde and pyridine-2-aldehyde showed qualitatively the same behavior. P Ship Summarizing the disclosure of this specification, the present invention provides a plasma gas sterilization method that has substantial advantages over conventional gas phase sterilization methods.
。この発明の範囲内において変更を加えることが可能で
ある。. Modifications may be made within the scope of this invention.
第1図は代表的バクテリア範子を示す。
第2図は半連続方式の病院用の滅菌装置であり、第3図
及び第3A図は第2図の滅菌室のそれぞれ縦断面図及び
横断面図である。第4図はマイクロ波を用いる本発明の
方法で使用する他の装置を示す。図中符号:a・・・・
・・ジサルフアィドに富む蛋白質含有多層構造コート;
b…・・・ムレィン含有厚皮質層;c・・・・・・プラ
ズマ膜:d・…・・コア又は飽子プロトブラスト:e…
・・・外膜(飽子緩状包囲袋);f・・・・・・コア壁
;1・・・・・・処理室;2…・・・ドア;9・・・ア
ルデヒド容器;10・・・・・・流量計;17・・・・
・・トンネル型処理室;18,19・・・・・・同心円
筒状管;20・・・・・・0−リング:23・・・・・
・孔又は溝:25・・・・・・バスケット;35・・・
・・・ハウジング:39・・・・・・導波管;41・・
・・・・ファン:42・・・・・・オーブン室;43・
・・・・・ガラスプレート;44・・・・・・試料:4
6・・・・・・上蓋:52・・・・・・カップ:53・
・・・・・アルデヒド溶液;58・・・・・・トラップ
;59・・・・・・真空ポンプ。分1風鰭Z図
舵蝉
浮れ図
多4四Figure 1 shows a representative bacterial strain. FIG. 2 shows a semi-continuous hospital sterilization apparatus, and FIGS. 3 and 3A are longitudinal and cross-sectional views, respectively, of the sterilization chamber of FIG. 2. FIG. 4 shows another apparatus for use in the method of the invention using microwaves. Code in the figure: a...
...Disulfide-rich protein-containing multilayer coat;
b... Thick cortical layer containing murein; c... Plasma membrane: d... Core or saturated protoblast: e...
... Outer membrane (filled loose surrounding bag); f ... Core wall; 1 ... Processing chamber; 2 ... Door; 9 ... Aldehyde container; 10 ... ...Flowmeter; 17...
...Tunnel type processing chamber; 18, 19...Concentric cylindrical tube; 20...0-ring: 23...
・Hole or groove: 25... Basket; 35...
... Housing: 39 ... Waveguide; 41 ...
... Fan: 42 ... Oven chamber; 43.
...Glass plate; 44 ...Sample: 4
6... Upper lid: 52... Cup: 53.
...Aldehyde solution; 58...Trap; 59...Vacuum pump. minute 1 wind fin Z figure rudder cicada float figure 44
Claims (1)
mmHgの下で、少くともアルデヒド10mg/lを含
む低温の気体プラズマに表面を接触させることを特徴と
する表面の滅菌方法。 2 アルデヒドが、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、グリオキサール、マロンアルデヒド、プロピオンア
ルデヒド、スクシンアルデヒド、ブチルアルデヒド、グ
ルタルアルデヒド、2−ヒドロキシアジポアルデヒド、
アクロレイン、クロトンアルデヒド、ベンズアルデヒド
又はフルフラールであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項に記載の方法。 3 気体プラズマが、酸素、アルゴン、ヘリウム、窒素
、二酸化炭素、酸化窒素、又はこれらの気体の2以上の
混合物の電磁励起によって生産されることを特徴とする
特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の方法。 4 電磁励起が、1〜100MHzの電波又は100〜
300000MHzのマイクロ波領域の電磁放電を用い
て行われることを特徴とする特許請求の範囲第3項に記
載の方法。 5 気体プラズマが流体密閉室内部に閉じこめられ、か
つその密閉室内の電磁場密度が少なくとも0.001ワ
ツト/cm^3であることを特徴とする特許請求の範囲
第3項又は第4項に記載の方法。 6 アルデヒドが、連続的に形成された気体プラズマに
対して、プラズマガス先駆体のキヤリヤガスとの混合物
として導入されることを特徴とする特許請求の範囲第1
項乃至第5項のいずれかの項に記載の方法。 7 気体プラズマが少なくとも1種の、アルデヒド以外
の滅菌剤をも含有していることを特徴とする特許請求の
範囲第1項乃至第6項のいずれかの項に記載の方法。 8 アルデヒドが密閉室内にある気体プラズマ源から連
続的に生産される気体プラズマに導入されることを特徴
とする特許請求の範囲第5項に記載の方法。[Claims] 1. A pressure lower than atmospheric pressure, preferably about 0.1 to 10
A method for sterilizing surfaces, characterized in that the surfaces are brought into contact with a cold gaseous plasma containing at least 10 mg/l of aldehyde under mmHg. 2 The aldehyde is formaldehyde, acetaldehyde, glyoxal, malonaldehyde, propionaldehyde, succinaldehyde, butyraldehyde, glutaraldehyde, 2-hydroxyadipaldehyde,
The method according to claim 1, characterized in that the acrolein, crotonaldehyde, benzaldehyde or furfural is used. 3. Claim 1 or 2, characterized in that the gas plasma is produced by electromagnetic excitation of oxygen, argon, helium, nitrogen, carbon dioxide, nitrogen oxide, or a mixture of two or more of these gases. The method described in section. 4 Electromagnetic excitation is radio waves of 1 to 100 MHz or 100 to 100 MHz
4. The method according to claim 3, wherein the method is carried out using electromagnetic discharge in the microwave range of 300,000 MHz. 5. The gas plasma according to claim 3 or 4, characterized in that the gas plasma is confined inside a fluid-tight chamber, and the electromagnetic field density in the closed chamber is at least 0.001 watts/cm^3. Method. 6. Claim 1, characterized in that the aldehyde is introduced into the continuously formed gas plasma as a mixture with a carrier gas of a plasma gas precursor.
The method according to any one of Items 5 to 5. 7. A method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the gaseous plasma also contains at least one sterilizing agent other than an aldehyde. 8. Process according to claim 5, characterized in that the aldehyde is introduced into a gas plasma produced continuously from a gas plasma source located in a closed chamber.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55001425A JPS609453B2 (en) | 1980-01-11 | 1980-01-11 | Sterilization using seeded gas plasma |
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|---|---|---|---|
| JP55001425A JPS609453B2 (en) | 1980-01-11 | 1980-01-11 | Sterilization using seeded gas plasma |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56102248A JPS56102248A (en) | 1981-08-15 |
| JPS609453B2 true JPS609453B2 (en) | 1985-03-11 |
Family
ID=11501092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55001425A Expired JPS609453B2 (en) | 1980-01-11 | 1980-01-11 | Sterilization using seeded gas plasma |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS609453B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6164410U (en) * | 1984-09-29 | 1986-05-01 | ||
| JPH0171044U (en) * | 1987-10-30 | 1989-05-11 | ||
| JPH0177826U (en) * | 1987-11-12 | 1989-05-25 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6111049A (en) * | 1984-06-27 | 1986-01-18 | 日本真空技術株式会社 | Microwave discharge plasma sterilization apparatus |
| WO2009078361A1 (en) * | 2007-12-14 | 2009-06-25 | Saga University | Plasma sterilizer |
-
1980
- 1980-01-11 JP JP55001425A patent/JPS609453B2/en not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6164410U (en) * | 1984-09-29 | 1986-05-01 | ||
| JPH0171044U (en) * | 1987-10-30 | 1989-05-11 | ||
| JPH0177826U (en) * | 1987-11-12 | 1989-05-25 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56102248A (en) | 1981-08-15 |
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