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JPS6131936B2 - - Google Patents
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JPS6131936B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6131936B2
JPS6131936B2 JP15849278A JP15849278A JPS6131936B2 JP S6131936 B2 JPS6131936 B2 JP S6131936B2 JP 15849278 A JP15849278 A JP 15849278A JP 15849278 A JP15849278 A JP 15849278A JP S6131936 B2 JPS6131936 B2 JP S6131936B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
mask structure
effective part
effective
skirt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP15849278A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5586049A (en
Inventor
Tetsuo Hasegawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP15849278A priority Critical patent/JPS5586049A/ja
Publication of JPS5586049A publication Critical patent/JPS5586049A/ja
Publication of JPS6131936B2 publication Critical patent/JPS6131936B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0722Frame

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカラー受像管に内装されるシヤドウマ
スク構体及びその製造方法に関するものである。 一般にカラー受像管に内装されるシヤドウマス
ク構体は第1図に示す様に多数のドツト状また
は短形状の開口部2が規則的に穿設された略球面
状に成形された有孔部3及びその周辺に設けられ
た無孔部4とからなる有孔部5と、この有孔部5
の周縁に連接されたスカート部6と、このスカー
ト部6を複数点で固定する断面L字形のマスクフ
レーム7からなつている。 然るに前述したようなシヤドウマスク構体
シヤドウマスクを支持するために厚肉の、重いマ
スクフレーム7を使用しているためカラー受像管
内部に装着する時、力の強いスプリング材などで
支持しなければならないばかりでなく、電子ビー
ムの射突によつて発生する熱を熱容量の大きなマ
スクフレーム7に伝えるため、カラー受像管の稼
動初期時にシヤドウマスクの熱変形によるミスラ
ンデイングなどが発生しやすい欠点がある。 この様な欠点を除去するため、第2図に示す様
なマスクフレームを使用しないシヤドウマスク構
体が開発されている。即ちシヤドウマスク構体
1は多数のドツト状または短形状の開口部12が
規則的に穿設された有効部13と、その周辺に設
けられた無孔部14とがほゞ球面状に成形された
有効部15と、この有効部15と一体形成される
と共に前記有効部15の周縁に沿つてこの有効部
15と所望角(図では略直角)をもつて折曲され
たスカート16とこのスカート16の周縁に沿つ
て前記有効部15と所望角(図では略直角)をも
つて折曲されたフランジ17とからなる。 この様なシヤドウマスク構体11は一体成形出
来ると共にフランジ17により機械的強度を持た
せるようにしているが、このままでは第1図に示
したマスクフレーム7をもつシヤドウマスク構体
1に比較し機械的強度が劣る。その結果、カラー
受像管の組立工程に於て、特に有効部15が変形
し易く、カラー受像管としての充分な色純度やホ
ワイトユニホーミテイが得られにくいという欠点
がある。 本発明は前述した従来の種々な欠点に鑑みなた
れたものであり、マスクフレームのない充分な機
械的強度を有するシヤドウマスク構体及びその製
造方法を提供することを目的としている。 次に本発明の一実施例を第3図によつて説明す
る。即ち、シヤドウマスク構体21はドツト状ま
たは短形状の開口部22が規則的に穿設された有
孔部23と、その周辺に設けられた無孔部24と
が略球面状に成形された有効部25と、この有効
部25と一体形成されると共に、前記有効部25
の周縁に沿つてこの有効部25と所望角(図では
略直角)をもつて折曲されたスカート26と、こ
のスカート26の周縁に沿つてこのスカート26
と所望角(図では略直角)をもつて前記有効部と
逆方向に折曲されたフランジ27とからなるのは
第2図に示すものと略同一であるが、本実施例は
於ては前記スカート26のほぼ中央部からフラン
ジ27にかけて破線28から矢印29方向に焼き
入れ部を形成したことを特徴としている。 この焼き入れ部の形成方法としては化学的に焼
き入れする方法と、物理的に焼き入れする方法と
があり、前者即ち化学的に焼き入れする方法の一
つとしては浸炭法がある。 この浸炭法の一例を第4図によつて説明すると
先ずa図の様にシヤドウマスク素材から成形脱脂
洗浄したシヤドウマスク構体21の第3図破線2
6迄を木炭と炭素バリウムなどからなる浸炭剤3
0上に保持した所謂浸炭箱31をb図の様に加熱
炉33内に入れ、880〜950℃位の所定の浸炭温度
にして加熱すると浸炭箱内では箱内の空気中の酸
素と炭素が作用して生ずるCOとCO3雰囲気中で
浸炭作用が行なわれる。即ち炭素とCO2が反応し
てCOを生じ、これがシヤドウマスク構体21
面で2COC+CO2のように分解して活性化した
炭素を生じ、この炭素がシヤドウマスク構体21
の所望部表面に溶解侵入し、このシヤドウマスク
構体28表面で2COC+CO2のように生成した
CO2は炭素の所へ戻りこれを繰返して浸炭が行な
われる。 この様な浸炭法により焼き入れしたシヤドウマ
スク構体21は所望部の炭素量を増加することに
より硬化されるので、前述した様に一体化形成の
シヤドウマスク構体がマスクフレーム付シヤドウ
マスク構体に比較して機械的強度が劣る原因を除
去し、極めて強度のあるシヤドウマスク構体を得
ることが出来た。 前述したような焼き入れはスカート26からフ
ランジ27にかけて行なうべきであり、有効部2
5に焼き入れすると、球面状に成形された有効部
25に炭素の浸入による歪のために小さな凹凸が
生じ、図示しないカラー受像管の蛍光面とシヤド
ウマスクの有効部25との間隔に誤差が生じ所望
の精度が得られず、カラー受像管としての色純度
を劣化させる原因となる。 前述の様に部分的に焼き入れる方法としては化
学的焼き入れ方法が有効であるが、浸炭法にも前
述したもののほかにシアン化ナトリウムなどを使
用する液体浸炭法があることはよく知られてい
る。 また物理的焼き入れ方法としてはフランジ27
を高周波加熱し、急冷するなどの方法が考えられ
る。 また焼き入れをする部分としてはそのシヤドウ
マスク構体の設計に応じて前述のようにスカート
26とフランジ27を両方を焼き入れたり、フラ
ンジ27だけを焼き入れることも考えられる。 前述のように本発明によればマスクフレームを
必要とせず一体化形成したシヤドウマスク構体自
体が充分な機械的強度を持つているため、安価で
あり、かつ優れた色純度特性、ホワイトユニホー
ミテイ特性を有するカラー受像管を得ることが可
能となり、その工業的価値は極めて大である。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は従来のシヤドウマスク構体
を示す図であり、第1図はマスクフレームを有す
るものを示す斜視図、第2図は一体形成されたも
のを示す斜視図、第3図は本発明のシヤドウマス
ク構体の一実施例の説明用斜視図、第4図は化学
的焼き入れ方法の一例を示す説明図であり、a図
はシヤドウマスク構体の所望部を浸炭箱に入れた
状態を示す簡略断面図、b図はa図のものを加熱
炉に入れた状態を示す簡略断面図である。 1121……シヤドウマスク構体、5,
15,25……有効部、6,16,26……スカ
ート、17,27……フランジ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 多数の開口部が規則的に穿設された有効部と
    前記有効部と一体形成されると共に、前記有効部
    の周縁に前記有効部と所望角をもつて少なくとも
    1回折曲され一部に焼き入れ部を有するスカート
    及びまたはフランジとからなることを特徴とする
    シヤドウマスク構体。 2 焼き入れ部が有効部を取り囲む様に形成され
    てなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載のシヤドウマスク構体。 3 多数の開口部が規則的に穿設された有効部
    と、前記有効部と一体形成されると共に前記有効
    部の周縁に前記有効部と所定角をもつて少なくと
    も1回折曲されたスカートまたはフランジに化学
    的方法及びまたは物理的方法により焼き入れ部を
    形成することを特徴とするシヤドウマスク構成の
    製造方法。 4 化学的方法が浸炭法であることを特徴とする
    特許請求の範囲第3項記載のシヤドウマスク構体
    の製造方法。
JP15849278A 1978-12-25 1978-12-25 Shadow mask frame structure and its manufacturing method Granted JPS5586049A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15849278A JPS5586049A (en) 1978-12-25 1978-12-25 Shadow mask frame structure and its manufacturing method

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JP15849278A JPS5586049A (en) 1978-12-25 1978-12-25 Shadow mask frame structure and its manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5586049A JPS5586049A (en) 1980-06-28
JPS6131936B2 true JPS6131936B2 (ja) 1986-07-23

Family

ID=15672916

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JP15849278A Granted JPS5586049A (en) 1978-12-25 1978-12-25 Shadow mask frame structure and its manufacturing method

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4593225A (en) * 1984-08-31 1986-06-03 Zenith Electronics Corporation Tension mask colar cathode ray tube
JP2546819Y2 (ja) * 1991-07-02 1997-09-03 株式会社白寿生科学研究所 健康用ふとん
US5742116A (en) * 1994-10-28 1998-04-21 Matsushita Electronics Corporation Shadow mask frame structure with long-sides having higher mechanical strength

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5586049A (en) 1980-06-28

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