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JPS6113320B2 - - Google Patents
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JPS6113320B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6113320B2
JPS6113320B2 JP56020717A JP2071781A JPS6113320B2 JP S6113320 B2 JPS6113320 B2 JP S6113320B2 JP 56020717 A JP56020717 A JP 56020717A JP 2071781 A JP2071781 A JP 2071781A JP S6113320 B2 JPS6113320 B2 JP S6113320B2
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JP
Japan
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column
memory cell
output
dummy
memory
Prior art date
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Expired
Application number
JP56020717A
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Japanese (ja)
Other versions
JPS57133599A (en
Inventor
Yukio Myazaki
Mitsugi Takeda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2071781A priority Critical patent/JPS57133599A/en
Publication of JPS57133599A publication Critical patent/JPS57133599A/en
Publication of JPS6113320B2 publication Critical patent/JPS6113320B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals

Landscapes

  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

この発明は半導体集積回路化された半導体メモ
リ装置に組み込まれる半導体メモリ試験回路の具
体的構成に関するものである。 以下、ヒユーズ形バイポーラPROM(プログラ
マブル読み出し専用メモリ)を例にとつて説明す
る。まず、第1図について、1×4ビツト構成の
PROMの基本構成およびその基本動作を説明す
る。図において、1は電源端子、2は接地端子、
3は入力信号Aの入力する第1の入力端子、4は
入力信号Bの入力する第2の入力端子、5はメモ
リ読出し信号Xの出力端子、6および7は入力信
号Aを順次反転させるインバータ、8および9は
入力信号Bを順次反転させるインバータ、10,
11,12および13はそれぞれ論理積・,
A・,・B,およびA・Bを得るデコーダ用
のAND回路、14,15,16および17はそ
れぞれAND回路10,11,12および13の
出力によつてそのベースを駆動されるトランジス
タ、18,19,20および21はそれぞれトラ
ンジスタ14,15,16および17のエミツタ
回路に挿入されたヒユーズ、22,23,24お
よび25はそれぞれヒユーズ18,19,20お
よび21に直列に挿入されヒユーズ切断時に電流
の回り込みを防止するダイオード、26はトラン
ジスタ14〜17の共通に接続されたコレクタと
電源端子1との間に接続されたコレクタ抵抗、2
7はヒユーズ18〜21の共通接続側端子と接地
端子2との間に接続されたエミツタ抵抗、28は
エミツタ抵抗27の電圧降下が入力される出力用
インバータである。インバータ6〜9および
AND回路10〜13がデコーダ回路を構成す
る。 第1図の回路において、入力信号A,Bともに
論理値“0”(以下、単に“1”,“0”で論理値
を表す。)のときはAND回路10の出力は“1”
となり、トランジスタ14が導通し、ヒユーズ1
8が選択される。次に、入力信号Aが“1”、入
力信号Bが“0”のときはAND回路11の出力
が“1”となり、トランジスタ15が導通し、ヒ
ユーズ19が選択される。以下同様にして、入力
信号Aが“0”、入力信号Bが“1”のときはヒ
ユーズ20が、また、入力信号A,Bともに
“1”のときはヒユーズ21が選択される。第1
図には省略して示してないが、ヒユーズ形PROM
には書き込み回路が内蔵されており、ユーザ側で
ヒユーズ18〜21のうち任意のヒユーズを切断
することによつて情報の書き込み(プログラミン
グ)をする。従つて、未書き込みの状態では、す
べてのヒユーズ18〜21は接続されており、こ
の場合は、入力信号AおよびBの“1”,“0”に
かかわらずコレクタ抵抗26からエミツタ抵抗2
7に電流が流れ、出力用インバータ28の入力レ
ベルは“1”となり出力端子5への出力Xは
“0”になる。 もし、ヒユーズ18が切断されていると、入力
信号A,Bがともに“0”でヒユーズ18を選択
したとき、エミツタ抵抗27に流れる電流はしや
断されるため、出力用インバータ28の入力レベ
ルは“0”となり出力端子5への出力Xは“1”
となる。このようにして、ユーザ側で所望のヒユ
ーズを切断することによつて、任意のアドレスに
対して情報をプログラムできる。以上がヒユーズ
形PROMの基本動作である。 このようにPROMはユーザ側で所望の情報を書
き込んで使用するものであるから、メーカ側でヒ
ユーズを切断することはできない。すなわち、第
1図において、ヒユーズ18〜21を切断するこ
となく、インバータ6〜9、およびAND回路1
0〜13からなるデコーダ回路、およびトランジ
スタ14〜17からなる出力回路の動作を試験す
る必要がある。 そのため、メーカ側ではダミーメモリセル(以
下ダミーセルという)を追加しておいて、これを
利用して未書き込み状態での動作を試験してい
る。第2図は2ビツトのPROMに対するダミーセ
ルを説明するための上記動作試験時の接続図で、
ダイオード31および32、並びにヒユーズ33
からなるダミーセル100〔エミツタ抵抗29を
含む〕を用い、入力信号Aが“0”のときに出力
Xが“0”に、入力信号Aが“1”のときに出力
Xが“1”になるように、トランジスタ15で選
ばれるヒユーズが除去されている。このようなダ
ミーセルを用いることによつて、所望の動作試験
を行なうことができる。上記ダミーセル100で
はトランジスタ14で選択される列にヒユーズ3
3を残したが、これを除去して、トランジスタ1
5で選択される列にヒユーズを残したダミーセル
を用いても同様の動作試験が可能である。 第3図はこのダミーセル100を4ビツトの
PROMに適用した動作試験時の接続図で、第1の
ダミーセル100aは第2図のダミーセル100
と同様、ダイオード31および32並びにヒユー
ズ33からなり、第2のダミーセル100bは同
様の構成であるが、ダイオード34および35並
びにヒユーズ36からなつている。ところが、こ
の構成では入力信号Aおよび入力信号Bと出力信
号Xとの関係は次のようになる。
The present invention relates to a specific configuration of a semiconductor memory test circuit incorporated in a semiconductor memory device formed into a semiconductor integrated circuit. The following describes an example of a fuse-type bipolar PROM (programmable read-only memory). First, regarding Figure 1, the 1x4 bit configuration
The basic configuration of PROM and its basic operation will be explained. In the figure, 1 is a power terminal, 2 is a ground terminal,
3 is a first input terminal to which input signal A is input, 4 is a second input terminal to which input signal B is input, 5 is an output terminal for memory read signal X, and 6 and 7 are inverters that sequentially invert input signal A. , 8 and 9 are inverters that sequentially invert the input signal B; 10,
11, 12 and 13 are logical products, respectively.
AND circuits 14, 15, 16 and 17 for a decoder to obtain A. , 19, 20, and 21 are inserted in the emitter circuits of transistors 14, 15, 16, and 17, respectively. 22, 23, 24, and 25 are inserted in series with fuses 18, 19, 20, and 21, respectively, and when the fuses are cut, 26 is a collector resistor connected between the commonly connected collectors of transistors 14 to 17 and power supply terminal 1;
7 is an emitter resistor connected between the common connection side terminal of the fuses 18 to 21 and the ground terminal 2, and 28 is an output inverter to which the voltage drop across the emitter resistor 27 is input. Inverters 6 to 9 and
AND circuits 10 to 13 constitute a decoder circuit. In the circuit shown in FIG. 1, when both input signals A and B have a logic value of "0" (hereinafter, logic values are simply expressed as "1" and "0"), the output of the AND circuit 10 is "1".
The transistor 14 becomes conductive, and the fuse 1
8 is selected. Next, when the input signal A is "1" and the input signal B is "0", the output of the AND circuit 11 becomes "1", the transistor 15 becomes conductive, and the fuse 19 is selected. Similarly, when input signal A is "0" and input signal B is "1", fuse 20 is selected, and when both input signals A and B are "1", fuse 21 is selected. 1st
Although not shown in the figure, fuse-type PROM
has a built-in writing circuit, and the user writes information (programming) by cutting off any one of the fuses 18 to 21. Therefore, in an unwritten state, all the fuses 18 to 21 are connected, and in this case, regardless of whether the input signals A and B are "1" or "0", the emitter resistor 26 is connected to the collector resistor 26.
7, the input level of the output inverter 28 becomes "1", and the output X to the output terminal 5 becomes "0". If the fuse 18 is disconnected, when the input signals A and B are both "0" and the fuse 18 is selected, the current flowing through the emitter resistor 27 will be immediately cut off, so the input level of the output inverter 28 will be reduced. becomes “0” and the output X to output terminal 5 is “1”
becomes. In this way, information can be programmed to any address by cutting the desired fuse on the user's side. The above is the basic operation of fuse type PROM. In this way, since PROM is used by writing desired information on the user side, the fuse cannot be cut off on the manufacturer side. That is, in FIG. 1, inverters 6 to 9 and AND circuit 1 are connected without cutting fuses 18 to 21.
It is necessary to test the operation of the decoder circuit consisting of transistors 0 to 13 and the output circuit consisting of transistors 14 to 17. Therefore, manufacturers add dummy memory cells (hereinafter referred to as dummy cells) and use these to test the operation in an unwritten state. Figure 2 is a connection diagram during the above operation test to explain the dummy cell for 2-bit PROM.
Diodes 31 and 32 and fuse 33
Using a dummy cell 100 [including an emitter resistor 29], the output X becomes "0" when the input signal A is "0", and the output X becomes "1" when the input signal A is "1". , the fuse selected by transistor 15 has been removed. By using such dummy cells, desired operation tests can be performed. In the dummy cell 100, the fuse 3 is connected to the column selected by the transistor 14.
3 was left, but this was removed and transistor 1
A similar operation test can be performed using a dummy cell with a fuse left in the column selected in step 5. Figure 3 shows this dummy cell 100 as a 4-bit
In the connection diagram during the operation test applied to PROM, the first dummy cell 100a is the dummy cell 100 in Fig. 2.
The second dummy cell 100b has a similar structure, but consists of diodes 34 and 35 and a fuse 36. However, in this configuration, the relationship between input signal A, input signal B, and output signal X is as follows.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】 すなわち、第1表は正常時の動作パターンで、第
2表はインバータ6の出力が“0”、インバータ
7の出力が“1”に固定される故障時、第3表は
インバータ6の出力が“1”、インバータ7の出
力が“0”に固定される故障時、第4表はインバ
ータ8の出力が“0”、インバータ9の出力が
“1”に固定される故障時、第5表はインバータ
8の出力が“1”、インバータ9の出力が“0”
に固定される故障時の動作パターンである。この
ように、第4表の場合と、第5表の場合とが正常
動作と区別できないという不都合がある。 そこで、第4図はこの点を改良するようにダミ
ーセルを4ビツトのPROMに適用した動作試験時
の接続図で、第3図における第2のダミーセル1
00bの代りに第3のダミーセル100cが用い
られている。すなわち、トランジスタ16で選択
される列のヒユーズ36の代りに、トランジスタ
17で選択される列にヒユーズ37を残してあ
る。このような構成にすることによつて、入力信
号AおよびBと出力信号Xとの関係は次のように
なる。
[Table] In other words, Table 1 shows the operation pattern during normal operation, Table 2 shows the operation pattern when the output of inverter 6 is fixed at "0", output of inverter 7 is fixed at "1", and Table 3 shows the operation pattern when the output of inverter 6 is fixed at "1". Table 4 shows that when the output of inverter 8 is fixed at "0" and the output of inverter 9 is fixed at "1", Table 5 shows that the output of inverter 8 is "1" and the output of inverter 9 is "0".
This is the operation pattern at the time of failure that is fixed. As described above, there is a problem in that the cases shown in Table 4 and the cases shown in Table 5 cannot be distinguished from normal operation. Therefore, Fig. 4 is a connection diagram during an operation test in which a dummy cell is applied to a 4-bit PROM to improve this point.
A third dummy cell 100c is used instead of cell 00b. That is, instead of fuse 36 in the column selected by transistor 16, fuse 37 is left in the column selected by transistor 17. With this configuration, the relationship between input signals A and B and output signal X is as follows.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】 すなわち、第6表は正常時の動作パターンで、第
7表は第2表と同様にインバータ6の出力が
“0”、インバータ7の出力が“1”に固定される
故障時、第8表は第3表と同様に、インバータ6
の出力が“1”、インバータ7の出力が“0”に
固定される故障時、第9表は第4表と同様にイン
バータ8の出力が“0”、インバータ9の出力が
“1”に固定される故障時、第10表は第5表と同
様にインバータ8の出力が“1”、インバータ9
の出力が“0”に固定される故障時の動作パター
ンである。更に、インバータ6および7の出力が
ともに“0”、もしくはインバータ8および9の
出力がともに“0”、またはインバータ6〜9の
出力がすべて“0”に固定される故障時には出力
Xは常時“1”となり、また、インバータ6およ
び7の出力がともに“1”、もしくはインバータ
8および9の出力がともに“1”、またはインバ
ータ6〜9の出力がすべて“1”に固定される故
障時には出力Xは常時“0”となる。 このように、第4図に示したようなダミーセル
を設ければ一応はデコーダ回路および出力回路の
動作試験が可能になる。第5図は第1図の回路に
ダミーセルを附加してメーカ側で出荷前の動作試
験を可能にした全体の回路を示す接続図で、30
はスイツチで、動作試験時にはダミーセル側に接
続し、試験後は反対側のメモリ素子側へ接続する
もので、実際は半導体素子で形成される。 すなわち、ダミーセルの構成は次のような規則
に従つて形成すればよい。アドレス(メモリ列)
が2列の場合は一方の列を“1”、他方の列を
“0”とし、一般にメモリ列が2n列の場合は第1
列から第2n-1列までは全メモリ列が2n-1列の場
合と同一構成とし、第2n-1+1列から第2n列ま
ではその反転構成とすればよい。 第6図は16ビツト(メモリ列が16列)の場合の
ダミーセルの一例を示す構成図で、図において、
200〜215は第1図のトランジスタ14〜1
7に相当する各トランジスタで駆動される第1列
〜第16列を示し、216〜231は各列に挿入さ
れた電流回り込み防止用ダイオードで、ヒユーズ
は上述の規則に従つて、第1,4,6,7,10,
11,13および16列にそれぞれ232,233,2
34,235,236,237,238および2
39が設けられている。勿論、逆にこれらの列に
はヒユーズを設けず他の列にヒユーズを設けた反
転パターン構成にしてもよい。 さて、第5図の回路はパターン図面上では第7
図に示すようになる。第7図において、101は
インバータ6〜9およびAND回路10〜13の
配置場所、102は出力回路の配置場所である。
一般に列は順番に並べられ、トランジスタ14〜
17は順次並べて設けられる。ところで、通常、
トランジスタ14〜17の各エミツタに接続され
る配線パターンは相互間隔が4〜7.5μm程度
で、極めて狭く、メモリ容量が大きくなるにつれ
て、配線長は長くなり(数mmになる)相隣る配線
間で短絡を生じる確率が非常に高くなる。例えば
トランジスタ15および16のエミツタの配線が
短絡しても、ダミーセルのこれらの列にはいずれ
もヒユーズがないから、出力Xではその故障を検
知できない。同様の理由で第6図に示した16ビツ
ト用の構成では、列201および202、列20
5および206、列207および208、列20
9および210、並びに列213および214の
いずれかに配線短絡があつても、このダミーセル
では検知できない。そして、この不都合な傾向は
メモリ容量が増大するほど、顕著になる。 第8図は上記配線短絡を検出するための従来の
手段を説明するための回路図で、第5図の回路の
上に更に、それぞれの列に電流回り込み防止用ダ
イオード38〜41、エミツタ抵抗42およびヒ
ユーズ43〜46を接続したダミーセル100d
を設け、このヒユーズ43〜46を順次1つずつ
切断して、上記配線短絡の有無を調べていた。と
ころがX方向アドレス情報6ビツト(アドレス数
64)、Y方向アドレス情報6ビツト(アドレス数
64)を有する4kbitsのPROMでは128本のヒユー
ズを順次切断せねばならず、16kbitsのPROMで
は256本になる。このために多大の試験時間を要
するのみならず、メモリのチツプサイズを増大さ
せるという欠点があつた。 この発明は以上のような点に鑑みてなされたも
ので、配線短絡は互いに隣接する配線間で起るも
のであり、第5図〜第7図に示した従来のダミー
セルではヒユーズの有る列が隣接して存在した
り、ヒユーズの無い列が隣接して存在しているか
らそこで起つた配線短絡が検出できないのである
から、ヒユーズの有る列とヒユーズの無い列とを
交互に配設するようにすることによつて、簡単な
構成で、メモリチツプサイズを増大させることな
く、出荷試験の可能な半導体メモリ装置を提供す
ることを目的としている。 第9図は第5図の回路にこの発明を適用した一
実施例を示す回路図。第10図は第7図に対応す
るこの実施例における出力部のパターン配置図で
ある。図示のように電気的接続は第5図と全く同
一に保持しつつ、AND回路12と13、トラン
ジスタ16と17、及びダミーセルの第3列と第
4列についてそれぞれ配置を入れかえることによ
つて、連続してヒユーズのない列またはヒユーズ
のある列が存在しなくなり、これによつて配線短
絡があつた場合をも確実に検出できる。例えば、
第5図、第7図の構成で互いに隣接するトランジ
スタ15および16のエミツタ間に短絡が生じた
ときの入力信号AおよびBと出力信号Xとの関係
は第11表のようになつて、前記第6表に示した正
常動作パターンと区別できないが、第9図、第1
0図の構成で互いに隣接するトランジスタ15お
よび17のエミツタ間に短絡が生じたときの入力
信号AおよびBと出力信号Xとの関係は第12表の
ようになり、その短絡が検出できる。
[Table] In other words, Table 6 shows the operation pattern during normal operation, and Table 7 shows the operation pattern during a failure when the output of inverter 6 is fixed at "0" and the output of inverter 7 is fixed at "1", as in Table 2. Table 8 shows the inverter 6 as well as Table 3.
In the event of a failure, the output of inverter 8 is fixed at "1" and the output of inverter 7 is fixed at "0", as in Table 4, Table 9 shows that the output of inverter 8 is fixed at "0" and the output of inverter 9 is fixed at "1". At the time of a fixed failure, Table 10 shows that the output of inverter 8 is "1" and the output of inverter 9 is "1", as in Table 5.
This is an operation pattern at the time of a failure in which the output of is fixed to "0". Furthermore, in the event of a failure in which the outputs of inverters 6 and 7 are both fixed at "0", or both the outputs of inverters 8 and 9 are fixed at "0", or the outputs of inverters 6 to 9 are all fixed at "0", the output X is always "0". 1", and in the event of a failure, the outputs of inverters 6 and 7 are both "1", or the outputs of inverters 8 and 9 are both "1", or the outputs of inverters 6 to 9 are all fixed to "1". X is always "0". In this way, by providing a dummy cell as shown in FIG. 4, it becomes possible to test the operation of the decoder circuit and the output circuit. Figure 5 is a connection diagram showing the entire circuit in which a dummy cell is added to the circuit in Figure 1 to enable the manufacturer to test its operation before shipping.
is a switch that is connected to the dummy cell side during an operation test, and connected to the opposite memory element side after the test, and is actually formed of a semiconductor element. That is, the structure of the dummy cell may be formed according to the following rules. address (memory column)
If there are two columns, one column is set to “1” and the other column is set to “0.” Generally, when there are 2 n columns, the first column is set to “1” and the other column is set to “0.”
The configuration from the 2nd n-1th column to the 2nd n-1th column may be the same as that in the case where all the memory columns are 2n-1 columns, and the configuration from the 2nd n-1 +1st column to the 2nd nth column may be reversed. Figure 6 is a configuration diagram showing an example of a dummy cell in the case of 16 bits (16 memory columns).
200-215 are transistors 14-1 in FIG.
The first column to the 16th column are driven by transistors corresponding to 7, and 216 to 231 are diodes inserted in each column to prevent current leakage, and fuses are connected to the 1st and 4th columns according to the above rules. ,6,7,10,
232, 233, 2 in rows 11, 13 and 16 respectively
34, 235, 236, 237, 238 and 2
39 are provided. Of course, an inverted pattern configuration may be used in which fuses are not provided in these columns and fuses are provided in other columns. Now, the circuit in Figure 5 is number 7 on the pattern drawing.
The result will be as shown in the figure. In FIG. 7, 101 is a location where inverters 6 to 9 and AND circuits 10 to 13 are placed, and 102 is a location where an output circuit is placed.
Generally the columns are arranged in order, transistors 14-
17 are arranged in sequence. By the way, usually
The wiring patterns connected to the emitters of the transistors 14 to 17 are extremely narrow, with a mutual spacing of about 4 to 7.5 μm, and as the memory capacity increases, the wiring length becomes longer (several mm). The probability of short circuit occurring is very high. For example, even if the wires of the emitters of transistors 15 and 16 are short-circuited, the failure cannot be detected at output X because there are no fuses in any of these columns of dummy cells. For the same reason, in the 16-bit configuration shown in FIG.
5 and 206, columns 207 and 208, column 20
Even if there is a wiring short circuit in any of columns 9 and 210 and columns 213 and 214, this dummy cell cannot detect it. This disadvantageous tendency becomes more pronounced as the memory capacity increases. FIG. 8 is a circuit diagram for explaining the conventional means for detecting the wiring short circuit. In addition to the circuit shown in FIG. and dummy cell 100d with fuses 43 to 46 connected
The fuses 43 to 46 were sequentially cut off one by one to check for the wiring short circuit. However, 6 bits of X direction address information (number of addresses
64), Y direction address information 6 bits (number of addresses
For a 4kbits PROM with 64), 128 fuses must be disconnected in sequence; for a 16kbits PROM, the number is 256. This not only requires a large amount of testing time, but also has the drawback of increasing the memory chip size. This invention was made in view of the above-mentioned points. Wiring short circuits occur between adjacent wiring lines, and in the conventional dummy cells shown in FIGS. 5 to 7, the rows with fuses are Because wiring short circuits that occur in adjacent lines or lines without fuses cannot be detected, lines with fuses and lines without fuses should be arranged alternately. By doing so, it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device that has a simple configuration and can be tested before shipping without increasing the memory chip size. FIG. 9 is a circuit diagram showing an embodiment in which the present invention is applied to the circuit of FIG. 5. FIG. 10 is a pattern layout diagram of the output section in this embodiment corresponding to FIG. 7. As shown, the electrical connections are kept exactly the same as in FIG. 5, but by changing the arrangement of AND circuits 12 and 13, transistors 16 and 17, and the third and fourth columns of dummy cells, respectively. There are no consecutive rows without fuses or rows with fuses, so that even a wiring short circuit can be reliably detected. for example,
When a short circuit occurs between the emitters of adjacent transistors 15 and 16 in the configurations of FIGS. 5 and 7, the relationship between input signals A and B and output signal X is as shown in Table 11. Although it cannot be distinguished from the normal operation pattern shown in Table 6, the
When a short circuit occurs between the emitters of transistors 15 and 17 adjacent to each other in the configuration shown in FIG. 0, the relationship between input signals A and B and output signal X is as shown in Table 12, and the short circuit can be detected.

【表】【table】

【表】 さらに、第6図に示したような16ビツトの場合
は第1列〜第16列の配置順次を適当に変更して、
ヒユーズの有る列とヒユーズの無い列とを交互に
なるように配置すれば、互いに隣接する配線間の
短絡を検出することができる。従つて、第8図に
示したような配線短絡検知用の特別のダミーセル
を設ける必要はなく検査効率も向上し、かつ、メ
モリチツプサイズの縮小も可能である。 なお、上記実施例ではヒユーズの有無でダミー
セルにデータを与えたが、他の方法、例えばダイ
オードを除去するなどの方法でデータを与えるこ
ともできる。また、以上ヒユーズ形バイポーラ
PROMについて説明したが、ダイオード破壊形
PROM並びにヒユーズ形およびダイオード破壊形
PLAにも応用でき、さらにEPROM,EAROMな
どの書き換え可能なPROMの試験にも応用でき
る。勿論、それぞれの場合に応じてダミーセルへ
のデータの与え方は異なる。 以上詳述したように、この発明では破壊書込み
形半導体メモリ装置の出荷試験などのために設け
られるダミーセルの書き込み情報およびその物理
的配列に工夫を加えることによつて、メモリ装置
のチツプサイズを小さく保ち、かつ、上記試験が
効率よく実施可能な半導体メモリ装置が実現でき
る。
[Table] Furthermore, in the case of 16 bits as shown in Figure 6, change the arrangement order of the 1st to 16th columns appropriately,
By arranging rows with fuses and rows without fuses alternately, it is possible to detect short circuits between adjacent wires. Therefore, there is no need to provide a special dummy cell for detecting wiring short circuits as shown in FIG. 8, thereby improving inspection efficiency and reducing memory chip size. In the above embodiment, data is given to the dummy cell depending on the presence or absence of a fuse, but data can also be given in other ways, such as by removing the diode. We also have more fuse type bipolar
I explained about PROM, but it is a diode destruction type.
PROM, fuse type and diode destruction type
It can be applied to PLA as well as testing rewritable PROMs such as EPROM and EAROM. Of course, the way data is given to the dummy cells differs depending on each case. As detailed above, the present invention keeps the chip size of the memory device small by adding ingenuity to the write information and physical arrangement of dummy cells provided for shipping tests of destructive programmable semiconductor memory devices. In addition, a semiconductor memory device in which the above test can be efficiently performed can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は1×4ビツト構成のPROMの基本構成
を示す回路図、第2図はダミーメモリセルを2ビ
ツトのPROMに適用した従来例を示す接続図、第
3図はダミーメモリセルを1×4ビツトのPROM
に適用した従来例を示す接続図、第4図は第3図
の回路を改良した従来例を示す接続図、第5図は
第4図の従来例の本来のメモリセルとともに示し
た接続図、第6図はメモリ列が16列のときのダミ
ーメモリセルの構成図、第7図は第5図の回路の
出力部のパターン図、第8図は配線短絡を検知す
るための従来の手段を説明するための回路図、第
9図はこの発明の一実施例を示す回路図、第10
図はその出力部のパターン図である。 図において、3,4はアドレス入力端子、6〜
9はアドレスデコーダの一部を構成するインバー
タ、10〜13はアドレスデコーダの一部を構成
するAND回路、14〜17は各メモリ列を駆動
するトランジスタ、18〜21はメモリセル、3
3および37はダミーメモリセルである。なお、
図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Figure 1 is a circuit diagram showing the basic configuration of a PROM with a 1 x 4 bit configuration, Figure 2 is a connection diagram showing a conventional example in which dummy memory cells are applied to a 2-bit PROM, and Figure 3 is a circuit diagram showing the basic configuration of a PROM with a 1 x 4 bit configuration. ×4 bit PROM
4 is a connection diagram showing a conventional example applied to the circuit of FIG. 3, FIG. 5 is a connection diagram showing the conventional example of FIG. 4 together with the original memory cell, Figure 6 is a configuration diagram of a dummy memory cell when there are 16 memory columns, Figure 7 is a pattern diagram of the output section of the circuit in Figure 5, and Figure 8 is a conventional means for detecting wiring short circuits. A circuit diagram for explanation, FIG. 9 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG.
The figure is a pattern diagram of the output section. In the figure, 3 and 4 are address input terminals, and 6 to
9 is an inverter that forms part of the address decoder; 10 to 13 are AND circuits that form part of the address decoder; 14 to 17 are transistors that drive each memory column; 18 to 21 are memory cells;
3 and 37 are dummy memory cells. In addition,
The same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 使用者側において任意の記憶内容を書き込ん
で使用するように未書き込みの状態にあるメモリ
セルを有する複数個のメモリセル列と、任意の上
記メモリセル列を選ぶためのアドレスデコーダと
を有する読み出し専用の半導体メモリ装置におい
て、上記メモリセル列毎にダミーメモリセルを設
けた上記ムモリセル列の列数が2のときには第1
列の上記ダミーメモリセルには情報“1”(また
は“0”)、第2列の上記ダミーメモリセルには情
報“0”(または“1”)を書き込み、一般に上記
メモリセル列の列数が2nのときには第1列から
第22-1列までの上記ダミーメモリセルには上記
メモリセル列の列数が2n-1のときの各上記ダミ
ーメモリセルの情報パターンと等しい情報パター
ンを書き込み、第2n-1+1列から第2n列までの
上記ダミーメモリセルには上記情報パターンの反
転情報パターンを書き込むとともに、各メモリセ
ル列の物理的配列を上記列番号順とはせずに各列
の上記ダミーメモリセルの書込情報が相隣接する
列間で反転関係になるようにしたことを特徴とす
る半導体メモリ装置。
1. A read device having a plurality of memory cell rows having memory cells in an unwritten state so that arbitrary memory contents can be written and used on the user side, and an address decoder for selecting any of the above memory cell rows. In the dedicated semiconductor memory device, when the number of the memory cell arrays in which dummy memory cells are provided for each memory cell array is two, the first
Information “1” (or “0”) is written to the dummy memory cell in the column, information “0” (or “1”) is written to the dummy memory cell in the second column, and generally the number of columns in the memory cell column is When is 2n , the dummy memory cells from the first column to the second 2-1 column have an information pattern that is equal to the information pattern of each dummy memory cell when the number of memory cell columns is 2n -1. is written, and an inverted information pattern of the above information pattern is written in the dummy memory cells from the 2nd n-1+ 1st column to the 2nd nth column, and the physical arrangement of each memory cell column is changed to the above column number order. A semiconductor memory device characterized in that the write information of the dummy memory cells in each column is inverted between adjacent columns.
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