JPS6117138B2 - - Google Patents
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- JPS6117138B2 JPS6117138B2 JP55108539A JP10853980A JPS6117138B2 JP S6117138 B2 JPS6117138 B2 JP S6117138B2 JP 55108539 A JP55108539 A JP 55108539A JP 10853980 A JP10853980 A JP 10853980A JP S6117138 B2 JPS6117138 B2 JP S6117138B2
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- wire
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W44/20—Electrical arrangements for controlling or matching impedance at high-frequency [HF] or radio frequency [RF]
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W44/20—Electrical arrangements for controlling or matching impedance at high-frequency [HF] or radio frequency [RF]
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- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5445—Dispositions of bond wires being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. parallel arrangements
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、半導体装置用容器上の電極、配線
パターンの改良に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to improvements in electrodes and wiring patterns on semiconductor device containers.
高周波高出力トランジスタにおいてはエミツタ
のインダクダンスが大きいと利得が下がるため
に、その対策として従来、エミツタワイヤの数を
多くし、かつトランジスタチツプの両側にエミツ
タ電極を設けて両側にワイヤボンデイングする方
法がとられてきた。しかしこのようにすると構造
上しばしば該エミツタ電極が、トランジスタチツ
プを半田付けしたコレクタ電極とクロスオーバす
る必要が生じた。即ち、第1図および第2図は従
来の高周波高出力トランジスタの組立方法の一例
を示す平面図および断面図であり、熱伝導体絶縁
基板1の表面上にエミツタ電極2、コレクタ電極
3、ベース電極4がメタライズされ、該コレクタ
電極3の表面上にトランジスタチツプ5が半田付
けされている。該トランジスタチツプ5の端子ベ
ース電極4と金属細線6によつてワイヤボンデイ
ングされ、エミツタ電極2とは同じく金属細線7
によつてワイヤボンデイングされている。エミツ
タ電極2はトランジスタチツプ5をとり囲むよう
に配置されているために、その金属細線をボンデ
イングする一部分はコレクタ電極3とクロスオー
バし、この部分はブリツジ8によつてコレクタ電
極3をまたぐ形に組立てられている。このブリツ
ジの構成方法としては、エミツタリードと一体化
する方法や基板をラミネート構造にする埋め込み
ブリツジ方法等もあるが、多くは同図に示したよ
うにブリツジ単体によつて組立てる方法が採られ
ている。特に混成集積回路に高周波高出力トラン
ジスタを組込む場合にはブリツジは不可欠の存在
となつていた。このブリツジ8としては純銀また
は電気銅に金メツキもしくは銀メツキしたものが
用いられ、材料費も無視できないものがあり、ま
た、ブリツジ付けの作業も熟練を要し、作業能率
を低下させる一因ともなつていた。 In high-frequency, high-output transistors, if the emitter inductance is large, the gain decreases, so the conventional method to deal with this problem is to increase the number of emitter wires, provide emitter electrodes on both sides of the transistor chip, and perform wire bonding on both sides. I've been exposed to it. However, due to the structure, it was often necessary for the emitter electrode to cross over with the collector electrode to which the transistor chip was soldered. That is, FIGS. 1 and 2 are a plan view and a cross-sectional view showing an example of a conventional method of assembling a high-frequency, high-output transistor. The electrode 4 is metallized, and a transistor chip 5 is soldered onto the surface of the collector electrode 3. The terminal base electrode 4 of the transistor chip 5 is wire-bonded with a thin metal wire 6, and the emitter electrode 2 is also wire-bonded with a thin metal wire 7.
Wire bonded by. Since the emitter electrode 2 is arranged so as to surround the transistor chip 5, a part where the thin metal wire is bonded crosses over with the collector electrode 3, and this part is crossed over the collector electrode 3 by the bridge 8. It is assembled. There are several ways to construct this bridge, such as integrating it with the emitter lead and embedding the board into a laminate structure, but most of the time, as shown in the figure, the bridge is assembled by itself. . Bridges have become indispensable, especially when high-frequency, high-output transistors are incorporated into hybrid integrated circuits. The bridge 8 is made of pure silver or electrolytic copper plated with gold or silver, and the cost of materials is not negligible.Furthermore, the work of installing the bridge requires skill, which is a factor that reduces work efficiency. I was getting used to it.
このブリツジを省略する一方法としてコレクタ
電極3を分離し、その間隙にエミツタ電極2を通
し、このエミツタ電極2を挾むコレクタ電極3の
両部分を金属細線によつて接続する方法が考えら
れる。しかし、トランジスタチツプ5をダイボン
デイングする際に半田が流れ出してしまう。一般
に、電極表面は金もしくは銀をメツキして形成さ
れているが、ダイボンドに使用する半田としては
Au/SもしくはAu/Geが使用される。この半田
は、ダイボンドにより溶融した場合表面がきわめ
て酸化しやすく、この酸化した半田の表面に金線
もしくはアルミニウム線をワイヤボンデイングす
ることは、金属接合するための表面エネルギーレ
ベルを打ち破らなければならないことから実際上
不可能である。また、半田を溶融させてワイヤボ
ンデイングすることも考えられないではないが、
金線の場合にはいわゆる半田くわれの懸念があ
り、またアルミニウム線においては不可能であ
る。したがつて、ダイボンデイングとワイヤボン
デイングとを同じコレクタ電極上で行なうことは
困難であつた。 One possible method for eliminating this bridge is to separate the collector electrode 3, pass the emitter electrode 2 through the gap, and connect both parts of the collector electrode 3 that sandwich the emitter electrode 2 with a thin metal wire. However, when die bonding the transistor chip 5, the solder flows out. Generally, the electrode surface is plated with gold or silver, but as solder used for die bonding,
Au/S or Au/Ge is used. When this solder is melted by die bonding, the surface is extremely susceptible to oxidation, and wire bonding of gold or aluminum wire to the surface of this oxidized solder requires breaking the surface energy level for metal bonding. Practically impossible. Also, it is not inconceivable to melt the solder and perform wire bonding, but
In the case of gold wire, there is a fear of so-called solder cracking, and it is impossible to do so with aluminum wire. Therefore, it has been difficult to perform die bonding and wire bonding on the same collector electrode.
この発明の目的は同一電極面上においてダイボ
ンドとワイヤボンドとを行なうことが可能な半導
体装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a semiconductor device in which die bonding and wire bonding can be performed on the same electrode surface.
この発明の他の目的は電極がクロスオーバする
部分においてブリツジによる接続を行なわずに済
む半導体装置を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a semiconductor device that eliminates the need for bridge connections at portions where electrodes cross over.
このような目的を達成するためにこの発明によ
る半導体装置においては、半導体チツプが半田付
けされる電極のメタライズ部の一部に非メタライ
ズ部を設けて半田の流れを阻止し、この非メタラ
イズ部を挾んでダイボンド側と反対の側において
ワイヤボンデイングを行えるようにしている。以
下図面を用いてこの発明による半導体装置を詳細
に説明する。 In order to achieve such an object, in the semiconductor device according to the present invention, a non-metalized part is provided in a part of the metalized part of the electrode to which the semiconductor chip is soldered to block the flow of solder, and the non-metalized part is It is sandwiched so that wire bonding can be performed on the side opposite to the die bonding side. The semiconductor device according to the present invention will be explained in detail below using the drawings.
第3図はこの発明による半導体装置を高周波高
出力トランジスタに適用した場合の一実施例を示
す平面図、第4図は第3図の断面図である。同図
において、熱伝導体絶縁基板1の表面上にエミツ
タ電極22、コレクタ電極33,ベース電極4が
メタライズされ、コレクタ電極33の表面上にト
ランジスタチツプ5が半田付けされていることは
第1図、第2図に示す高周波高出力トランジスタ
と同様である。しかし、コレクタ電極33にはそ
こだけ電極金属が付着されていないスリツト状の
非メタライズ部9が設けられ、該コレクタ電極3
3はこの非メタライズ部9を境にしてトランジス
タチツプ5が半田付けされているダイボンド部3
3aとワイヤボンド33bとに分けられる。この
ワイヤボンド部33bは更に、該非メタライズ部
9と接する内部接続部33b1と独立した外部接
続部33b2とに分離され、分離された両部分間
の間隙をエミツタ電極22の橋絡部22aが通つ
ている。この橋絡部22aは、エミツタ電極22
の他の部分と一体的に絶縁基板1の表面上にメタ
ライズされている。そして、このエミツタ電極2
2の橋絡部22aを挾んで配設されたコレクタ電
極33の内部接続部33b1と外部接続部33b
2とは、該橋絡部22aをまたぐ金属細線10に
よつて接続されている。トランジスタチツプ5は
金属細線6によつてベース電極4と電気的に接続
され、金属細線7によつて両側のエミツタ電極2
2と接続されていることは第1図、第2図の場合
と同様である。以下、上記構成による高周波高出
力トランジスタを組立でる場合について詳細に説
明する。 FIG. 3 is a plan view showing an embodiment in which the semiconductor device according to the present invention is applied to a high-frequency, high-output transistor, and FIG. 4 is a cross-sectional view of FIG. 3. In the figure, an emitter electrode 22, a collector electrode 33, and a base electrode 4 are metallized on the surface of a heat conductor insulating substrate 1, and a transistor chip 5 is soldered on the surface of the collector electrode 33 as shown in FIG. , is similar to the high frequency, high output transistor shown in FIG. However, the collector electrode 33 is provided with a slit-shaped non-metalized portion 9 to which electrode metal is not attached, and the collector electrode 3
3 is a die bonding part 3 to which the transistor chip 5 is soldered with this non-metallized part 9 as a border.
3a and wire bond 33b. This wire bonding part 33b is further divided into an internal connection part 33b1 in contact with the non-metallized part 9 and an independent external connection part 33b2, and the bridge part 22a of the emitter electrode 22 passes through the gap between the two separated parts. There is. This bridging portion 22a is connected to the emitter electrode 22
It is metallized on the surface of the insulating substrate 1 integrally with other parts. And this emitter electrode 2
The internal connection part 33b1 and the external connection part 33b of the collector electrode 33 are arranged to sandwich the bridge part 22a of 2.
2 are connected to each other by a thin metal wire 10 that straddles the bridge portion 22a. The transistor chip 5 is electrically connected to the base electrode 4 by a thin metal wire 6, and connected to the emitter electrodes 2 on both sides by thin metal wires 7.
2 is the same as in the case of FIGS. 1 and 2. Hereinafter, the case of assembling the high frequency, high output transistor having the above configuration will be described in detail.
先ずコレクタ電極33にスリツト状の非メタラ
イズ部9を設けたことにより、一方のダイボンド
部33aにおいてトランジスタチツプ5を半田付
けしてその半田が流れても、絶縁基板1の表面は
電極金属に比べて半田の漏れが著しく劣るため
に、この非メタライズ部9を越えて反対側のワイ
ヤボンド部33bまで半田が流れて行くことはな
い。このため、ワイヤボンド部33bにおける金
属細線による接続に支障は生じない。従つて、エ
ミツタ電極22とコレクタ電極33とのクロスオ
ーバ部においては、橋絡部22aをメタライズす
ることによつて先ずエミツタ電極22を絶縁基板
1の表面上に連続的に形成し、該橋絡部22aに
よつて分離されたコレクタ電極33は該橋絡部2
2aをまたぐ金属細線10によつて電気的に接続
することができる。この結果、ブリツジを用いな
くても橋絡部22aにおいて、金属細線7による
トランジスタチツプ5とのワイヤボンデイングを
行なうことが可能であると共に、分離されたコレ
クタ電極33もブリツジを用いることなしに電気
的に再接続することができる。コレクタ電極33
に非メタライズ部9を設けたり、分割したりする
こと、またエミツタ電極22を橋絡部22aによ
つて連絡することは、電極マスクのパターン形成
上の問題のみであり、何ら余分の工数を加えるこ
となしに実現可能である。 First, by providing the slit-shaped non-metalized portion 9 on the collector electrode 33, even if the transistor chip 5 is soldered at one die bonding portion 33a and the solder flows, the surface of the insulating substrate 1 will be smaller than the electrode metal. Since solder leakage is extremely poor, solder does not flow beyond this non-metalized portion 9 to the wire bond portion 33b on the opposite side. Therefore, no problem occurs in the connection using the thin metal wire at the wire bond portion 33b. Therefore, in the crossover portion between the emitter electrode 22 and the collector electrode 33, the emitter electrode 22 is first continuously formed on the surface of the insulating substrate 1 by metalizing the bridge portion 22a, and then the bridge portion 22a is continuously formed on the surface of the insulating substrate 1. The collector electrode 33 separated by the portion 22a is connected to the bridge portion 2.
Electrical connection can be made by a thin metal wire 10 that straddles 2a. As a result, it is possible to perform wire bonding with the transistor chip 5 using the thin metal wire 7 at the bridge portion 22a without using a bridge, and the separated collector electrode 33 can also be electrically connected without using a bridge. can be reconnected to. Collector electrode 33
Providing or dividing the non-metalized portion 9 into the electrode, or connecting the emitter electrode 22 with the bridge portion 22a, is only a problem in patterning the electrode mask, and does not add any extra man-hours. It is possible to achieve this without any problems.
なお、上述した実施例においては、単体の高周
波高出力トランジスタについて説明したが、この
発明はこれに限られるものではなく、例えば混成
集積回路への適用が考えられることは勿論であ
る。 In the above-mentioned embodiments, a single high-frequency, high-output transistor has been described, but the present invention is not limited to this, and of course can be applied to, for example, a hybrid integrated circuit.
以上説明したようにこの発明による半導体装置
によれば、電極の一部に非メタライズ部を設けて
半田流れを防止したことにより、該非メタライズ
部を境にしてダイボンデイングとワイヤボンデイ
ングとを同一電極上で行なうことが可能となり、
該電極の一部を更に分離した場合でも、その分離
された両部分を金属細線によつて容易に電気的に
再接続することができる。従つて異種の電極がク
ロスオーバする部分においても組立てにブリツジ
を用いる必要がなく、ブリツジを使用する場合に
比べて直接材料費や作業時間を減少させ、製造原
価の低減を実現することができるという優れた効
果を有する。 As explained above, according to the semiconductor device according to the present invention, a non-metalized portion is provided in a part of the electrode to prevent solder flow, so that die bonding and wire bonding can be performed on the same electrode with the non-metalized portion as a boundary. It becomes possible to do it with
Even if a part of the electrode is further separated, both separated parts can be easily electrically reconnected using a thin metal wire. Therefore, there is no need to use bridges for assembly even in areas where different types of electrodes cross over, and compared to the case where bridges are used, direct material costs and work time are reduced, making it possible to reduce manufacturing costs. Has excellent effects.
第1図は従来の半導体装置の一例を示す平面
図、第2図は第1図の断面図、第3図はこの発明
による半導体装置の一実施例を示す平面図、第4
図は第3図の断面図である。
1……絶縁基板、22……エミツタ電極、22
a……橋絡部、33……コレクタ電極、33a…
…ダイボンド部、33b……ワイヤボンド部、3
3b1……内部接続部、33b2……外部接続
部、5……トランジスタチツプ、9……非メタラ
イズ部、10……金属細線。
1 is a plan view showing an example of a conventional semiconductor device, FIG. 2 is a sectional view of FIG. 1, FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of the semiconductor device according to the present invention, and FIG.
The figure is a sectional view of FIG. 3. 1... Insulating substrate, 22... Emitter electrode, 22
a...Bridge portion, 33...Collector electrode, 33a...
...Die bond part, 33b...Wire bond part, 3
3b1...Internal connection part, 33b2...External connection part, 5...Transistor chip, 9...Non-metallized part, 10...Metal thin wire.
Claims (1)
の一部に半田流れ防止用の非メタライズ部を設
け、該非メタライズ部を境にして該電極の一方の
部分をダイボンド部、上記非メタライズ部以外の
部分でこのダイボンドに連続した他方の部分をワ
イヤボンド部とし、ダイボンド部に半導体チツプ
をボンデイングし、ワイヤボンド部に金属細線を
ボンデイングしたことを特徴とする半導体装置。1. A non-metalized part for preventing solder flow is provided on a part of a metalized electrode on a container for a semiconductor device, and one part of the electrode with the non-metalized part as a border is used as a die-bonding part and a part other than the non-metalized part. A semiconductor device characterized in that the other part continuous to the die bond is a wire bond part, a semiconductor chip is bonded to the die bond part, and a thin metal wire is bonded to the wire bond part.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10853980A JPS5732660A (en) | 1980-08-04 | 1980-08-04 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10853980A JPS5732660A (en) | 1980-08-04 | 1980-08-04 | Semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5732660A JPS5732660A (en) | 1982-02-22 |
| JPS6117138B2 true JPS6117138B2 (en) | 1986-05-06 |
Family
ID=14487372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10853980A Granted JPS5732660A (en) | 1980-08-04 | 1980-08-04 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5732660A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007329502A (en) * | 2007-08-16 | 2007-12-20 | Toshiba Corp | Light emitting device |
| JP4403199B2 (en) * | 2008-11-17 | 2010-01-20 | 株式会社東芝 | Light emitting device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5312271A (en) * | 1976-07-20 | 1978-02-03 | Nec Corp | Substrate for electronic circuit element |
-
1980
- 1980-08-04 JP JP10853980A patent/JPS5732660A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5732660A (en) | 1982-02-22 |
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