JPS6118577B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6118577B2 JPS6118577B2 JP197678A JP197678A JPS6118577B2 JP S6118577 B2 JPS6118577 B2 JP S6118577B2 JP 197678 A JP197678 A JP 197678A JP 197678 A JP197678 A JP 197678A JP S6118577 B2 JPS6118577 B2 JP S6118577B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- acid
- tert
- tetramethyl
- bis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は合成樹脂用光安定剤に関し、詳しくは
立体障害されている環式アミン化合物とその相剰
作用剤の組み合わせからなる合成樹脂用光安定剤
に関する。
ポリエチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、
ポリ塩化ビニル樹脂等の合成樹脂は紫外線に対し
て敏感であり、その作用により色の悪化、機械的
強度の低下等をきたし、長期の使用に耐え得ない
ことが知られている。
これらの害作用を防止する為に、これまでにベ
ンゾフエノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾ
エート系、ピペリジン系等の化合物が用いられて
きたが、これらの化合物は樹脂に着色を与えるも
のが多く、またその効果も不十分であり、さらに
改良が望まれていた。
これらの化合物の中でもピペリジン系の化合物
は非着色性であり、また紫外線吸収剤としてでは
なく、消光剤として作用するなどの特徴を有して
おり、近年特に注目されている。
しかしながらピペリジン系化合物に代表される
立体障害されている環式アミン化合物は比較的優
れた光安定剤であるが、実用上は未だ不充分なも
のであつた。例えば、ピペリジン系の化合物は添
加量が少ない場合には比較的効果が小さく、ある
程度以上を添加しなければならないことが知られ
ている。しかし、添加量をあまりに増加すると、
樹脂の熱安定性、物性等に悪影響を与えるので好
ましくない。また、ピペリジン系の化合物と、ベ
ンゾフエノール系、ベンゾトリアゾール系などの
紫外線吸収剤と併用することも提案されていた
が、その効果は相加的でしかなかつた。その為、
立体障害されたアミン化合物の効果を増大させる
相剰剤の開発が強く望まれていた。
本発明者はかかる現状に鑑み鋭意検討を重ねた
結果、(a)次の一般式()で示される立体障害され
ている環式アミン化合物の少なくとも一種、及び
(b)分子内に基
The present invention relates to a light stabilizer for synthetic resins, and more particularly to a light stabilizer for synthetic resins comprising a combination of a sterically hindered cyclic amine compound and a co-active agent thereof. polyethylene, polypropylene, ABS resin,
It is known that synthetic resins such as polyvinyl chloride resins are sensitive to ultraviolet rays, and the effects thereof cause deterioration of color, decrease in mechanical strength, etc., and that they cannot withstand long-term use. In order to prevent these harmful effects, compounds such as benzophenone, benzotriazole, benzoate, and piperidine have been used so far, but many of these compounds color the resin, and The effect was also insufficient, and further improvements were desired. Among these compounds, piperidine-based compounds have attracted particular attention in recent years because they are non-coloring and act not as ultraviolet absorbers but as quenchers. However, although sterically hindered cyclic amine compounds such as piperidine compounds are relatively excellent light stabilizers, they are still insufficient for practical use. For example, it is known that piperidine-based compounds have relatively little effect when added in small amounts, and that a certain amount or more must be added. However, if the amount added is increased too much,
This is not preferable because it adversely affects the thermal stability, physical properties, etc. of the resin. It has also been proposed to use piperidine-based compounds in combination with benzophenol-based, benzotriazole-based, and other ultraviolet absorbers, but the effects were only additive. For that reason,
There has been a strong desire to develop a compatibilizing agent that increases the effectiveness of sterically hindered amine compounds. As a result of extensive studies in view of the current situation, the present inventors have found that (a) at least one sterically hindered cyclic amine compound represented by the following general formula ();
(b) a group in the molecule
【式】【formula】
【式】及び/又は[Formula] and/or
【式】を環構造の一部として含有する
単環又は縮合環式複素環化合物の少なくとも一種
の組み合わせが相剰的に作用し、極めて優れた光
安定剤となることを見いだし本発明に到達した。
(式中、Yは水素原子、―O・、アルキル基、
置換アルキル基、アルケニル基、アラルキル基ま
たはアシル基を示す。Aは基The present invention was achieved by discovering that a combination of at least one type of monocyclic or fused heterocyclic compound containing [Formula] as part of the ring structure acts reciprocally and becomes an extremely excellent light stabilizer. . (In the formula, Y is a hydrogen atom, -O., an alkyl group,
Indicates a substituted alkyl group, alkenyl group, aralkyl group or acyl group. A is the base
【式】【formula】
【式】 または【formula】 or
【式】を示 し、 R1は低級アルキル基を示す。Zは―O―または[Formula] is shown, and R 1 represents a lower alkyl group. Z is -O- or
【式】を示し、R2は水素原子または低級ア
ルキル基を示す。nは1〜6を示す。は有機カ
ルボン酸または無機酸素酸より誘導される残基を
示す。また、n=1の時[Formula] is shown, and R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. n represents 1 to 6. represents a residue derived from an organic carboxylic acid or an inorganic oxyacid. Also, when n=1
【式】は基[Formula] is a group
【式】を示して
もよく、R3及びR4は水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基または置換アルキル基を示す。)
以下に上記の本発明の光安定剤について詳述す
る。
本発明において用いられる、上記一般式()で
表わされる立体障害されているアミン化合物とし
ては、多数のものが知られており、例えば以下に
示す特許公報明細書に記載されている化合物を用
いることができる。
特公昭44―26182、同45―35661、同46―
22105、同46―42618、同46―43304、同47―
8539、特開昭47―6962、同48―7035、同48―
65180、同48―65182、同48―72240、同48―
95986、同49―8539、同49―21389、同49―
61235、同49―61236、同49―61237、同49―
61238、同49―64635、同49―72332、同50―
116529、同50―138041、同51―88484、同51―
126385、同51―132242、同52―22578、52―
63183、同52―71476同52―71477、同52―71486、
同52―73886、同52―78876、同52―83377、同52
―89677、同52―112648。
本発明で用いられる前記一般式()で表される
化合物において、アルキル基としてはメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等
があげられ、置換アルキル基としてはクロルエチ
ル、ヒドロキシエチル、エポキシプロピル、シア
ノエチル等があげられ、アラルキル基としてはベ
ンジル、フエニルエチル等があげられ、アルケニ
ル基としてはビニル、アリル等があげられ、アシ
ル基としてはホルミル、アセチル等があげられ
る。低級アルキル基としてはメチル、エチル、プ
ロピル、ブチルがあげられる。
で示される有機カルボン酸の残基としては次
に示されるカルボン酸の残基があげられる。
酢酸、プロピオン酸、酪酸、カプロン酸、カプ
リル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸、オレイン酸、リノレン
酸、リシノレン酸、ヒドロキシ酢酸、アミノ酢
酸、アミノクロトン酸、フエニル酸、フエノキシ
酢酸、3,5―ジ―第5ブチル―4―ヒドロキシ
フエニルプロピオン酸、ラウリルチオプロピオン
酸、安息香酸、トルイル酸、p―第3ブチル安息
香酸、p―ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、p
―クロル安息香酸、p―メトキシ安息香酸、p―
ニトロ安息香酸、3,5―ジ―第3ブチル―4―
ヒドロキシ安息香酸、ニコチン酸、イソニコチン
酸、チオフエン―2―カルボン酸、ピロリドンカ
ルボン酸、ピペリジン4―カルボン酸、オロチン
酸、シユウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸、スペリン酸、セバチン酸、デカ
メチレンジカルボン酸、マレイン酸、イタコン
酸、アセチレンジカルボン酸、ビス(3,5―ジ
―第3ブチル―4―ヒドロキシベンジル)マロン
酸、チオジプロピオン酸、チオジグリコール酸、
メチレンビスチオグリコール酸、イミノジ酢酸、
酒石酸、リンゴ酸、チオリンゴ酸、ジヒドロ酒石
酸、エポキシコハク酸、3,4―ジオキシチオフ
エンジカルボン酸、1,4―ビスカルボキシエチ
ルピペラジン、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフ
タル酸、5―ビシクロ〔2.2.1.〕ヘプテン―2,
3―ジカルボン酸、5―ビシクロ〔2.2.2.〕ヘプ
テン―2,3―ジカルボン酸、プロパントリカル
ボン酸、ブタントリカルボン酸、プテントリカル
ボン酸、ニトリロトリ酢酸、クエン酸、トリスカ
ルボキシエチルイソシアヌレート、トリスカルボ
キシメチルイソシアヌレート、トリメリツト酸、
プタンテトラカルボン酸、エチレンテトラカルボ
ン酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、ピロメリツ
ト酸、1,3―ビス(アミノメチル)シクロヘキ
サン―N,N,N′,N′―テトラ酢酸。
で示される無機酸素酸の残基としては次の無
機酸素酸の残基があげられる。
リン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン
酸、置換ホスホン酸、置換亜ホスホン酸、ケイ
酸、ジ有機ケイ酸、ホウ酸、炭酸等があげられ
る。
また上記有機カルボン酸及び無機酸素酸の酸基
の一部が一価または多価のフエノール類あるいは
アルコール類のエステルとなつてもよい。
そして、多価フエノールまたは多価アルコール
のエステルとなつている場合には、次の式で示さ
れるように二つもしくはそれ以上の有機カルボン
酸または無機酸素酸が多価フエノールまたは多価
アルコールによつて連結されていてもよい。[Formula] may be represented, and R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or a substituted alkyl group. ) The above light stabilizer of the present invention will be explained in detail below. Many sterically hindered amine compounds represented by the above general formula () used in the present invention are known; for example, compounds described in the following patent publications can be used. I can do it. Special Publications Showa 44-26182, Showa 45-35661, Showa 46-
22105, 46-42618, 46-43304, 47-
8539, JP-A No. 47-6962, No. 48-7035, No. 48-
65180, 48-65182, 48-72240, 48-
95986, 49-8539, 49-21389, 49-
61235, 49-61236, 49-61237, 49-
61238, 49-64635, 49-72332, 50-
116529, 50-138041, 51-88484, 51-
126385, 51-132242, 52-22578, 52-
63183, 52-71476 52-71477, 52-71486,
52-73886, 52-78876, 52-83377, 52
-89677, 52-112648. In the compound represented by the general formula () used in the present invention, examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, etc., and examples of the substituted alkyl group include chloroethyl, hydroxyethyl, epoxypropyl, Examples of the aralkyl group include benzyl and phenylethyl; examples of the alkenyl group include vinyl and allyl; and examples of the acyl group include formyl and acetyl. Examples of lower alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, and butyl. Examples of the organic carboxylic acid residue represented by are the following carboxylic acid residues. Acetic acid, propionic acid, butyric acid, caproic acid, caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, stearic acid, behenic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, oleic acid, linolenic acid, ricinolenic acid, hydroxyacetic acid, amino acid Acetic acid, aminocrotonic acid, phenyl acid, phenoxyacetic acid, 3,5-di-5-butyl-4-hydroxyphenylpropionic acid, laurylthiopropionic acid, benzoic acid, toluic acid, p-tert-butylbenzoic acid, p -Hydroxybenzoic acid, salicylic acid, p
-Chlorbenzoic acid, p-methoxybenzoic acid, p-
Nitrobenzoic acid, 3,5-di-tert-butyl-4-
Hydroxybenzoic acid, nicotinic acid, isonicotinic acid, thiophene-2-carboxylic acid, pyrrolidonecarboxylic acid, piperidine 4-carboxylic acid, orotic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, speric acid, sebatine Acid, decamethylene dicarboxylic acid, maleic acid, itaconic acid, acetylene dicarboxylic acid, bis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)malonic acid, thiodipropionic acid, thiodiglycolic acid,
methylenebisthioglycolic acid, iminodiacetic acid,
Tartaric acid, malic acid, thiomalic acid, dihydrotartaric acid, epoxysuccinic acid, 3,4-dioxythiophenedicarboxylic acid, 1,4-biscarboxyethylpiperazine, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydro Phthalic acid, 5-bicyclo[2.2.1.]heptene-2,
3-dicarboxylic acid, 5-bicyclo[2.2.2.]heptene-2,3-dicarboxylic acid, propanetricarboxylic acid, butanetricarboxylic acid, butenetricarboxylic acid, nitrilotriacetic acid, citric acid, triscarboxyethyl isocyanurate, triscarboxymethyl Isocyanurate, trimellitic acid,
Butanetetracarboxylic acid, ethylenetetracarboxylic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, pyromellitic acid, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane-N,N,N',N'-tetraacetic acid. Examples of the inorganic oxyacid residue represented by include the following inorganic oxyacid residues. Examples include phosphoric acid, phosphorous acid, phosphonic acid, phosphonic acid, substituted phosphonic acid, substituted phosphonic acid, silicic acid, diorganosilicic acid, boric acid, and carbonic acid. Further, some of the acid groups of the organic carboxylic acids and inorganic oxygen acids may be esters of monovalent or polyvalent phenols or alcohols. When the ester is an ester of a polyhydric phenol or a polyhydric alcohol, two or more organic carboxylic acids or inorganic oxygen acids are combined with the polyhydric phenol or polyhydric alcohol as shown in the following formula. They may be connected together.
(1は〜10の整数、mは0〜2の整数、は多
価フエノールまたは多価アルコールに残基を示
す。)
上記で表わされる多価フエノールまたは多価
アルコールの残基としては例えば次の多価フエノ
ールまたは多価アルコールの残基があげられる。
多価フエノールとしては例えば、ハイドロキノ
ン、4,4′―イソプロピリデンジフエノール(ビ
スフエノールA)、4,4′―シクロヘキシリデン
ジフエノール、4,4′―メチレンビスフエノー
ル、4,4′―スルホビスフエノール、2,5―ジ
―第3プチルハイドロキノン、2,3,6―トリ
メチルハイドロキノン、2―メチルレゾルシン、
2,2′―メチレンビス(4―メチル―6―第3ブ
チルフエノール)、2,2′―メチレンビス(4―
エチル―6―第3ブチルフエノール)、2,2′―
メチレンビス〔4―メチル―6―(α―メチルシ
クロヘキシル)フエノール〕、2,2′―n―ブチ
リデンビス(4,6―ジ―メチルフエノール)、
ビス―1,1―(2′―ヒドロキシ―3′,5′―ジ―
メチルフエニル)―3,5,5―トリメチルヘキ
サン、2,2′―シクロヘキシリデンビス(4―エ
チル―6―第3ブチルフエノール)、2,2′―イ
ソプロピルベンジリデン―ビス(4―エチル―6
―第3ブチルフエノール)、2,2′―チオビス
(4―第3ブチル―6―メチルフエノール)、2,
2′―チオビス(4―メチル―6―第3ブチルフエ
ノール)、2,2′―チオビス(4,6―第3ブチ
ルフエノール)、4,4′―メチレンビス(2―メ
チル―6―第3ブチルフエノール)、4,4′―イ
ソプロピリデンス(2―フエニルフエノール)、
4,4′―n―プチリデンビス(3―メチル―6―
第3ブチルフエノール)、4,4′―シクロヘキシ
リデンビス(2―第3ブチルフエノール)、4,
4′―シクロヘキシリデンビス(2―シクロヘキシ
ルフエノール)、4,4′―ベンジリデンビス(2
―第3ブチル―5―メチルフエノール)、4,
4′―オキソビス(3―メチル―6―イソプロピル
フエノール)、4,4′―チオビス(2―メチル―
6―第3ブチルフエノール)、4,4′―チオビス
(3―メチル―6―第3ブチルフエノール)、4,
4′―スルホビス(3―メチル―6―第3ブチルフ
エノール)、ビス(2―メチル―4―ヒドロキシ
―5―第3プチルベンジル)スルフイド、1,
1,3―トリス(2′―メチル―4′―ヒドロキシ―
5′―第3ブチルフエニル)ブタン、2,2―ビス
(3′―第3ブチル―4′―ヒドロキシフエニル)―
4―(3″,5″,―ジ―第3ブチル―4″―ヒドロキ
シフエニル)ブタン、2,2―ビス―(2′―メチ
ル―5′―第3ブチル―4′―ヒドロキシフエニル)
―4―(3″,5″―ジ―第3ブチル―4′―ヒドロキ
シフエニル)ブタンなどがあげられる。
多価アルコールとしては例えば、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、1,2―プロパンジオール、1,3―
プロパンジオール、1,2―ブタンジオール、
1,3―ブタンジオール、1,4―ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレング
リコール、1,6―ヘキサンジオール、1,10―
デカンジオール、1,4―シクロヘキサンジオー
ル、1,4―ジクロヘキサンジメタノール、1,
4―フエニルジメタノール、水添ビスフエノール
A、グリセリン、トリメチロールメタン、トリメ
チロールエタン、トリス(2―ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートなどがあげられる。
また一価のフエノール類としては、フエノー
ル、クレゾール、4―第3ブチルフエノール、オ
クチルフエノール、ノニルフエノール、2,4―
ジ―第3ブチルフエノール、2―シクロヘキシル
フエノールなどがあげられる。
一価のアルコール類としては、メタノール、エ
タノール、オクタノール、2―エチルヘキサノー
ル、シクロヘキサノール、デカノール、ラウリル
アルコール、テトラデカノール、ヘキサデカノー
ル、オクタデカノール、メトキシエタノール、エ
トキシエタノール、ブトキシエタノール、フエノ
キシエタノール、エトキシエトキシエタノール、
ブトキシエトキシエタノールなどがあげられる。
本発明において用いられる前記式()で示され
る化合物としては例えば次に示すようなものがあ
げられる。
―1 4―ベンゾイルオキシ―2,2,6,6
―テトラメチルピペリジン、
―2 4―サリチロイルオキシ―2,2,6.6―
テトラメチルピペリジン、
―3 4―カプロイルオキシ―2,2,6,6
―テトラメチルピペリジン、
―4 4―ステアロイルオキシ―2,2,6,
6―テトラメチルピペリジン、
―5 4―(β―3′,5′―ジ―第3ブチル―4′―
オキシフエニル―プロピオニルオキシ)―2,
2,6,6―テトラメチルピペリジン、
―6 4―(3′―5′―ジ―第3ブチル―4′―オキ
シベンゾイルオキシ)―2,2,6,6―テト
ラメチルピペリジン、
―7 4―ベンゾイルオキシ―1,2,2,
6,6―ペンタメチルピペリジン、
―8 4―サリチロイルオキシ―1,2,2,
6,6―ペンタメチルピペリジン、
―9 4―ステアロイルオキシ―1,2,2,
6,6―ペンタメチルピペリジン、
―10 4―第3ブチルベンゾイルオキシ―1,
2,2,6,6―ペンタメチルピペリジン、
―11 ビス―(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)―セパート、
―12 ビス―(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)―スペレート、
―13 ビス―(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)―ドデカンジオエート、
―14 ビス―(1,2,2,6,6―テトラメ
チル―4―ピペリジル)―セパセート、
―15 4―カプリロイルオキシ―1―プロピル
―2,2,6,6―テトラメチルピペリジン、
―16 4―カプリロイルオキシ―1―アリル―
2,2,6,6―テトラメチルピペリジン、
―17 4―ベンゾイルアミド―2,2,6,6
―テトラメチルピペリジン、
―18 4―アクリロイルアミド―2,2,6,
6―テトラメチルピペリジン、
―19 4―ステアロイルアミド―2,2,6,
6―テトラメチルピペリジン、
―20 N,N′―ビス(2,2,6,6―テト
ラメチル―4―ピペリジル)―オキサルアミ
ド、
―21 3―n―ブチル―7,7,9,9―テト
ラメチル―1,3,8―トリアザスピロ
〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―22 3―n―ブチル―8―メチル―7,7,
9,9―テトラメチル―1,3,8―トリアザ
スピロ〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―23 3―n―オクチル―7,7,9,9―テ
トラメチル―1,3,8―トリアザスピロ
〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―24 3―n―オクチル―8―メチル―7,
7,9,9―テトラメチル―1,3,8―トリ
アザスピロ〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―25 3―アリル―7,7,9,9―テトラメ
チル―1,3,8―トリアザスピロ〔4.5〕デ
カン―2,4―ジオン、
―26 テトラ(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)―1,3―ビス(アミノメ
チル)シクロヘキサンテトラアセテート、
―27 3―グリシジル―7,7,9,9―テト
ラメチル―1,3,8―トリアザスビロ
〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―28 3―グリシジル―8―メチル―7,7,
9,9―テトラメチル―1,3,8―トリアザ
スピロ〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―29 3―オクタデシル―7,7,9,9―テ
トラメチル―1,3,8―トリアザスピロ
〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―30 3―シクロヘキシル―7,7,9,9―
テトラメチル―1,3,8―トリアザスピロ
〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―31 1,3,8―トリメチル―7,7,9,
9―テトラメチル―1,3,8―トリアザスピ
ロ〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―32 8―メチル―7,7,9,9―テトラメ
チル―1,3,8―トリアザスピロ〔4.5〕デ
カン―2,4―ジオン、
―33 3―n―オクチル―8―ベンジル―7,
7,9,9―テトラメチル―1,3,8―トリ
サザスピロ〔4.5〕デカン―2,4―ジオン、
―34 2,4,6―トリス―(2,2,6,6
―テトラメチル―4―ピペリジルオキシ)―s
―トリアジン、
―35 2,4,6―トリス―(1,2,2,
6,6―ペンタメチル―4―ピペリジルオキ
シ)―s―トリアジン、
―36 2,4,6―トリス―(2,2,6,6
―テトラメチル―4―ピペリジルアミノ)―s
―トリアジン、
―43 1,2,2,6,6―ペンタメチル―4
―ラウロイルオキシ―ピペリジン、
―38 ビス―(2,2,6,6―テトラメチル
ピペリジニル―4)アジボイル―ジヒドラゾ
ン、
―39 2,2,6,6―テトラメチルピペリジ
ニル―4―カプリロイル―ヒドラゾン、
―40 2,2,6,6―テトラメチル―4―ベ
ンゾイルピペリジン―1―オキシル、
―41 ビス(2,2,6,6―テトラメチル―
4―ピペリジニル―1―オキシル)―セバセー
ト、
―42 トリス(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)ニトリロトリアセテート、
―43 トリス(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)ブタントリカルボキシレー
ト、
―44 テトラ(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)ブタンテトラカルボキシレ
ート、
―45 トリス(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)トリメリテート、
―46 テトラ(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)ビロメリテート、
―47 ビス(2,2,6,6―テトラメチル―
4―ピペリジル)テレフタレート、
―48 ビス(9―アザ―8,8,10,10―テト
ラメチル―3―エチル―1,5―ジオキサスピ
ロ〔5.5〕―3―ウンデシルメチル)メチルイ
ミノジアセテート、
―49 トリス(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)シトレート、
―50 トリス(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)ホスフアイト、
―51 ビス(2,4―ジ―第3ブチルフエニ
ル)―2,2,6,6―テトラメチル―4―ピ
ペリジルホスフアイト、
―52 ビス(2,2,6,6―テトラメチル―
4―ピペリジル)・ペンタエリスリト―ル・ジ
ホスフアイト、
―53 ビス(9―アザ―8,8,10,10―テト
ラメチル―3―エチル―1,5―ジオキサスピ
ロ〔5.5〕―3―ウンデシルメチル)・ペンタエ
リスリトール・ジホスフアイト、
―54 テトラ(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)・ビスフエノールA・ジホ
スフアイト、
―55 テトラ(9―アザ―8,8,10,10―テ
トラメチル―3―メチル―1,5―ジオキサス
ピロ〔5.5〕―3―ウンデシルメチル)・4,
4′―プチリデンビス(2―第3ブチル―5―メ
チルフエノール)・ジホスフアイト、
―56 テトラ(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)・1,6―ヘキサンジオー
ルジホスフアイト、
―57 ヘキサ(9―アザ―8,8,10,10―テ
トラメチル―1,5―ジオキサスピロ〔5.5〕
―3―ウンデシルメチル)・1,1,3―トリ
ス(2―メチル―4―ヒドロキシ―5―第3ブ
チルフエニル)ブタン・トリホスフアイト、
―58 ヘキサ(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)・トリス(2―ヒドロキシ
エチル)イソシアヌレート・トリホスフアイ
ト、
―59 テトラ(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)・ネオペンチルグリコー
ル・ジホスフアイト、
―60 テトラ(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)・水添ビスフエノールA・
ジホスフアイト、
―61 テトラ(9―アザ―8,8,10,10―テ
トラメチル―3―エチル―1,5―ジオキサス
ピロ〔5.5〕―3―ウンデシルメチル)・水添ビ
スフエノールA・ジホスフアイト、
―62 トリス(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)ホスフエート、
―63 ビス(9―アザ―8,8,10,10―テト
ラメチル―3―エチル―1,5―ジオキサスピ
ロ〔5.5〕―3―ウンデシルメチル)・ペンタエ
リスリトール・ジホスフエート、
―64 3,5―ジ―第3ブチル―4―ヒドロキ
シペンジル―ビス(2,2,6,6―テトラメ
チル―4―ピペリジル)ホスホネート、
―65 フエニル―ビス(2,2,6,6―テト
ラメチル―4―ピペリジル)ホスフイネート、
―66 トリス(2,2,6,6―テトラメチル
―4―ピペリジル)ボレート、
―67 ビス(2,2,6,6―テトラメチル―
4―ピペリジル)ジメチルシリケート、
―68 ビス(9―アザ―8,8,10,10―テト
ラメチル―3―エチル―1,5―ジオキサスピ
ロ〔5.5〕―3―ウンデシルメチル)カーボネ
ート、
―69 ビス(2,2,6,6―テトラメチル―
4―ピペリジル)カーボネート、
―70 ビス(2,2,6,6―テトラメチル―
4―ピペリジル)・4,4′―ブチリデンビス
(2―第3ブチル―5―メチルフエノール)・ジ
カーボネート、
―71 ビス(9―アザ―8,8,10,10―テト
ラメチル―3―エチル―1,5―ジオキサスピ
ロ〔5.5〕―3―ウンデシルメチル)・水添ビス
フエノールA・ジカーボネート、
―72 ビス(9―アザ―8,8,10,10―テト
ラメチル―3―メチル―1,5―ジオキサスピ
ロ〔5.5〕―3―ウンデシルメチル)・エチレン
グリコール・ジカーボネート、
本発明において前記化合物()の相剰剤として
用いられる成分である、分子内に基 (1 is an integer of ~10, m is an integer of 0 to 2, and indicates a residue in a polyhydric phenol or polyhydric alcohol.) Examples of the residues of the polyhydric phenol or polyhydric alcohol represented above include the following: Examples include residues of polyhydric phenols or polyhydric alcohols. Examples of polyhydric phenols include hydroquinone, 4,4'-isopropylidene diphenol (bisphenol A), 4,4'-cyclohexylidene diphenol, 4,4'-methylenebisphenol, 4,4'-sulfobis Phenol, 2,5-di-tertiary butylhydroquinone, 2,3,6-trimethylhydroquinone, 2-methylresorcin,
2,2'-methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis(4-
ethyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-
Methylenebis[4-methyl-6-(α-methylcyclohexyl)phenol], 2,2′-n-butylidenebis(4,6-di-methylphenol),
Bis-1,1-(2'-hydroxy-3',5'-di-
methylphenyl)-3,5,5-trimethylhexane, 2,2'-cyclohexylidenebis(4-ethyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-isopropylbenzylidene-bis(4-ethyl-6
-tert-butylphenol), 2,2'-thiobis(4-tert-butyl-6-methylphenol), 2,
2'-thiobis(4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-thiobis(4,6-tert-butylphenol), 4,4'-methylenebis(2-methyl-6-tert-butylphenol) phenol), 4,4'-isopropylidene (2-phenylphenol),
4,4′-n-ptylidene bis(3-methyl-6-
tertiary butylphenol), 4,4'-cyclohexylidene bis(2-tertiary butylphenol), 4,
4'-cyclohexylidene bis (2-cyclohexylphenol), 4,4'-benzylidene bis (2
-tert-butyl-5-methylphenol), 4,
4'-oxobis(3-methyl-6-isopropylphenol), 4,4'-thiobis(2-methyl-
6-tert-butylphenol), 4,4'-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,
4'-sulfobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), bis(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylbenzyl) sulfide, 1,
1,3-tris(2'-methyl-4'-hydroxy-
5'-tert-butylphenyl)butane, 2,2-bis(3'-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl)-
4-(3″,5″,-di-tert-butyl-4″-hydroxyphenyl)butane, 2,2-bis-(2′-methyl-5′-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl) )
Examples include -4-(3″,5″-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl)butane. Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-
Propanediol, 1,2-butanediol,
1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, thiodiethylene glycol, 1,6-hexanediol, 1,10-
Decanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-diclohexanedimethanol, 1,
Examples include 4-phenyldimethanol, hydrogenated bisphenol A, glycerin, trimethylolmethane, trimethylolethane, tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate, and the like. In addition, monovalent phenols include phenol, cresol, 4-tert-butylphenol, octylphenol, nonylphenol, 2,4-
Examples include di-tert-butylphenol and 2-cyclohexylphenol. Monohydric alcohols include methanol, ethanol, octanol, 2-ethylhexanol, cyclohexanol, decanol, lauryl alcohol, tetradecanol, hexadecanol, octadecanol, methoxyethanol, ethoxyethanol, butoxyethanol, and phenolic alcohol. diethanol, ethoxyethoxyethanol,
Examples include butoxyethoxyethanol. Examples of the compound represented by the formula () used in the present invention include those shown below. -1 4-benzoyloxy-2,2,6,6
-tetramethylpiperidine, -2 4-salicyloyloxy-2,2,6.6-
Tetramethylpiperidine, -3 4-caproyloxy-2,2,6,6
-tetramethylpiperidine, -4 4-stearoyloxy-2,2,6,
6-tetramethylpiperidine, -5 4-(β-3',5'-di-tert-butyl-4'-
Oxyphenyl-propionyloxy)-2,
2,6,6-tetramethylpiperidine, -6 4-(3'-5'-di-tert-butyl-4'-oxybenzoyloxy)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, -7 4 -benzoyloxy-1,2,2,
6,6-pentamethylpiperidine, -8 4-salicyloyloxy-1,2,2,
6,6-pentamethylpiperidine, -9 4-stearoyloxy-1,2,2,
6,6-pentamethylpiperidine, -10 4-tert-butylbenzoyloxy-1,
2,2,6,6-pentamethylpiperidine, -11 bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-separt, -12 bis-(2,2,6,6-tetramethyl -4-piperidyl)-sperate, -13 bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-dodecanedioate, -14 bis-(1,2,2,6,6-tetramethyl -4-piperidyl)-sepacate, -15 4-capryloyloxy-1-propyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, -16 4-capryloyloxy-1-allyl-
2,2,6,6-tetramethylpiperidine, -17 4-benzoylamide-2,2,6,6
-tetramethylpiperidine, -18 4-acryloylamide-2,2,6,
6-tetramethylpiperidine, -19 4-stearoylamide-2,2,6,
6-tetramethylpiperidine, -20 N,N'-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-oxalamide, -21 3-n-butyl-7,7,9,9-tetra Methyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione, -22 3-n-butyl-8-methyl-7,7,
9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione, -23 3-n-octyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8- triazaspiro [4.5] decane-2,4-dione, -24 3-n-octyl-8-methyl-7,
7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione, -25 3-allyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8- triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione, -26 tetra(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,3-bis(aminomethyl)cyclohexanetetraacetate, -27 3-glycidyl -7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazasubiro[4.5]decane-2,4-dione, -28 3-glycidyl-8-methyl-7,7,
9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione, -29 3-octadecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[ 4.5] Decane-2,4-dione, -30 3-cyclohexyl-7,7,9,9-
Tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione, -31 1,3,8-trimethyl-7,7,9,
9-Tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4.5] Decane-2,4-dione, -32 8-Methyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4.5] Decane-2,4-dione, -33 3-n-octyl-8-benzyl-7,
7,9,9-tetramethyl-1,3,8-trisazaspiro[4.5]decane-2,4-dione, -34 2,4,6-tris-(2,2,6,6
-tetramethyl-4-piperidyloxy)-s
-triazine, -35 2,4,6-tris-(1,2,2,
6,6-pentamethyl-4-piperidyloxy)-s-triazine, -36 2,4,6-tris-(2,2,6,6
-tetramethyl-4-piperidylamino)-s
-triazine, -43 1,2,2,6,6-pentamethyl-4
-Lauroyloxy-piperidine, -38 Bis-(2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl-4)aziboyl-dihydrazone, -39 2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl-4-capryloyl -Hydrazone, -40 2,2,6,6-tetramethyl-4-benzoylpiperidine-1-oxyl, -41 Bis(2,2,6,6-tetramethyl-
4-Piperidinyl-1-oxyl)-sebacate, -42 Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)nitrilotriacetate, -43 Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4- piperidyl)butanetricarboxylate, -44 Tetra(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)butanetetracarboxylate, -45 Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) trimellitate, -46 Tetra(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) Viromellitate, -47 Bis(2,2,6,6-tetramethyl-
4-piperidyl) terephthalate, -48 bis(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro[5.5]-3-undecylmethyl)methyliminodiacetate, - 49 Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) citrate, -50 Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) phosphite, -51 Bis(2,4-diperidyl) -tert-butylphenyl)-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylphosphite, -52 bis(2,2,6,6-tetramethyl-
4-piperidyl) pentaerythritol diphosphite, -53 bis(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro[5.5]-3-undecylmethyl ), pentaerythritol diphosphite, -54 tetra(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl), bisphenol A diphosphite, -55 tetra(9-aza-8,8,10,10-tetra Methyl-3-methyl-1,5-dioxaspiro[5.5]-3-undecylmethyl)・4,
4'-Ptylidenebis(2-tert-butyl-5-methylphenol) diphosphite, -56 tetra(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)/1,6-hexanediol diphosphite, - 57 Hexa(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-1,5-dioxaspiro [5.5]
-3-undecylmethyl)・1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane triphosphite, -58 hexa(2,2,6,6-tetramethyl- 4-piperidyl)/tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate/triphosphite, -59 Tetra(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)/Neopentyl glycol diphosphite, -60 Tetra(2, 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)・Hydrogenated bisphenol A・
Diphosphite, -61 Tetra(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro[5.5]-3-undecylmethyl), hydrogenated bisphenol A, diphosphite, - 62 Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)phosphate, -63 Bis(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro[5.5 ]-3-undecylmethyl) pentaerythritol diphosphate, -64 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxypenzyl-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)phosphonate , -65 phenyl-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)phosphinate, -66 tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)borate, -67 bis(2 ,2,6,6-tetramethyl-
4-piperidyl)dimethylsilicate, -68 bis(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro[5.5]-3-undecylmethyl)carbonate, -69 bis (2,2,6,6-tetramethyl-
4-piperidyl) carbonate, -70 bis(2,2,6,6-tetramethyl-
4-piperidyl)・4,4′-butylidenebis(2-tert-butyl-5-methylphenol)・dicarbonate, 71 bis(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl- 1,5-dioxaspiro[5.5]-3-undecylmethyl), hydrogenated bisphenol A, dicarbonate, -72 bis(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-methyl-1, 5-Dioxaspiro[5.5]-3-undecylmethyl) ethylene glycol dicarbonate, which is a component used as a compensating agent for the above compound () in the present invention, contains groups in the molecule.
【式】及び/又 は[Formula] and/or teeth
【式】を環構造の一部として含有す
る単環又は縮合環式化合物についてさらに詳しく
説明する。
これらの化合物の基本骨格としては例えば次に
示すようなものがあげられる。A monocyclic or fused ring compound containing [Formula] as part of the ring structure will be explained in more detail. Examples of the basic skeletons of these compounds include those shown below.
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】
そして、これらの化合物は、基本骨格上に各種
の置換基を有していてもよい。それらの置換基と
しては例えば、アルキル基、アリール基、アラル
キル基、アラリル基、アルケニル基、水酸基、ハ
ロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、カルボニル
基、アシルアミノ基等があげられる。
これらの化合物(相剰剤)の具体例としては例
えば次に示すようなものがあげられる。[Formula] These compounds may have various substituents on the basic skeleton. Examples of these substituents include alkyl groups, aryl groups, aralkyl groups, aralyl groups, alkenyl groups, hydroxyl groups, halogen atoms, amino groups, nitro groups, carbonyl groups, and acylamino groups. Specific examples of these compounds (compounding agents) include those shown below.
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】 【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】
本発明の光安定剤は、安定化されるべき合成樹
脂100重量部に対して0.001〜5重量部、より好ま
しくは0.01〜3重量部が添加される。添加される
立体障害されている環式アミンと相剰剤の比率は
1:100〜100:1、好ましくは1:10〜20:1で
ある。
本発明によつて安定化される合成樹脂として
は、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リブデン、ポリ―3―メチルブテン、などのα―
オレフイン重合体またはエチレン―酢酸ビニル共
重合体、エチレン―プロピレン共重合体などのポ
リオレフインおよびこれらの共重合体、ポリ塩化
ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフツ素化ビニリデン、臭素
化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル―酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル―エチレン共重合体、
塩化ビニル―プロピレン共重合体、塩化ビニル―
スチレン共重合体、塩化ビニル―イソブチレン共
重合体、塩化ビニル―塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル―スチレン―無水マレイン酸三元共重
合体、塩化ビニル―スチレン―アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル―ブタジエン共重合体、塩
化ビニル―イソブレン共重合体、塩化ビニル―塩
素化プロピレン共重合体、塩化ビニル―塩化ビニ
リデン―酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル―
アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル―マレ
イン酸エステル共重合体、塩化ビニル―メタクリ
ル酸エステル共重合体、塩化ビニル―アクリロニ
トリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニルなど
の含ハロゲン合成樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、アクリル樹脂、スチレンと他の単量体
(例えば無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロ
ニトリルなど)との共重合体、アクリロニトリル
―ブタジエン―スチレン共重合体、アクリル酸エ
ステル―ブタジエン―スチレン共重合体、メタク
リル酸エステル―ブタジエン―スチレン共重合
体、ポリメチルメタクリレートなどのメタクリレ
ート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホ
ルマール、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエス
テル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセ
タール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、あるいは
フエノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコー
ン樹脂などを挙げることができる。更に、イソプ
レンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル―
ブタジエン共重合ゴム、スチレン―ブタジエン共
重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂のブレンド
品であつてもよい。
また、過酸化物あるいは放射線等によつて架橋
させた架橋ポリエチレン等の架橋合成樹脂及び発
泡剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発
泡合成樹脂も包含される。
本発明の光安定剤に、さらにフエノール系の抗
酸化剤を併用することによつて酸化安定性をより
改善することができる。フエノール系抗酸化剤と
してはたとえば、2,6―ジ―第3ブチル―p―
クレゾール、ステアリル―(3,5―ジ―メチル
―4―ヒドロキシベンジル)チオグリコーレー
ト、ステアリル―β―(4―ヒドロキシ―3,5
―ジ―第3ブチルフエニル)プロピオネート、ジ
ステアリル(4―ヒドロキシ―3―メチル―5―
第3ブチル)ベンジルマロネート、2,2′―メチ
レンビス(4―メチル―6―第3ブチルフエノー
ル)、4,4′―メチレンビス(2,6―ジ―第3
ブチルフエノール)、2,2′―メチレンビス〔6
―(1―メチルシクロヘキシル)p―クレゾー
ル〕、ビス〔3,3―ビス(4―ヒドロキシ―3
―第3ブチルフエニル)プチリツクアシド〕グリ
コールエステル、4,4′―ブチリデンビス(6―
第3ブチル―m―クレゾール)、1,1,3―ト
リス(2―メチル―4―ヒドロキシ―5―第3ブ
チルフエニル)ブタン、1,3,5―トリス
(3,5―ジ―第3ブチル―4―ヒドロキシベン
ジル)―2,4,6―トリメチルベンゼン、3,
9―ビス―〔1,1―ジメチル―2―(3,5―
ジ―第3ブチル―4―ヒドロキシフエニル)エチ
ル〕―2,4,8,10―テトラオキサスピロ
〔5.5〕ウンデカン、テトラキス〔メチレン―3―
(3,5―ジ―第3ブチル―4―ヒドロキシフエ
ニル)プロピオネート〕メタン、1,3,5―ト
リス(3,5―ジ―第3ブチル―4―ヒドロキシ
ベンジル)イソシアヌレート、1,3,5―トリ
ス〔(3,5―ジ―第3ブチル―4―ヒドロキシ
フエニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、2―オクチルチオ―4,6―ジ(4―
ヒドロキシ―3,5―ジ―第3ブチル)フエノキ
シ―1,3,5―トリアジン、4,4′―チオビス
(6―第3ブチル―m―クレゾール)などがあげ
られる。
本発明の安定剤に硫黄系抗酸化剤を併用するこ
ともできる。硫黄系抗酸化剤としては、たとえ
ば、ジステアリルチオジプロピオネート、ジラウ
リルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトー
ルテトララウリルチオプロピオネートなどがあげ
られる。
本発明の安定剤に、さらにホスフアイト系の化
合物を併用することもできる。このホスフアイト
系の化合物としては例えば、トリス(2,4―ジ
―第3ブチルフエニル)ホスフアイト、ビス
(2,4―ジ―第3ブチルフエニル)ペンタエリ
スリトールジホスフアイト、トリオクチルホスフ
アイト、トリラウリルホスフアイト、トリデシル
ホスフアイト、オクチル―ジフエニルホスフアイ
ト、トリフエニルホスフアイト、トリス(ブトキ
シエチル)ホスフアイト、トリス(ノニルフエニ
ル)ホスフアイト、ジステアリルペンタエリスリ
トールジホスフアイト、テトラ(トリデシル)―
1,1,3―トリス(2―メチル―5―第3ブチ
ル―4―ヒドロキシフエニル)ブタンジホスフア
イト、テトラ(C12〜15混合アルキル)―4,
4′―イソプロピリデンジフエニルジホスフアイ
ト、テトラ(トリデシル)―4,4′―ブチリデン
ビス(3―メチル―6―第3ブチルフエノール)
ジホスフアイト、トリス(3,5―ジ―第3ブチ
ル―4―ヒドロキシフエニル)ホスフアイト、ト
リス(モノ・ジ混合ノニルフエニル)ホスフアイ
ト、水素化―4,4′―イソプロピリデンジフエノ
ールポリホスフアイト、ビス(オクチルフエニ
ル)・ビス〔4,4′―ブチリデンビス(3―メチ
ル―6―第3ブチルフエノール)〕・1,6―ヘキ
サンジオールジホスフアイト、フエニル・4,
4′―イソプロピリデンビス(2―第3ブチルフエ
ノール)・ジ(ノニルフエニル)ホスフアイトな
どがあげられる。
本発明の安定剤にさらに紫外線吸収剤を併用す
ることによつてその効果を増強することができ
る。これらの紫外線吸収剤としてはたとえば、2
―ヒドロキシ―4―メトキシベンゾフエニン、2
―ヒドロキシ―4―n―オクトキシベンゾフエノ
ン、2,2′―ジ―ヒドロキシ―4―メトキシベン
ゾフエノン、2,4―ジヒドロキシベンゾフエノ
ン等のヒドロキシベンゾフエノン類、2―(2′―
ヒドロキシ―3′―t―ブチル―5′―メチルフエニ
ル)―5―クロロベンゾトリアゾール、2―
(2′―ヒドロキシ―3′,5′―ジ―t―ブチルフエニ
ル)―5―クロロベンゾトリアゾール、2―
(2′―ヒドロキシ―5′―メチルフエニル)ベンゾ
トリアゾール、2―(2′―ヒドロキシ―3′,5′―
ジ―t―アミルフエニル)ベンゾトリアゾール等
のベンゾトリアゾール類、フエニルサリシレー
ト、p―t―ブチルフエニルサリシレート、2,
4―ジ―t―ブチルフエニル―3,5,ジ―t―
ブチル―4―ヒドロキシペンゾエート類、2,
2′―チオビス(4―t―オクチルフエノール)Ni
塩、〔2,2′―チオビス(4―t―オクチルフエ
ノラート)〕―n―ブチルアミンNi塩、(3,5
―ジ―t―ブチル―4―ヒドロキシベンジル)ホ
スホン酸モノエチルエステルNi塩等のニツケル
化合物類及び置換アクリロニトリル類があげられ
る。
その他必要に応じて、本発明の安定剤は、重合
属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発
泡剤、帯電防止剤、滑剤、加工助剤等と併用する
ことができる。
以下、実施例をもつて本発明をさらに詳しく説
明するが、これらはあくまでも例示の目的で示す
ものであつて本発明の範囲を限定するものと解さ
れるべきではない。
実施例 1
次の配合物をミキサーで5分間混合したあと、
押し出し機でコンパウンドを作成した(シリンダ
ー温度230℃及び240℃、ヘツドダイス温度250
℃、回転数20r.p.m)。
このコンパウンドを用いて95×40×1mmの試験
片を射出成型機で作成した(シリンダー温度240
℃、ノズル温度250℃、射出圧475Kg/cm2)。得られ
た試片を用いてウエザオメーターによる光安定性
を測定した。その結果を表―1に示す。
配 合
ポリプロピレン樹脂(profax 6501 ハーキユ
レス社製) 100 重量部
ジラウリルチオジプロピオネート 0.3
テトラキス〔メチレン―3―(3,5―ジ―第
3ブチル―4―ヒドロキシフエニル)プロピオ
ネート〕メタン 0.1
式()の化合物 0.2
相 剰 剤 0.1 [Formula] The light stabilizer of the present invention is added in an amount of 0.001 to 5 parts by weight, more preferably 0.01 to 3 parts by weight, per 100 parts by weight of the synthetic resin to be stabilized. The ratio of added sterically hindered cyclic amine to compatibilizer is 1:100 to 100:1, preferably 1:10 to 20:1. Examples of the synthetic resins stabilized by the present invention include α-
Olefin polymers or polyolefins such as ethylene-vinyl acetate copolymer and ethylene-propylene copolymer, and their copolymers, polyvinyl chloride, polyvinyl bromide, polyvinyl fluoride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, chlorine polypropylene, polyvinylidene fluoride, brominated polyethylene, chlorinated rubber, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer,
Vinyl chloride - propylene copolymer, vinyl chloride -
Styrene copolymer, vinyl chloride-isobutylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer,
Vinyl chloride-styrene-maleic anhydride terpolymer, vinyl chloride-styrene-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-butadiene copolymer, vinyl chloride-isobrene copolymer, vinyl chloride-chlorinated propylene copolymer, Vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate terpolymer, vinyl chloride-
Acrylic acid ester copolymers, vinyl chloride-maleic ester copolymers, vinyl chloride-methacrylic ester copolymers, vinyl chloride-acrylonitrile copolymers, halogen-containing synthetic resins such as internally plasticized polyvinyl chloride, polystyrene, Polyvinyl acetate, acrylic resin, copolymers of styrene and other monomers (e.g. maleic anhydride, butadiene, acrylonitrile, etc.), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers, acrylic ester-butadiene-styrene copolymers , methacrylic acid ester-butadiene-styrene copolymer, methacrylate resin such as polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, linear polyester, polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyurethane, cellulose resin, or phenol resin, Examples include urea resin, melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. Furthermore, isoprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-
Rubbers such as butadiene copolymer rubber and styrene-butadiene copolymer rubber, or blends of these resins may also be used. Also included are crosslinked synthetic resins such as crosslinked polyethylene crosslinked with peroxide or radiation, and foamed synthetic resins such as foamed polystyrene foamed with a foaming agent. Oxidative stability can be further improved by further using a phenolic antioxidant in combination with the light stabilizer of the present invention. Examples of phenolic antioxidants include 2,6-di-tert-butyl-p-
Cresol, stearyl-(3,5-di-methyl-4-hydroxybenzyl)thioglycolate, stearyl-β-(4-hydroxy-3,5
-di-tert-butylphenyl) propionate, distearyl (4-hydroxy-3-methyl-5-
(tert-butyl)benzylmalonate, 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-methylenebis(2,6-di-tert-butylphenol),
butylphenol), 2,2′-methylenebis[6
-(1-methylcyclohexyl)p-cresol], bis[3,3-bis(4-hydroxy-3
-Tertiary butylphenyl) petitlic acid] glycol ester, 4,4'-butylidene bis(6-
tert-butyl-m-cresol), 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane, 1,3,5-tris(3,5-di-tert-butyl) -4-hydroxybenzyl)-2,4,6-trimethylbenzene, 3,
9-bis-[1,1-dimethyl-2-(3,5-
Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)ethyl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane, tetrakis[methylene-3-
(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] methane, 1,3,5-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanurate, 1,3 ,5-Tris[(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxyethyl]isocyanurate, 2-octylthio-4,6-di(4-
Examples include hydroxy-3,5-di-tert-butyl) phenoxy-1,3,5-triazine and 4,4'-thiobis(6-tert-butyl-m-cresol). A sulfur-based antioxidant can also be used in combination with the stabilizer of the present invention. Examples of the sulfur-based antioxidant include distearylthiodipropionate, dilaurylthiodipropionate, pentaerythritol tetralaurylthiopropionate, and the like. A phosphite compound can also be used in combination with the stabilizer of the present invention. Examples of the phosphite-based compounds include tris(2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, bis(2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, trioctyl phosphite, and trilauryl phosphite. , tridecyl phosphite, octyl-diphenyl phosphite, triphenyl phosphite, tris(butoxyethyl) phosphite, tris(nonylphenyl) phosphite, distearylpentaerythritol diphosphite, tetra(tridecyl)-
1,1,3-tris(2-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)butane diphosphite, tetra( C12-15 mixed alkyl)-4,
4'-isopropylidene diphenyl diphosphite, tetra(tridecyl)-4,4'-butylidene bis(3-methyl-6-tert-butylphenol)
Diphosphite, tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)phosphite, tris(mono-di mixed nonylphenyl)phosphite, hydrogenated-4,4'-isopropylidene diphenol polyphosphite, bis( octylphenyl)・bis[4,4′-butylidenebis(3-methyl-6-tert-butylphenol)]・1,6-hexanediol diphosphite, phenyl・4,
Examples include 4'-isopropylidene bis(2-tert-butylphenol) di(nonylphenyl) phosphite. The effect can be enhanced by further using the stabilizer of the present invention with an ultraviolet absorber. Examples of these ultraviolet absorbers include 2
-Hydroxy-4-methoxybenzophenyne, 2
-Hydroxybenzophenones such as hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2,2'-di-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-(2' ―
Hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-
(2'-Hydroxy-3',5'-di-t-butylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-
(2′-hydroxy-5′-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2′-hydroxy-3′,5′-
Benzotriazoles such as di-t-amyl phenyl) benzotriazole, phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, 2,
4-di-t-butylphenyl-3,5, di-t-
Butyl-4-hydroxypenzoates, 2,
2'-thiobis(4-t-octylphenol)Ni
salt, [2,2'-thiobis(4-t-octylphenolate)]-n-butylamine Ni salt, (3,5
-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)phosphonic acid monoethyl ester Ni salt and other nickel compounds and substituted acrylonitriles. If necessary, the stabilizer of the present invention may include a polymerization group deactivator, a nucleating agent, a metal soap, an organic tin compound, a plasticizer, an epoxy compound, a pigment, a filler, a blowing agent, an antistatic agent, a lubricant. , processing aids, etc. Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but these are given for the purpose of illustration only and should not be construed as limiting the scope of the present invention. Example 1 After mixing the following formulation in a mixer for 5 minutes:
A compound was created using an extruder (cylinder temperature 230℃ and 240℃, head die temperature 250℃).
°C, rotation speed 20r.pm). Using this compound, test pieces of 95 x 40 x 1 mm were made using an injection molding machine (cylinder temperature: 240
℃, nozzle temperature 250℃, injection pressure 475Kg/cm 2 ). Using the obtained sample, photostability was measured using a weatherometer. The results are shown in Table-1. Compound polypropylene resin (profax 6501 manufactured by Hercules) 100 parts by weight dilauryl thiodipropionate 0.3 Tetrakis [methylene-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] methane 0.1 Formula ( ) Compound 0.2 Phase Surplus Agent 0.1
【表】
実施例 2
本発明の安定剤に通常の紫外線吸収剤を併用す
ることによりその効果をさらに強めることができ
る。本実施例においては次の配合により、実施例
1と同様の試験を行なつた。その結果を表―2に
示す。
配 合
ポリプロピレン 100重量部
2,2′―メチレンビス―(4―エチル―6―第
3ブチルフエノール) 0.2
ビス(2,2,6,6,―テトラメチル―4―
ピペリジニル)セバケート 0.1
3―サリシロイルアミノ―1,2,4―トリア
ゾール 0.1
試 料 0.1 [Table] Example 2 The effect can be further enhanced by using the stabilizer of the present invention in combination with a conventional ultraviolet absorber. In this example, the same test as in Example 1 was conducted using the following formulation. The results are shown in Table-2. Blended polypropylene 100 parts by weight 2,2'-methylenebis-(4-ethyl-6-tert-butylphenol) 0.2bis(2,2,6,6,-tetramethyl-4-
(piperidinyl) sebacate 0.1 3-salicyloylamino-1,2,4-triazole 0.1 Sample 0.1
【表】
実施例 3
配 合
ポリプロピレン 100重量部
ステアリル〔3―(3,5―ジ―第3ブチル―
4―ヒドロキシフエニル)プロピオネート〕
0.2
式()の化合物 0.3
相 剰 剤 0.3
上記配合物をロール上で混練した後、プレス加
工して0.5mm厚さのシートを作成した。このシー
トについてウエザオメーターによつて耐光性を測
定した。その結果を表―3に示す。[Table] Example 3 Compound Polypropylene 100 parts by weight Stearyl [3-(3,5-di-tert-butyl-
4-Hydroxyphenyl)propionate]
0.2 Compound of Formula () 0.3 Phase Surplus Agent 0.3 The above mixture was kneaded on a roll and then pressed to form a sheet with a thickness of 0.5 mm. The light resistance of this sheet was measured using a weatherometer. The results are shown in Table-3.
【表】
実施例 4
配 合
ポリエチレン 100重量部
Ca―ステアレート 0.1
ジステアリルチオジプロピオネート 0.2
トリス(3,5―ジ―第3ブチル―4―ヒドロ
キシベンジル)イソシアヌレート 0.1重量部
式()の化合物 0.15
相 剰 剤 0.2
上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作つた。このシートを用いてウエザオメー
ター中での耐光性を測定し脆化するまでの時間を
測定した。その結果を表―6に示す。[Table] Example 4 Compound polyethylene 100 parts by weight Ca-stearate 0.1 distearylthiodipropionate 0.2 Tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanurate 0.1 parts by weight of formula () Compound 0.15 Phase Surplus Agent 0.2 The above mixture was kneaded and pressed to form a sheet with a thickness of 0.5 mm. Using this sheet, the light resistance was measured in a weatherometer, and the time until it became brittle was measured. The results are shown in Table-6.
【表】
実施例 5
配 合
エチレン―酢酸ビニル共重合樹脂 100重量部
モンタン酸系滑剤 0.3
2,6―ジ―第3ブチル―p―クレゾール
0.1
式()の化合物 0.25
相 剰 剤 0.05
上記配合物をロール混練後120℃でプレスし厚
さ1.0mmのシートを作成した。このシートをウエ
ザオメーター中で500時間照射し、抗張力残率を
測定した。その結果を表―5に示す。[Table] Example 5 Compound Ethylene-vinyl acetate copolymer resin 100 parts by weight Montanic acid lubricant 0.3 2,6-di-tert-butyl-p-cresol
0.1 Compound of Formula () 0.25 Phase Surplus Agent 0.05 The above mixture was kneaded with rolls and then pressed at 120°C to form a sheet with a thickness of 1.0 mm. This sheet was irradiated for 500 hours in a weatherometer, and the residual tensile strength was measured. The results are shown in Table-5.
【表】【table】
【表】
実施例 6
配 合
ポリ塩化ビニル 100重量部
ジ―2―エチルヘキシルフタレート 50
Ca―ステアレート 1.0
Zn―ステアレート 0.2
式()の化合物 0.5
相 剰 剤 0.2
上記配合物をロール上で混練し厚さ1mmのシー
トを作成した。ウエザオメーター中でこのシート
の耐光性試験を行なつた。その結果を表―6に示
す。[Table] Example 6 Compound Polyvinyl chloride 100 parts by weight Di-2-ethylhexyl phthalate 50 Ca-stearate 1.0 Zn-stearate 0.2 Compound of formula () 0.5 Phase surplus agent 0.2 The above mixture was kneaded on a roll. A sheet with a thickness of 1 mm was created. The sheet was tested for light resistance in a weatherometer. The results are shown in Table-6.
【表】【table】
【表】
実施例 7
配 合
ABS樹脂 100重量部
Ca―ステアレート 0.5
1,1,3―トリス(2―メチル―4―ヒドロ
キシ―5―第3ブチルフエニル)ブタン
0.1
式()の化合物 0.4
相 剰 剤 0.2
上記配合物をロール練り後プレスして厚さ3mm
のシートを作つた。このシートを用いたウエザオ
メーターで800時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表―7に示す。[Table] Example 7 Compound ABS resin 100 parts by weight Ca-stearate 0.5 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane
0.1 Compound of formula () 0.4 Phase surplus agent 0.2 Roll knead the above mixture and press it to a thickness of 3 mm.
I made a sheet. The residual tensile strength after 800 hours of irradiation was measured using a weatherometer using this sheet. The results are shown in Table-7.
【表】
実施例 8
配 合
ナイロン6 100重量部
式()の化合物 0.2
相 剰 剤 0.02
上記配合物を充分混和した後、250℃でプレス
加工し、0.5mmのシートを作成した。このシート
を用いウエザオメーター中で120時間照射後のシ
ートの着色をみて耐光性とした。その結果を表―
8に示す。[Table] Example 8 Compound Nylon 6 100 parts by weight Compound of formula () 0.2 Phase Surplus agent 0.02 After thoroughly mixing the above composition, it was pressed at 250°C to produce a 0.5 mm sheet. Using this sheet, the coloring of the sheet after 120 hours of irradiation in a weatherometer was checked to determine its light resistance. Display the results.
8.
【表】
実施例 9
配 合
ポリプチレンテレフタレート 100重量部
トリスノニルフエニルホスフアイト 0.1
式()の化合物 0.3
相 剰 剤 0.2
上記配合物を250℃でインジエクシヨン加工を
行ない試験片を作成した。この試験片を用いてウ
エザオメーター中500時間照射後の抗張力残率を
測定した。その結果を表―9に示す。[Table] Example 9 Compound Polybutylene terephthalate 100 parts by weight Trisnonyl phenyl phosphite 0.1 Compound of formula () 0.3 Phase remainder 0.2 The above blend was subjected to in-die excision processing at 250°C to prepare test pieces. Using this test piece, the residual tensile strength after 500 hours of irradiation was measured in a weatherometer. The results are shown in Table 9.
【表】【table】
【表】
実施例 10
配 合
ポリウレタン樹脂(旭電化製U―100)
100重量部
2,6―ジ―第3ブチル―p―クレゾール
0.1
オクチルジフエニルホスフアイト 0.2
式()の化合物 0.3
相 剰 剤 0.03
上記配合物を70℃で5分間ロール上で混練し、
120℃で5分間プレスして厚さ5mmのシートを作
成した。このシートをフエードメーターにて50時
間照射後の伸び残率を測定した。その結果を表―
10に示す。[Table] Example 10 Compound polyurethane resin (Asahi Denka U-100)
100 parts by weight 2,6-di-tert-butyl-p-cresol
0.1 Octyl diphenyl phosphite 0.2 Compound of formula () 0.3 Phase surplus agent 0.03 The above mixture was kneaded on a roll at 70°C for 5 minutes,
A sheet with a thickness of 5 mm was produced by pressing at 120°C for 5 minutes. The residual elongation of this sheet after 50 hours of irradiation was measured using a fade meter. Display the results.
Shown in 10.
Claims (1)
いる環式アミン化合物の少なくとも一種、及び(b)
分子内に基【式】 【式】 及び/又は【式】を環構造の一部とし て含有する単環又は縮合環式複素環化合物の少な
くとも一種の組み合わせからなる合成樹脂用光安
定剤。 (式中、Yは水素原子、−O・、アルキル基、
置換アルキル基、アルケニル基、アラルキル基ま
たはアシル基を示す。Aは基【式】 【式】 または【式】を示 し、 R1は低級アルキル基を示す。Zは―O―または 【式】を示し、R2は水素原子または低級ア ルキル基を示す。nは1〜6を示す。は有機カ
ルボン酸または無機酸素酸より誘導される残基を
示す。また、n=1の時 【式】は基【式】を示して もよく、R3及びR4は水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基または置換アルキル基を示す。)[Scope of Claims] 1 (a) at least one sterically hindered cyclic amine compound represented by the following general formula (); and (b)
A light stabilizer for synthetic resins comprising a combination of at least one type of monocyclic or condensed heterocyclic compound containing the groups [Formula] [Formula] and/or [Formula] as part of the ring structure in the molecule. (In the formula, Y is a hydrogen atom, -O., an alkyl group,
Indicates a substituted alkyl group, alkenyl group, aralkyl group or acyl group. A represents a group [Formula] [Formula] or [Formula], and R 1 represents a lower alkyl group. Z represents -O- or [Formula], and R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. n represents 1 to 6. represents a residue derived from an organic carboxylic acid or an inorganic oxyacid. Further, when n=1, [Formula] may represent a group [Formula], and R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or a substituted alkyl group. )
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP197678A JPS5495649A (en) | 1978-01-13 | 1978-01-13 | Light stabilizer for synthetic resin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP197678A JPS5495649A (en) | 1978-01-13 | 1978-01-13 | Light stabilizer for synthetic resin |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5495649A JPS5495649A (en) | 1979-07-28 |
| JPS6118577B2 true JPS6118577B2 (en) | 1986-05-13 |
Family
ID=11516566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP197678A Granted JPS5495649A (en) | 1978-01-13 | 1978-01-13 | Light stabilizer for synthetic resin |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5495649A (en) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5214147A (en) * | 1987-08-12 | 1993-05-25 | Elf Atochem North America, Inc. | Process for preparing reactive hindered amine light stabilizers |
| US5300545A (en) * | 1987-08-12 | 1994-04-05 | Elf Atochem North America, Inc. | Process for stabilizing polymer compositions against heat or light effects |
| US5101033A (en) * | 1987-08-12 | 1992-03-31 | Atochem North America, Inc. | Process for preparing reactive hindered amine light stabilizers |
| US4983738A (en) * | 1987-08-12 | 1991-01-08 | Atochem North America, Inc. | Reactive hindered amine light stabilizers |
| US5043372A (en) * | 1989-12-22 | 1991-08-27 | Atochem North America, Inc. | N,N'-hydrocarbylenebis[N-hals-substituted amic acid hydrazides] and their derivatives |
| IT1247977B (en) * | 1991-06-04 | 1995-01-05 | Ciba Geigy Spa | STABILIZATION OF POLYMERIC ORGANIC MATERIALS BY MEANS OF SYNERGIC MIXTURES CONSISTING OF STERICALLY IMPEDED CYCLIC AMINES AND DERIVATIVES OF 3-PYRAZOLIDINONE OR 1,2,4, -TRIAZOLIDIN-3,5, -DIONE |
-
1978
- 1978-01-13 JP JP197678A patent/JPS5495649A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5495649A (en) | 1979-07-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2399131C (en) | Synergistic combinations of phenolic antioxidants | |
| JP5427335B2 (en) | Synergistic stabilizer composition for thermoplastic polymers in prolonged contact with water | |
| JPS6017299B2 (en) | Light stabilizer for synthetic resins | |
| KR970006902B1 (en) | Stabilized Synthetic Resin Composition | |
| JPH0292961A (en) | Nonflammable modified thermoplastic composition and its manufacture | |
| KR100533188B1 (en) | Polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecane-based compounds, preparation methods thereof and uses thereof | |
| JPS6118577B2 (en) | ||
| JPH0455226B2 (en) | ||
| JPS6248989B2 (en) | ||
| JPS6354022B2 (en) | ||
| JP2952707B2 (en) | Isocyanuric acid derivatives, their production and use | |
| JPS6345417B2 (en) | ||
| JPS5847030A (en) | Stabilized synthetic resin composition | |
| JPS6158097B2 (en) | ||
| JPS58152053A (en) | Stabilized synthetic resin composition | |
| JPS6216224B2 (en) | ||
| US2618568A (en) | Self-extinguishing cellulose acetate molding compositions | |
| JPS58103537A (en) | Stabilized synthetic resin composition | |
| JPS6210543B2 (en) | ||
| JP5950339B2 (en) | Polylactic acid resin composition | |
| US3256238A (en) | Polymers stabilized with dibenzoate esters of diphenolic compounds | |
| JPS6155527B2 (en) | ||
| JP2001146587A (en) | Novel sterically hindered amine | |
| JPS59161448A (en) | Stabilized polymeric material composition | |
| JPH0136501B2 (en) |