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JPS6134252B2 - - Google Patents
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JPS6134252B2 - - Google Patents

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JPS6134252B2
JPS6134252B2 JP55147090A JP14709080A JPS6134252B2 JP S6134252 B2 JPS6134252 B2 JP S6134252B2 JP 55147090 A JP55147090 A JP 55147090A JP 14709080 A JP14709080 A JP 14709080A JP S6134252 B2 JPS6134252 B2 JP S6134252B2
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JP
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shutter
light
amount
command signal
light source
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Application number
JP55147090A
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Japanese (ja)
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Mitsugi Yamamura
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Canon Inc
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Publication of JPS6134252B2 publication Critical patent/JPS6134252B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B7/00Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly
    • G03B7/08Control effected solely on the basis of the response, to the intensity of the light received by the camera, of a built-in light-sensitive device
    • G03B7/081Analogue circuits
    • G03B7/083Analogue circuits for control of exposure time

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は露光量制御装置、特にIC,LSI等の製
造過程で半導体ウエハー上にマスク上の回路パタ
ーンを焼付けるために用いられる焼付け装置の露
光量を制御するのに適した露光量制御装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is an exposure amount control device, particularly for controlling the exposure amount of a printing device used to print circuit patterns on a mask onto a semiconductor wafer in the manufacturing process of ICs, LSIs, etc. The present invention relates to a suitable exposure control device.

一般に、この種の露光量制御装置は、焼付け装
置の光源からマスク並びウエハーへの光の通過と
遮断のために開閉されるシヤツターと、ウエハー
の露光量を検出するための光量検出器を有し、光
電検出器の検出結果に基づいてシヤツターを開か
ら閉とすることにより露光量を制御している。と
ころで、この種の露光量制御装置では、シヤツタ
ーの作動遅れ、即ちシヤツターの閉指令信号が発
生してからシヤツターが完全に閉じるまでの時間
遅れによるオーバー露光を補正することが必要で
ある。このため、従来では、ウエハーの適正露光
量に対して一定の光量分だけ少なく露光量として
設定し、本来の露光時間より早めにシヤツター閉
指令信号を発生させる方法が採用されていた。し
かしながら、この方法はシヤツターの作動遅れ時
間に対してオーバー露光量は常に一定であるとの
前提に基づいているので、焼付け装置の光源から
の光の強度が変化すると、シヤツターの作動遅れ
に見合つたオーバー露光量の補正ができないとい
う不都合があつた。通常、半導体焼付け装置で
は、光源の強度が最高値の半分程度まで低下して
も使用するため、この方法では露光量の過不足と
いう問題が生じる。
Generally, this type of exposure control device has a shutter that opens and closes to pass and block light from the light source of the printing device to the masks and wafers, and a light amount detector to detect the exposure amount of the wafer. The amount of exposure is controlled by opening and closing the shutter based on the detection results of the photoelectric detector. In this type of exposure control device, it is necessary to correct overexposure caused by a delay in shutter operation, that is, a time delay from when a shutter close command signal is generated until the shutter is completely closed. For this reason, in the past, a method has been adopted in which the exposure amount is set to be a certain amount of light less than the appropriate exposure amount of the wafer, and the shutter close command signal is generated earlier than the original exposure time. However, this method is based on the premise that the amount of overexposure is always constant relative to the shutter operation delay time, so if the intensity of the light from the light source of the printing device changes, the amount of overexposure will always be constant compared to the shutter operation delay time. There was an inconvenience that it was not possible to correct overexposure. Normally, in a semiconductor printing apparatus, the light source is used even if the intensity of the light source is reduced to about half of its maximum value, so this method causes the problem of overexposure or underexposure.

このような従来装置の問題を図示の例を用いて
詳細に説明する。第1図は従来の露光量制御装置
の一例を示すブロツク図で、半導体焼付け装置に
適用された例を示している。図中、1は光源、2
はランプ1によつて照明されるマスクで、半導体
回路パターンが形成されている。3はマスク2に
近接して置かれたウエハーで、光源1からの光に
よつてマスク2上の回路パターンがその上面に焼
付けられる。4は光源からの照明光を遮断するシ
ヤツター、5はシヤツター4を通過した光の強度
を検出する光センサーで、この光センサー5によ
つて検出された光強度はアンプ6によつて電圧信
号に変換される。7は電圧信号を周波数信号に変
換するV/Fコンバーター、8はV/Fコンバー
ター7からのパルス数をカウントするトータルカ
ウンター、9はトータルカウンター8によつてカ
ウントされた値と露光量設定器10に設定された
値を比較し、これらの値が一致した際、一致信号
を発する比較回路である。11はシヤツター開閉
指令器で、露光開始指示ボタン等の押下げによつ
てシヤツター開指令信号を発生し、シヤツター駆
動回路12を作動させ、シヤツター4に開動作さ
せると共に、トータルカウンター8にカウント開
始を指示する。また、比較回路9からの一致信号
によつてシヤツター閉指冷信号を発生し、シヤツ
ター駆動回路12の作動を停止させ、シヤツター
4に閉動作させる。
Problems with such conventional devices will be explained in detail using illustrated examples. FIG. 1 is a block diagram showing an example of a conventional exposure amount control device, and shows an example applied to a semiconductor printing device. In the figure, 1 is a light source, 2
1 is a mask illuminated by the lamp 1, on which a semiconductor circuit pattern is formed. A wafer 3 is placed close to the mask 2, and the circuit pattern on the mask 2 is printed onto its upper surface by light from the light source 1. 4 is a shutter that blocks the illumination light from the light source, 5 is a light sensor that detects the intensity of the light that has passed through the shutter 4, and the light intensity detected by this light sensor 5 is converted into a voltage signal by an amplifier 6. converted. 7 is a V/F converter that converts a voltage signal into a frequency signal, 8 is a total counter that counts the number of pulses from the V/F converter 7, and 9 is a value counted by the total counter 8 and an exposure amount setting device 10. This is a comparison circuit that compares the values set in , and issues a match signal when these values match. Reference numeral 11 denotes a shutter opening/closing command device, which generates a shutter opening command signal by pressing an exposure start command button, etc., activates the shutter drive circuit 12, causes the shutter 4 to open, and instructs the total counter 8 to start counting. do. Further, based on the coincidence signal from the comparator circuit 9, a shutter closing finger cooling signal is generated, the operation of the shutter drive circuit 12 is stopped, and the shutter 4 is caused to operate in a closing operation.

この例では、露光量設定器10にはシヤツター
4の作動遅れによるオーバー露光を補正するた
め、実際の露光量に対応するパルス数より一定パ
ルス数をひいた値が設定されている。このため、
前述の如く、光源1の輝度の変動に基づいて露光
量の過不足が生じる。。このことを著しく単純化
したモデルを使用して説明する。
In this example, in order to correct overexposure due to a delay in the operation of the shutter 4, the exposure amount setter 10 is set to a value obtained by subtracting a certain number of pulses from the number of pulses corresponding to the actual exposure amount. For this reason,
As described above, excess or deficiency in the amount of exposure occurs based on fluctuations in the brightness of the light source 1. . This will be explained using a significantly simplified model.

第2図a,bは、光源1の輝度が最高の場合
と、最高の1/2の場合のシヤツター作動タイムチ
ヤートを示すもので、ハイレベルはシヤツターの
開状態、ローレベルはシヤツター閉状態を示す。
第2図aの如く、光源1の輝度が最高の場合は、
時刻t1にシヤツター4が開動作を行つた後、露光
量設定器10に設定した値までトータルカウンタ
ー8がV/Fコンバーター7からのパルス信号を
カウントすることにより、シヤツター開閉指令器
11からシヤツター閉指令信号が出るまでの時間
は時刻t2までである。そして、一定時間t2〜t3
での間でシヤツター4の閉動作は完了する。従つ
て、シヤツター開時間はt1〜t3である。第2図b
の場合は、光源1の輝度が1/2になつたためシヤ
ツター4の開時間t1〜t6はt1〜t3の倍なければなら
ない。しかしながら、この場合でも、トータルカ
ウンター8が一定パルス数をカウントした後のシ
ヤツター閉指令信号発生時刻t4(時間t1〜t4は時
間t1〜t2の倍となる)からシヤツター4が閉じる
までの時間は、第2図aの時間t2〜t3と同じであ
るため時刻t6になる前に閉じてしまう。従つて、
シヤツター開時間はt1〜tになつて、時間t5〜t6
の分だけ光が不足してしまう。
Figures 2a and b show the shutter operation time charts when the brightness of light source 1 is at its maximum and at 1/2 of its maximum brightness.High level indicates the shutter is open, and low level indicates the shutter is closed. show.
As shown in Figure 2a, when the brightness of light source 1 is the highest,
After the shutter 4 performs an opening operation at time t1 , the total counter 8 counts the pulse signals from the V/F converter 7 up to the value set in the exposure amount setting device 10, and the shutter opening/closing command device 11 outputs the shutter signal. The time until the closing command signal is issued is until time t2 . Then, the closing operation of the shutter 4 is completed during a certain period of time t2 to t3 . Therefore, the shutter open time is from t1 to t3 . Figure 2b
In this case, since the brightness of the light source 1 has been halved, the opening time of the shutter 4 from t 1 to t 6 must be twice as long as from t 1 to t 3 . However, even in this case, the shutter 4 closes from the time t 4 when the shutter close command signal is generated after the total counter 8 has counted a certain number of pulses (the times t 1 to t 4 are twice the times t 1 to t 2 ). Since the time up to this point is the same as time t 2 to t 3 in FIG. 2a, it closes before time t 6 . Therefore,
The shutter opening time is from t 1 to t, and then from t 5 to t 6
There will be a lack of light.

本発明はこのような事情に鑑みなされたもの
で、その目的は光源から被記録体への光の通過と
遮断のために開閉されるシヤツターによつて被記
録体の露光量を制御する際、光源の輝度が変化し
ても常に正確に設定された量だけ被記録体を露光
することのできる露光量制御装置を提供すること
にある。
The present invention was developed in view of the above circumstances, and its purpose is to control the exposure amount of a recording medium by means of a shutter that is opened and closed to pass and block light from a light source to a recording medium. An object of the present invention is to provide an exposure amount control device that can always expose a recording medium by an accurately set amount even if the brightness of a light source changes.

そして、本発明はこの目的を達成するために、
シヤツターの作動遅れに見合つた露光量を光源か
らの光を検出する光電検出器を介して検出し、こ
の検出した露光量によつてシヤツター閉指令信号
の発生タイミングを補正している。
And, in order to achieve this purpose, the present invention
The amount of exposure commensurate with the delay in shutter operation is detected via a photoelectric detector that detects light from a light source, and the timing of generation of the shutter close command signal is corrected based on the detected amount of exposure.

以下、本発明を第3図以降に示した各実施例に
基づいて詳細に説明するが、本発明の実施例では
前述の従来例と同一構成のものについては、同一
の符号を付して説明を省略する。第3図の実施例
において、13は補正用タイマー、14は補正用
カウンター、15は2入力のアンドゲートであ
り、これらで本発明の光量検出手段を構成してい
る。補正用タイマー13はV/Fコンバーターの
作動により作動開始し、シヤツター4の作動遅れ
に対応した時間t2〜t3だけ出力を発生する。補正
用タイマー13はアンドゲート15の一入力端に
接続している。また、アンドゲート15の他入力
端にはV/Fコンバーター7の出力が加えられ
る。従つて、補正用カウンター14にはシヤツタ
ー4の作動遅れ時間t2〜t3に対応するパルス数が
カウントされる。16はトータルカウンター8と
補正用カウンター14のカウント値をプラスする
本発明の補正手段となる加算器で、この加算器1
6の加算値と露光量設定器10に設定された値
が、比較回路9によつて比較される。なお、本実
施例では露光量設定器10の設定値は第1図の例
と異なつて、適正露光値が設定される。これ以外
の点は第1図の例と同様である。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail based on each embodiment shown in FIG. omitted. In the embodiment shown in FIG. 3, 13 is a correction timer, 14 is a correction counter, and 15 is a two-input AND gate, which constitute the light amount detection means of the present invention. The correction timer 13 starts operating by the operation of the V/F converter, and generates an output for a time period t2 to t3 corresponding to the delay in the operation of the shutter 4. The correction timer 13 is connected to one input terminal of the AND gate 15. Further, the output of the V/F converter 7 is applied to the other input terminal of the AND gate 15. Therefore, the correction counter 14 counts the number of pulses corresponding to the operation delay time t2 to t3 of the shutter 4. Reference numeral 16 denotes an adder serving as a correction means of the present invention that adds the count values of the total counter 8 and the correction counter 14;
The comparison circuit 9 compares the added value of 6 and the value set in the exposure amount setter 10. In this embodiment, the setting value of the exposure amount setting device 10 is different from the example shown in FIG. 1, and an appropriate exposure value is set. Other points are the same as the example shown in FIG.

本実施例では上述の如く構成されているため、
第4図a,bに示す如く、最高輝度の場合でも、
1/2の輝度の場合でも、シヤツター閉指令信号は
適正露光時間t1〜t3,t1〜t6が得られるように、即
ちシヤツター4の作動遅れによるオーバー露光に
見合うような量だけ未露光となつた時刻t2〜t4
発生されるので、実露光量は常に設定器10に設
定された露光量に等しくなる。
Since this embodiment is configured as described above,
As shown in Figure 4 a and b, even at the highest brightness,
Even in the case of 1/2 brightness, the shutter close command signal is set so that the appropriate exposure times t 1 to t 3 and t 1 to t 6 can be obtained, that is, the shutter close command signal is delayed by an amount corresponding to the overexposure caused by the delay in shutter 4 operation. The actual exposure amount is always equal to the exposure amount set in the setting device 10 because it is generated at the time t 2 to t 4 when exposure occurs.

次に、補正用カウンター14のカウント値を露
光量設定器10に入力する本発明の他の実施例を
第5図を用いて説明する。
Next, another embodiment of the present invention in which the count value of the correction counter 14 is input to the exposure amount setter 10 will be described with reference to FIG.

第3図の実施例と同様に、補正用タイマー13
はV/Fコンバーター7の作動開始からシヤツタ
ー4の作動遅れ時間に対応する時間だけ出力をア
ンドゲート15に出力する。この間、アンドゲー
ト15は光センサー5に入射した光源1の光の強
度に対応したパルス信号を出力する。補正用カウ
ンター14によつてパルス信号の数はカウントさ
れ、このカウント値は露光量設定器10に入力さ
れる。露光量設定器10には適正露光量に対応す
るパルス数が設定されているが、この設定パルス
数は補正用カウンター14のカウント値によつて
減算される。従つて、比較回路9において、減算
された設定値とトータルカウンター8のカウント
値が比較される。以下は、第3図の実施例と同様
であるので説明を省略する。
Similar to the embodiment of FIG. 3, the correction timer 13
outputs an output to the AND gate 15 for a time corresponding to the operation delay time of the shutter 4 from the start of operation of the V/F converter 7. During this time, the AND gate 15 outputs a pulse signal corresponding to the intensity of the light from the light source 1 that is incident on the optical sensor 5. The number of pulse signals is counted by the correction counter 14, and this count value is input to the exposure amount setting device 10. The number of pulses corresponding to the appropriate exposure amount is set in the exposure amount setter 10, and this set number of pulses is subtracted by the count value of the correction counter 14. Therefore, the comparison circuit 9 compares the subtracted set value and the count value of the total counter 8. Since the following is the same as the embodiment shown in FIG. 3, the explanation will be omitted.

次に、マイコンを使用した本発明の更に他の実
施例を第6図を使用して説明する。第3図の実施
例との相異点は、比較回路9、シヤツター開閉指
令器11、アンドゲート15及び加算器16によ
る指令又は演算をCUPで行い、トータルカウン
ター8、補正用カウンター14としてはランダ
ム・アクセス・メモリRAM1を使用し、補正用
タイマー13としてはオシレータOSCとRAM2
を使用している点である。第3図の実施例と同機
能を持たせるため、第7図aの〔メインルーチ
ン〕、第7図bの〔割込みルーチン〕を有してい
る。露光量制御は通常メイン側で動作し、割込み
があるとメインルーチンを一時休止して割込みル
ーチンにとび、どの割込み処理であるかを判断し
理をする。それが終わると、再びメインルーチン
に戻るという動作を繰り返しながら、露光量制御
を終了する。第6図において、V/Fコンバータ
ー7の出力とOSC13の出力が割込みに使用さ
れる。
Next, still another embodiment of the present invention using a microcomputer will be described with reference to FIG. The difference from the embodiment shown in FIG. 3 is that the comparator circuit 9, shutter opening/closing command device 11, AND gate 15, and adder 16 perform commands or calculations using the CUP, and the total counter 8 and correction counter 14 are used randomly.・Access memory RAM1 is used, and the oscillator OSC and RAM2 are used as the correction timer 13.
The point is that it uses . In order to have the same functions as the embodiment shown in FIG. 3, the main routine shown in FIG. 7a and the interrupt routine shown in FIG. 7b are provided. Exposure control usually operates on the main side, and when an interrupt occurs, the main routine is temporarily suspended, the interrupt routine is jumped to, and the interrupt processing is determined and processed. When this is completed, the exposure amount control is completed while repeating the operation of returning to the main routine again. In FIG. 6, the output of the V/F converter 7 and the output of the OSC 13 are used for interrupts.

次に、第7図a,bについて説明する。メイン
ルーチンに入ると、まずV/Fコンバーター7の
出力パルスを計数するRAM1をクリアする(ス
テツプ1−1)、次にシヤツター4を開き(ステ
ツプ1−2)、V/Fコンバーター7が作動する
のを検出する(ステツプ1−3)。V/Fコンバ
ーター7の作動検出はV/Fコンバーター7の出
力による割込み処理(ステツプ2−1,2)で、
RAM1=0でなくなることで行う。V/Fコン
バーター7が作動を開始したら、シヤツター4の
作動遅れ時間をRAM2にセツトし(ステツプ1
−4)、RAM2=0になるまでループをつくる
(ステツプ1−5)。RAM2はOSC13の出力パ
ルスによる割込み処理でデクリメントされる(ス
テツプ2−3,4,5)。RAM2がセツトされて
から〓0〓になるまでの間、露光量に応じたV/
Fコンバーター7の出力パルスの数も割込み処理
によつて、RAM1に計数されている。RAM2が
〓0〓検出されると、RAM1の値を2倍にする
(ステツプ1−6)。これは、第3図の実施例で、
補正用タイマー13が作動している間の補正用カ
ウンター14の値とトータルカウンター8の値を
加算することと等価の働きをしている。
Next, FIGS. 7a and 7b will be explained. When entering the main routine, first clear the RAM1 that counts the output pulses of the V/F converter 7 (step 1-1), then open the shutter 4 (step 1-2), and the V/F converter 7 will operate. (Step 1-3). The operation of the V/F converter 7 is detected by interrupt processing (steps 2-1 and 2) using the output of the V/F converter 7.
This is done when RAM1 is no longer 0. When the V/F converter 7 starts operating, set the shutter 4 operation delay time in RAM2 (step 1).
-4), create a loop until RAM2=0 (steps 1-5). RAM2 is decremented by interrupt processing by the output pulse of OSC13 (steps 2-3, 4, and 5). From the time RAM2 is set until it becomes 0, the V/
The number of output pulses of the F converter 7 is also counted in the RAM 1 by interrupt processing. When RAM2 is detected as 0, the value of RAM1 is doubled (step 1-6). This is the example of FIG.
This function is equivalent to adding the value of the correction counter 14 and the value of the total counter 8 while the correction timer 13 is operating.

補正後、割込みルーチンではRAM2をV/F
コンバーター7の出力に応じてインクルメントす
る。メインルーチンでは露光量設定値を入力し、
PAM1と比較して同値になるとシヤツター4を
閉じるための一致信号をシヤツター駆動回路12
に出力する(ステツプ1−7,8,9)。以下の
動作は前述の実施例と同様なので説明を省略す
る。
After correction, RAM2 is set to V/F in the interrupt routine.
It is incremented according to the output of converter 7. In the main routine, input the exposure setting value,
The shutter drive circuit 12 sends a match signal to close the shutter 4 when the value is the same compared to PAM1.
(Steps 1-7, 8, 9). The following operations are similar to those of the previous embodiment, so the explanation will be omitted.

以上の如く、本発明は光源から被記録体への光
の通過と遮断のために開閉されるシヤツターによ
つて被記録体への露光を制御する際、シヤツター
の作動遅れに見合つた露光量を検出し、この検出
した露光量によつてシヤツター閉指令信号の発生
タイミングを補正するようなしたので、光源輝度
が変化しても常に設定された量だけ被記録体を露
光することができる。従つて、本発明によれば、
焼付け装置の露光を常に正確なものとすることが
できる。
As described above, the present invention provides an exposure amount that is commensurate with the shutter operation delay when controlling exposure to a recording medium using a shutter that is opened and closed to pass and block light from a light source to a recording medium. Since the timing of generating the shutter close command signal is corrected based on the detected exposure amount, the recording medium can always be exposed by the set amount even if the light source brightness changes. Therefore, according to the present invention:
The exposure of the printing device can always be accurate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の露光量制御装置の一例を示すブ
ロツク回路図、第2図a,bは第1図の例のシヤ
ツター作動のタイムチヤートを示す図、第3図は
本発明の露光量制御装置の一実施例を示すブロツ
ク回路図、第4図a,bは第3図の実施例のシヤ
ツター作動のタイムチヤートを示す図、第5図は
本発明の他の実施例を示すブロツク図、第6図は
本発明の更に他の実施例を示すブロツク回路図、
第7図a,bは第6図の実施例の作動ルーチンを
示し、第7図aはメインルーチンを示す図で、第
7図bは割込みルーチンを示す図である。 図中、1は光源、2はマスク、3はウエハー、
4はシヤツター、5は光センサー、6はアンプ、
7はV/Fコンバーター、8はトータルカウンタ
ー、9は比較回路、10は露光量設定器、11は
シヤツター開閉指令器、12はシヤツター駆動回
路、13は補正用タイマー、14は補正用カウン
ター、15はアンドゲートである。
FIG. 1 is a block circuit diagram showing an example of a conventional exposure amount control device, FIGS. 2a and b are diagrams showing a time chart of shutter operation in the example of FIG. 1, and FIG. 3 is an exposure amount control system according to the present invention. 4a and 4b are diagrams showing a time chart of shutter operation in the embodiment of FIG. 3; FIG. 5 is a block diagram showing another embodiment of the present invention; FIG. FIG. 6 is a block circuit diagram showing still another embodiment of the present invention;
7a and 7b show the operating routine of the embodiment of FIG. 6, FIG. 7a shows the main routine, and FIG. 7b shows the interrupt routine. In the figure, 1 is a light source, 2 is a mask, 3 is a wafer,
4 is the shutter, 5 is the light sensor, 6 is the amplifier,
7 is a V/F converter, 8 is a total counter, 9 is a comparison circuit, 10 is an exposure amount setting device, 11 is a shutter opening/closing command device, 12 is a shutter drive circuit, 13 is a correction timer, 14 is a correction counter, 15 is an and gate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 光源から被記録体への光の通過と遮断のため
に開閉されるシヤツターと、シヤツター開指令信
号の発生に応じて上記シヤツターに開動作させる
と共にシヤツター開指令信号の発生に応じて上記
シヤツターに閉動作させるためのシヤツター駆動
手段と、上記光源からの光を検出するための光検
出手段と、シヤツター閉指令信号が発生してから
上記シヤツターの閉動作が完了するまでの間に上
記シヤツターを通過する上記光源からの光の量に
対応する光量をシヤツター閉指令信号の発生前に
上記光検出手段の検出結果に基づいて検出するた
めの光量検出手段と、被記録体に対する設定光量
とシヤツター開指令信号が発生してから上記シヤ
ツターの閉動作が完了するまでの間に上記シヤツ
ターを通過する上記光源からの光の量を一致させ
るためにシヤツター閉指令信号の発生のタイミン
グを上記光量検出手段が検出した光量に対応する
値だけ補正するための補正手段を有することを特
徴とする露光量制御装置。 2 上記光検出手段は上記シヤツターを通過する
上記光源からの光を検出し、上記光量検出手段は
上記シヤツターの開動作時シヤツター閉指令信号
が発生してから上記シヤツターの閉動作が完了す
るまでの時間に対応する時間の間だけ上記光検出
手段の検出結果を積算することを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の露光量制御装置。 3 上記補正手段は上記光量検出手段が検出した
光量をシヤツター開指令信号が発生してから上記
シヤツターを通過する上記光源からの光の量に加
算することを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の露光量制御装置。 4 上記補正手段は上記光量検出手段が検出した
光量を被記録体に対する設定光量から減算するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の露光
量制御装置。 5 上記検出手段は検出結果をパルス信号化する
ための電圧周波数変換器を有することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の露光量制御装置。
[Scope of Claims] 1. A shutter that is opened and closed to pass and block light from a light source to a recording medium, and in response to the generation of a shutter open command signal, the shutter is caused to open and the shutter open command signal is generated. a shutter driving means for causing the shutter to close in response to the shutter, a light detecting means for detecting light from the light source, and a shutter driving means for causing the shutter to close in accordance with the shutter closing operation; and a light detecting means for detecting light from the light source; a light amount detecting means for detecting a light amount corresponding to the amount of light from the light source passing through the shutter in between, based on a detection result of the light detecting means before the shutter close command signal is generated; The timing of generation of the shutter close command signal is adjusted to match the set light amount with the amount of light from the light source that passes through the shutter from the time the shutter open command signal is generated until the shutter close operation is completed. An exposure amount control device comprising a correction means for correcting a value corresponding to the amount of light detected by the light amount detection means. 2. The light detecting means detects light from the light source passing through the shutter, and the light amount detecting means detects the light from the shutter closing command signal generated during the shutter opening operation until the shutter closing operation is completed. 2. The exposure amount control device according to claim 1, wherein the detection results of the light detection means are integrated only during a period of time corresponding to the time. 3. Claim 1, wherein the correction means adds the amount of light detected by the light amount detection means to the amount of light from the light source that passes through the shutter after the shutter open command signal is generated. The exposure amount control device described. 4. The exposure amount control device according to claim 1, wherein the correction means subtracts the amount of light detected by the amount of light detection means from the amount of light set for the recording medium. 5. The exposure amount control device according to claim 1, wherein the detection means includes a voltage frequency converter for converting the detection result into a pulse signal.
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