JPS6127466B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6127466B2 JPS6127466B2 JP3633582A JP3633582A JPS6127466B2 JP S6127466 B2 JPS6127466 B2 JP S6127466B2 JP 3633582 A JP3633582 A JP 3633582A JP 3633582 A JP3633582 A JP 3633582A JP S6127466 B2 JPS6127466 B2 JP S6127466B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- piston ring
- processing tank
- rotating shaft
- holder
- evaporation source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 13
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 13
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Pistons, Piston Rings, And Cylinders (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエンジンその他に使用されるピストン
リングの表面処理装置に関する。
リングの表面処理装置に関する。
従来この種ピストンリングはその表面にクロム
メツキを施して使用に供されるを一般とするが、
クロムメツキ層は比較的耐摩耗性に乏しく、その
処理工程数も多いのでこれに代え窒化チタン等の
耐摩耗性の物質を簡単な手段でしかも該リングに
変形を与えないように被覆することが望ましい。
メツキを施して使用に供されるを一般とするが、
クロムメツキ層は比較的耐摩耗性に乏しく、その
処理工程数も多いのでこれに代え窒化チタン等の
耐摩耗性の物質を簡単な手段でしかも該リングに
変形を与えないように被覆することが望ましい。
本発明はかかる要望を満足することをその目的
としたもので、真空処理槽内のチタンその他の蒸
発源の上方に回転軸を横設してこれに負の高電位
を印加したプーリ状のホルダを着脱自在に嵌挿
し、該ホルダの外周に1条もしくは複数条の凹溝
を形成してこれにピストンリングを嵌着して成
る。本発明の一例を図面につき説明するに、第1
図に於て1は真空処理槽、2は該処理槽1の下方
に設けられたチタンの溶湯3を収容する蒸発源、
4は該蒸発源2の上方に略水平に横設した回転軸
を示し、該回転軸4は該処理槽1の一方の開閉自
在の側壁5から出し入れ自在の囲枠6に例えば第
3図に明示したように3本並設されると共にその
一端に於て歯車7により回転連結されるようにし
た。該囲枠6はその底部を開放して下方の蒸発源
2からのイオンが流通自在となるようにし、車輪
8により支承されて該処理槽1の内壁のレール
9,9上に位置するようにした。10は該処理槽
1の他方の側壁11に挿通された駆動軸を示し、
これが該処理槽1の外部に設けた駆動電動機12
によりチエン13を介して駆動されるとその回転
はカツプリング14を介して接続した回転軸4の
1本に伝達され、さらに歯車7を介して他の回転
軸4,4が回転されるようにした。各回転軸4に
は例えばプーリー状の導電体からなるホルダ16
の複数個を挿通固定し、各ホルダ16の外周に形
成した凹溝16aに夫々ピストンリング17を嵌
着してこれに該回転軸4による回転と、導電材1
5からの負の高電位とが与えられるようにした。
尚、該ホルダ16の外径は該ピストンリング17
の内径より多少大き目に形成し、該リング17の
嵌着に際してこれに大きな変形を与えぬようにす
ることが好ましい。
としたもので、真空処理槽内のチタンその他の蒸
発源の上方に回転軸を横設してこれに負の高電位
を印加したプーリ状のホルダを着脱自在に嵌挿
し、該ホルダの外周に1条もしくは複数条の凹溝
を形成してこれにピストンリングを嵌着して成
る。本発明の一例を図面につき説明するに、第1
図に於て1は真空処理槽、2は該処理槽1の下方
に設けられたチタンの溶湯3を収容する蒸発源、
4は該蒸発源2の上方に略水平に横設した回転軸
を示し、該回転軸4は該処理槽1の一方の開閉自
在の側壁5から出し入れ自在の囲枠6に例えば第
3図に明示したように3本並設されると共にその
一端に於て歯車7により回転連結されるようにし
た。該囲枠6はその底部を開放して下方の蒸発源
2からのイオンが流通自在となるようにし、車輪
8により支承されて該処理槽1の内壁のレール
9,9上に位置するようにした。10は該処理槽
1の他方の側壁11に挿通された駆動軸を示し、
これが該処理槽1の外部に設けた駆動電動機12
によりチエン13を介して駆動されるとその回転
はカツプリング14を介して接続した回転軸4の
1本に伝達され、さらに歯車7を介して他の回転
軸4,4が回転されるようにした。各回転軸4に
は例えばプーリー状の導電体からなるホルダ16
の複数個を挿通固定し、各ホルダ16の外周に形
成した凹溝16aに夫々ピストンリング17を嵌
着してこれに該回転軸4による回転と、導電材1
5からの負の高電位とが与えられるようにした。
尚、該ホルダ16の外径は該ピストンリング17
の内径より多少大き目に形成し、該リング17の
嵌着に際してこれに大きな変形を与えぬようにす
ることが好ましい。
またホルダ16の外周面の巾はピストンリング
の巾より大きくしピストンリングをセツトしたホ
ルダを回転軸4に挿通固定した時にピストンリン
グ相互間に適度の間隙を有するようにして摩耗面
であるピストンリング側面にも窒化チタンのイオ
ンプレーテイングを行なえるように構成してもよ
い。この場合凹溝16aは一条に限らず複数条を
適宜間隔を存して設けることも考えられる。
の巾より大きくしピストンリングをセツトしたホ
ルダを回転軸4に挿通固定した時にピストンリン
グ相互間に適度の間隙を有するようにして摩耗面
であるピストンリング側面にも窒化チタンのイオ
ンプレーテイングを行なえるように構成してもよ
い。この場合凹溝16aは一条に限らず複数条を
適宜間隔を存して設けることも考えられる。
さらに図示のものでは該囲枠6の上下に、側壁
11の凹部18,18内へ退去自在のヒータユニ
ツト19,19を設け、これにより該ピストンリ
ング17を加熱し、次いで施される蒸発源2から
のイオンプレーテイングに際しては各ユニツト1
9を各凹部18に収容してこれに備えると共にイ
オンプレーテイング後にピストンリング17が冷
却管31を設けた処理槽1の壁面と対向して迅速
に冷却されるようにした。また該蒸発源2に車輪
20,20を設けて該処理槽1内の左右に移動自
在に構成すると共にこの移動と同時に該蒸発源2
の真上のこれに向けて垂下した中空熱陰極式の電
子銃21も移動されるように構成し、かくて上方
の各ピストンリング17にはその位置関係に左右
されずに蒸発源2の移動により効率良く均等な窒
化チタン、炭化チタン等の被膜が形成されるよう
にした。22は側壁11を該処理槽1の附属機器
と共に側方に取外すための台車で、これに前記駆
動電動機12、ヒータユニツト19,19を退去
させるシリンダ23,23及び蒸発源2と中空熱
陰極式電子銃21を左右動させる電動機24とを
搭載させた。25,25は該電動式24により回
転される左右1対の螺杆を示し、その回転によれ
ばこれに螺合されたスライド部材26と一体の連
杆27,27が該処理槽1内に出没動され、その
先端の蒸発源2及び電子銃21が左右動される。
28は台車22を不動に固定するストツパ、29
は真空ポンプ30に連らなる真空排気孔、31は
冷却管である。
11の凹部18,18内へ退去自在のヒータユニ
ツト19,19を設け、これにより該ピストンリ
ング17を加熱し、次いで施される蒸発源2から
のイオンプレーテイングに際しては各ユニツト1
9を各凹部18に収容してこれに備えると共にイ
オンプレーテイング後にピストンリング17が冷
却管31を設けた処理槽1の壁面と対向して迅速
に冷却されるようにした。また該蒸発源2に車輪
20,20を設けて該処理槽1内の左右に移動自
在に構成すると共にこの移動と同時に該蒸発源2
の真上のこれに向けて垂下した中空熱陰極式の電
子銃21も移動されるように構成し、かくて上方
の各ピストンリング17にはその位置関係に左右
されずに蒸発源2の移動により効率良く均等な窒
化チタン、炭化チタン等の被膜が形成されるよう
にした。22は側壁11を該処理槽1の附属機器
と共に側方に取外すための台車で、これに前記駆
動電動機12、ヒータユニツト19,19を退去
させるシリンダ23,23及び蒸発源2と中空熱
陰極式電子銃21を左右動させる電動機24とを
搭載させた。25,25は該電動式24により回
転される左右1対の螺杆を示し、その回転によれ
ばこれに螺合されたスライド部材26と一体の連
杆27,27が該処理槽1内に出没動され、その
先端の蒸発源2及び電子銃21が左右動される。
28は台車22を不動に固定するストツパ、29
は真空ポンプ30に連らなる真空排気孔、31は
冷却管である。
その作動を説明するに、真空処理槽1の外部に
回転軸4を囲枠6と共に取出しておき、該囲枠6
から取出した回転軸4に予め外周の凹溝16aに
ピストンリング17を嵌着したホルダ16を挿通
したのち該囲枠6に再び取付けて準備を終え、該
ピストンリング17が設けられた回転軸4及び囲
枠6等を該処理槽1の開閉自在の側壁5を介して
その内部に収容し、該回転軸4の1本を駆動軸1
0の先端のカツプリング14に接続する。この場
合該ピストンリング17は有機溶剤に必要に応じ
て浸漬されて粗脱脂したのちPH10を超えない中
性若しくは弱アルカリ洗剤で脱脂し、さらに水洗
とフレオンその他の乾燥液へ浸漬と乾燥する処理
を施されて用意され、その各処理工程に於て超音
波振動機が随時併用され得る。
回転軸4を囲枠6と共に取出しておき、該囲枠6
から取出した回転軸4に予め外周の凹溝16aに
ピストンリング17を嵌着したホルダ16を挿通
したのち該囲枠6に再び取付けて準備を終え、該
ピストンリング17が設けられた回転軸4及び囲
枠6等を該処理槽1の開閉自在の側壁5を介して
その内部に収容し、該回転軸4の1本を駆動軸1
0の先端のカツプリング14に接続する。この場
合該ピストンリング17は有機溶剤に必要に応じ
て浸漬されて粗脱脂したのちPH10を超えない中
性若しくは弱アルカリ洗剤で脱脂し、さらに水洗
とフレオンその他の乾燥液へ浸漬と乾燥する処理
を施されて用意され、その各処理工程に於て超音
波振動機が随時併用され得る。
続いて真空ポンプ30が作動されて該処理槽1
内を真空化すると共に他側の側壁11の凹部1
8,18から突出するヒーターユニツト19,1
9により回転中の回転軸4上のピストンリング1
7が約150℃乃至200℃となるまで加熱される。該
ピストンリング17が加熱されたのち該ヒーター
ユニツト19,19は退去し、中空熱陰極式電子
銃21から電子ビームを蒸発源2へ供給すること
によつて金属を溶融蒸発させ該ヒーターユニツト
19,19に阻害されることなく駆動軸10に接
続されて負の高電位となつたピストンリング17
に附着すると共に該回転軸4と一体となつて回転
するピストンリング17の外周及び側面全体に附
着する。このあと該ピストンリング17は冷却管
31を有する壁面により比較的迅速に冷却され処
理槽1から取出される。
内を真空化すると共に他側の側壁11の凹部1
8,18から突出するヒーターユニツト19,1
9により回転中の回転軸4上のピストンリング1
7が約150℃乃至200℃となるまで加熱される。該
ピストンリング17が加熱されたのち該ヒーター
ユニツト19,19は退去し、中空熱陰極式電子
銃21から電子ビームを蒸発源2へ供給すること
によつて金属を溶融蒸発させ該ヒーターユニツト
19,19に阻害されることなく駆動軸10に接
続されて負の高電位となつたピストンリング17
に附着すると共に該回転軸4と一体となつて回転
するピストンリング17の外周及び側面全体に附
着する。このあと該ピストンリング17は冷却管
31を有する壁面により比較的迅速に冷却され処
理槽1から取出される。
このように本発明によるときは真空処理槽内に
横設した回転軸に、外周に凹溝を形成し負の電位
を印加したプーリ状ホルダを着脱自在に嵌挿し、
該凹溝にピストンリングを嵌着したので該リング
の全周に略均等に窒化チタンをプレーテイング出
来、該リングは回転軸に嵌挿されて低温度で処理
されるので表面処理中に変形を生ずることもなく
その耐久性を向上させ得る等の効果がある。
横設した回転軸に、外周に凹溝を形成し負の電位
を印加したプーリ状ホルダを着脱自在に嵌挿し、
該凹溝にピストンリングを嵌着したので該リング
の全周に略均等に窒化チタンをプレーテイング出
来、該リングは回転軸に嵌挿されて低温度で処理
されるので表面処理中に変形を生ずることもなく
その耐久性を向上させ得る等の効果がある。
第1図は本発明装置の1例の截断正面図、第2
図及び第3図はその拡大した右側面図及び左側面
図、第4図は第1図の−線截断平面図、第5
図は回転軸の斜視図である。 1…真空処理槽、2…蒸発源、4…回転軸、1
6…ホルダ、16a…凹溝、17…ピストンリン
グ。
図及び第3図はその拡大した右側面図及び左側面
図、第4図は第1図の−線截断平面図、第5
図は回転軸の斜視図である。 1…真空処理槽、2…蒸発源、4…回転軸、1
6…ホルダ、16a…凹溝、17…ピストンリン
グ。
Claims (1)
- 1 真空処理槽内のチタンその他の蒸発源の上方
に回転軸を横設してこれに負の高電位を印加した
プーリ状のホルダを着脱自在に嵌挿し、該ホルダ
の外周に1条もしくは複数条の凹溝を形成してこ
れにピストンリングを嵌着して成るピストンリン
グの表面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3633582A JPS58153780A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | ピストンリングの表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3633582A JPS58153780A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | ピストンリングの表面処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58153780A JPS58153780A (ja) | 1983-09-12 |
| JPS6127466B2 true JPS6127466B2 (ja) | 1986-06-25 |
Family
ID=12466953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3633582A Granted JPS58153780A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | ピストンリングの表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58153780A (ja) |
-
1982
- 1982-03-10 JP JP3633582A patent/JPS58153780A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58153780A (ja) | 1983-09-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4443318A (en) | Cathodic sputtering apparatus | |
| JPH04114777A (ja) | 電子部品の乾燥方法 | |
| KR20090042817A (ko) | 코팅 제거 장치 및 그 작동 방법 | |
| KR100466331B1 (ko) | 브레이크 디스크의 표면처리방법 및 그 표면처리 장치 | |
| US3895209A (en) | Metal build-up apparatus | |
| JPS6127466B2 (ja) | ||
| JP2002126584A (ja) | 鋼製ワークの塗装装置並びに鋼製ワークの塗装方法 | |
| KR100988277B1 (ko) | 피처리물 히팅 기능을 구비한 바렐 및 이를 구비한 코팅장치 | |
| CN114178965A (zh) | 一种基于热波嵌入型船舶工业用钢材清洁设备 | |
| CH612697A5 (en) | Process for coating a surface by electrophoresis | |
| CN222251078U (zh) | 电镀设备 | |
| CN215766248U (zh) | 一种青铜电镀件表面均匀烘干装置 | |
| CN210736869U (zh) | 一种减速机蜗杆氮化处理装置 | |
| CN216860918U (zh) | 一种新型特种电缆印字装置 | |
| KR100815846B1 (ko) | 강판 코팅설비의 서포트롤 과열 방지장치 | |
| CN216107179U (zh) | 一种节能环保型真空镀膜机 | |
| KR102869696B1 (ko) | 드라이브 샤프트의 분체 도장 장치 | |
| CN217190520U (zh) | 一种铝箔胶带加工用涂胶装置 | |
| CN215490647U (zh) | 一种便于使用的热风离心干燥机 | |
| CN214603672U (zh) | 一种用于船舶特种除锈爬壁机器人 | |
| KR970001010B1 (ko) | 피스톤의 도금장치 | |
| CN210569505U (zh) | 一种五金材料加工用冷却机 | |
| CN210916312U (zh) | 一种低温镀铁设备 | |
| JPS61204398A (ja) | 金属管内面の電解研磨加工法 | |
| JPS55102464A (en) | Coating pretreatment using atmosphere in heat treatment furnace |