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JPS6117919B2 - - Google Patents
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JPS6117919B2 - - Google Patents

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JPS6117919B2
JPS6117919B2 JP21891482A JP21891482A JPS6117919B2 JP S6117919 B2 JPS6117919 B2 JP S6117919B2 JP 21891482 A JP21891482 A JP 21891482A JP 21891482 A JP21891482 A JP 21891482A JP S6117919 B2 JPS6117919 B2 JP S6117919B2
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JP
Japan
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plating
tank
liquid
satin
pipe
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Application number
JP21891482A
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Japanese (ja)
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JPS59110789A (en
Inventor
Masumi Tanigawa
Hiroshi Uotani
Tooru Murakami
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Uemera Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Uemera Kogyo Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、めつき液中で有機エマルジヨンを形
成する添加剤を用いて梨地状めつきを行なうめつ
き方法に関し、更に詳述すると、めつき槽として
オーバーフロー槽付めつき槽を用い、添加剤の補
給をオーバーフロー槽を利用した自動補給方式と
することにより、添加剤の補給時にめつき作業を
停止する必要のない梨地状めつき方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a plating method for performing satin-like plating using an additive that forms an organic emulsion in a plating solution. The present invention relates to a satin-like plating method that eliminates the need to stop plating work when replenishing additives by using a plating tank and replenishing additives using an automatic replenishment system using an overflow tank.

従来、梨地状ニツケル電着物を得る方法として
は、電気ニツケルめつき液に不溶性の無機非電導
性粒子を懸濁させ、ニツケルの電析に際してこの
粒子を共析させることにより、ニツケル電着物に
粗面を形成し、梨地状効果を与える方法が知られ
ている(特公昭43−405号)。しかし、この方法
は、めつき液の保守管理が困難であり、めつき液
が汚れた時に活性炭処理を行なう場合、不溶性粒
子を別してから行なわなければならないなどの
面倒もある上、得られた電着物は指紋がつき易い
という問題もあり、更に被めつき物の低電流密度
部分が梨地状になり難い等の欠点がある。また、
この方法はバレルめつきが行ない難い。
Conventionally, the method for obtaining a satin-like nickel electrodeposit is to suspend insoluble inorganic non-conductive particles in an electrolytic nickel plating solution, and eutectoidize the particles during nickel electrodeposition, thereby adding coarseness to the nickel electrodeposit. A method of forming a surface to give a satin-like effect is known (Special Publication No. 43-405). However, this method is difficult to maintain and manage the plating solution, and when treating the plating solution with activated carbon when it is contaminated, insoluble particles must be separated before treatment. Kimono also has the problem that fingerprints are easily attached to it, and furthermore, the low current density portion of the kimono is difficult to form a matte finish. Also,
Barrel plating is difficult with this method.

これに対し、従来よりめつき液中で有機エマル
ジヨンを形成する添加剤を用いて梨地状めつきを
行なう方法が知られている。このようなめつき方
法として、温度40〜75℃において微細分散状のエ
マルジヨンを生成するエチレンオキサイド、プロ
ピレンオキサイド化合物をめつき液に添加し、め
つき時に液温度を上げて液を懸濁させた状態でめ
つきを行なうことにより梨地状ニツケル電着物を
得る方法(特公昭46−644号)、カチオン活性又は
両性物質を有機アニオンと一緒にめつき液に添加
してめつき液中に異種物質を生成せしめることに
より梨地状ニツケル又はニツケル−コバルト電着
物を得る方法(特開昭50−2093)等が提案されて
おり、いずれの方法も種々の長所を有するもので
あつて、特に後者の方法は外観、物性に優れた
種々の状態の梨地状めつきが得られ、また特別の
冷却・加熱装置が不要で、しかも溶管理が容易で
ある等の長所を有するものである。しかし、この
ようなめつき液中で有機エマルジヨンを形成する
添加剤を用いる梨地状めつき方法においては、め
つき中に添加剤が消耗するため、一定時間毎に添
加剤を補給しなければならず、その度毎にめつき
作業を停止してめつき液に添加剤を補給し、撹拌
棒を用いてかき混ぜたり、機械的に撹拌したりす
る必要がある。従つてロボツトタイプの自動機や
手動ラインのめつきにおいては問題ないが、エレ
ベータータイプの自動機で補給を行なう場合には
数分間ハンガーの空白をとつて機械を停止する必
要が生じる。
On the other hand, a method of performing satin-like plating using an additive that forms an organic emulsion in a plating solution is conventionally known. In this plating method, ethylene oxide and propylene oxide compounds that form a finely dispersed emulsion at a temperature of 40 to 75°C are added to the plating solution, and the temperature of the solution is raised during plating to suspend the solution. A method of obtaining a satin-like nickel electrodeposit by plating (Special Publication No. 46-644), a method in which a cationically active or amphoteric substance is added to the plating solution together with an organic anion to contain foreign substances in the plating solution. A method has been proposed for obtaining satin-like nickel or nickel-cobalt electrodeposit (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 50-2093), and each method has various advantages, and the latter method in particular has various advantages. It has the advantages of being able to obtain satin-like plating in various states with excellent appearance and physical properties, requiring no special cooling or heating equipment, and being easy to manage melting. However, in such satin-like plating methods that use additives that form organic emulsions in the plating solution, the additives are consumed during plating, so the additives must be replenished at regular intervals. Each time, it is necessary to stop the plating operation, replenish the plating solution with additives, and stir it using a stirring rod or mechanically. Therefore, there is no problem when plating with a robot-type automatic machine or a manual line, but when replenishing with an elevator-type automatic machine, it is necessary to empty the hanger for several minutes and stop the machine.

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、め
つき液中で有機エマルジヨンを形成する添加剤を
用いて梨地状めつきを行なう方法において、めつ
き槽にオーバーフロー層を付設し、このめつき槽
からめつき液をオーバーフロー槽にオーバーフロ
ーすると共に、前記添加剤をめつき槽中のめつき
液に補給するに際し、添加剤をオーバーフロー槽
中のめつき液に混合し、添加剤を補給しためつき
液をポンプにより吸引してめつき槽内の下部に配
設した吹出しパイプに設けた多数の吹出孔から吹
出させることによつて添加剤をめつき槽中のめつ
き液に補給することにより、添加剤の補給を自動
補給方式とし、従つて添加剤の補給の際にめつき
作業を停止する必要のない梨地状めつき方法を提
供するものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a method for performing satin-like plating using an additive that forms an organic emulsion in a plating solution. When the plating solution overflows from the tank into the overflow tank and the additive is replenished into the plating solution in the plating tank, the additive is mixed with the plating solution in the overflow tank and the additive is replenished. By replenishing the plating liquid in the plating tank with additives by suctioning the liquid with a pump and blowing it out from a number of blow-off holes provided in a blow-off pipe installed at the bottom of the plating tank, To provide a satin-like plating method in which additives are automatically replenished and, therefore, it is not necessary to stop the plating operation when replenishing additives.

即ち、本発明者らの検討の結果では、めつき作
業中にそのめつき液に対し梨地めつき形成用添加
剤を直接添加補給する場合には被めつき物に対す
る梨地状外観の形成が均一化せず、めつき物外観
に“ムラ”が生じるものであり、まためつき槽よ
りめつき液を取り出し、これをめつき槽に返送す
るという循環経路において、めつき槽の下部側に
めつき液取出口を設けてめつき液を取り出し、そ
の循環経路途上において添加剤を補給したり、或
いは循環経路途上において補給液を添加しためつ
き液を単にめつき槽内の一隅部などに部分的に返
送する場合も、同様に梨地状外観に“ムラ”が生
じ、従つて上述したような添加剤補給方式では補
給を行ないながらめつきを続けることはめつき外
観を悪くし、しかもめつき被膜の物性の面でもば
らつきを生じさせるものであつた。これに対し、
めつき槽よりめつき液をオーバーフロー方式によ
り取り出すこと、この取り出しためつき液に梨地
めつき形成用添加剤を添加混合すると共に、添加
剤が添加されためつき液をめつき槽下部にめつき
槽底面に沿つて設けた吹出しパイプより、しかも
このパイプに多数形成した吹出孔より吹出させる
場合には、このような補給方式を採用しつつめつ
き作業を続けても梨地めつき外観、めつき物性に
殆んど影響を与えることなく均一にめつきを行な
うことができることを知見したものである。
In other words, the results of the studies conducted by the present inventors show that when the additive for forming a satin-like plating is directly added to the plating solution during the plating operation, the formation of a satin-like appearance on the object to be plated is uniform. This causes "unevenness" in the appearance of the plated product.In the circulation path where the plating solution is taken out from the plating tank and returned to the plating tank, the plating solution is removed from the bottom of the plating tank. A plating solution outlet may be provided to take out the plating solution, and additives may be replenished during the circulation route, or the plating solution may be simply dispensed into a corner of the plating tank with the replenishment solution added during the circulation route. If the product is returned for a long time, the satin-like appearance will similarly be "uneven", and therefore, with the additive replenishment method described above, continuing plating while replenishing will worsen the plating appearance and, moreover, cause the plating film to deteriorate. This also caused variations in physical properties. In contrast,
The plating solution is taken out from the plating tank using an overflow method, additives for forming matte plating are added to and mixed with the removed plating solution, and the plating solution with the additives is transferred to the lower part of the plating tank. When blowing air from the blow-off pipe installed along the bottom surface, and moreover from the many blow-off holes formed in this pipe, even if you continue the plating work while adopting this replenishment method, the matte appearance and plating physical properties will be maintained. It has been discovered that plating can be performed uniformly with almost no effect on the surface.

以下、本発明につき図面を参照して詳しく説明
する。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

本発明に係る梨地状めつき方法は、めつき液中
で有機エマルジヨンを形成する添加剤を用いて行
なうものである。
The satin-like plating method according to the present invention is carried out using an additive that forms an organic emulsion in the plating solution.

この場合、上記添加剤としては、めつき液中で
有機エマルジヨンを形成して梨地状電着物を与え
るものであればいずれのものでも使用し得、例え
ば温度40〜75℃において微細分散状のエマルジヨ
ンを浴の電解液中で生成する如き、置換された又
は置換されていないエチレンオキサイド、又はプ
ロピレンオキサイド、並びにエチレンオキサイド
−プロピレンオキサイド付加化合物(特公昭46−
644)、等を利用することもできるが、特にカチオ
ン活性又は両性物質を有機アニオンと一緒に使用
するもの(特開昭50−20934)が本発明方法を好
適に採用することができ、具体的には上村工業株
式会社製のパールブライト等を用いることができ
る。
In this case, as the additive, any additive can be used as long as it forms an organic emulsion in the plating solution and provides a satin-like electrodeposit. substituted or unsubstituted ethylene oxide, or propylene oxide, as formed in the electrolyte of the bath, as well as ethylene oxide-propylene oxide adduct compounds (Japanese Patent Publication No. Sho 46-
644), etc., but in particular, the method of the present invention can be suitably applied to a method that uses a cationically active or amphoteric substance together with an organic anion (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983-20934). For example, Pearl Bright manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd. can be used.

また、本発明において用いるめつき液の種類は
特に制限されず、梨地状めつきの目的等に応じて
適宜選択される。例えば、PH2.5〜6の酸性電気
ニツケルめつき液、ニツケル−コバルト、ニツケ
ル−鉄等のニツケル合金めつき液、更にコバルト
めつき液、コバルト合金めつき液などが用いられ
る。この場合、めつき液としては、ワツト浴、硫
酸浴、高塩化浴、スルフアミン酸浴等、公知の浴
組成のものが用いられ得る。更に、めつき温度、
電流密度等のめつき条件も特に制限されず、その
目的等に応じた適宜な条件が採用される。
Further, the type of plating liquid used in the present invention is not particularly limited, and is appropriately selected depending on the purpose of satin-like plating. For example, an acidic electrolytic nickel plating solution with a pH of 2.5 to 6, a nickel alloy plating solution such as nickel-cobalt or nickel-iron, a cobalt plating solution, a cobalt alloy plating solution, etc. are used. In this case, the plating solution may be one having a known bath composition, such as a Watt bath, a sulfuric acid bath, a high chloride bath, or a sulfamic acid bath. Furthermore, plating temperature,
Plating conditions such as current density are not particularly limited, and appropriate conditions are adopted depending on the purpose.

本発明めつき方法は、上述した添加剤を用いて
梨地状めつきを行なうに際し、めつき槽としてオ
ーバーフロー槽付めつき槽を用い、添加剤の補給
をオーバーフロー槽を利用した自動補給方式とし
たものである。
The plating method of the present invention uses a plating tank with an overflow tank as the plating tank when performing satin-like plating using the above-mentioned additives, and an automatic replenishment method using the overflow tank is used to replenish the additives. It is something.

即ち、図面を参照して更に詳しく説明すると、
第1図は本発明めつき方法の実施に用いるめつき
装置の一例を示すもので、図中1はめつき槽2に
オーバーフロー槽3が付設されたオーバーフロー
槽付めつき槽であり、めつき槽2とオーバーフロ
ー槽3との間の仕切板2aの高さが低く形成され
ており、めつき槽2中のめつき液がこの仕切板2
aを乗り越え、オーバーフロー槽3に連続的にオ
ーバーフローし、めつき液がめつき槽2から連続
的に取り出されるようになつている。なお、本装
置においてはめつき槽2内において被めつき物が
めつきされるものである。
That is, to explain in more detail with reference to the drawings,
Fig. 1 shows an example of a plating apparatus used in carrying out the plating method of the present invention. A partition plate 2a between the plating tank 2 and the overflow tank 3 is formed with a low height, and the plating liquid in the plating tank 2 flows through the partition plate 2.
a, the plating solution continuously overflows into the overflow tank 3, and the plating solution is continuously taken out from the plating tank 2. In this apparatus, objects to be plated are plated in the plating tank 2.

本装置においては、このオーバーフロー槽3底
壁にバルブ4、ポンプ5、流量計6及びバルブ7
が順次介装された送液パイプ8の一端が連結され
ており、この送液パイプ8の他端はめつき槽2内
の下部にめつき槽2の底面に沿つて配設された多
数の吹出し孔9を有する吹出しパイプ10と連結
されている。なお、送液パイプ8にはバルブ4の
上流側から下流側にかけてバルブ11,12の間
に過機13が介装された過バイパス14が形
成されている。また、送液パイプ8のポンプ5下
流側には一端がオーバーフロー槽3内のめつき液
中に挿入されたバイパスパイプ15がバルブ16
を介して連結され、更に送液パイプ8のバルブ7
下流側にはエアーパイプ17がバルブ18を介し
て連結されている。なお、19は送液パイプ8の
ポンプ5上流側にバルブ20を介して連結された
ドレンパイプである。また、21はめつき槽1の
上方に配設された添加剤貯槽であり、この添加剤
貯槽21にはバルブ22が介装された添加パイプ
23の一端が連結され、その他端の滴下口が前記
オーバーフロー槽3内のめつき液の上方に位置す
るよう配設されている。
In this device, a valve 4, a pump 5, a flow meter 6, and a valve 7 are installed on the bottom wall of the overflow tank 3.
is connected to one end of a liquid feeding pipe 8 in which liquid feeding pipes 8 are successively installed, and the other end of this liquid feeding pipe 8 is connected to a large number of air outlets arranged along the bottom surface of the plating tank 2 at the lower part of the plating tank 2. It is connected to a blowout pipe 10 having a hole 9. Note that an over-bypass 14 is formed in the liquid sending pipe 8 from the upstream side to the downstream side of the valve 4, in which a permeator 13 is interposed between the valves 11 and 12. Further, on the downstream side of the pump 5 of the liquid sending pipe 8, a bypass pipe 15 whose one end is inserted into the plating liquid in the overflow tank 3 is connected to a valve 16.
further connected via the valve 7 of the liquid sending pipe 8.
An air pipe 17 is connected to the downstream side via a valve 18. Note that 19 is a drain pipe connected to the upstream side of the pump 5 of the liquid sending pipe 8 via a valve 20. Further, 21 is an additive storage tank disposed above the plating tank 1, one end of an addition pipe 23 having a valve 22 interposed therein is connected to the additive storage tank 21, and the dripping port at the other end is connected to the additive storage tank 21. It is arranged so as to be located above the plating liquid in the overflow tank 3.

なお、上記装置において、オーバーフロー槽3
としては容量がめつき槽2の10〜20%のものが好
適であり、ポンプ5としては1時間にめつき槽容
量の20〜40%量を送液できる定量ポンプを使用す
るか、或いはそれ以上の能力のポンプを使用し、
バルブ16を調節してバイパス15を用いること
により送液量を調整することが好ましい。この場
合、ポンプの種類は特に限定されず、グランドパ
ツキンやメカニカルシールを使用するタイプのも
のも使用可能であるが、本発明においては空気を
巻込んだ状態でめつき液を流動させることは避け
る必要があり、この点でシールレスポンプが好ま
しい。また、めつき槽2として例えば500〜2000
の容量のものを用いる場合は、流量計6として
は70〜700/hrの計量ができるものを使用するこ
とが好ましい。
In addition, in the above device, the overflow tank 3
It is preferable that the pump has a capacity of 10 to 20% of that of the plating tank 2, and the pump 5 should be a metering pump capable of pumping 20 to 40% of the plating tank capacity per hour, or a pump with a capacity of 10 to 20% of that of the plating tank 2 should be used. using a pump with the capacity of
It is preferable to adjust the amount of liquid sent by adjusting the valve 16 and using the bypass 15. In this case, the type of pump is not particularly limited, and a type that uses a gland packing or mechanical seal can also be used, but in the present invention, it is avoided to flow the plating liquid in a state where air is involved. In this respect, sealless pumps are preferred. In addition, as the plating tank 2, for example, 500 to 2000
When using a flowmeter 6 having a capacity of 70 to 700/hr, it is preferable to use a flowmeter 6 capable of measuring 70 to 700/hr.

上記装置において添加剤をめつき槽2内のめつ
き液に補給する場合、まず添加剤貯槽21内の添
加剤をバルブ22を調整してその適量を添加パイ
プ23内を流通させ、添加パイプ23の他端の滴
下口よりオーバーフロー槽3内のめつき液に滴下
する。次に、オーバーフロー槽3内のめつき液を
撹拌機24によりゆるやかに撹拌して添加剤をめ
つき液中に十分混合し、この添加剤が補給された
めつき液をポンプ5により吸引し、めつき液を送
液パイプ8内を流通させて吹出しパイプ10の吹
出し孔9より吹出させ、これにより添加剤をめつ
き槽2内のめつき液に補給するものである。この
場合、バルブ4,7は開放し、バルブ11,1
2,16,18,20は閉塞しておく。また、め
つき液の送液量は、流量計6でチエツクしながら
1時間当りめつき槽2のめつき液量の20〜40%と
なるように調整することが好ましい。
When replenishing the plating liquid in the plating tank 2 with additives in the above device, first adjust the valve 22 to distribute the appropriate amount of the additive in the additive storage tank 21 through the addition pipe 23. It is dripped into the plating liquid in the overflow tank 3 from the dripping port at the other end. Next, the plating liquid in the overflow tank 3 is gently stirred by the stirrer 24 to sufficiently mix the additives into the plating liquid, and the plating liquid replenished with the additives is sucked by the pump 5, and the plating liquid is suctioned by the pump 5. The plating liquid is made to flow through the liquid sending pipe 8 and blown out from the blow-off hole 9 of the blow-off pipe 10, thereby replenishing the plating liquid in the plating tank 2 with additives. In this case, valves 4 and 7 are open and valves 11 and 1
2, 16, 18, and 20 are closed. Further, it is preferable that the amount of the plating liquid sent is adjusted to 20 to 40% of the amount of plating liquid in the plating tank 2 per hour while checking with a flow meter 6.

なお、このような添加剤の補給を行なつている
最中にめつきは連続的に行なわれるものであり、
上述した補給方式によれば添加剤を補給しつつめ
つきを行なつても均一なめつきが行なわれ、何ら
めつき皮膜に悪影響が与えられることはない。
It should be noted that plating is carried out continuously while replenishing such additives.
According to the above-mentioned replenishment method, even if plating is performed while replenishing the additive, uniform plating is achieved and the plating film is not adversely affected in any way.

上記装置においては、めつき槽2よりめつき液
が連続的にオーバーフロー槽3にオーバーフロー
して取り出され、オーバーフロー槽3内のめつき
液が連続的に吹出し孔9より吹出されるので、被
めつき物に連続的にめつき液の流れが与えられ、
このため良好な液流動撹拌が行なわれて均一な安
定した梨地状めつきが行なわれる。
In the above device, the plating liquid continuously overflows from the plating tank 2 into the overflow tank 3 and is taken out, and the plating liquid in the overflow tank 3 is continuously blown out from the blow-off hole 9, so that the plating liquid is A continuous flow of plating liquid is applied to the attached object,
Therefore, good liquid flow agitation is performed, and uniform and stable satin-like plating is performed.

この場合、上記装置においては、吹出し孔9は
吹出しパイプ10の下側に穿設されており、従つ
て添加剤が補給されためつき液は下方、即ちめつ
き槽2の底部方向に向けて吹出され、その後上昇
してめつき槽2内のめつき液に混合されるため、
添加剤はめつき槽2内のめつき液中に均一に分散
され、良好な梨地状めつきが行なわれる。なお、
吹出し孔を吹出しパイプの上側に設けても良好な
梨地めつきが行なわれるが、添加剤の均一混合等
の点で吹出し孔をパイプの下側に設けることが好
ましい。
In this case, in the above device, the blowout hole 9 is bored at the bottom of the blowout pipe 10, so that the plating liquid replenished with additives is blown out downward, that is, toward the bottom of the plating tank 2. The liquid then rises and is mixed with the plating solution in the plating tank 2.
The additive is uniformly dispersed in the plating liquid in the plating tank 2, and good satin-like plating is achieved. In addition,
Good satin plating can be achieved even if the blow-off hole is provided above the blow-off pipe, but it is preferable to provide the blow-off hole below the pipe from the viewpoint of uniform mixing of additives.

このように吹出し孔をパイプの下側に設ける場
合、上記吹出しパイプ10の配設は吹出し孔9よ
り吹出されるめつき液がめつき槽2の内底面に吹
付けられるようにめつき槽2の内底面に比較的近
接して、例えばめつき槽2の内底面から液面まで
の高さの4〜20%程度離間させて配設することが
好ましく、このように吹出し孔9より吹出される
めつき液をめつき槽2内底面で反射させた後上昇
させることにより、良好な梨地状めつきが行なわ
れる。また、めつき槽2の内側下端縁部、少なく
ともパイプ10の長さ方向に沿つた内側両下端縁
部にそれぞれ長板を傾斜して配設するなどして鈍
角に形成し、或いは丸味を与えて、これら下端縁
部においてめつき液が円滑に流動するようにする
ことが好適である。
When the blow-off hole is provided on the lower side of the pipe, the blow-off pipe 10 is arranged so that the plating liquid blown out from the blow-off hole 9 is sprayed onto the inner bottom surface of the plating tank 2. It is preferable to arrange the liquid relatively close to the inner bottom surface, for example, at a distance of about 4 to 20% of the height from the inner bottom surface of the plating tank 2 to the liquid level, and in this way it is blown out from the blowing hole 9. By reflecting the plating liquid on the inner bottom surface of the plating tank 2 and then raising it, good satin-like plating can be achieved. Further, the inner lower end edge of the plating tank 2, at least both inner lower end edges along the length direction of the pipe 10, may be formed at an obtuse angle by arranging long plates at an angle, or rounded. Therefore, it is preferable that the plating liquid flows smoothly on these lower edges.

前記吹出し孔9の孔径、孔数や穿設態様は必ず
しも制限されないが、各吹出し孔9の断面積がパ
イプ10の流路断面積の0.5〜3%、特に0.6〜2
%となるような孔径とすることが好ましく、また
その孔数は全吹出し孔9の合計断面積がパイプ3
の流路断面積の20〜90%、特に25〜75%となるよ
うな孔数とすることが好ましい。吹出し孔9の孔
径、孔数を上記範囲とすることにより、均一かつ
安定なめつきが行なわれる。更に、吹出し孔9は
第2図に示したようにパイプ10の左右に複数列
(図面においては2列)に亘つて形成することが
できるが、この場合左右の吹出し孔9は互にほぼ
同数ずつの均等とすることが好ましい。また、吹
出し孔9は互にほぼ等間隔ずつ離間して形成する
ことが好ましい。
Although the hole diameter, number of holes, and manner of drilling of the blow-off holes 9 are not necessarily limited, it is preferable that the cross-sectional area of each blow-off hole 9 be 0.5 to 3%, particularly 0.6 to 2%, of the flow passage cross-sectional area of the pipe 10.
%, and the number of holes is such that the total cross-sectional area of all the blow-off holes 9 is equal to that of the pipe 3.
The number of holes is preferably set to 20 to 90%, particularly 25 to 75%, of the cross-sectional area of the flow path. Uniform and stable plating can be achieved by setting the diameter and number of the blow-off holes 9 within the above ranges. Furthermore, as shown in FIG. 2, the blow-off holes 9 can be formed in multiple rows (two rows in the drawing) on the left and right sides of the pipe 10, but in this case, the blow-off holes 9 on the left and right sides have approximately the same number. It is preferable that the two be equally distributed. Further, it is preferable that the blow-off holes 9 are formed at approximately equal intervals from each other.

また、前記吹出し孔9からめつき液を吹出させ
る場合、安定した十分な流動、撹拌効果を与える
ため、めつき液が各吹出し孔から吹出す場合の流
速を1〜12m/sec、特に3〜5m/sec、吐出圧を
0.4〜5Kg/cm2、特に0.6〜1.2Kg/cm2とすることが好
ましく、ポンプの揚液量、吐出し揚程、吹出し孔
の孔径、孔数、更にパイプの流路断面積等を適宜
(好ましくは上述した範囲において)選定するこ
とにより、前記流速とすることが好ましい。
In addition, when blowing out the plating liquid from the blowing holes 9, in order to provide a stable and sufficient flow and stirring effect, the flow rate when the plating liquid blows out from each blowing hole is set to 1 to 12 m/sec, especially 3 to 5 m/sec. /sec, discharge pressure
It is preferably 0.4 to 5 Kg/cm 2 , especially 0.6 to 1.2 Kg/cm 2 , and the amount of liquid pumped, the discharge head, the diameter of the blowing hole, the number of holes, and the cross-sectional area of the pipe are adjusted as appropriate ( It is preferable to achieve the above-mentioned flow rate by selecting (preferably within the above-mentioned range).

上記装置を用いためつき作業が終了した場合
は、バルブ7,11,12,18を開放し、バル
ブ4,16,20,22を閉塞して、エアーパイ
プ17から空気を送り込み、吹出し孔9より吹出
させて空気撹拌を行なうと共に、ポンプ5を作動
させてめつき液を過バイパス14の過機13
中を通過させてめつき槽2に送液し添加剤を除去
するものである。
When the flask work is completed using the above device, open the valves 7, 11, 12, and 18, close the valves 4, 16, 20, and 22, and blow air from the air pipe 17 through the blowout hole 9. At the same time, the plating liquid is blown out to perform air agitation, and the pump 5 is operated to transfer the plating liquid to the overpass machine 13 of the overbypass 14.
The liquid is passed through the tank and sent to the plating tank 2 to remove additives.

なお、上記装置においては吹出しパイプ9を1
本としたが、複数本に構成してもよく、また撹拌
にカソードロツカー等を併用しても差支えない。
In addition, in the above device, the blowout pipe 9 is
Although it is made into a book, it may be configured into a plurality of books, and a cathode rocker or the like may be used in combination for stirring.

上述したように、上記装置においては、めつき
槽2よりオーバーフローによつてめつき液を連続
的に取り出すと共に、添加剤を連続的にオーバー
フロー槽3内のめつき液に補給し、このめつき液
を連続的にめつき槽2に送液し、かつこれにより
めつき槽2内上部のめつき液をオーバーフローさ
せるようにしたことにより、めつき装置を停止さ
せずに連続的にめつき作業を行ないながら添加剤
を補給することができ、まためつき液を吹出し孔
9から連続的に吹出させることにより良好な液流
動撹拌が行なわれるものである。
As described above, in the above-mentioned apparatus, the plating liquid is continuously taken out from the plating tank 2 by overflow, and additives are continuously replenished to the plating liquid in the overflow tank 3. By continuously feeding the liquid to the plating tank 2 and causing the plating liquid in the upper part of the plating tank 2 to overflow, continuous plating work can be performed without stopping the plating equipment. It is possible to replenish the additive while performing this, and by continuously blowing out the plating liquid from the blowing hole 9, good liquid flow and agitation can be achieved.

従つて、本発明に係る梨地状めつき方法によれ
ば、めつき液中で有機エマルジヨンを形成する添
加剤を用いて梨地状めつきを行なう方法におい
て、めつき槽にオーバーフロー層を付設し、前記
めつき槽からめつき液を連続的にオーバーフロー
槽にオーバーフローさせると共に、前記添加剤を
オーバーフロー槽中のめつき液に連続的もしくは
間欠的に補給混合し、この添加剤を補給しためつ
き液をポンプにより吸引してめつき槽内の下部に
配設した吹出しパイプに設けた多数の吹出孔から
吹出させることにより、添加剤をめつき槽中のめ
つき液に補給するようにしたことにより、添加剤
の補給時にめつき作業を停止する必要がなく、補
給を連続的に行ないつつ連続めつきし得るもので
あり、また補給方式も簡便で、その装置化を現行
めつきラインを変更することなく、簡単かつ安価
になし得るものである。
Therefore, according to the satin-like plating method according to the present invention, in the method of performing satin-like plating using an additive that forms an organic emulsion in a plating solution, an overflow layer is attached to the plating tank; The plating solution is continuously overflowed from the plating tank to the overflow tank, and the additive is continuously or intermittently mixed into the plating solution in the overflow tank, and the plating solution is replenished with the additive. By sucking the additive into the plating solution in the plating tank by suctioning it with a pump and blowing it out from a number of blow-off holes provided in a blow-off pipe installed at the bottom of the plating tank, There is no need to stop the plating operation when replenishing additives, and continuous plating can be performed while replenishing continuously.The replenishment method is also simple, and the current plating line can be modified to implement this system. This can be done easily and inexpensively.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的
に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained by showing Examples and Comparative Examples.

実施例、比較例1〜3 下記組成の梨地状ニツケルめつき液を調製し
た。
Examples, Comparative Examples 1 to 3 A satin-like nickel plating solution having the following composition was prepared.

硫酸ニツケル・6水塩 450 g/ 塩化ニツケル・6水塩 35 g/ 硼 酸 30 g/ 光沢剤 サツカリン 2 g/ 〃 ブチンジオール 50 mg/ 添加剤 セチルトリメチルアンモニウムクロリド
80 mg/ 〃 2−エチルヘキシルサルフエイト
50 mg/ PH 4.4 次に、上記組成のニツケルめつき液1000を用
い、10×10cmのスチール板10枚に対し、液温度50
℃、陰極電流密度5A/dm2陽極/陰極面積比2/
1、めつき時間10分のめつき条件で梨地状めつき
を行なつた。この場合、下記に示す種々のめつき
装置をそれぞれ用いてめつきを行ない、その梨地
状めつきの仕上りを評価した。結果を併記する。
なお、評価基準は下記の通りである。
Nickel sulfate hexahydrate 450 g/ Nickel chloride hexahydrate 35 g/ Boric acid 30 g/ Brightening agent Satucalin 2 g/ Butynediol 50 mg/ Additive Cetyltrimethylammonium chloride
80 mg/〃 2-ethylhexyl sulfate
50 mg/ PH 4.4 Next, using the nickel plating liquid 1000 with the above composition, apply liquid temperature 50 to 10 steel plates of 10 x 10 cm.
°C, cathode current density 5A/dm 2 anode/cathode area ratio 2/
1. Satin-like plating was carried out under plating conditions with a plating time of 10 minutes. In this case, plating was performed using various plating devices shown below, and the satin-like plating finish was evaluated. Also include the results.
The evaluation criteria are as follows.

評価基準 〇:均一な梨地状めつき △:若干ムラつき ×:ムラつき 実施例 装置:第1図に示したと同様の装置 めつき仕上り:〇 比較例 1 装置:第1図に示したと同様の装置において、め
つき槽内下部に底面に沿つた吹出しパイプを配
設せず、めつき槽内下部一端側に送液パイプの
他端を開放部を下に向けて配置し、この送液パ
イプの他端開放部よりめつき液を吹出させるよ
うにしたもの。
Evaluation criteria 〇: Uniform satin-like plating △: Slightly uneven ×: Unevenness Example device: Same device as shown in Fig. 1 Plating finish: 〇 Comparative example 1 Device: Same as shown in Fig. 1 In the device, the blowout pipe is not arranged along the bottom of the plating tank, but the other end of the liquid pipe is placed at one end of the lower part of the plating tank with the open part facing downward. The plating liquid is blown out from the open part at the other end.

めつき仕上り:× 比較例 2 装置:第3図に示したように、オーバーフロー槽
が付設されていないめつき槽2を用い、このめ
つき槽2の底壁一端側に送液パイプ8の一端を
連結すると共に、この送液パイプ8の、ポンプ
5下流側に一端が添加剤貯槽21内の添加剤中
に挿入されバルブ22及びポンプ25を順次介
装する添加剤パイプ23の他端を連結し、ポン
プ5によりめつき槽2内のめつき液を吸引して
送液パイプ8内を流通させ、吹出しパイプ10
の下側に多数形成された吹出し孔9より吹出さ
せると共に、バルブ22を調整し、ポンプ25
により添加剤貯槽21内の添加剤を送液パイプ
8中を流通するめつき液に連続的に供給し、こ
のめつき液を吹出しパイプ10の下側に多数配
設された吹出し孔9より吹出させるもの。
Plating finish: × Comparative example 2 Apparatus: As shown in FIG. At the same time, one end of this liquid feeding pipe 8 is connected to the downstream side of the pump 5, and the other end of an additive pipe 23 is inserted into the additive in the additive storage tank 21, and a valve 22 and a pump 25 are successively interposed therein. Then, the plating liquid in the plating tank 2 is sucked by the pump 5 and circulated in the liquid sending pipe 8, and then
The air is blown out from the many blow-off holes 9 formed on the lower side, the valve 22 is adjusted, and the pump 25
The additives in the additive storage tank 21 are continuously supplied to the plating liquid flowing through the liquid sending pipe 8, and this plating liquid is blown out from the blow-off holes 9 arranged in large numbers on the lower side of the blow-off pipe 10. thing.

めつき仕上り:△ 以上の結果より、本発明梨地状めつき方法によ
れば均一な梨地状めつきが得られることが認めら
れた。これに対し、吹出しパイプを用いなかつた
り、或いはオーバーフロー槽を使用せずにめつき
液の循環経路途上において添加剤を補給した場合
はムラが生じ、均一な梨地状めつきが得られない
ものであつた。
Plating finish: △ From the above results, it was confirmed that uniform satin-like plating can be obtained by the satin-like plating method of the present invention. On the other hand, if the additive is replenished during the circulation path of the plating solution without using a blow-off pipe or without using an overflow tank, unevenness will occur and a uniform satin-like plating will not be obtained. It was hot.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明梨地状めつき方法の実施に用い
るめつき装置の一例を示す概略断面正面図、第2
図は同装置の吹出しパイプの断面図、第3図は比
較例として用いたオーバーフロー槽を使用しない
めつき装置を示す概略断面正面図である。 2……めつき槽、3……オーバーフロー槽、5
……ポンプ、9……吹出し孔、10……吹出しパ
イプ。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional front view showing an example of a plating apparatus used for carrying out the satin-like plating method of the present invention;
The figure is a cross-sectional view of the blow-off pipe of the same apparatus, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional front view showing a plating apparatus that does not use an overflow tank and is used as a comparative example. 2...Plating tank, 3...Overflow tank, 5
...Pump, 9...Blowout hole, 10...Blowout pipe.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 めつき液中で有機エマルジヨンを形成する添
加剤を用いて梨地状めつきを行なう方法におい
て、めつき槽にオーバーフロー層を付設し、前記
めつき槽からめつき液を連続的にオーバーフロー
槽にオーバーフローさせると共に、前記添加剤を
オーバーフロー槽中のめつき液に連続的もしくは
間欠的に補給混合し、この添加剤を補給しためつ
き液をポンプにより吸引してめつき槽内の下部に
配設した吹出しパイプに設けた多数の吹出孔から
吹出させることにより、添加剤をめつき槽中のめ
つき液に補給するようにしたことを特徴とする梨
地状めつき方法。
1. In a method of performing satin-like plating using an additive that forms an organic emulsion in a plating solution, an overflow layer is attached to the plating tank, and the plating solution is continuously overflowed from the plating tank to the overflow tank. At the same time, the additive was continuously or intermittently replenished and mixed into the plating solution in the overflow tank, and the plating solution replenished with the additive was sucked by a pump and placed in the lower part of the plating tank. A satin-like plating method characterized in that additives are supplied to a plating solution in a plating tank by blowing them out from a large number of blow-off holes provided in a blow-out pipe.
JP21891482A 1982-12-14 1982-12-14 Satin-like plating method Granted JPS59110789A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0331820U (en) * 1989-08-09 1991-03-28

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JPH0331820U (en) * 1989-08-09 1991-03-28

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