JPS6130268B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
本発明は電子写真フイルムに関する。更に詳し
くは、透明性、及び光導電層との密着性がすぐ
れ、第2原図用として特にすぐれたエレクトロフ
アツクスタイプ電子写真フイルムを提供しようと
するものである。 従来、エレクトロフアツクスタイプの電子写真
には、第2原図用として、酸化亜鉛紙や有機光導
電材料を用いた電子写真用紙が用いられたが、い
ずれも紙をベースとするために、機械的強度が小
さく寸法安定性もよくない。そのため特に工業用
製図分野においては、機械的強度、耐熱性、耐水
性、寸法安定性等の優れた透明フイルムを基体と
して用いた第2原図用電子写真フイルムが望まれ
ていた。 電子写真フイルムとして、フイルム面上に導電
層として金属蒸着層を設け、その上に光導電層を
設けたものが提案されている。ところが、該光導
電層に、酸化亜鉛、セレン、硫化カドミウム等の
如き無機光導電材料を用いたものは、フイルム
に、第2原図用として充分な透光性を付与し得
ず、しかも光導電層の基材フイルムとの密着性も
不充分である。一方、ポリビニルカルバゾールの
如き有機光導電材料を用いた場合は、それ自体の
透光性や均質性があり、或る程度の造膜能を有す
るが、強度が小さく脆いという欠点がある。そこ
で各種樹脂を配合することにより有機光導電層の
物性を改善する方法が提案されている。かかる方
法として、ポリビニルカルバゾール或はその誘導
体にブタジエン・アクリロニトリル共重合体を添
加する方法(特公昭46−43955号公報参照)、ポリ
ビニルカルバゾール或はその誘導体にポリカーボ
ネート或はポリ塩化ビニルを添加する方法(特開
昭50−53048号公報参照)、或は熱可塑性芳香族ポ
リエステルを添加する方法(特開昭50−57440号
公報参照)等がある。また、ヨウ化第1銅を蒸着
したポリエステルフイルム上に、臭素化されたポ
リビニルカルバゾールにポリ酢酸ビニルを添加し
たものの塗膜を形成させる方法も知られている
(特開昭50−57231号公報参照)。しかし、これら
はいずれも充分な光感度を有する光導電層を設け
ると光導電層の基体フイルムとの密着性が不充分
で、耐折強度が不足し、容易に破損し易く、一
方、密着性や耐折強度等の機械的性質を充分改善
しようとすると、光感度が低下するという欠点が
ある。 本発明者は、かかる欠点のない、しかも処理が
煩雑である蒸着処理を要しない電子写真フイルム
について鋭意研究の結果、ポリエステルフイルム
面に「第4級アンモニウム塩を含有するアクリル
系界面活性剤に塩化マグネシウムまたは塩化カル
シウム及び合成微粒子シリカを特定割合で配合し
た塗布液」を塗布することにより導電層を設け、
更にその上から、「塩化ビニル・酢酸ビニル共重
合体、メチロール化アミノ樹脂及びアルキツド樹
脂を特定割合で配合した樹脂混合物」をポリビニ
ルカルバゾールに配合した塗料を塗布することに
より光導電層を設けるならば、光導電層の基材フ
イルムとの密着性がすぐれ、導電層を蒸着によつ
て設ける必要がなく、しかも導電層の導電性が湿
度によつて余り影響されず乾燥時にも電子写真用
途に充分な導電性を保持し、しかも透光性がすぐ
れているので第2原図用に特に好ましく用いられ
る電子写真フイルムが得られることを見出し、本
発明に到達した。 即ち、本発明は、(A)第4級アンモニウム塩を含
有するアクリル系界面活性剤100重量部当り、塩
化マグネシウム及び/または塩化カルシウム1〜
15重量部並びに微粒子シリカ1〜2重量部を配合
した塗布液を塗布されたポリエステルフイルム面
に、(B)ポリ−N−ビニルカルバゾール100重量部
当り「塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体40〜60重
量%、メチロール化アミノ樹脂20〜40重量%、及
びアルキツド樹脂10〜30重量%よりなる樹脂混合
物」10〜20重量部を配合した塗料を塗布されたこ
とを特徴とする電子写真フイルムである。 本発明で用いるポリエステルフイルムは芳香族
線状ポリエステル(その代表的なものとしてポリ
エチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ
レート。ポリエチレンナフタレート等が例示され
る。)のフイルムである。該フイルムは、未配向
でもよいが、配向フイルムの方が好ましく、特に
二軸配向フイルムが好ましい。また該フイルム
は、表面処理されていないものでも、表面処理
(例えば表面化学処理、ブライヤー処理、コロナ
放電処理、マツト化処理等)を施したものでもよ
い。 本発明で用いる「第4級アンモニウム塩を含有
するアクリル系界面活性剤」とは、一般式 〔但し、Rは水素または炭素数4以下のアルキル
基。Xは−OR1、−NH2、
くは、透明性、及び光導電層との密着性がすぐ
れ、第2原図用として特にすぐれたエレクトロフ
アツクスタイプ電子写真フイルムを提供しようと
するものである。 従来、エレクトロフアツクスタイプの電子写真
には、第2原図用として、酸化亜鉛紙や有機光導
電材料を用いた電子写真用紙が用いられたが、い
ずれも紙をベースとするために、機械的強度が小
さく寸法安定性もよくない。そのため特に工業用
製図分野においては、機械的強度、耐熱性、耐水
性、寸法安定性等の優れた透明フイルムを基体と
して用いた第2原図用電子写真フイルムが望まれ
ていた。 電子写真フイルムとして、フイルム面上に導電
層として金属蒸着層を設け、その上に光導電層を
設けたものが提案されている。ところが、該光導
電層に、酸化亜鉛、セレン、硫化カドミウム等の
如き無機光導電材料を用いたものは、フイルム
に、第2原図用として充分な透光性を付与し得
ず、しかも光導電層の基材フイルムとの密着性も
不充分である。一方、ポリビニルカルバゾールの
如き有機光導電材料を用いた場合は、それ自体の
透光性や均質性があり、或る程度の造膜能を有す
るが、強度が小さく脆いという欠点がある。そこ
で各種樹脂を配合することにより有機光導電層の
物性を改善する方法が提案されている。かかる方
法として、ポリビニルカルバゾール或はその誘導
体にブタジエン・アクリロニトリル共重合体を添
加する方法(特公昭46−43955号公報参照)、ポリ
ビニルカルバゾール或はその誘導体にポリカーボ
ネート或はポリ塩化ビニルを添加する方法(特開
昭50−53048号公報参照)、或は熱可塑性芳香族ポ
リエステルを添加する方法(特開昭50−57440号
公報参照)等がある。また、ヨウ化第1銅を蒸着
したポリエステルフイルム上に、臭素化されたポ
リビニルカルバゾールにポリ酢酸ビニルを添加し
たものの塗膜を形成させる方法も知られている
(特開昭50−57231号公報参照)。しかし、これら
はいずれも充分な光感度を有する光導電層を設け
ると光導電層の基体フイルムとの密着性が不充分
で、耐折強度が不足し、容易に破損し易く、一
方、密着性や耐折強度等の機械的性質を充分改善
しようとすると、光感度が低下するという欠点が
ある。 本発明者は、かかる欠点のない、しかも処理が
煩雑である蒸着処理を要しない電子写真フイルム
について鋭意研究の結果、ポリエステルフイルム
面に「第4級アンモニウム塩を含有するアクリル
系界面活性剤に塩化マグネシウムまたは塩化カル
シウム及び合成微粒子シリカを特定割合で配合し
た塗布液」を塗布することにより導電層を設け、
更にその上から、「塩化ビニル・酢酸ビニル共重
合体、メチロール化アミノ樹脂及びアルキツド樹
脂を特定割合で配合した樹脂混合物」をポリビニ
ルカルバゾールに配合した塗料を塗布することに
より光導電層を設けるならば、光導電層の基材フ
イルムとの密着性がすぐれ、導電層を蒸着によつ
て設ける必要がなく、しかも導電層の導電性が湿
度によつて余り影響されず乾燥時にも電子写真用
途に充分な導電性を保持し、しかも透光性がすぐ
れているので第2原図用に特に好ましく用いられ
る電子写真フイルムが得られることを見出し、本
発明に到達した。 即ち、本発明は、(A)第4級アンモニウム塩を含
有するアクリル系界面活性剤100重量部当り、塩
化マグネシウム及び/または塩化カルシウム1〜
15重量部並びに微粒子シリカ1〜2重量部を配合
した塗布液を塗布されたポリエステルフイルム面
に、(B)ポリ−N−ビニルカルバゾール100重量部
当り「塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体40〜60重
量%、メチロール化アミノ樹脂20〜40重量%、及
びアルキツド樹脂10〜30重量%よりなる樹脂混合
物」10〜20重量部を配合した塗料を塗布されたこ
とを特徴とする電子写真フイルムである。 本発明で用いるポリエステルフイルムは芳香族
線状ポリエステル(その代表的なものとしてポリ
エチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ
レート。ポリエチレンナフタレート等が例示され
る。)のフイルムである。該フイルムは、未配向
でもよいが、配向フイルムの方が好ましく、特に
二軸配向フイルムが好ましい。また該フイルム
は、表面処理されていないものでも、表面処理
(例えば表面化学処理、ブライヤー処理、コロナ
放電処理、マツト化処理等)を施したものでもよ
い。 本発明で用いる「第4級アンモニウム塩を含有
するアクリル系界面活性剤」とは、一般式 〔但し、Rは水素または炭素数4以下のアルキル
基。Xは−OR1、−NH2、
【式】
【式】
−NH−Y2−OH、または−NHR。R1、R2、R3、
R4、R5、R6、R7、R8、及びR9は炭素数18以下の
炭化水素基、ヒドロキシアルキル基、またはハロ
ゲン化アルキル基で、特にアルキル基、アルケニ
ル基またはアラルキル基が好ましく、これらは同
一でも相異つてもよい。Y1及びY2は炭素数8以
下の2価の炭化水素基で、特にアルキレン基また
はキシリレン基が好ましく、両者は同一でも相異
なつてもよい。Zはアニオン。〕 で表わされる2種類以上の繰り返し構造単位より
なる重合体であつて、その繰り返し単位の数のう
ち、
R4、R5、R6、R7、R8、及びR9は炭素数18以下の
炭化水素基、ヒドロキシアルキル基、またはハロ
ゲン化アルキル基で、特にアルキル基、アルケニ
ル基またはアラルキル基が好ましく、これらは同
一でも相異つてもよい。Y1及びY2は炭素数8以
下の2価の炭化水素基で、特にアルキレン基また
はキシリレン基が好ましく、両者は同一でも相異
なつてもよい。Zはアニオン。〕 で表わされる2種類以上の繰り返し構造単位より
なる重合体であつて、その繰り返し単位の数のう
ち、
【式】または
【式】
(但し、両者を併用するときは両者の合計)が20
〜80%を占め、しかも
〜80%を占め、しかも
【式】が10〜80%を占める
ような共重合体である。該共重合体は更に繰り返
し構造単位の数のうち、
し構造単位の数のうち、
【式】
【式】及び
【式】
より成る群から選ばれた成分(2種以上を用いる
ときはその合計)を10%以下含む ものが好ましい。該共重合体には、実質的に導電
剤としての性能に悪影響を及ぼさない範囲内で少
量の、前記式1で表わされない繰り返し構造単位
を導入してもよい。かかる要件をみたす共重合体
として、例えば商品名エレコンドPQ−50B、或
はエレコンドB−146(いずれも線研化学K.K.製
品)のものが知られている。 前記アクリル系界面活性剤の塗膜(導電層)を
形成させるに際し、ポリイソシアネート化合物
(分子内にイソシアネート基を2個以上有するも
の)で変性することができる。該変性により塗膜
の耐水性及びベースフイルムとの密着性を更に向
上させることができる。ポリイソシアネート化合
物の配合割合は、前記アクリル系界面活性剤100
重量部当り30重量部以下が好ましい。 本発明では、前記アクリル系界面活性剤と共
に、塩化マグネシウム及び/又は塩化カルシウ
ム、並びに微粒子シリカを配合した塗布液をフイ
ルム面に塗布する。 塩化マグネシウム及び/又は塩化カルシウムの
配合割合は、前記アクリル系界面活性剤100重量
部当り1〜15重量部(両者を併用するときは両者
合計を1〜15重量部)にする。塩化マグネシウム
及び/又は塩化カルシウムが1重量部よりも少い
と導電性が雰囲気の湿度により影響され易いので
好ましくない、また15重量部より多いと雰囲気の
湿度が高いときに塗膜がブロツキングを起し易く
なるので好ましくない。(これらの塩として結晶
水を含有するものを用いるときは、前記配合割合
は結晶水を除いた部分についてのものであること
は言うまでもない。) 微粒子シリカの配合割合は、前記アクリル系界
面活性剤100重量部当り1〜2重量部にする。微
粒子シリカをかかる割合で配合することにより低
湿度雰囲気下での導電性が著しく改良され、低湿
度雰囲気下においても電子写真フイルムの導電層
として用いることができるようになる。ここで用
いる微粒子シリカは平均粒径が余り大きすぎると
導電層表面がザラザラした感触になり、その上に
設ける光導電層の厚さむらが大きくなるので、平
均粒径10μ以下のものが好ましい。微粒子シリカ
は平均粒径7mμ程度の細かいものも得られる
が、本発明ではこのようなものは勿論、更に細か
いものも用い得る。なお、ここにいう平均粒径は
サブシープサイザー法によつて計測された値であ
る。 「前記アクリル系界面活性剤」に「塩化マグネ
シウム及び/又は塩化カルシウム」並びに「微粒
子シリカ」を配合した塗布液を作るには「前記ア
クリル系界面活性剤」と「塩化マグネシウム及
び/又は塩化カルシウム」を共に溶解し得るよう
な溶媒に、両者を溶解させ、更に「微粒子シリ
カ」を分散させればよい。好ましく用いられる溶
媒として、水、アルコール類(例えばメチルアル
コール、エチルアルコールイソプロピルアルコー
ル等)、グリコール類(例えばエチレングリコー
ル、プロピレングリコール等)、セロソルブ類
(例えばメチルセロソルブ等)、環状エーテル類
(例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等)、ケ
トン類(例えばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等)が例示される。これ
らの2種以上の混合物を溶媒として用いてもよい
ことは言うまでもない。 塗布液の濃度は、フイルムに対する液の塗布量
を考慮して決定すべきである。「前記アクリル系
界面活性剤」「塩化マグネシウム及び/又は塩化
カルシウム」並びに「微粒子シリカ」の合計が、
フイルムの塗布面1m2当り2〜5gとなるように
塗布液の濃度及び塗布量を決めるのが好ましい。
フイルム面に塗布した後乾燥する(溶媒を除去す
る)と、導電層が設けられたフイルムが得られ
る。塗布及び乾燥は常法を採用すればよい。また
フイルムの片面のみに塗布しても両面に塗布して
もよい。 本発明では、このようにして導電層を設けたポ
リエステルフイルムの導電層の上に、ポリ−N−
ビニルカルバゾール100重量部当り「塩化ビニ
ル・酢酸ビニル共重合体40〜60重量%、メチロー
ル化アミノ樹脂20〜40重量%及びアルキツド樹脂
10〜30重量%よりなる樹脂混合物」10〜20重量部
を配合した塗料を塗布することにより光導電層を
設ける。 本発明に用いる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合
体とは、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体を部分
鹸化し、分子鎖中にOH基を含有させた重合度が
約400〜600の樹脂である。該塩化ビニル・酢酸ビ
ニル重合体は、塩化ビニル成分が91〜95モル%で
酢酸ビニル成分が9〜5モル%からなる共重合体
をアルカリにより部分鹸化し、ビニルアルコール
成分が全体の7〜10モル%を占めるように変性を
行なつたものが良く、具体的には、エスレツクA
(商品名;積水化学K.K.製)やVAGH(商品名;
UCC社製)等が例示される。 メチロール化アミノ樹脂には、メチロール化尿
素樹脂、メチロール化メラミン樹脂、メチロール
化ベンゾグアナミン樹脂などがあり、いずれも本
発明に使用し得るが、メチロール化メラミン樹脂
が特に好ましい。またメチロール化アミン樹脂末
端基がブチルエーテル化されたものあるいはメト
キシ化されたものが他樹脂との相溶性が向上する
ため好ましい。具体的には、メラン20、メラン
22、メラン23、メラン26、メラン27、メラン28
(商品名;いずれも日立化成K.K.製):ニカラツ
クMW−30、ニカラツクMW−22、ニカラツク
MW−11(商品名;いずれも三和ケミカルK.K.
製)等が例示される。 本発明で用いるアルキツド樹脂は、不乾性油型
アルキツド樹脂で、無水フタル酸、イソフタル酸
等の芳香族ジカルボン酸と多価アルコール及び飽
和脂肪酸を重縮合させた酸価が7以下のポリエス
テル樹脂である。多価アルコールとしては、グリ
セリン、ペンタエリスリトール、トリメチロール
プロパン、トリメチロールエタン、1・2・6−
ヘキサントリオール等の3価以上のアルコールが
用いられる。飽和脂肪酸としては、通常やし油脂
肪酸、しまし油脂肪酸等が用いられるが、カプロ
ン酸、カプリル酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、
パルチミン酸、ステアリン酸等の遊離飽和脂肪酸
の1種あるいは2種以上の混合物も使用し得る。
芳香族ジカルボン酸、多価アルコール、飽和脂肪
酸等を重縮合させるには公知方法も用いればよ
い。かかる不乾性油型アルキツド樹脂の市販品と
しては、フタルキツドM−132−60、フタルキツ
ド133−60、フタルキツド133−60T(商品名;い
ずれも日立化成K.K.製):ベツコゾール3223、
ベツコゾール3233(商品名;いずれも日本ライヒ
ホールドK.K.製)等が例示される。 これらの樹脂のうち、メチロール化アミノ樹脂
は焼付けによりポリエステルフイルムの表面によ
く密着する塗膜を形成するが、塗膜が硬く屈曲に
よりクレイズ等の如き割れ目を発生し易い。この
欠点を、前記部分鹸化塩化ビニル・酢酸ビニル共
重合体と前記アルキツド樹脂とを前記割合で配合
することによりなくするものであつて、主として
前者は塗膜に強靭さや耐擦傷性を付与し、後者が
塗膜に柔軟性を付与する。前者は部分鹸化されて
いるため焼付けの際にOH基がメチロール化アミ
ノ樹脂と反応して不溶化する。従つて塗膜の耐溶
剤性もすぐれる。 本発明では光導電層に平均粒子径10mμ〜10μ
の無機微粉末(マツト化剤)を配合して筆記性を
改善することができる。優れた筆記性を付与する
にはポリ−N−ビニルカルバゾール100重量部当
り該無機微粉末5〜20重量部を配合するのが好ま
しい。好ましく用いられる無機微粉末として、モ
ース硬度が5〜6で平均粒子径が4〜5μの酸化
珪素(SiO2)及び酸化アルミニウム(Al2O3)を主
成分とする霞閃石長石微粉末20〜40重量%、」平
均粒子径15〜40mμの無定形合成シリカ微粉末20
〜40重量%に、「平均粒子径2〜7μの合成微粉
末シリカ」、「平均粒子径0.1〜5μの微粉末アル
ミナ」、「酸化珪素(SiO3)及び酸化アルミニウム
(Al2O3)及び酸化マグネシウム(MgO)を主成分
とする平均粒子径2〜7μの酸素酸塩」若しくは
「酸化マグネシウム(MgO)及び酸化カルシウム
(CaO)を主成分とする平均粒子径0.1〜5μの酸
素酸塩」を20〜40重量%を加えた混合物、或はこ
れら3種類の混合物100重量部当り、平均粒子径
30mμの酸化チタン(TiO2)を主成分とする増白
剤5〜20重量部添加したものが例示される。 本発明ではポリ−N−ビニルカルバゾールの感
度を高めるために、増感剤を添加することができ
る。該増感剤には、色素増感剤として、クリスタ
ルバイオレツト、メチレンバイオレツト等のトリ
フエニルメタン素色素やそのカルボニウム塩;エ
オシン、エリスロシン、フルオレセイン等のキサ
ンテン系色素;メチレンブルー、ナイルブルー等
のチアジン系色素;その他アクリジン系色素;ア
ジン系色素;トリアジン系色素;シアニン系色
素;スチリル系色素;アゾ系色素等が、また化学
増感剤として、金属ハロゲン類;カルボン酸;有
機スルホン酸;テトラシアノエチレン、テトラシ
アノキノジメタン等のポリシアン化合物;キノ
ン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン、
テトラブロムナフトジキノン等のキノン類;2・
4・7−トリニトロフルオレノン、2・4・5・
7−テトラニトロフルオレノン等のニトロフルオ
レノン化合物;9−ジシアノメチレン−2・4・
7−トリニトロフルオレン等のニトロフルオレノ
ン誘導体等が例示される。これらの中には増感作
用を有するが、その添加割合を多くすると色相を
悪化させるものもあるので、充分高感度に増感で
き、しかも色相を悪化させないためには、2・
4・7−トリニトロフルオレノン、2・4・5・
7−テトラニトロフルオレノン等の如き電子受容
性ニトロ化合物を用いるのが好ましい。増感剤は
ポリ−N−ビニルカルバゾール100重量部当り0.5
〜1.5重量部の割合で配合するのが好ましい。 また必要に応じて、色相を改善するために、少
量の紫色系或は青色系染料を光電層に添加しても
よい。 光導電層を設けるには、ポリエステルフイルム
の前記アクリル系界面活性剤等を含有する液を塗
布乾燥された(即ち、導電層を設けられた)フイ
ルム面に、ポリ−N−ビニルカルバゾール塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体、メチロール化アミノ
樹脂、アルキツド樹脂等(その他の添加剤があれ
ばそれらも)を含有する塗料を塗付乾燥すればよ
い。該塗料の溶媒は、これらのポリマーを溶解し
得るものなら何でも用い得るが下塗りされている
導電層に用いられたアクリル系界面活性剤の貧溶
媒ないし非溶媒であるテトラヒドロフラン、或は
芳香族炭化水素またはその誘導体(例えばベンゼ
ン、トルエン、モノクロルベンゼン等)を用いる
のが好ましい。或は導電層がポリイソシアネート
化合物により変性(架橋)されているときは、ケ
トン類、エステル類等の如きアクリル系界面活性
剤の良溶媒も好ましく用いられる。本発明におい
ては、光導電層を設ける際に、下塗りされている
導電層が膨潤したりたの表層部が溶けて、光導電
層との間に明瞭な境界がなくなつても何ら差支え
ない。 導電層を設けたフイルム面に、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールを含有する塗料を塗布するには、
フロー塗布、ロール塗布、ドクターナイフ塗布、
エヤーナイフ塗布、スプレー塗布等の方法を採用
すると、高速で連続操作でき均質な塗膜が得られ
るので、便利である。塗布量は全樹脂分(ポリ−
N−ビニルカルバゾールを含む)がフイルム面1
m2当り5g〜10gとなるようにするのが好まし
い。塗膜は80〜150℃で乾燥硬化せしめるとよ
い。 本発明の電子写真フイルムは、湿度の高低によ
らず常に高感度を保持でき、塗膜のベースフイル
ムに対する密着性もすぐれ、もみテストに対する
耐性も大きい。またフイルムの透光性、寸法安定
性、機械的強度等も大きいので、特に第2原図用
とすぐれた性能を有する。またマツト化剤を添加
したものは、容易に加筆修正できるので、特に製
図分野においてマイクロフイルムからの拡大複写
や、密着透過方式の複写或は反射光方式複写によ
るA−1若しくはA−0までの幅広い用途に適す
る。 次に図面により、本発明の電子写真フイルムの
特性を説明する。第1図は、フイルム面1m2当り
固型分3gの割合で、本発明で用いる前記アクリ
ル系界面活性剤等を含有する液をフイルム1m2当
り固形分3gの割合で塗布して導電層を設け、更
にその上に、ポリ−N−ビニルカルバゾール80重
量部、接着剤10重量部、マツト化剤10重量部及び
増感剤0.8重量部を配合した塗料を、全固形分が
フイルム1m2当り10gの割合で塗布して光導電層
を設けた電子写真フイルムの20℃における電位特
性の一例を示す図で、曲線Aが相対湿度30%の場
合、曲線Bが相対湿度60%の場合である。この結
果から、この電子写真フイルムは低湿度時にも良
好な光感度を有することが判る。第2図は、導電
層として前記アクリル系界面活性剤のみよりなる
「塩化マグネシウム或は塩化カルシウム」も微粒
子シリカを含有しないものをフイルム1m2当り固
形分3gの割合で塗布したものの上に、第1図の
場合と同様の光導電層を設けた電子写真フイルム
の20℃における電位特性を示す図で、曲線Cが相
対湿度30%の場合、曲線Dが相対湿度60%の場合
である。この結果から、この電子写真フイルム
は、低湿度時の光感度が悪く、高湿度時には暗減
襄が大きい傾向がある。 以下、実施例により本発明を詳述する。 実施例 1 ポリ−N−ビニルカルバゾール80gをテトラヒ
ドロフランとトルエンの混合溶剤(重量比2:
8)720gに溶解し、濃度10重量%とする。接着
剤液として、部分鹸化、塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体(商品名“VAGH”;UCC社製。樹脂分
濃度20重量%)250gとブチルエーテル化メチル
メラミン樹脂(商品名“メラン−20”;日立化成
K.K.製。樹脂分濃度50重量%)60gと不乾性油
型アルキツド樹脂(商品名“フタルキツドM132
−60”;日立化成K.K.製。樹脂分濃度60重量
%)33gとを混合した樹脂分にテトラヒドロフラ
ン180gとトルエン477gを加えて、テトラヒドロ
フランとその他の溶剤との重量比が、2:8とな
るようにし樹脂分濃度が10重量%の接着剤液を調
製した前記ポリ−N−ビニルカルバゾール液90g
に接着剤液10gを混合し、更にマツト化剤として
霞石閃長石微粉末(商品名“Minex7”;Canada
Indusmin社製)0.33g、合成微粒末シリカ(商
品名“サイロイド308”;富士デ・ヴイソンK.K.
製。)0.33g、無定形合成シリカ微粉末(商品名
“R−972”日本アエロジルK.K.製)0.33gを加
え、ボールミルで24時間分散せしめて得た塗料を
Aとする。次に、前記ポリ−N−ビニルカルバゾ
ール溶液(濃度10重量%)80gに、前記接着剤液
(樹脂分濃度10重量%)20gを混合し、更に、液
Aの場合と全く同量のマツト化剤を加え、ボール
ミルで24時間分散せしめて得た塗料をBとする。
同様に、前記ポリ−N−ビニルカルバゾール溶液
70gに前記接着剤液30gの割合にし、液Aの場合
と全く同量のマツト化剤を加えた塗料をC、前記
ポリ−N−ビニルカルバゾール溶液60gに前記接
着剤液40gの割合にし、液Aの場合と全く同量の
マツト化剤を加えた塗料をDとした。 ポリエステルフイルムに導電層を設けるための
塗布液として、第4級アンモニウム塩を含有する
アクリル系界面活性剤(商品名“エレコンドB−
146”、綜研化学K.K.製。固形分濃度40重量%)
100g、ポリイソシアネート化合物(商品名“デ
スモジユールN−75”、バイエル社製。固形分濃
度75重量%)12g、塩化マグネシウム・6水塩
(MgCl2・6H2O)4.90g、平均粒径7μの合成微
粉末シリカ(商品名“サイロイド308”、富士デヴ
イソンK.K.製)0.98gをメチルエチルケトン、ト
ルエン、エチルセロソルブの混合溶剤(重量比
1:1:1)145gに加えて、撹拌混合すること
により溶解ないし分散せしめて塗布液を調製し
た。該塗布液を厚さ50μの二軸配向ポリエステル
フイルムに固形分付着量3g/m2となるように塗
布したものを基材a、膜厚50μの二軸配向ポリエ
ステルフイルムにポリアミンスルホン(商品名
“PAS−88”;東洋紡K.K.製。固形分濃度35重量
%)22.9g、ポリビニルアルコール(商品名“ポ
バールA”;信越化学K.K.製)1.0g、アクリル
酸エステル樹脂エマルジヨン(商品名“サイビノ
ールEC6701”;サイデン化学K.K.製。固形分濃
度40重量%)2.5g、水140.3gを混合したもの
を、膜厚50μのコロナ処理された二軸配向ポリエ
ステルフイルムに固形分付着量1g/m2の割合で
塗布したものを基材b、アルミニウム蒸着ポリエ
ステルフイルムを基材Cとした。 次に前記塗料A、B、CまたはDを、基材a、
bまたはcの導電層の上にそれぞれ固形分付着量
10g/m2の割合でバーコーターで塗布して、80℃
で3分間乾燥した。 それから常温常湿中に1時間放置した後、密着
性の評価を行なつた。評価は膜面10mm×10mm間隔
のゴバン目の傷を2層の膜厚より深く100個つ
け、セロテープをその面に付着させた後、そのセ
ロテープを剥し、セロテープによつて剥離せずに
残つている塗膜のゴバン目数Nを求め、N/100
で密着性の良否を判定した。第1表にこの結果を
示す。なお、塗料中のポリ−N−ビニルカルバゾ
ール分と接着剤成分との相溶性の良否も第1表に
併記する。
ときはその合計)を10%以下含む ものが好ましい。該共重合体には、実質的に導電
剤としての性能に悪影響を及ぼさない範囲内で少
量の、前記式1で表わされない繰り返し構造単位
を導入してもよい。かかる要件をみたす共重合体
として、例えば商品名エレコンドPQ−50B、或
はエレコンドB−146(いずれも線研化学K.K.製
品)のものが知られている。 前記アクリル系界面活性剤の塗膜(導電層)を
形成させるに際し、ポリイソシアネート化合物
(分子内にイソシアネート基を2個以上有するも
の)で変性することができる。該変性により塗膜
の耐水性及びベースフイルムとの密着性を更に向
上させることができる。ポリイソシアネート化合
物の配合割合は、前記アクリル系界面活性剤100
重量部当り30重量部以下が好ましい。 本発明では、前記アクリル系界面活性剤と共
に、塩化マグネシウム及び/又は塩化カルシウ
ム、並びに微粒子シリカを配合した塗布液をフイ
ルム面に塗布する。 塩化マグネシウム及び/又は塩化カルシウムの
配合割合は、前記アクリル系界面活性剤100重量
部当り1〜15重量部(両者を併用するときは両者
合計を1〜15重量部)にする。塩化マグネシウム
及び/又は塩化カルシウムが1重量部よりも少い
と導電性が雰囲気の湿度により影響され易いので
好ましくない、また15重量部より多いと雰囲気の
湿度が高いときに塗膜がブロツキングを起し易く
なるので好ましくない。(これらの塩として結晶
水を含有するものを用いるときは、前記配合割合
は結晶水を除いた部分についてのものであること
は言うまでもない。) 微粒子シリカの配合割合は、前記アクリル系界
面活性剤100重量部当り1〜2重量部にする。微
粒子シリカをかかる割合で配合することにより低
湿度雰囲気下での導電性が著しく改良され、低湿
度雰囲気下においても電子写真フイルムの導電層
として用いることができるようになる。ここで用
いる微粒子シリカは平均粒径が余り大きすぎると
導電層表面がザラザラした感触になり、その上に
設ける光導電層の厚さむらが大きくなるので、平
均粒径10μ以下のものが好ましい。微粒子シリカ
は平均粒径7mμ程度の細かいものも得られる
が、本発明ではこのようなものは勿論、更に細か
いものも用い得る。なお、ここにいう平均粒径は
サブシープサイザー法によつて計測された値であ
る。 「前記アクリル系界面活性剤」に「塩化マグネ
シウム及び/又は塩化カルシウム」並びに「微粒
子シリカ」を配合した塗布液を作るには「前記ア
クリル系界面活性剤」と「塩化マグネシウム及
び/又は塩化カルシウム」を共に溶解し得るよう
な溶媒に、両者を溶解させ、更に「微粒子シリ
カ」を分散させればよい。好ましく用いられる溶
媒として、水、アルコール類(例えばメチルアル
コール、エチルアルコールイソプロピルアルコー
ル等)、グリコール類(例えばエチレングリコー
ル、プロピレングリコール等)、セロソルブ類
(例えばメチルセロソルブ等)、環状エーテル類
(例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等)、ケ
トン類(例えばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等)が例示される。これ
らの2種以上の混合物を溶媒として用いてもよい
ことは言うまでもない。 塗布液の濃度は、フイルムに対する液の塗布量
を考慮して決定すべきである。「前記アクリル系
界面活性剤」「塩化マグネシウム及び/又は塩化
カルシウム」並びに「微粒子シリカ」の合計が、
フイルムの塗布面1m2当り2〜5gとなるように
塗布液の濃度及び塗布量を決めるのが好ましい。
フイルム面に塗布した後乾燥する(溶媒を除去す
る)と、導電層が設けられたフイルムが得られ
る。塗布及び乾燥は常法を採用すればよい。また
フイルムの片面のみに塗布しても両面に塗布して
もよい。 本発明では、このようにして導電層を設けたポ
リエステルフイルムの導電層の上に、ポリ−N−
ビニルカルバゾール100重量部当り「塩化ビニ
ル・酢酸ビニル共重合体40〜60重量%、メチロー
ル化アミノ樹脂20〜40重量%及びアルキツド樹脂
10〜30重量%よりなる樹脂混合物」10〜20重量部
を配合した塗料を塗布することにより光導電層を
設ける。 本発明に用いる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合
体とは、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体を部分
鹸化し、分子鎖中にOH基を含有させた重合度が
約400〜600の樹脂である。該塩化ビニル・酢酸ビ
ニル重合体は、塩化ビニル成分が91〜95モル%で
酢酸ビニル成分が9〜5モル%からなる共重合体
をアルカリにより部分鹸化し、ビニルアルコール
成分が全体の7〜10モル%を占めるように変性を
行なつたものが良く、具体的には、エスレツクA
(商品名;積水化学K.K.製)やVAGH(商品名;
UCC社製)等が例示される。 メチロール化アミノ樹脂には、メチロール化尿
素樹脂、メチロール化メラミン樹脂、メチロール
化ベンゾグアナミン樹脂などがあり、いずれも本
発明に使用し得るが、メチロール化メラミン樹脂
が特に好ましい。またメチロール化アミン樹脂末
端基がブチルエーテル化されたものあるいはメト
キシ化されたものが他樹脂との相溶性が向上する
ため好ましい。具体的には、メラン20、メラン
22、メラン23、メラン26、メラン27、メラン28
(商品名;いずれも日立化成K.K.製):ニカラツ
クMW−30、ニカラツクMW−22、ニカラツク
MW−11(商品名;いずれも三和ケミカルK.K.
製)等が例示される。 本発明で用いるアルキツド樹脂は、不乾性油型
アルキツド樹脂で、無水フタル酸、イソフタル酸
等の芳香族ジカルボン酸と多価アルコール及び飽
和脂肪酸を重縮合させた酸価が7以下のポリエス
テル樹脂である。多価アルコールとしては、グリ
セリン、ペンタエリスリトール、トリメチロール
プロパン、トリメチロールエタン、1・2・6−
ヘキサントリオール等の3価以上のアルコールが
用いられる。飽和脂肪酸としては、通常やし油脂
肪酸、しまし油脂肪酸等が用いられるが、カプロ
ン酸、カプリル酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、
パルチミン酸、ステアリン酸等の遊離飽和脂肪酸
の1種あるいは2種以上の混合物も使用し得る。
芳香族ジカルボン酸、多価アルコール、飽和脂肪
酸等を重縮合させるには公知方法も用いればよ
い。かかる不乾性油型アルキツド樹脂の市販品と
しては、フタルキツドM−132−60、フタルキツ
ド133−60、フタルキツド133−60T(商品名;い
ずれも日立化成K.K.製):ベツコゾール3223、
ベツコゾール3233(商品名;いずれも日本ライヒ
ホールドK.K.製)等が例示される。 これらの樹脂のうち、メチロール化アミノ樹脂
は焼付けによりポリエステルフイルムの表面によ
く密着する塗膜を形成するが、塗膜が硬く屈曲に
よりクレイズ等の如き割れ目を発生し易い。この
欠点を、前記部分鹸化塩化ビニル・酢酸ビニル共
重合体と前記アルキツド樹脂とを前記割合で配合
することによりなくするものであつて、主として
前者は塗膜に強靭さや耐擦傷性を付与し、後者が
塗膜に柔軟性を付与する。前者は部分鹸化されて
いるため焼付けの際にOH基がメチロール化アミ
ノ樹脂と反応して不溶化する。従つて塗膜の耐溶
剤性もすぐれる。 本発明では光導電層に平均粒子径10mμ〜10μ
の無機微粉末(マツト化剤)を配合して筆記性を
改善することができる。優れた筆記性を付与する
にはポリ−N−ビニルカルバゾール100重量部当
り該無機微粉末5〜20重量部を配合するのが好ま
しい。好ましく用いられる無機微粉末として、モ
ース硬度が5〜6で平均粒子径が4〜5μの酸化
珪素(SiO2)及び酸化アルミニウム(Al2O3)を主
成分とする霞閃石長石微粉末20〜40重量%、」平
均粒子径15〜40mμの無定形合成シリカ微粉末20
〜40重量%に、「平均粒子径2〜7μの合成微粉
末シリカ」、「平均粒子径0.1〜5μの微粉末アル
ミナ」、「酸化珪素(SiO3)及び酸化アルミニウム
(Al2O3)及び酸化マグネシウム(MgO)を主成分
とする平均粒子径2〜7μの酸素酸塩」若しくは
「酸化マグネシウム(MgO)及び酸化カルシウム
(CaO)を主成分とする平均粒子径0.1〜5μの酸
素酸塩」を20〜40重量%を加えた混合物、或はこ
れら3種類の混合物100重量部当り、平均粒子径
30mμの酸化チタン(TiO2)を主成分とする増白
剤5〜20重量部添加したものが例示される。 本発明ではポリ−N−ビニルカルバゾールの感
度を高めるために、増感剤を添加することができ
る。該増感剤には、色素増感剤として、クリスタ
ルバイオレツト、メチレンバイオレツト等のトリ
フエニルメタン素色素やそのカルボニウム塩;エ
オシン、エリスロシン、フルオレセイン等のキサ
ンテン系色素;メチレンブルー、ナイルブルー等
のチアジン系色素;その他アクリジン系色素;ア
ジン系色素;トリアジン系色素;シアニン系色
素;スチリル系色素;アゾ系色素等が、また化学
増感剤として、金属ハロゲン類;カルボン酸;有
機スルホン酸;テトラシアノエチレン、テトラシ
アノキノジメタン等のポリシアン化合物;キノ
ン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン、
テトラブロムナフトジキノン等のキノン類;2・
4・7−トリニトロフルオレノン、2・4・5・
7−テトラニトロフルオレノン等のニトロフルオ
レノン化合物;9−ジシアノメチレン−2・4・
7−トリニトロフルオレン等のニトロフルオレノ
ン誘導体等が例示される。これらの中には増感作
用を有するが、その添加割合を多くすると色相を
悪化させるものもあるので、充分高感度に増感で
き、しかも色相を悪化させないためには、2・
4・7−トリニトロフルオレノン、2・4・5・
7−テトラニトロフルオレノン等の如き電子受容
性ニトロ化合物を用いるのが好ましい。増感剤は
ポリ−N−ビニルカルバゾール100重量部当り0.5
〜1.5重量部の割合で配合するのが好ましい。 また必要に応じて、色相を改善するために、少
量の紫色系或は青色系染料を光電層に添加しても
よい。 光導電層を設けるには、ポリエステルフイルム
の前記アクリル系界面活性剤等を含有する液を塗
布乾燥された(即ち、導電層を設けられた)フイ
ルム面に、ポリ−N−ビニルカルバゾール塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体、メチロール化アミノ
樹脂、アルキツド樹脂等(その他の添加剤があれ
ばそれらも)を含有する塗料を塗付乾燥すればよ
い。該塗料の溶媒は、これらのポリマーを溶解し
得るものなら何でも用い得るが下塗りされている
導電層に用いられたアクリル系界面活性剤の貧溶
媒ないし非溶媒であるテトラヒドロフラン、或は
芳香族炭化水素またはその誘導体(例えばベンゼ
ン、トルエン、モノクロルベンゼン等)を用いる
のが好ましい。或は導電層がポリイソシアネート
化合物により変性(架橋)されているときは、ケ
トン類、エステル類等の如きアクリル系界面活性
剤の良溶媒も好ましく用いられる。本発明におい
ては、光導電層を設ける際に、下塗りされている
導電層が膨潤したりたの表層部が溶けて、光導電
層との間に明瞭な境界がなくなつても何ら差支え
ない。 導電層を設けたフイルム面に、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールを含有する塗料を塗布するには、
フロー塗布、ロール塗布、ドクターナイフ塗布、
エヤーナイフ塗布、スプレー塗布等の方法を採用
すると、高速で連続操作でき均質な塗膜が得られ
るので、便利である。塗布量は全樹脂分(ポリ−
N−ビニルカルバゾールを含む)がフイルム面1
m2当り5g〜10gとなるようにするのが好まし
い。塗膜は80〜150℃で乾燥硬化せしめるとよ
い。 本発明の電子写真フイルムは、湿度の高低によ
らず常に高感度を保持でき、塗膜のベースフイル
ムに対する密着性もすぐれ、もみテストに対する
耐性も大きい。またフイルムの透光性、寸法安定
性、機械的強度等も大きいので、特に第2原図用
とすぐれた性能を有する。またマツト化剤を添加
したものは、容易に加筆修正できるので、特に製
図分野においてマイクロフイルムからの拡大複写
や、密着透過方式の複写或は反射光方式複写によ
るA−1若しくはA−0までの幅広い用途に適す
る。 次に図面により、本発明の電子写真フイルムの
特性を説明する。第1図は、フイルム面1m2当り
固型分3gの割合で、本発明で用いる前記アクリ
ル系界面活性剤等を含有する液をフイルム1m2当
り固形分3gの割合で塗布して導電層を設け、更
にその上に、ポリ−N−ビニルカルバゾール80重
量部、接着剤10重量部、マツト化剤10重量部及び
増感剤0.8重量部を配合した塗料を、全固形分が
フイルム1m2当り10gの割合で塗布して光導電層
を設けた電子写真フイルムの20℃における電位特
性の一例を示す図で、曲線Aが相対湿度30%の場
合、曲線Bが相対湿度60%の場合である。この結
果から、この電子写真フイルムは低湿度時にも良
好な光感度を有することが判る。第2図は、導電
層として前記アクリル系界面活性剤のみよりなる
「塩化マグネシウム或は塩化カルシウム」も微粒
子シリカを含有しないものをフイルム1m2当り固
形分3gの割合で塗布したものの上に、第1図の
場合と同様の光導電層を設けた電子写真フイルム
の20℃における電位特性を示す図で、曲線Cが相
対湿度30%の場合、曲線Dが相対湿度60%の場合
である。この結果から、この電子写真フイルム
は、低湿度時の光感度が悪く、高湿度時には暗減
襄が大きい傾向がある。 以下、実施例により本発明を詳述する。 実施例 1 ポリ−N−ビニルカルバゾール80gをテトラヒ
ドロフランとトルエンの混合溶剤(重量比2:
8)720gに溶解し、濃度10重量%とする。接着
剤液として、部分鹸化、塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体(商品名“VAGH”;UCC社製。樹脂分
濃度20重量%)250gとブチルエーテル化メチル
メラミン樹脂(商品名“メラン−20”;日立化成
K.K.製。樹脂分濃度50重量%)60gと不乾性油
型アルキツド樹脂(商品名“フタルキツドM132
−60”;日立化成K.K.製。樹脂分濃度60重量
%)33gとを混合した樹脂分にテトラヒドロフラ
ン180gとトルエン477gを加えて、テトラヒドロ
フランとその他の溶剤との重量比が、2:8とな
るようにし樹脂分濃度が10重量%の接着剤液を調
製した前記ポリ−N−ビニルカルバゾール液90g
に接着剤液10gを混合し、更にマツト化剤として
霞石閃長石微粉末(商品名“Minex7”;Canada
Indusmin社製)0.33g、合成微粒末シリカ(商
品名“サイロイド308”;富士デ・ヴイソンK.K.
製。)0.33g、無定形合成シリカ微粉末(商品名
“R−972”日本アエロジルK.K.製)0.33gを加
え、ボールミルで24時間分散せしめて得た塗料を
Aとする。次に、前記ポリ−N−ビニルカルバゾ
ール溶液(濃度10重量%)80gに、前記接着剤液
(樹脂分濃度10重量%)20gを混合し、更に、液
Aの場合と全く同量のマツト化剤を加え、ボール
ミルで24時間分散せしめて得た塗料をBとする。
同様に、前記ポリ−N−ビニルカルバゾール溶液
70gに前記接着剤液30gの割合にし、液Aの場合
と全く同量のマツト化剤を加えた塗料をC、前記
ポリ−N−ビニルカルバゾール溶液60gに前記接
着剤液40gの割合にし、液Aの場合と全く同量の
マツト化剤を加えた塗料をDとした。 ポリエステルフイルムに導電層を設けるための
塗布液として、第4級アンモニウム塩を含有する
アクリル系界面活性剤(商品名“エレコンドB−
146”、綜研化学K.K.製。固形分濃度40重量%)
100g、ポリイソシアネート化合物(商品名“デ
スモジユールN−75”、バイエル社製。固形分濃
度75重量%)12g、塩化マグネシウム・6水塩
(MgCl2・6H2O)4.90g、平均粒径7μの合成微
粉末シリカ(商品名“サイロイド308”、富士デヴ
イソンK.K.製)0.98gをメチルエチルケトン、ト
ルエン、エチルセロソルブの混合溶剤(重量比
1:1:1)145gに加えて、撹拌混合すること
により溶解ないし分散せしめて塗布液を調製し
た。該塗布液を厚さ50μの二軸配向ポリエステル
フイルムに固形分付着量3g/m2となるように塗
布したものを基材a、膜厚50μの二軸配向ポリエ
ステルフイルムにポリアミンスルホン(商品名
“PAS−88”;東洋紡K.K.製。固形分濃度35重量
%)22.9g、ポリビニルアルコール(商品名“ポ
バールA”;信越化学K.K.製)1.0g、アクリル
酸エステル樹脂エマルジヨン(商品名“サイビノ
ールEC6701”;サイデン化学K.K.製。固形分濃
度40重量%)2.5g、水140.3gを混合したもの
を、膜厚50μのコロナ処理された二軸配向ポリエ
ステルフイルムに固形分付着量1g/m2の割合で
塗布したものを基材b、アルミニウム蒸着ポリエ
ステルフイルムを基材Cとした。 次に前記塗料A、B、CまたはDを、基材a、
bまたはcの導電層の上にそれぞれ固形分付着量
10g/m2の割合でバーコーターで塗布して、80℃
で3分間乾燥した。 それから常温常湿中に1時間放置した後、密着
性の評価を行なつた。評価は膜面10mm×10mm間隔
のゴバン目の傷を2層の膜厚より深く100個つ
け、セロテープをその面に付着させた後、そのセ
ロテープを剥し、セロテープによつて剥離せずに
残つている塗膜のゴバン目数Nを求め、N/100
で密着性の良否を判定した。第1表にこの結果を
示す。なお、塗料中のポリ−N−ビニルカルバゾ
ール分と接着剤成分との相溶性の良否も第1表に
併記する。
【表】
ブランクは基材として、コロナ放電処理をせず
導電層も設けない二軸配向ポリエステルフイルム
を用いた場合である。 以上の結果から、基材aを用いた場合のみ塗膜
の密着性が良好であり、基材bや基材cはブラン
クよりも密着性がよくないことが判る。基材aを
用いたものは、最も接着剤含有率が少くポリ−N
−ビニルカルバゾール含有率の多い塗料Aの場合
でも優れた密着性が得られ、高感度でしかも塗膜
の密着性のすぐれた電子写真フイルムが得られる
ことが判る。 実施例 2 実施例1で調製した濃度10重量%のポリ−N−
ビニルカルバゾール溶液8gに、実施例1で調製
した濃度10重量%の接着剤液1gを加えてよく混
合し、更にマツト化剤として、実施例1で用いた
と同じ霞閃石長石微粉0.03g、実施例1で用いた
と同じ合成微粉末シリカ0.03g、実施例1で用い
たと同じ無定形合成シリカ微粉末0.03g、及び平
均粒子径30mμの二酸化チタン(商品名“P−
25”、日本アエロジルK.K.製)0.01gを分散させ
た液(原液)を調製した。 該原液に2・4・7−トリニトロフルオレノ
ン0.008gとブルーイング剤0.002gとを溶解した
ものを塗料Eとする。また該原液に、9−ジシ
アノメチレン−2・4・7−トリニトロフルオレ
ン0.008gとブルーイング剤0.0015gとを溶解し
たものを塗料Fとする。 実施例1で用いた基材aと同じポリエステルフ
イルムの導電層の上に、塗料EまたはFを固形分
付着量が10g/m2となるようにバーコーターで塗
布し、80℃で3分間乾燥して、電子写真フイルム
を得た。 これらの電子写真フイルムを、常温常湿中に10
分間放置した後、穴戸商会製スタチツクオネスト
メーターを用いて17℃、RH45%の囲気で−7KV
のコロナ帯電を20秒間行ない(この時の表面電位
をVmとする。)、7秒間暗減襄させた(この時の
表面電位をV0とする。)後、50ルツクスのタング
ステンランプ光照射を行なつて、半減露光量(E
1/2)を求めた。第2表にこの結果を示した。な
お第2表中のt1/2は光照射後、表面電位が1/2
V0になるまでの時間であり、V10は光照射から10
秒後の表面電位である。
導電層も設けない二軸配向ポリエステルフイルム
を用いた場合である。 以上の結果から、基材aを用いた場合のみ塗膜
の密着性が良好であり、基材bや基材cはブラン
クよりも密着性がよくないことが判る。基材aを
用いたものは、最も接着剤含有率が少くポリ−N
−ビニルカルバゾール含有率の多い塗料Aの場合
でも優れた密着性が得られ、高感度でしかも塗膜
の密着性のすぐれた電子写真フイルムが得られる
ことが判る。 実施例 2 実施例1で調製した濃度10重量%のポリ−N−
ビニルカルバゾール溶液8gに、実施例1で調製
した濃度10重量%の接着剤液1gを加えてよく混
合し、更にマツト化剤として、実施例1で用いた
と同じ霞閃石長石微粉0.03g、実施例1で用いた
と同じ合成微粉末シリカ0.03g、実施例1で用い
たと同じ無定形合成シリカ微粉末0.03g、及び平
均粒子径30mμの二酸化チタン(商品名“P−
25”、日本アエロジルK.K.製)0.01gを分散させ
た液(原液)を調製した。 該原液に2・4・7−トリニトロフルオレノ
ン0.008gとブルーイング剤0.002gとを溶解した
ものを塗料Eとする。また該原液に、9−ジシ
アノメチレン−2・4・7−トリニトロフルオレ
ン0.008gとブルーイング剤0.0015gとを溶解し
たものを塗料Fとする。 実施例1で用いた基材aと同じポリエステルフ
イルムの導電層の上に、塗料EまたはFを固形分
付着量が10g/m2となるようにバーコーターで塗
布し、80℃で3分間乾燥して、電子写真フイルム
を得た。 これらの電子写真フイルムを、常温常湿中に10
分間放置した後、穴戸商会製スタチツクオネスト
メーターを用いて17℃、RH45%の囲気で−7KV
のコロナ帯電を20秒間行ない(この時の表面電位
をVmとする。)、7秒間暗減襄させた(この時の
表面電位をV0とする。)後、50ルツクスのタング
ステンランプ光照射を行なつて、半減露光量(E
1/2)を求めた。第2表にこの結果を示した。な
お第2表中のt1/2は光照射後、表面電位が1/2
V0になるまでの時間であり、V10は光照射から10
秒後の表面電位である。
【表】
参考例 1
実施例1で用いたと同じ「第4級アンモニウム
塩を含有するアクリル系界面活性剤」(固形分濃
度40重量%)100g、及び実施例1で用いたと同
じポリイソシアネート化合物(固形分濃度75重量
%)12gをメチルエチルケトン145gに加えてよ
く混合した塗布液を、固形分付着量3g/m2の割
合で膜厚50μの二軸配向ポリエステルフイルム面
に塗布して導電層を設けた。該フイルムを基材e
とする。 基材eの導電層の上に、実施例2で調製した塗
料Fを、実施例2と全く同様にして塗布して電子
写真フイルムを得た(比較用試料1)。 該電子写真フイルムと、実施例2の実験No.2
の電子写真フイルム(導電層組成が比較用試料と
異なる以外は同じ。)の電位特性の湿度依存を、
実施例2で用いたと同じ方法で測定した結果を第
3表に示す。
塩を含有するアクリル系界面活性剤」(固形分濃
度40重量%)100g、及び実施例1で用いたと同
じポリイソシアネート化合物(固形分濃度75重量
%)12gをメチルエチルケトン145gに加えてよ
く混合した塗布液を、固形分付着量3g/m2の割
合で膜厚50μの二軸配向ポリエステルフイルム面
に塗布して導電層を設けた。該フイルムを基材e
とする。 基材eの導電層の上に、実施例2で調製した塗
料Fを、実施例2と全く同様にして塗布して電子
写真フイルムを得た(比較用試料1)。 該電子写真フイルムと、実施例2の実験No.2
の電子写真フイルム(導電層組成が比較用試料と
異なる以外は同じ。)の電位特性の湿度依存を、
実施例2で用いたと同じ方法で測定した結果を第
3表に示す。
【表】
導電剤中に無機塩を溶解した時は、低湿度でも
高感度であるが、無機塩等を添加しない場合には
低湿度時に著しく感度が低下することが判る。 実施例 3 実施例2で調製した塗料Fと同じ組成の液1365
gにモノクロルベンゼン510gを加えて固形分濃
度約8重量%の塗料Gを調製した。 実施例1で調製した基材aに、塗料Gを固形分
付着量が8g/m2の割合でキスロールコートし130
℃で3分間乾燥し、電子写真フイルムを得た。 該電子写真フイルムを、常温常湿の明所におい
て10日間放置した後、電子複写機(商品名Jumbo
−500FX;キヤノンK.K.製)を用いてマイクロ
フイルムからの拡大複写を行なつたところ原図に
忠実な鮮明な画像が得られ、トナーの付着性も良
好であつた。次に、この画像を第2原図として、
ジアゾ複写を行なつたところ、鮮明な第3世代の
ジアゾヒピーが得られた。また、この電子写真フ
イルムの透光性は良好であり、360nmから可視
全域に亘る透過率は70%以上であり、鉛筆記性性
はHまで可能であつた。
高感度であるが、無機塩等を添加しない場合には
低湿度時に著しく感度が低下することが判る。 実施例 3 実施例2で調製した塗料Fと同じ組成の液1365
gにモノクロルベンゼン510gを加えて固形分濃
度約8重量%の塗料Gを調製した。 実施例1で調製した基材aに、塗料Gを固形分
付着量が8g/m2の割合でキスロールコートし130
℃で3分間乾燥し、電子写真フイルムを得た。 該電子写真フイルムを、常温常湿の明所におい
て10日間放置した後、電子複写機(商品名Jumbo
−500FX;キヤノンK.K.製)を用いてマイクロ
フイルムからの拡大複写を行なつたところ原図に
忠実な鮮明な画像が得られ、トナーの付着性も良
好であつた。次に、この画像を第2原図として、
ジアゾ複写を行なつたところ、鮮明な第3世代の
ジアゾヒピーが得られた。また、この電子写真フ
イルムの透光性は良好であり、360nmから可視
全域に亘る透過率は70%以上であり、鉛筆記性性
はHまで可能であつた。
第1図及び第2図は、電子写真フイルムの電位
特性の例を示す図である。
特性の例を示す図である。
Claims (1)
- 1 (A)第4級アンモニウム塩を含有するアクリル
系界面活性剤100重量部当り、塩化マグネシウム
及び/または塩化カルシウム1〜15重量部並びに
微粒子シリカ1〜2重量部を配合した塗布液を塗
布されたポリエステルフイルム面に、(B)ポリ−N
−ビニルカルバゾール100重量部当り「塩化ビニ
ル・酢酸ビニル共重合体40〜60重量%、メチロー
ル化アミノ樹脂20〜40重量%、及びアルキツド樹
脂10〜30重量%よりなる樹脂混合物」10〜20重量
部を配合した塗料を塗布されたことを特徴とする
電子写真フイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5333176A JPS52137340A (en) | 1976-05-12 | 1976-05-12 | Electrophotographic film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5333176A JPS52137340A (en) | 1976-05-12 | 1976-05-12 | Electrophotographic film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52137340A JPS52137340A (en) | 1977-11-16 |
| JPS6130268B2 true JPS6130268B2 (ja) | 1986-07-12 |
Family
ID=12939740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5333176A Granted JPS52137340A (en) | 1976-05-12 | 1976-05-12 | Electrophotographic film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS52137340A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2581310B2 (ja) * | 1990-11-28 | 1997-02-12 | 東レ株式会社 | 記録シート用支持体 |
| JP4720530B2 (ja) * | 2006-02-07 | 2011-07-13 | 富士電機リテイルシステムズ株式会社 | 冷媒サイクル装置 |
-
1976
- 1976-05-12 JP JP5333176A patent/JPS52137340A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52137340A (en) | 1977-11-16 |
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