JPS6133042B2 - - Google Patents
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- JPS6133042B2 JPS6133042B2 JP5097182A JP5097182A JPS6133042B2 JP S6133042 B2 JPS6133042 B2 JP S6133042B2 JP 5097182 A JP5097182 A JP 5097182A JP 5097182 A JP5097182 A JP 5097182A JP S6133042 B2 JPS6133042 B2 JP S6133042B2
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- JP
- Japan
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- hot metal
- reaction
- tank
- reaction tank
- slag
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21C—PROCESSING OF PIG-IRON, e.g. REFINING, MANUFACTURE OF WROUGHT-IRON OR STEEL; TREATMENT IN MOLTEN STATE OF FERROUS ALLOYS
- C21C1/00—Refining of pig-iron; Cast iron
- C21C1/02—Dephosphorising or desulfurising
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Refinement Of Pig-Iron, Manufacture Of Cast Iron, And Steel Manufacture Other Than In Revolving Furnaces (AREA)
Description
本発明は竪型連続溶銑予備処理装置に関するも
のである。 溶銑の不純物であるSi、Ｐ、Ｓを連続的に除去
する方法として、従来から横型−樋式連続処理と
竪型連続処理が知られている。 ところで予備処理反応である脱Si、脱Ｐ、Ｓは
のである。 溶銑の不純物であるSi、Ｐ、Ｓを連続的に除去
する方法として、従来から横型−樋式連続処理と
竪型連続処理が知られている。 ところで予備処理反応である脱Si、脱Ｐ、Ｓは
【表】
であり、これらはスラグ−メタル反応であるの
で、効率よい脱Si、Ｐ、Ｓを実施するには、充分
なスラグ−メタル反応接触面積を確保する事が必
要である。 しかしながらこれを横型樋式の連続処理法で確
保するには次の様な反応装置上の問題がある。 (1) スラグ−メタル接触面は、一義的には装置の
横断面によつて定まつてくる。この面積を大き
くしようとすれば、勢い精錬装置を大きくせざ
るを得ない。一般的に設備の大型化は設備費の
経済性、耐火物消費量、熱損失の点から好まし
くなく実用的でない。 (2) スラグ−メタル接触面積を拡大させる方法と
しては、溶銑、スラグを撹拌する方法が考えら
れる。しかし強い撹拌は樋内の先行溶銑、後続
溶銑の混合を来たし、連続処理の特徴が失われ
るとともに処理が困難となる。 (1)、(2)の問題点を有することから、溶銑の連続
処理は理論的に又実験的には可能であるが、実用
化には至つていないのが現状である。 一方例えば特開昭49−70812号公報において、
竪型炉による溶銑のスプレー精錬方式が提案さ
れ、竪型炉落下の溶融鉄滴をスラグ形成物質の酸
化ガスにより精錬する方法が開示されている。又
特公昭47−48767号公報は、竪型連続脱硫装置が
提案されている。 本発明は上述の従来技術とは全く異なる竪型連
続式の溶銑の予備処理装置を提起するものであ
る。 以下本発明を図面により説明する。 第１図は本発明の反応槽の模式図である。図に
おいて、反応槽２０には容器２１を設け、溶銑Ｐ
が準備される。容器２１はノズル２５が所望数設
けられて、反応槽２０に開口している。反応槽２
０の下部には、排出ノズル２６を設けた溶銑湯溜
槽２７がある。２２は精錬剤添加ノズルを示し、
ノズル２２−１が反応槽２０の下部に設けられ、
ノズル２２−２，２２−３が反応槽の胴部に設け
られる。２３は排出口で反応終了スラグが取り出
される。湯溜槽２７に補助ノズル２２−４を設け
て、精錬反応剤を添加してもよい。３５はガス抜
き孔である。 まず溶銑収納容器から溶銑が、ノズル又はスリ
ツト状耐火物を介して、細線状あるいは粒滴状、
フイルム状の形態とし、反応面積を増大させて、
反応槽上部に供給される。溶銑は溶鋼と異なり、
溶銑温度と凝固温度の差ΔＴが大きい点と、粘性
の点から極めて小さい横断面として流出する事が
容易であり、数10μにする事も可能である。 本発明における反応槽には、目的に応じた精錬
剤、即ち脱Si反応剤が槽上部に脱Ｐ、Ｓ反応剤が
槽下部に溶融状態に保持されている。 前記液状反応剤の中を、溶銑は上方から下方へ
降下して行き、その降下中にスラグ−メタル反応
を起こし、脱Si次いで脱Ｐ、Ｓが実施される。反
応槽へは溶銑を連続的に供給するので、槽内のス
ラグを新しいものと交換する必要があり、各反応
域の下方から新しい精錬剤を供給するとともに、
反応槽上部より反応終了スラグを排出する。 本発明では反応槽の中間部に精錬剤の供給孔を
設けてあり、酸素、酸化鉄等の脱Si剤を供給する
事によつて、脱Si反応槽下部から脱Ｐ、Ｓ剤を供
給することによつて、脱Ｐ、Ｓと夫々の反応効率
を向上させる事が出来る。 最後に反応槽を通過した溶銑は、最下部の溶銑
溜部にたくわえられ、必要に応じて排出される。 本発明装置においては、スラグ−メタルが向流
反応を行うものであり、反応槽に供給される溶銑
は、線状、粒滴もしくはフイルム状に形成する。
この場合線状、粒滴、フイルム状の溶銑は、液状
精錬剤と接触する表面積として、0.5cm2〜10cm2／
１ｇ−溶銑が好ましい。 10cm2/ｇ超であると、連続排出する液状スラグ
とともに溶銑が排出される恐れがあり、本発明装
置による効果が達成されないし、0.5cm2/ｇ未満に
なると、向流反応が十分に期待できない。 線状、フイルム状化はノズル、スリツト状耐火
物の形状を工夫する事によつて、容易に実施出来
る。又粒滴状化は上記ノズル下部に磁気ストツパ
ーを設置するか振動をあたえることによつて、容
易に実行出来るものである。 又本発明における反応槽への精錬剤の供給は、
脱Si、脱Ｐ、Ｓに応じて各々異なるフラツクスを
添加されるが、何れも反応槽内ではほぼ完全に溶
融状態になつていなければならない。その為あら
かじめ溶解した精錬剤を反応槽内に添加する事も
でき、また熱的観点から反応槽の一個所又は複数
個所の側壁面から、又は溶銑溜部へ直接添加する
方が好ましい。 溶銑の予備処理は、大別して二つに分けられ
る。即ちSi、Mn、Cr、Zr等の割合酸素との親和
力のある元素を酸化除去する場合には、酸素ガス
及び酸化鉄（スケール、鉄鉱石粉、焼結鉱粉等）
を主として添加するが、酸化反応を調整する意味
から、一部CaO粉等の添加により、反応槽の塩基
度を調整する事もある。 次にＰ、Ｓを除去する場合は、積極性にＰ、Ｓ
と結合する物質を添加する必要があり、CaO系と
ソーダ系に大別出来る。但し脱Ｐ反応について
は、CaO系、ソーダ系をとわず、反応槽での溶銑
のSi含有量が0.2％以上では、脱Ｐがほとんど起
こらないので、0.2％まで低減させておく必要が
ある。 又CaO系を使用する場合は、CaOの溶解を促進
すると言う点から、CaCl2、CaF2等の適量の使用
は効果がある。又CaO系、ソーダ系をとわず脱
Ｐ、又は同時脱Ｐ、Ｓ反応での脱Ｐの酸化を強化
するため、酸素ガス、酸化鉄を併せて添加する事
は有効である。 本発明の反応槽の側壁部は耐火物でもよいが、
竪型槽の特長を生かすには、降下溶銑のある乱流
域部だけ広めに側壁を大きくして、反応槽を冷却
構造とするが、熱回収機構を持たせた構造とし
て、反応槽内側に精錬剤のセルフコーデング層を
生成させることもできる。 この場合従来冶金装置が、常に耐火物問題の解
決に多くの労力を費して来た事から考えると、こ
の問題から解放される事は明白である。又、竪型
反応に回転運動をあたえることによつて、液状ス
ラグの流動を活発化し、溶銑との反応効率を向上
する事も可能である。 特に反応槽の長さの問題については、上方から
供給される溶銑の単位重量当りの表面積（cm2/g
ｒ）がいくらであるかと言う事と、反応槽で不純
物をどの程度まで除去するかと言う事によつて決
まつて来るが、たとえば一般的な溶銑（Si0.5〜
0.8％、P0.08〜0.15％、S0.2〜0.04％）のもの
を、脱Si槽でSi0.05〜0.2％までSiを除去したり、
又は脱Ｐ、Ｓ槽でP0.01〜0.02％、S0.01〜0.015
％で除去する場合は、供給溶銑径を数m/mにす
れば、数メートル〜10メートル前後で充分であ
る。 又冶金反応は除去すべき元素によつて異なる
が、温度の影響を受けやすいものであるから、反
応槽外側に誘導加熱装置を配置する事によつて、
自由に槽内温度の制御を可能にする。又、誘導撹
拌する事によつて、冶金反応を促進出来る事は当
然である。 第２図、第３図は本発明の他の実施例である。
（第１図と同一符号は同一名称につき説明を省略
した。） 第２図は脱Si槽２０−１と脱Ｐ、Ｓ槽２０−２
に分離して反応槽２０を構成し、槽２０−２の外
周に誘導コイル３０を設ける。槽２０−１と槽２
０−２との間に容器３１を設けて、脱Si溶銑を貯
めることができる。精錬剤は脱Si用として酸化
鉄、酸素ガスがArガスとともにノズル２２−２
から容器３１に供給され、脱Ｓ、Ｐ用として
CaO、CaCl2、スケールがN2ガスとともにノズル
２２−１から湯溜り部２７に供給される。 第３図は脱Si槽２０−１と脱Ｐ、Ｓ槽２０−２
を水冷反応槽２０として竪型に構成し、湯溜り部
を耐火煉瓦とした例を示す。脱Si剤はノズル２２
−２から供給されて、排出口２３−１から脱Siス
ラグとし取出され、脱Ｐ、Ｓ剤はノズル２２−１
から供給されて、排出口２３−２から脱Ｐ、Ｓス
ラグとして取出される。 又脱Si槽と脱Ｐ、Ｓ槽との中間には、脱Siスラ
グと脱Ｐ、Ｓスラグとの混合層が形成されてい
る。 以上の通り本発明は構成されているので、次の
ような効果がある。 即ち溶銑の特徴を生かして、溶銑を小さい横断
面として反応槽に入れる事によつて、脱Si、Ｐ、
Ｓ反応で、最も重要であるスラグ−メタル接触面
積を拡げることが出来る。特に横型樋式に比較し
て、103〜105倍とする事が極めて容易なため、反
応時間を樋式の1/103〜1/105に短縮可能となり、
連続処理炉が極めて小型化出来る。 次に竪型であるため溶銑は上→下、反応スラグ
は下→上と対向流となり、横型樋式で問題となつ
た先行溶銑と後続溶銑又はスラグの混合がおこり
づらく、極めて安定した連続反応、向流反応が確
保出来て反応効率を高める事が可能である。 又溶銑は上→下への線状、粒状、フイルム状の
流れとなり、その周辺部を反応スラグが覆つてい
る形とすると、反応槽の外周部分には溶銑がない
ため、反応槽は耐火物で構成する必要がなく、金
属壁又は水冷、空冷を行つている金属壁で反応槽
を構成出来、溶銑予備処理で最も問題となる耐火
物問題（一つは耐火物コスト、もう一つは耐火物
中SiO2による反応スラグの反応性の低下）から
解放される。 更に本発明では脱Siと脱Ｐ、Ｓが連続処理によ
つて、容易に達成出来る利点がある。尚、反応槽
内では精錬反応時にCOガス等のガス体が一部発
生することもあるので、反応槽上部にガス抜き孔
をもうける事は、液状精錬スラツグの連続的排出
を定形化する事になる。 以下本発明装置の使用例をのべる。 使用例 １ 第２図に示す竪型連続脱Si、Ｐ、Ｓ反応槽（脱
硅槽脱Ｐ、Ｓ槽ともに耐火物製内径100cmφ）
に、最上方より２m/mφ×200個の多孔ノズルよ
り、溶銑をTon／分で脱硅槽に供給し、下部溶銑
溜からさらに２m/mφ×200個の多孔ノズルを介
して、3Ton／分で脱Ｐ、Ｓ槽に溶銑を連続供給
した。 一方脱硅反応槽下部より、酸化鉄、酸素ガス
を、Arガスで稀薄して吹込み、又脱Ｐ、Ｓ槽下
部より、CaO、CaCl2、スケールをN2ガスで吹込
んで、表−１の如く効率的に連続処理結果を得
た。
で、効率よい脱Si、Ｐ、Ｓを実施するには、充分
なスラグ−メタル反応接触面積を確保する事が必
要である。 しかしながらこれを横型樋式の連続処理法で確
保するには次の様な反応装置上の問題がある。 (1) スラグ−メタル接触面は、一義的には装置の
横断面によつて定まつてくる。この面積を大き
くしようとすれば、勢い精錬装置を大きくせざ
るを得ない。一般的に設備の大型化は設備費の
経済性、耐火物消費量、熱損失の点から好まし
くなく実用的でない。 (2) スラグ−メタル接触面積を拡大させる方法と
しては、溶銑、スラグを撹拌する方法が考えら
れる。しかし強い撹拌は樋内の先行溶銑、後続
溶銑の混合を来たし、連続処理の特徴が失われ
るとともに処理が困難となる。 (1)、(2)の問題点を有することから、溶銑の連続
処理は理論的に又実験的には可能であるが、実用
化には至つていないのが現状である。 一方例えば特開昭49−70812号公報において、
竪型炉による溶銑のスプレー精錬方式が提案さ
れ、竪型炉落下の溶融鉄滴をスラグ形成物質の酸
化ガスにより精錬する方法が開示されている。又
特公昭47−48767号公報は、竪型連続脱硫装置が
提案されている。 本発明は上述の従来技術とは全く異なる竪型連
続式の溶銑の予備処理装置を提起するものであ
る。 以下本発明を図面により説明する。 第１図は本発明の反応槽の模式図である。図に
おいて、反応槽２０には容器２１を設け、溶銑Ｐ
が準備される。容器２１はノズル２５が所望数設
けられて、反応槽２０に開口している。反応槽２
０の下部には、排出ノズル２６を設けた溶銑湯溜
槽２７がある。２２は精錬剤添加ノズルを示し、
ノズル２２−１が反応槽２０の下部に設けられ、
ノズル２２−２，２２−３が反応槽の胴部に設け
られる。２３は排出口で反応終了スラグが取り出
される。湯溜槽２７に補助ノズル２２−４を設け
て、精錬反応剤を添加してもよい。３５はガス抜
き孔である。 まず溶銑収納容器から溶銑が、ノズル又はスリ
ツト状耐火物を介して、細線状あるいは粒滴状、
フイルム状の形態とし、反応面積を増大させて、
反応槽上部に供給される。溶銑は溶鋼と異なり、
溶銑温度と凝固温度の差ΔＴが大きい点と、粘性
の点から極めて小さい横断面として流出する事が
容易であり、数10μにする事も可能である。 本発明における反応槽には、目的に応じた精錬
剤、即ち脱Si反応剤が槽上部に脱Ｐ、Ｓ反応剤が
槽下部に溶融状態に保持されている。 前記液状反応剤の中を、溶銑は上方から下方へ
降下して行き、その降下中にスラグ−メタル反応
を起こし、脱Si次いで脱Ｐ、Ｓが実施される。反
応槽へは溶銑を連続的に供給するので、槽内のス
ラグを新しいものと交換する必要があり、各反応
域の下方から新しい精錬剤を供給するとともに、
反応槽上部より反応終了スラグを排出する。 本発明では反応槽の中間部に精錬剤の供給孔を
設けてあり、酸素、酸化鉄等の脱Si剤を供給する
事によつて、脱Si反応槽下部から脱Ｐ、Ｓ剤を供
給することによつて、脱Ｐ、Ｓと夫々の反応効率
を向上させる事が出来る。 最後に反応槽を通過した溶銑は、最下部の溶銑
溜部にたくわえられ、必要に応じて排出される。 本発明装置においては、スラグ−メタルが向流
反応を行うものであり、反応槽に供給される溶銑
は、線状、粒滴もしくはフイルム状に形成する。
この場合線状、粒滴、フイルム状の溶銑は、液状
精錬剤と接触する表面積として、0.5cm2〜10cm2／
１ｇ−溶銑が好ましい。 10cm2/ｇ超であると、連続排出する液状スラグ
とともに溶銑が排出される恐れがあり、本発明装
置による効果が達成されないし、0.5cm2/ｇ未満に
なると、向流反応が十分に期待できない。 線状、フイルム状化はノズル、スリツト状耐火
物の形状を工夫する事によつて、容易に実施出来
る。又粒滴状化は上記ノズル下部に磁気ストツパ
ーを設置するか振動をあたえることによつて、容
易に実行出来るものである。 又本発明における反応槽への精錬剤の供給は、
脱Si、脱Ｐ、Ｓに応じて各々異なるフラツクスを
添加されるが、何れも反応槽内ではほぼ完全に溶
融状態になつていなければならない。その為あら
かじめ溶解した精錬剤を反応槽内に添加する事も
でき、また熱的観点から反応槽の一個所又は複数
個所の側壁面から、又は溶銑溜部へ直接添加する
方が好ましい。 溶銑の予備処理は、大別して二つに分けられ
る。即ちSi、Mn、Cr、Zr等の割合酸素との親和
力のある元素を酸化除去する場合には、酸素ガス
及び酸化鉄（スケール、鉄鉱石粉、焼結鉱粉等）
を主として添加するが、酸化反応を調整する意味
から、一部CaO粉等の添加により、反応槽の塩基
度を調整する事もある。 次にＰ、Ｓを除去する場合は、積極性にＰ、Ｓ
と結合する物質を添加する必要があり、CaO系と
ソーダ系に大別出来る。但し脱Ｐ反応について
は、CaO系、ソーダ系をとわず、反応槽での溶銑
のSi含有量が0.2％以上では、脱Ｐがほとんど起
こらないので、0.2％まで低減させておく必要が
ある。 又CaO系を使用する場合は、CaOの溶解を促進
すると言う点から、CaCl2、CaF2等の適量の使用
は効果がある。又CaO系、ソーダ系をとわず脱
Ｐ、又は同時脱Ｐ、Ｓ反応での脱Ｐの酸化を強化
するため、酸素ガス、酸化鉄を併せて添加する事
は有効である。 本発明の反応槽の側壁部は耐火物でもよいが、
竪型槽の特長を生かすには、降下溶銑のある乱流
域部だけ広めに側壁を大きくして、反応槽を冷却
構造とするが、熱回収機構を持たせた構造とし
て、反応槽内側に精錬剤のセルフコーデング層を
生成させることもできる。 この場合従来冶金装置が、常に耐火物問題の解
決に多くの労力を費して来た事から考えると、こ
の問題から解放される事は明白である。又、竪型
反応に回転運動をあたえることによつて、液状ス
ラグの流動を活発化し、溶銑との反応効率を向上
する事も可能である。 特に反応槽の長さの問題については、上方から
供給される溶銑の単位重量当りの表面積（cm2/g
ｒ）がいくらであるかと言う事と、反応槽で不純
物をどの程度まで除去するかと言う事によつて決
まつて来るが、たとえば一般的な溶銑（Si0.5〜
0.8％、P0.08〜0.15％、S0.2〜0.04％）のもの
を、脱Si槽でSi0.05〜0.2％までSiを除去したり、
又は脱Ｐ、Ｓ槽でP0.01〜0.02％、S0.01〜0.015
％で除去する場合は、供給溶銑径を数m/mにす
れば、数メートル〜10メートル前後で充分であ
る。 又冶金反応は除去すべき元素によつて異なる
が、温度の影響を受けやすいものであるから、反
応槽外側に誘導加熱装置を配置する事によつて、
自由に槽内温度の制御を可能にする。又、誘導撹
拌する事によつて、冶金反応を促進出来る事は当
然である。 第２図、第３図は本発明の他の実施例である。
（第１図と同一符号は同一名称につき説明を省略
した。） 第２図は脱Si槽２０−１と脱Ｐ、Ｓ槽２０−２
に分離して反応槽２０を構成し、槽２０−２の外
周に誘導コイル３０を設ける。槽２０−１と槽２
０−２との間に容器３１を設けて、脱Si溶銑を貯
めることができる。精錬剤は脱Si用として酸化
鉄、酸素ガスがArガスとともにノズル２２−２
から容器３１に供給され、脱Ｓ、Ｐ用として
CaO、CaCl2、スケールがN2ガスとともにノズル
２２−１から湯溜り部２７に供給される。 第３図は脱Si槽２０−１と脱Ｐ、Ｓ槽２０−２
を水冷反応槽２０として竪型に構成し、湯溜り部
を耐火煉瓦とした例を示す。脱Si剤はノズル２２
−２から供給されて、排出口２３−１から脱Siス
ラグとし取出され、脱Ｐ、Ｓ剤はノズル２２−１
から供給されて、排出口２３−２から脱Ｐ、Ｓス
ラグとして取出される。 又脱Si槽と脱Ｐ、Ｓ槽との中間には、脱Siスラ
グと脱Ｐ、Ｓスラグとの混合層が形成されてい
る。 以上の通り本発明は構成されているので、次の
ような効果がある。 即ち溶銑の特徴を生かして、溶銑を小さい横断
面として反応槽に入れる事によつて、脱Si、Ｐ、
Ｓ反応で、最も重要であるスラグ−メタル接触面
積を拡げることが出来る。特に横型樋式に比較し
て、103〜105倍とする事が極めて容易なため、反
応時間を樋式の1/103〜1/105に短縮可能となり、
連続処理炉が極めて小型化出来る。 次に竪型であるため溶銑は上→下、反応スラグ
は下→上と対向流となり、横型樋式で問題となつ
た先行溶銑と後続溶銑又はスラグの混合がおこり
づらく、極めて安定した連続反応、向流反応が確
保出来て反応効率を高める事が可能である。 又溶銑は上→下への線状、粒状、フイルム状の
流れとなり、その周辺部を反応スラグが覆つてい
る形とすると、反応槽の外周部分には溶銑がない
ため、反応槽は耐火物で構成する必要がなく、金
属壁又は水冷、空冷を行つている金属壁で反応槽
を構成出来、溶銑予備処理で最も問題となる耐火
物問題（一つは耐火物コスト、もう一つは耐火物
中SiO2による反応スラグの反応性の低下）から
解放される。 更に本発明では脱Siと脱Ｐ、Ｓが連続処理によ
つて、容易に達成出来る利点がある。尚、反応槽
内では精錬反応時にCOガス等のガス体が一部発
生することもあるので、反応槽上部にガス抜き孔
をもうける事は、液状精錬スラツグの連続的排出
を定形化する事になる。 以下本発明装置の使用例をのべる。 使用例 １ 第２図に示す竪型連続脱Si、Ｐ、Ｓ反応槽（脱
硅槽脱Ｐ、Ｓ槽ともに耐火物製内径100cmφ）
に、最上方より２m/mφ×200個の多孔ノズルよ
り、溶銑をTon／分で脱硅槽に供給し、下部溶銑
溜からさらに２m/mφ×200個の多孔ノズルを介
して、3Ton／分で脱Ｐ、Ｓ槽に溶銑を連続供給
した。 一方脱硅反応槽下部より、酸化鉄、酸素ガス
を、Arガスで稀薄して吹込み、又脱Ｐ、Ｓ槽下
部より、CaO、CaCl2、スケールをN2ガスで吹込
んで、表−１の如く効率的に連続処理結果を得
た。
【表】
使用例 ２
第３図に示す竪型連続脱Si、Ｐ、Ｓ反応槽（水
冷SUS製内径150cmφ）に、最上方より２m/mφ
×400個の多孔ノズルより、溶銑5Ton／分で脱硅
槽に供給し、脱硅槽下部と脱Ｐ、Ｓ槽の間に、混
合槽をもうけ、その下に直接脱Ｐ、Ｓ槽を直結し
た。 この様に混合層をもうける事によつて、脱硅、
脱Ｐ、Ｓ槽を上下に直結しても特に効率を下げる
事なく、連続脱Si、Ｐ、Ｓ処理が出来た。 その結果を表−２に示す。
冷SUS製内径150cmφ）に、最上方より２m/mφ
×400個の多孔ノズルより、溶銑5Ton／分で脱硅
槽に供給し、脱硅槽下部と脱Ｐ、Ｓ槽の間に、混
合槽をもうけ、その下に直接脱Ｐ、Ｓ槽を直結し
た。 この様に混合層をもうける事によつて、脱硅、
脱Ｐ、Ｓ槽を上下に直結しても特に効率を下げる
事なく、連続脱Si、Ｐ、Ｓ処理が出来た。 その結果を表−２に示す。
第１図は本発明の説明図、第２図、第３図は本
発明の他の実施例の説明図である。 ２０：反応槽、２１：溶銑容器、２２：精錬剤
添加ノズル、２７：溶銑湯溜部。
発明の他の実施例の説明図である。 ２０：反応槽、２１：溶銑容器、２２：精錬剤
添加ノズル、２７：溶銑湯溜部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 底部に所望数のノズルを設けた溶銑容器と、
下方域に脱Ｐ、Ｓゾーンを形成するノズルを設
け、該ゾーンの上方域に脱Siゾーンを形成するノ
ズルを設けて反応槽を構成し、前記脱Siゾーンの
上部にスラグ排出口を設け、底部に溶銑湯溜槽を
設けて、前記反応槽に、前記溶銑容器を竪型に配
設した竪型連続溶銑予備処理装置。 ２ 底部に所望数のノズルを設けた溶銑容器と、
脱Siゾーンを形成するノズルを設け、底部に所望
数のノズルを設けた溶銑容器からなる第１反応槽
と、脱Ｐ、Ｓゾーンを形成するノズルを設け、底
部に湯溜槽を設けた第２反応槽とを、順次竪型に
配設し、各反応槽の上部に、スラグ排出口を設け
た竪型連続溶銑予備処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5097182A JPS58171518A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 竪型連続溶銑予備処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5097182A JPS58171518A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 竪型連続溶銑予備処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58171518A JPS58171518A (ja) | 1983-10-08 |
| JPS6133042B2 true JPS6133042B2 (ja) | 1986-07-31 |
Family
ID=12873694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5097182A Granted JPS58171518A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 竪型連続溶銑予備処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58171518A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0349541U (ja) * | 1989-09-19 | 1991-05-15 |
-
1982
- 1982-03-31 JP JP5097182A patent/JPS58171518A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0349541U (ja) * | 1989-09-19 | 1991-05-15 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58171518A (ja) | 1983-10-08 |
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