JPS6131042B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6131042B2 JPS6131042B2 JP58018496A JP1849683A JPS6131042B2 JP S6131042 B2 JPS6131042 B2 JP S6131042B2 JP 58018496 A JP58018496 A JP 58018496A JP 1849683 A JP1849683 A JP 1849683A JP S6131042 B2 JPS6131042 B2 JP S6131042B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- hydrogen
- pressure
- raw material
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、出口側の負荷変動に応じて原料流量
を制御するようにした水素製造装置における水素
製造量の制御方法に関する。
を制御するようにした水素製造装置における水素
製造量の制御方法に関する。
石油精製及び石油化学工場では、多くの水素消
費装置を有しており、このための水素が、各種石
油精製及び石油化学装置から排出されるいわゆる
オフガス或いはナフサ等の炭化水素類を原料とし
たスチームリフオーミング法によつて製造されて
いる。
費装置を有しており、このための水素が、各種石
油精製及び石油化学装置から排出されるいわゆる
オフガス或いはナフサ等の炭化水素類を原料とし
たスチームリフオーミング法によつて製造されて
いる。
この種の水素製造装置では、リフオーミング触
媒に悪影響を与える硫黄分を原料中より除去する
脱硫装置、触媒の存在下にスチームを加えて、原
料をスチーム改質する改質炉（リフオーマ）、及
び改質されたガス中の炭酸ガスを除去する脱炭酸
装置等が用いられている。水素の製造量は水素の
消費装置の負荷によつて決定されるものである
が、従来、消費装置の負荷変動状況によつて水素
製造装置はすぐに反応できず余剰水素はフレアに
放出していた。これは製品を捨てていることにな
り経済的損失である。また、負荷が逆に不足した
ときには原料及びスチームの調節弁を開いて負荷
増大に応じていたが、消費装置の運転状況は水素
製造装置側で事前に把握することはできず、しか
もその反応は各調節計の単ループ調整で行つてい
たので、熟練した経験者でないと操作が不可能で
あつた。
媒に悪影響を与える硫黄分を原料中より除去する
脱硫装置、触媒の存在下にスチームを加えて、原
料をスチーム改質する改質炉（リフオーマ）、及
び改質されたガス中の炭酸ガスを除去する脱炭酸
装置等が用いられている。水素の製造量は水素の
消費装置の負荷によつて決定されるものである
が、従来、消費装置の負荷変動状況によつて水素
製造装置はすぐに反応できず余剰水素はフレアに
放出していた。これは製品を捨てていることにな
り経済的損失である。また、負荷が逆に不足した
ときには原料及びスチームの調節弁を開いて負荷
増大に応じていたが、消費装置の運転状況は水素
製造装置側で事前に把握することはできず、しか
もその反応は各調節計の単ループ調整で行つてい
たので、熟練した経験者でないと操作が不可能で
あつた。
本発明は、このような点に鑑みてなされたもの
で、消費装置側の負荷変動を水素製造装置出口側
に設けられた圧力検出器により検出し、負荷変動
に応じて原料流量を制御するようにして、負荷に
応じた水素量を製造することができるようにした
ものである。
で、消費装置側の負荷変動を水素製造装置出口側
に設けられた圧力検出器により検出し、負荷変動
に応じて原料流量を制御するようにして、負荷に
応じた水素量を製造することができるようにした
ものである。
以下、図面を参照して本発明を詳細に説明す
る。
る。
第１図は、本発明を説明するための水素製造装
置の一実施例を示す構成図である。図は、２系統
のオフガスが原料として用いられ、バツクアツプ
用のナフサが１系統追加されたシステム例を示し
ている。図において、A1，A2は各原料流路に設
置された分析計である。該分析計としては、例え
ばガスクロ分析計が用いられる。T1乃至T3は各
原料流路に設置された温度検出器、P1，P2は圧力
検出器、F1乃至F3は流量検出器、V1乃至V3は調
節弁、C1乃至C3は流量検出器F1〜F3の出力が一
定になるように調節弁V1〜V3を調節する流量調
節計である。CA1乃至CA3は、各原料流路に設置
された検出器出力を受けて補正されたカーボンモ
ル数、トータルモル数等を算出する演算器であ
る。これら演算器の出力をもとにスチームカーボ
ンモル比Ｓ／Ｃが算出され、Ｓ／Ｃが一定になる
ようにスチーム流量が制御される。或いは場合に
よつてはトータルモル数が一定になるような制御
も行われる。
置の一実施例を示す構成図である。図は、２系統
のオフガスが原料として用いられ、バツクアツプ
用のナフサが１系統追加されたシステム例を示し
ている。図において、A1，A2は各原料流路に設
置された分析計である。該分析計としては、例え
ばガスクロ分析計が用いられる。T1乃至T3は各
原料流路に設置された温度検出器、P1，P2は圧力
検出器、F1乃至F3は流量検出器、V1乃至V3は調
節弁、C1乃至C3は流量検出器F1〜F3の出力が一
定になるように調節弁V1〜V3を調節する流量調
節計である。CA1乃至CA3は、各原料流路に設置
された検出器出力を受けて補正されたカーボンモ
ル数、トータルモル数等を算出する演算器であ
る。これら演算器の出力をもとにスチームカーボ
ンモル比Ｓ／Ｃが算出され、Ｓ／Ｃが一定になる
ようにスチーム流量が制御される。或いは場合に
よつてはトータルモル数が一定になるような制御
も行われる。
各流路を通過した原料はＡ点で合流して加熱炉
１に入る。加熱炉１で加熱された原料は、脱硫塔
２で硫黄分が除去される。脱硫塔２で脱硫された
原料は、改質炉３でスチームと反応して水素
（H2）と炭酸ガス（CO2）とに改質される。改質さ
れたガスは、続く脱炭酸装置４に入つて炭酸ガス
が除去され製品水素となる。
１に入る。加熱炉１で加熱された原料は、脱硫塔
２で硫黄分が除去される。脱硫塔２で脱硫された
原料は、改質炉３でスチームと反応して水素
（H2）と炭酸ガス（CO2）とに改質される。改質さ
れたガスは、続く脱炭酸装置４に入つて炭酸ガス
が除去され製品水素となる。
P3は脱硫塔２の出口に設定された圧力検出器、
C4は該検出器の出力を受ける圧力調節計で、そ
の出力は切換スイツチSWを介して流量調節計C1
又はC2の何れか一方に設定値として印加される
ようになつている。V4は、改質炉３の入口部に
設けられた調節弁、Ｍは該調節弁を制御する操作
器、V5は改質炉３に供給するスチーム流量を制
御する調節弁である。調節弁V5は、スチーム流
量調節計（図示せず）により制御される。このよ
うなスチーム流量調節計の設定値は、例えば前述
したスチームカーボンモル比Ｓ／Ｃ演算やトータ
ルモル演算により決定される。
C4は該検出器の出力を受ける圧力調節計で、そ
の出力は切換スイツチSWを介して流量調節計C1
又はC2の何れか一方に設定値として印加される
ようになつている。V4は、改質炉３の入口部に
設けられた調節弁、Ｍは該調節弁を制御する操作
器、V5は改質炉３に供給するスチーム流量を制
御する調節弁である。調節弁V5は、スチーム流
量調節計（図示せず）により制御される。このよ
うなスチーム流量調節計の設定値は、例えば前述
したスチームカーボンモル比Ｓ／Ｃ演算やトータ
ルモル演算により決定される。
E1乃至E3は、改質炉３の出口部に設けられた
熱交換器である。P4は製品水素の出口側に設けら
れた圧力検出器、C5は該圧力検出器の出力を受
ける圧力調節計、V6は該調節計出力で駆動され
る調節弁、F4はフレアに放出される水素流量を
検出する流量検出器である。水素出口側流路の一
部は分岐し、調節弁V6を介して水素の一部がフ
レアに放出されるようになつている。即ち、製造
水素が供給される水素消費装置（図示せず）側の
消費量が減少して出口側圧力が増加したときに、
調節弁V6を開いて圧力を調節している。
熱交換器である。P4は製品水素の出口側に設けら
れた圧力検出器、C5は該圧力検出器の出力を受
ける圧力調節計、V6は該調節計出力で駆動され
る調節弁、F4はフレアに放出される水素流量を
検出する流量検出器である。水素出口側流路の一
部は分岐し、調節弁V6を介して水素の一部がフ
レアに放出されるようになつている。即ち、製造
水素が供給される水素消費装置（図示せず）側の
消費量が減少して出口側圧力が増加したときに、
調節弁V6を開いて圧力を調節している。
５は、圧力検出器P4及び流量検出器F4の出力
を受けて水素出口側圧力が一定になるような設定
値を操作器Ｍに与える演算制御装置である。該演
算制御装置としては、例えばマイクロコンピユー
タが用いられる。改質炉入口部の調節弁V4の開
度を変化させると、当然入口部の圧力も変化す
る。圧力検出器P3はこの圧力変化を圧力調節計
C4に伝える。圧力調節計C4はこの圧力変化を補
償するような制御信号を発生する。SWは、該調
節計の出力を設定値として原料流量調節計C1或
いはC2の何れかに与える切換スイツチである。
このように構成された装置の動作を説明すれば、
以下のとおりである。
を受けて水素出口側圧力が一定になるような設定
値を操作器Ｍに与える演算制御装置である。該演
算制御装置としては、例えばマイクロコンピユー
タが用いられる。改質炉入口部の調節弁V4の開
度を変化させると、当然入口部の圧力も変化す
る。圧力検出器P3はこの圧力変化を圧力調節計
C4に伝える。圧力調節計C4はこの圧力変化を補
償するような制御信号を発生する。SWは、該調
節計の出力を設定値として原料流量調節計C1或
いはC2の何れかに与える切換スイツチである。
このように構成された装置の動作を説明すれば、
以下のとおりである。
水素製造装置が正常に運転されている状態で
は、圧力検出器P4より検出される圧力は圧力調節
計C5の設定値よりも低い。従つて、該調節計で
駆動される調節弁V6は閉状態になつている。こ
のとき、流量検出器F4の出力は当然０である。
今、水素消費装置側負荷がさがり従つて水素消費
量が下がつたものとすると、圧力調節計C5の圧
力測定値は除々に上昇し最終的には設定値をオー
バーする。これにより、調節計C5は調節弁V6に
駆動信号を与えて弁を開く。この状態で、演算制
御装置５は圧力検出器P4及び流量検出器F4の出
力を受けて条件を満足した段階で、操作器Ｍへの
設定信号MVを一定値αだけ差引き新たな設定値
MV′とする。即ち、 MV′＝MV−α (1) となるような新たな設定値MV′を操作器Ｍに与え
る。設定値がMVからMV′に変化するとそれに応
じて調節弁V4を閉じる。V4が閉じられると改質
炉３出口のガス圧は低下する。
は、圧力検出器P4より検出される圧力は圧力調節
計C5の設定値よりも低い。従つて、該調節計で
駆動される調節弁V6は閉状態になつている。こ
のとき、流量検出器F4の出力は当然０である。
今、水素消費装置側負荷がさがり従つて水素消費
量が下がつたものとすると、圧力調節計C5の圧
力測定値は除々に上昇し最終的には設定値をオー
バーする。これにより、調節計C5は調節弁V6に
駆動信号を与えて弁を開く。この状態で、演算制
御装置５は圧力検出器P4及び流量検出器F4の出
力を受けて条件を満足した段階で、操作器Ｍへの
設定信号MVを一定値αだけ差引き新たな設定値
MV′とする。即ち、 MV′＝MV−α (1) となるような新たな設定値MV′を操作器Ｍに与え
る。設定値がMVからMV′に変化するとそれに応
じて調節弁V4を閉じる。V4が閉じられると改質
炉３出口のガス圧は低下する。
この状態で、演算制御装置５に内蔵のタイマが
起動し系の安定を待つて再び検出器P4，F4をチ
エツクする。このような操作の繰り返しによつ
て、負荷減少による原料流量の制御を行う。な
お、上述の操作によつて原料流量の制御が行える
が、調節弁V4によつて流量が絞られる結果それ
より前段部の圧力が上昇する。この圧力上昇分を
補正してやるため、圧力調節計C4は圧力検出器
P3の出力を受けて原料流路側の調節計に制御信号
を送り調節計C1或いはC2の設定値を変化させ、
装置入口部でオフガスの流入量を絞るようにす
る。これにより、脱硫塔２の出口部の圧力が正常
な値に保たれることになる。なお、切換スイツチ
SWは２つの原量流路のうち何れをベース負荷用
にするか変動用にするかを選択するためのもの
で、負荷変動が生じたら変動用の流路側に切換わ
つて脱硫塔出口圧力が一定になるような流量制御
を行うようになつている。
起動し系の安定を待つて再び検出器P4，F4をチ
エツクする。このような操作の繰り返しによつ
て、負荷減少による原料流量の制御を行う。な
お、上述の操作によつて原料流量の制御が行える
が、調節弁V4によつて流量が絞られる結果それ
より前段部の圧力が上昇する。この圧力上昇分を
補正してやるため、圧力調節計C4は圧力検出器
P3の出力を受けて原料流路側の調節計に制御信号
を送り調節計C1或いはC2の設定値を変化させ、
装置入口部でオフガスの流入量を絞るようにす
る。これにより、脱硫塔２の出口部の圧力が正常
な値に保たれることになる。なお、切換スイツチ
SWは２つの原量流路のうち何れをベース負荷用
にするか変動用にするかを選択するためのもの
で、負荷変動が生じたら変動用の流路側に切換わ
つて脱硫塔出口圧力が一定になるような流量制御
を行うようになつている。
負荷が減少したときの流量制御動作については
前述したが、設定器Ｍの設定値の減少分αは通常
数％の値をもつており一挙にαだけ下げると制御
系に大きな外乱を与えることになり、正常な運転
状態の維持が困難になる。そこで、本発明では、
１回あたりの変化量αに対して単位時間あたりの
変化量α０を定義し、α，α０を外部より設定で
きるようにしている。α，α０は、演算制御装置
５に入力する。α，α０によつて内蔵タイマのセ
ツト時間ｎは自動的に計算される。これらの間に
は次式で示されるような関係が成立する。
前述したが、設定器Ｍの設定値の減少分αは通常
数％の値をもつており一挙にαだけ下げると制御
系に大きな外乱を与えることになり、正常な運転
状態の維持が困難になる。そこで、本発明では、
１回あたりの変化量αに対して単位時間あたりの
変化量α０を定義し、α，α０を外部より設定で
きるようにしている。α，α０は、演算制御装置
５に入力する。α，α０によつて内蔵タイマのセ
ツト時間ｎは自動的に計算される。これらの間に
は次式で示されるような関係が成立する。
α＝nxα０ (2)
第２図は、αの変化モードを示す図である。縦
軸は負荷変動量、横軸は時間である。図でT1は
変化許容時間、T2は安定時間である。このよう
にαを小刻みに変化させる結果、制御系に大きな
外乱を与えることなく負荷減少に応じた水素を発
生させることができる。なお、１回あたりの変化
量αをこのようにα０のステツプで漸減させる
と、圧力検出器P4、調節計C4及び調節計C1（又
はC2）で構成される圧力調節系の制御動作も、当
然にこれに引きずられることになる。
軸は負荷変動量、横軸は時間である。図でT1は
変化許容時間、T2は安定時間である。このよう
にαを小刻みに変化させる結果、制御系に大きな
外乱を与えることなく負荷減少に応じた水素を発
生させることができる。なお、１回あたりの変化
量αをこのようにα０のステツプで漸減させる
と、圧力検出器P4、調節計C4及び調節計C1（又
はC2）で構成される圧力調節系の制御動作も、当
然にこれに引きずられることになる。
次に、負荷が上昇する場合について説明する。
負荷が上昇すると水素出口側の圧力は低下する。
調節計C5は、圧力検出器P4の出力を受けて圧力
低下を検出すると、調節弁V6が開いていた場合
には該弁を閉じる。演算制御装置５は、圧力検出
器P4の出力を受けて一定の条件が満たされている
かどうかを確認する。条件が満たされた場合、操
作器Ｍの設定値を変更して弁開度を上げ、圧力調
節を行う。この場合は、負荷が減少した場合の操
作を逆にたどる。即ち、設定値MVに変化量αを
加算して新たな設定値MV′とする。このとき
MV′とMVの関係は次式のとおりである。
負荷が上昇すると水素出口側の圧力は低下する。
調節計C5は、圧力検出器P4の出力を受けて圧力
低下を検出すると、調節弁V6が開いていた場合
には該弁を閉じる。演算制御装置５は、圧力検出
器P4の出力を受けて一定の条件が満たされている
かどうかを確認する。条件が満たされた場合、操
作器Ｍの設定値を変更して弁開度を上げ、圧力調
節を行う。この場合は、負荷が減少した場合の操
作を逆にたどる。即ち、設定値MVに変化量αを
加算して新たな設定値MV′とする。このとき
MV′とMVの関係は次式のとおりである。
MV′＝MV＋α (3)
そして、変化量αはステツプα０ずつの小刻み
な変化で増加するので、制御系に外乱を与えない
で負荷増加に応じた水素を製造することができ
る。
な変化で増加するので、制御系に外乱を与えない
で負荷増加に応じた水素を製造することができ
る。
ところで、原料側については後段部の変更にも
拘らず一定量を供給しているので後段部に応じて
脱硫塔２までの圧力が増減する。そこで、本発明
ではオフガス１，２及びナフサの３種類の原料に
対してベース負荷用及び変動負荷用を区別するス
イツチSWによつて、負荷増加時には圧力調節計
C4の設定値出力を変動負荷側の調節計に持続し
て、負荷増に応じて供給オフガスを増加させるよ
うにしている。
拘らず一定量を供給しているので後段部に応じて
脱硫塔２までの圧力が増減する。そこで、本発明
ではオフガス１，２及びナフサの３種類の原料に
対してベース負荷用及び変動負荷用を区別するス
イツチSWによつて、負荷増加時には圧力調節計
C4の設定値出力を変動負荷側の調節計に持続し
て、負荷増に応じて供給オフガスを増加させるよ
うにしている。
なお、安全性を確保するため、演算制御装置５
は水素出口部の検出器P4及びF4の出力を受け、
双方が所定の条件を満たしていないときには設定
器Ｍに設定信号を与えず、CRT（図示せず）に
表示することにより装置の運転員にその旨通知す
る。
は水素出口部の検出器P4及びF4の出力を受け、
双方が所定の条件を満たしていないときには設定
器Ｍに設定信号を与えず、CRT（図示せず）に
表示することにより装置の運転員にその旨通知す
る。
第３図は、本発明の他の実施例を示す構成図で
第１図と構成に変化のない部分は省略してある。
図において、第１図と同一のものは同一の番号を
付して示す。第１図に示す装置は、負荷変動が生
じると先ず操作器Ｍの設定値を変えて改質炉３に
供給される原料量を変えて水素出口部の圧力調整
を行い、調節弁V4の開度が変わることによる脱
硫塔出口側の圧力調整は原料流路側の流量調節で
行うという２段がまえの方式を採つている。これ
に対して、第３図に示す装置は、このような２段
がまえの構成をとるかわりに、遅れ時間分を補償
するための遅れ時間要素を付加し、水素出口部の
圧力変化を受ける調節計で直に原料流路側の原料
流量を調節するようにしたものである。図におい
て、C10はC5と並列に圧力検出器P4の出力を受け
る圧力調節計で、C10の設定値はC5の設定値より
若干低い圧力に設定されている。通常運転の圧力
はC10の設定値によつて調節動作が行われ、C10の
設定値を越えかつC5の設定値を越えたときのみ
水素がフレアへ放出される。Ｘは該圧力調節計と
組んで無駄時間補償付調節計を構成する遅れ要素
である。該遅れ要素としては、例えばスミスの無
駄時間補償が用いられる。
第１図と構成に変化のない部分は省略してある。
図において、第１図と同一のものは同一の番号を
付して示す。第１図に示す装置は、負荷変動が生
じると先ず操作器Ｍの設定値を変えて改質炉３に
供給される原料量を変えて水素出口部の圧力調整
を行い、調節弁V4の開度が変わることによる脱
硫塔出口側の圧力調整は原料流路側の流量調節で
行うという２段がまえの方式を採つている。これ
に対して、第３図に示す装置は、このような２段
がまえの構成をとるかわりに、遅れ時間分を補償
するための遅れ時間要素を付加し、水素出口部の
圧力変化を受ける調節計で直に原料流路側の原料
流量を調節するようにしたものである。図におい
て、C10はC5と並列に圧力検出器P4の出力を受け
る圧力調節計で、C10の設定値はC5の設定値より
若干低い圧力に設定されている。通常運転の圧力
はC10の設定値によつて調節動作が行われ、C10の
設定値を越えかつC5の設定値を越えたときのみ
水素がフレアへ放出される。Ｘは該圧力調節計と
組んで無駄時間補償付調節計を構成する遅れ要素
である。該遅れ要素としては、例えばスミスの無
駄時間補償が用いられる。
上述の説明では、オフガス２系統の場合を例に
とつたが、これに限ることなく任意の数の系統で
あつてよい。又、原料は、炭化水素類であればオ
フガスに限定されず、プロパン、ブタン等のガス
或いはナフサ等でもよい。
とつたが、これに限ることなく任意の数の系統で
あつてよい。又、原料は、炭化水素類であればオ
フガスに限定されず、プロパン、ブタン等のガス
或いはナフサ等でもよい。
以上、詳細に説明したように、本発明によれば
脱硫装置側の負荷変動を水素製造装置出口側に設
けられた圧力検出器により検出し、負荷変動に応
じて原料流量を所定の方法で制御するようにした
ので、制御系に外乱を与えることなく負荷に応じ
た水素量を製造することもできる。
脱硫装置側の負荷変動を水素製造装置出口側に設
けられた圧力検出器により検出し、負荷変動に応
じて原料流量を所定の方法で制御するようにした
ので、制御系に外乱を与えることなく負荷に応じ
た水素量を製造することもできる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２
図は変化量αの変化モードを示す図、第３図は本
発明の他の実施例を示す構成図である。 １……加熱炉、２……脱硫塔、３……改質炉、
４……脱炭酸装置、５……演算制御装置、A1，
A2……分析計、T1〜T3……温度検出器、P1〜P4
……圧力検出器、F1〜F4……流量検出器、C1〜
C5……調節計、Ｍ……操作器、V1〜V6……調節
弁、SW……切換スイツチ、E1〜E3……熱交換
器。
図は変化量αの変化モードを示す図、第３図は本
発明の他の実施例を示す構成図である。 １……加熱炉、２……脱硫塔、３……改質炉、
４……脱炭酸装置、５……演算制御装置、A1，
A2……分析計、T1〜T3……温度検出器、P1〜P4
……圧力検出器、F1〜F4……流量検出器、C1〜
C5……調節計、Ｍ……操作器、V1〜V6……調節
弁、SW……切換スイツチ、E1〜E3……熱交換
器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 炭化水素類を原料とし、少なくとも当該炭化
水素類を脱硫する脱硫装置、脱硫された炭化水素
類をスチーム改質する改質炉及び改質されたガス
から炭酸ガスを除去する脱炭酸装置より成る水素
製造装置における水素製造量の制御方法におい
て、製造された水素を消費する消費装置の負荷変
動を前記水素製造装置の出口側に設けられた圧力
検出器により検出し、負荷変動に応じて原料流量
を制御するに際し、あらかじめ設定された変化量
に達するまで、細分化された変化量で変化させ、
所定時間経過後に前記圧力検出器により検出して
原料流量を制御することを特徴とする水素製造装
置における水素製造量の制御方法。 ２ 前記原料流量の制御が水素製造装置出口側の
圧力を圧力検出器により検出し脱硫装置出口のガ
ス流量を調節するとともに、当該脱硫装置出口ガ
スの圧力変化により、脱硫装置入口側の原料流量
を制御するものであることを特徴とする特許請求
の範囲第１項の水素製造装置における水素製造量
の制御方法。 ３ 説明流量の制御が遅れ時間要素を付加した脱
硫装置入口側の流量の制御であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項の水素製造装置における
水素製造量の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1849683A JPS59146904A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 水素製造装置における水素製造量の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1849683A JPS59146904A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 水素製造装置における水素製造量の制御方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11855687A Division JPS6355102A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 水素製造装置における水素製造量の制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59146904A JPS59146904A (ja) | 1984-08-23 |
| JPS6131042B2 true JPS6131042B2 (ja) | 1986-07-17 |
Family
ID=11973225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1849683A Granted JPS59146904A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 水素製造装置における水素製造量の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59146904A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6355102A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-03-09 | Nippon Mining Co Ltd | 水素製造装置における水素製造量の制御方法 |
| DE102019218972A1 (de) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | Thyssenkrupp Ag | Verfahren zum stabilen Betrieb einer Dampfreformierungsanlage |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4336567A (en) * | 1980-06-30 | 1982-06-22 | The Bendix Corporation | Differential pressure transducer |
| JPS583189A (ja) * | 1981-06-29 | 1983-01-08 | Fujitsu Ltd | ダイナミツクメモリのリフレツシユ方法 |
-
1983
- 1983-02-07 JP JP1849683A patent/JPS59146904A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59146904A (ja) | 1984-08-23 |
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