JPS6118960B2 - - Google Patents
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- JPS6118960B2 JPS6118960B2 JP6594679A JP6594679A JPS6118960B2 JP S6118960 B2 JPS6118960 B2 JP S6118960B2 JP 6594679 A JP6594679 A JP 6594679A JP 6594679 A JP6594679 A JP 6594679A JP S6118960 B2 JPS6118960 B2 JP S6118960B2
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- Detergent Compositions (AREA)
Description
本発明はレコード盤用清浄化剤に関し、更に詳
細にはレコード盤表面に被膜を形成し、これを剥
離除去することにより、レコード盤表面、その音
溝内にあるゴミ、ほこり等の汚れをこの被膜に付
着させてこれと一緒に除去するために使用するレ
コード盤用清浄化剤に関する。 従来レコード盤表面に被膜を形成し、この被膜
を剥離除去することにより、これと一緒にレコー
ド盤のゴミ、ほこり等を除去するようにしたレコ
ード盤用の清浄化剤として、ポリビニルアルコー
ル等の水溶性高分子、帯電防止剤、防徽剤、離型
剤、界面玩性剤を溶剤に溶解したもの(特開昭50
−68980号)、或いはポリ塩化ビニル、ポリエチレ
ン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン等を単に溶剤に溶かしただけのもの(特公昭51
−43763号)、更には酢酸ビニル系樹脂、DBPもし
くはTCP可塑剤、アミン系表面活性剤を含む帯
電防止剤を溶剤に溶解したもの(特公昭53−
10444号、10445号)が知られている。 しかし、従来のこの種のレコード盤用清浄化剤
は、被膜の乾燥時間、形成される被膜の表面状
態、レコード盤に対する影響等に必ずしも十分の
考慮が払われていない上、いずれも被膜のレコー
ド盤からの剥離性に問題があり、被膜がもろく、
剥離の途中で被膜が切れたり、或いは被膜がレコ
ード盤に接着し、被膜がレコード盤に残る如き欠
点を有している。また特に、上述したDBP,
TCPを可塑剤として用いたもの(特公昭53−
10444号、10445号)は、これら可塑剤がレコード
盤を侵したり、接着の原因となる問題もあり、剥
離被膜型のレコード盤用清浄化剤として満足した
ものがないのが現状である。 本発明者等は上記事情に鑑み、清掃効果が良好
であることは勿論、剥離時に途中で切れたりレコ
ード盤に接着したりすることがなく、連続一様に
剥離し得、しかもレコード盤を侵したりすること
もない剥離被膜型のレコード盤用清浄化剤を得る
ため、鋭意研究を行なつた結果、特にアルコール
可溶性のナイロン樹脂の被膜が優れた性能を有
し、これをエタノール75〜90重量%と水10〜25重
量%との混合揮発性溶剤に溶解し更に特定の帯電
防止剤を加えたものをレコード盤表面に塗布する
と、比較的柔軟な被膜が形成されると共に、これ
を剥離する時、連続一様のフイルムとして剥離し
得、かつこのナイロン樹脂被膜にレコード盤表
面、音溝のゴミ、ほこり等が付着し、被膜の除去
によりこれらの汚れも一緒に除去されてレコード
盤がきれいに清掃され、しかもその使用によりレ
コード盤を侵すようなこともないことを知見し、
本発明をなすに至つた。 即ち、本発明は、エタノール可溶性ナイロン樹
脂と、これを溶解する溶剤としてエタノール75〜
90重量%と水10〜25重量%との混合溶剤と、帯電
防止剤として下記式 (式中Rは炭素数12〜18のアルキル基、m,n
はそれぞれ1〜10の整数である。)で示されるア
ルキルアミンエチレンオキシド付加体をナイロン
樹脂100重量部に対して0.01〜10重量部とを主構
成成分としてなり、レコード盤表面に前記ナイロ
ン樹脂の被膜を形成するようにしたレコード盤用
清浄化剤を提供するものである。 以下、本発明につき詳しく説明する。 本発明で使用するナイロン樹脂としては、エタ
ノールを主体とする溶剤に可溶なナイロン樹脂が
好適であり、例えばタイプ−8ナイロンや東レ社
製CM−4000,CM−8000,CM−9000等の1種又
は2種以上が使用し得る。 また溶剤としては、エタノール75〜90重量%、
水10〜25重量%からなる混合溶剤を使用する。こ
れは前記ナイロン樹脂を容易に溶解しかつナイロ
ン盤を侵すことのない揮発性のものである。 本発明は前記溶剤にナイロン樹脂を溶解させる
ことにより形成され(なお、ナイロン樹脂の配合
量は溶剤100部(重量部、以下同じ)に対し5〜
30部とすることが好ましい)、これをレコード盤
に塗布することにより、比較的柔軟で剥離性の良
好な被膜が形成されると共に、この被膜の剥離時
に途中で切れたり、レコード盤に接着して残るこ
とがなく、連続一様のフイルムとして剥離でき、
このようにナイロン樹脂のみを用いても優れた被
膜性能を有する清浄化剤が得られるが、更にナイ
ロン樹脂溶液に、剥離剤、可塑剤を配合するよう
にしてもよい。 この場合、剥離剤としては炭素数12〜18の高級
脂肪酸、例えばラウリン酸、ステアリン酸等や炭
素数12〜18の高級脂肪族アルコール、例えばステ
アリルアルコール、ラウリルアルコール等が好適
に用いられるが、特に下記式(1) (式中Rは炭素数1〜4の非置換の一価炭化水
素基、aは1〜100、bは2〜50、cは1〜5、
xは2〜40の正数である。)で示されるオルガノ
ポリシロキサン、例えばRがメチル基、aが80、
bが8、cが3、xが10のもの、或にはRがメチ
ル基、aが40、bが20、cが3、xが10のもの等
が好適に使用され、これら(1)式のオルガノポリシ
ロキサンは効果が高い上、乾燥後はなめらかな被
膜表面を得ることができるという特徴も兼ね備え
ている。これら剥離剤の使用により、ナイロン樹
脂被膜の剥離性がより向上し、更に簡単かつ確実
に連続一様のフイルムとして被膜を剥離すること
ができる。なお、前記剥離剤はその1種を用いて
も2種以上を併用するようにしてもよい。また、
剥離剤の配合量はナイロン樹脂100部に対して
0.01〜5部とすることが好ましい。 また可塑剤としては、下記(2)式 (式中Rは炭素数1〜4の非置換の一価炭化水
素基、bは2〜50、cは1〜5、xは2〜40の正
数である。)で示されるオルガノポリシロキサン
が好ましく、例えばRがメチル基でbが38、cが
3、xが3のもの、或いはRがメチル基でbが
20、cが3、xが10のもの等が用いられ、この種
の可塑剤の配合により被膜の柔軟性がより良好に
なり、被膜の剥離のし易さが更に増大すると共
に、レコード盤に悪影響を及ぼすこともなく、好
適に使用できる。また、(2)式のオルガノポリシロ
キサンは(1)式のオルガノポリシロキサンの樹脂と
の相溶性を高める働きを有する。これら可塑剤の
配合量は樹脂100部に対し1〜10部とすることが
好ましい。なお、一般にナイロン樹脂に使用され
ている可塑剤は、塩化ビニル主体の塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体でできているレコード盤に悪
影響を及ぼし、レコード盤を侵すこともあるので
使用し得ない。 更に、本発明においては帯電防止剤を配合する
もので、これによつて被膜剥離後にレコード盤に
ゴミ、ほこり等が容易に付着することが防止され
る。帯電防止剤としては、特に下記(3)式 (式中Rは炭素数12〜18のアルキル基、m,n
はそれぞれ1〜10の整数である。)で示されるア
ルキルアミンエチレンオキシド付加体が効果があ
る。なお、これら帯電防止剤は樹脂100部に対し
0.01〜10部の配合量とする。 本発明のレコード盤用清浄化剤は、前記ナイロ
ン樹脂、及び(3)式に示す帯電防止剤更に必要によ
り剥離剤、可塑剤、前記以外の帯電防止剤等を加
えて前記溶剤に分散、溶解することによつて製造
されるが、場合により適宜な噴射剤を加えてエア
ゾール化することもできる。 この清浄化剤は、レコード盤表面に適宜方法で
塗布し、ナイロン樹脂の被膜を形成することによ
り使用するもので、この被膜を剥離することによ
り、レコード盤表面、その音溝のゴミ、ほこり等
の汚れが被膜に付着してこの被膜と一緒に除去さ
れ、レコード盤がきれいに清掃されるものであ
る。なお、レコード盤に形成する被膜は、一般に
音溝の深さが30〜40μあるので、50〜80μの厚さ
になるように塗布することが好ましい。 而して、本発明に係るレコード盤用清浄化剤
は、エタノール可溶性ナイロン樹脂を被膜形成主
剤として用いるようにしたことにより、比較的柔
軟性があり、かつ剥離性の良好な被膜特性に優れ
たナイロン樹脂被膜が形成される。従つて、被膜
の剥離時において、連続一様のフイルムとなつて
除去され、非常に使用性に優れたものである。ま
た、レコード盤表面、音溝内のゴミ、ほこり等が
確実に被膜に付着して除去され、清掃効果にも優
れていると共に、レコード盤を傷めることもな
く、レコード盤用清浄化剤として好適なものであ
る。 以下、実施例と比較例を示し、本発明を更に具
体的に説明する。なお、下記の例において“部”
はいずれも重量部を示す。 〔実施例 1〕 エタノール 75 部 水 25 〃 可溶性ナイロンCM−8000(東レ社製) 12 〃 ポリオキシエチレンステアリルアミン 0.3〃 (式(3)においてm=2,n=2) 〔実施例 2〕 エタノール 80 部 水 20 部 可溶性ナイロンCM−9000(東レ社製) 15 〃 ポリオキシエチレンオレイルアミン 0.2〃 (式(3)においてm=2,n=3) 〔実施例 3〕 エタノール 80 部 水 20 〃 可溶性ナイロンCM−9000 15 〃 オルガノポリシロキサンA 0.1〃 〃 B 1.0〃 ポリオキシエチレンステアリルアミン 0.2〃 (式(3)においてm=2,n=2) 上記各例に係るレコード盤用清浄化剤はいずれ
も溶剤(エタノール−水)に他の各成分を溶解す
ることにより製造した。なお、オルガノポリシロ
キサンA〜Bの構造式は下記の通りである。 次に、上記各例の清浄化剤を塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体製のレコード盤に約350〜400μ塗
布して約50μの被膜を形成し、被膜の乾燥時間、
形成された膜の表面状態、柔軟性、レコード盤か
らの被膜の剥離性、清掃効果、被膜剥離後の帯電
性を調べた。また比較のため、市販されている清
浄化剤(市販品1:被膜剥離タイプのもの、市販
品2:エアゾールタイプでレコード盤に液を噴霧
した後、拭き取るタイプのもの)を用い、同様に
実験を行なつた。 第1表にその結果を示す。
細にはレコード盤表面に被膜を形成し、これを剥
離除去することにより、レコード盤表面、その音
溝内にあるゴミ、ほこり等の汚れをこの被膜に付
着させてこれと一緒に除去するために使用するレ
コード盤用清浄化剤に関する。 従来レコード盤表面に被膜を形成し、この被膜
を剥離除去することにより、これと一緒にレコー
ド盤のゴミ、ほこり等を除去するようにしたレコ
ード盤用の清浄化剤として、ポリビニルアルコー
ル等の水溶性高分子、帯電防止剤、防徽剤、離型
剤、界面玩性剤を溶剤に溶解したもの(特開昭50
−68980号)、或いはポリ塩化ビニル、ポリエチレ
ン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン等を単に溶剤に溶かしただけのもの(特公昭51
−43763号)、更には酢酸ビニル系樹脂、DBPもし
くはTCP可塑剤、アミン系表面活性剤を含む帯
電防止剤を溶剤に溶解したもの(特公昭53−
10444号、10445号)が知られている。 しかし、従来のこの種のレコード盤用清浄化剤
は、被膜の乾燥時間、形成される被膜の表面状
態、レコード盤に対する影響等に必ずしも十分の
考慮が払われていない上、いずれも被膜のレコー
ド盤からの剥離性に問題があり、被膜がもろく、
剥離の途中で被膜が切れたり、或いは被膜がレコ
ード盤に接着し、被膜がレコード盤に残る如き欠
点を有している。また特に、上述したDBP,
TCPを可塑剤として用いたもの(特公昭53−
10444号、10445号)は、これら可塑剤がレコード
盤を侵したり、接着の原因となる問題もあり、剥
離被膜型のレコード盤用清浄化剤として満足した
ものがないのが現状である。 本発明者等は上記事情に鑑み、清掃効果が良好
であることは勿論、剥離時に途中で切れたりレコ
ード盤に接着したりすることがなく、連続一様に
剥離し得、しかもレコード盤を侵したりすること
もない剥離被膜型のレコード盤用清浄化剤を得る
ため、鋭意研究を行なつた結果、特にアルコール
可溶性のナイロン樹脂の被膜が優れた性能を有
し、これをエタノール75〜90重量%と水10〜25重
量%との混合揮発性溶剤に溶解し更に特定の帯電
防止剤を加えたものをレコード盤表面に塗布する
と、比較的柔軟な被膜が形成されると共に、これ
を剥離する時、連続一様のフイルムとして剥離し
得、かつこのナイロン樹脂被膜にレコード盤表
面、音溝のゴミ、ほこり等が付着し、被膜の除去
によりこれらの汚れも一緒に除去されてレコード
盤がきれいに清掃され、しかもその使用によりレ
コード盤を侵すようなこともないことを知見し、
本発明をなすに至つた。 即ち、本発明は、エタノール可溶性ナイロン樹
脂と、これを溶解する溶剤としてエタノール75〜
90重量%と水10〜25重量%との混合溶剤と、帯電
防止剤として下記式 (式中Rは炭素数12〜18のアルキル基、m,n
はそれぞれ1〜10の整数である。)で示されるア
ルキルアミンエチレンオキシド付加体をナイロン
樹脂100重量部に対して0.01〜10重量部とを主構
成成分としてなり、レコード盤表面に前記ナイロ
ン樹脂の被膜を形成するようにしたレコード盤用
清浄化剤を提供するものである。 以下、本発明につき詳しく説明する。 本発明で使用するナイロン樹脂としては、エタ
ノールを主体とする溶剤に可溶なナイロン樹脂が
好適であり、例えばタイプ−8ナイロンや東レ社
製CM−4000,CM−8000,CM−9000等の1種又
は2種以上が使用し得る。 また溶剤としては、エタノール75〜90重量%、
水10〜25重量%からなる混合溶剤を使用する。こ
れは前記ナイロン樹脂を容易に溶解しかつナイロ
ン盤を侵すことのない揮発性のものである。 本発明は前記溶剤にナイロン樹脂を溶解させる
ことにより形成され(なお、ナイロン樹脂の配合
量は溶剤100部(重量部、以下同じ)に対し5〜
30部とすることが好ましい)、これをレコード盤
に塗布することにより、比較的柔軟で剥離性の良
好な被膜が形成されると共に、この被膜の剥離時
に途中で切れたり、レコード盤に接着して残るこ
とがなく、連続一様のフイルムとして剥離でき、
このようにナイロン樹脂のみを用いても優れた被
膜性能を有する清浄化剤が得られるが、更にナイ
ロン樹脂溶液に、剥離剤、可塑剤を配合するよう
にしてもよい。 この場合、剥離剤としては炭素数12〜18の高級
脂肪酸、例えばラウリン酸、ステアリン酸等や炭
素数12〜18の高級脂肪族アルコール、例えばステ
アリルアルコール、ラウリルアルコール等が好適
に用いられるが、特に下記式(1) (式中Rは炭素数1〜4の非置換の一価炭化水
素基、aは1〜100、bは2〜50、cは1〜5、
xは2〜40の正数である。)で示されるオルガノ
ポリシロキサン、例えばRがメチル基、aが80、
bが8、cが3、xが10のもの、或にはRがメチ
ル基、aが40、bが20、cが3、xが10のもの等
が好適に使用され、これら(1)式のオルガノポリシ
ロキサンは効果が高い上、乾燥後はなめらかな被
膜表面を得ることができるという特徴も兼ね備え
ている。これら剥離剤の使用により、ナイロン樹
脂被膜の剥離性がより向上し、更に簡単かつ確実
に連続一様のフイルムとして被膜を剥離すること
ができる。なお、前記剥離剤はその1種を用いて
も2種以上を併用するようにしてもよい。また、
剥離剤の配合量はナイロン樹脂100部に対して
0.01〜5部とすることが好ましい。 また可塑剤としては、下記(2)式 (式中Rは炭素数1〜4の非置換の一価炭化水
素基、bは2〜50、cは1〜5、xは2〜40の正
数である。)で示されるオルガノポリシロキサン
が好ましく、例えばRがメチル基でbが38、cが
3、xが3のもの、或いはRがメチル基でbが
20、cが3、xが10のもの等が用いられ、この種
の可塑剤の配合により被膜の柔軟性がより良好に
なり、被膜の剥離のし易さが更に増大すると共
に、レコード盤に悪影響を及ぼすこともなく、好
適に使用できる。また、(2)式のオルガノポリシロ
キサンは(1)式のオルガノポリシロキサンの樹脂と
の相溶性を高める働きを有する。これら可塑剤の
配合量は樹脂100部に対し1〜10部とすることが
好ましい。なお、一般にナイロン樹脂に使用され
ている可塑剤は、塩化ビニル主体の塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体でできているレコード盤に悪
影響を及ぼし、レコード盤を侵すこともあるので
使用し得ない。 更に、本発明においては帯電防止剤を配合する
もので、これによつて被膜剥離後にレコード盤に
ゴミ、ほこり等が容易に付着することが防止され
る。帯電防止剤としては、特に下記(3)式 (式中Rは炭素数12〜18のアルキル基、m,n
はそれぞれ1〜10の整数である。)で示されるア
ルキルアミンエチレンオキシド付加体が効果があ
る。なお、これら帯電防止剤は樹脂100部に対し
0.01〜10部の配合量とする。 本発明のレコード盤用清浄化剤は、前記ナイロ
ン樹脂、及び(3)式に示す帯電防止剤更に必要によ
り剥離剤、可塑剤、前記以外の帯電防止剤等を加
えて前記溶剤に分散、溶解することによつて製造
されるが、場合により適宜な噴射剤を加えてエア
ゾール化することもできる。 この清浄化剤は、レコード盤表面に適宜方法で
塗布し、ナイロン樹脂の被膜を形成することによ
り使用するもので、この被膜を剥離することによ
り、レコード盤表面、その音溝のゴミ、ほこり等
の汚れが被膜に付着してこの被膜と一緒に除去さ
れ、レコード盤がきれいに清掃されるものであ
る。なお、レコード盤に形成する被膜は、一般に
音溝の深さが30〜40μあるので、50〜80μの厚さ
になるように塗布することが好ましい。 而して、本発明に係るレコード盤用清浄化剤
は、エタノール可溶性ナイロン樹脂を被膜形成主
剤として用いるようにしたことにより、比較的柔
軟性があり、かつ剥離性の良好な被膜特性に優れ
たナイロン樹脂被膜が形成される。従つて、被膜
の剥離時において、連続一様のフイルムとなつて
除去され、非常に使用性に優れたものである。ま
た、レコード盤表面、音溝内のゴミ、ほこり等が
確実に被膜に付着して除去され、清掃効果にも優
れていると共に、レコード盤を傷めることもな
く、レコード盤用清浄化剤として好適なものであ
る。 以下、実施例と比較例を示し、本発明を更に具
体的に説明する。なお、下記の例において“部”
はいずれも重量部を示す。 〔実施例 1〕 エタノール 75 部 水 25 〃 可溶性ナイロンCM−8000(東レ社製) 12 〃 ポリオキシエチレンステアリルアミン 0.3〃 (式(3)においてm=2,n=2) 〔実施例 2〕 エタノール 80 部 水 20 部 可溶性ナイロンCM−9000(東レ社製) 15 〃 ポリオキシエチレンオレイルアミン 0.2〃 (式(3)においてm=2,n=3) 〔実施例 3〕 エタノール 80 部 水 20 〃 可溶性ナイロンCM−9000 15 〃 オルガノポリシロキサンA 0.1〃 〃 B 1.0〃 ポリオキシエチレンステアリルアミン 0.2〃 (式(3)においてm=2,n=2) 上記各例に係るレコード盤用清浄化剤はいずれ
も溶剤(エタノール−水)に他の各成分を溶解す
ることにより製造した。なお、オルガノポリシロ
キサンA〜Bの構造式は下記の通りである。 次に、上記各例の清浄化剤を塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体製のレコード盤に約350〜400μ塗
布して約50μの被膜を形成し、被膜の乾燥時間、
形成された膜の表面状態、柔軟性、レコード盤か
らの被膜の剥離性、清掃効果、被膜剥離後の帯電
性を調べた。また比較のため、市販されている清
浄化剤(市販品1:被膜剥離タイプのもの、市販
品2:エアゾールタイプでレコード盤に液を噴霧
した後、拭き取るタイプのもの)を用い、同様に
実験を行なつた。 第1表にその結果を示す。
【表】
以上の結果より、本発明に係る清浄化剤は、被
膜の表面状態も良く、清掃効果にも優れている
上、被膜の剥離時において連続一様に剥離し、被
膜に柔軟性があるため途中で切れることもなく、
非常に剥離し易いものであることが認められた。
また市販品と比較して乾燥時間も短かく、その上
被膜剥離後にゴミが付着し難いものであることも
認められた。
膜の表面状態も良く、清掃効果にも優れている
上、被膜の剥離時において連続一様に剥離し、被
膜に柔軟性があるため途中で切れることもなく、
非常に剥離し易いものであることが認められた。
また市販品と比較して乾燥時間も短かく、その上
被膜剥離後にゴミが付着し難いものであることも
認められた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エタノール可溶性ナイロン樹脂と、これを溶
解する溶剤としてエタノール75〜90重量%と水10
〜25重量%との混合溶剤と、帯電防止剤として下
記式 (式中Rは炭素数12〜18のアルキル基、m,n
はそれぞれ1〜10の整数である。)で示されるア
ルキルアミンエチレンオキシド付加体をナイロン
樹脂100重量部に対して0.01〜10重量部とを主構
成成分としてなり、レコード盤表面に前記ナイロ
ン樹脂の皮膜を形成するようにしたことを特徴と
するレコード盤用清浄化剤。 2 ナイロン樹脂の配合量が溶剤100重量部に対
して5〜30重量部である特許請求の範囲第1項記
載の清浄化剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6594679A JPS55157699A (en) | 1979-05-28 | 1979-05-28 | Cleaning agent for record disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6594679A JPS55157699A (en) | 1979-05-28 | 1979-05-28 | Cleaning agent for record disc |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55157699A JPS55157699A (en) | 1980-12-08 |
| JPS6118960B2 true JPS6118960B2 (ja) | 1986-05-15 |
Family
ID=13301638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6594679A Granted JPS55157699A (en) | 1979-05-28 | 1979-05-28 | Cleaning agent for record disc |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55157699A (ja) |
-
1979
- 1979-05-28 JP JP6594679A patent/JPS55157699A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55157699A (en) | 1980-12-08 |
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