JPS6136221B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6136221B2 JPS6136221B2 JP4274079A JP4274079A JPS6136221B2 JP S6136221 B2 JPS6136221 B2 JP S6136221B2 JP 4274079 A JP4274079 A JP 4274079A JP 4274079 A JP4274079 A JP 4274079A JP S6136221 B2 JPS6136221 B2 JP S6136221B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dry plate
- lid
- mask
- cleaning device
- nozzle assembly
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はマスク清浄装置の構造に関す。
半導体集積回路装置等に微細な素子パターン、
配線パターン等を形成させる際に使用するフオト
マスクの製造に於いて、マスクパターンを形成さ
せようとする乾板あるいはフオトレジスト塗布し
たブランク板（以下ブランク板と称す）上へのご
みの附着はフオトマスクの製造歩留りや製造品質
を低下させる原因となる。
配線パターン等を形成させる際に使用するフオト
マスクの製造に於いて、マスクパターンを形成さ
せようとする乾板あるいはフオトレジスト塗布し
たブランク板（以下ブランク板と称す）上へのご
みの附着はフオトマスクの製造歩留りや製造品質
を低下させる原因となる。
従来フオトマスクの製造に於いて前記乾板ある
いはブランク板上に附着したごみを除去する方法
としては、イオナイザーを具備したエアーガンか
ら噴射させたオゾンを含んだ窒素ガスのジエツト
で、乾板あるいはブランク板面をはじから順次吹
きはらつて行く方法であつた。
いはブランク板上に附着したごみを除去する方法
としては、イオナイザーを具備したエアーガンか
ら噴射させたオゾンを含んだ窒素ガスのジエツト
で、乾板あるいはブランク板面をはじから順次吹
きはらつて行く方法であつた。
然し該従来方法は吹きはらいの際に窒素ガスの
ジエツトが乾板あるいはブランク板周辺部のごみ
をまき上げ、このごみが吹きはらいを終つた面に
再び沈着するという現象があり、乾板あるいはブ
ランク板面を完全に清浄化することが困難であつ
た。
ジエツトが乾板あるいはブランク板周辺部のごみ
をまき上げ、このごみが吹きはらいを終つた面に
再び沈着するという現象があり、乾板あるいはブ
ランク板面を完全に清浄化することが困難であつ
た。
本発明は上記問題点に鑑み、パターンの形成を
行おうとする乾板或るいはブランク板をマスク製
造装置にセツトした状態で、乾板或るいはブラン
ク板周辺を排気しながらごみの吹きはらいを行い
乾板あるいはブランク板面の完全な清浄化を行う
装置を提供する。
行おうとする乾板或るいはブランク板をマスク製
造装置にセツトした状態で、乾板或るいはブラン
ク板周辺を排気しながらごみの吹きはらいを行い
乾板あるいはブランク板面の完全な清浄化を行う
装置を提供する。
即ち本発明のマスク清浄装置は下面開口部周縁
にパツキンを具備し、該パツキンを介してマスク
製造装置の乾板ホルダー部上に気密に載置し得る
ごとき蓋状の構造体を有し、該構造体の内部に、
イオナイザーを具備する複数個のノズルを有し且
つ前記開口面に対し水平方向に回転し得るごとき
構造のノズル集合体を配設し該ノズル集合体周辺
の蓋状構造体内壁に複数個の排気口を配設してな
ることを特徴とする。
にパツキンを具備し、該パツキンを介してマスク
製造装置の乾板ホルダー部上に気密に載置し得る
ごとき蓋状の構造体を有し、該構造体の内部に、
イオナイザーを具備する複数個のノズルを有し且
つ前記開口面に対し水平方向に回転し得るごとき
構造のノズル集合体を配設し該ノズル集合体周辺
の蓋状構造体内壁に複数個の排気口を配設してな
ることを特徴とする。
以下本発明による装置の構造及び本発明の装置
を使用する際のマスク製造方法の一実施例を図示
断面図により詳細に説明する。
を使用する際のマスク製造方法の一実施例を図示
断面図により詳細に説明する。
図はフオトマスクの製造に於いてパターン形成
を行おうとする乾板１を乾板ホルダー２上に固定
させ、該乾板ホルダー２上に本発明による蓋状構
造を有するマスク清浄装置をかぶせた状態を示す
ものである。
を行おうとする乾板１を乾板ホルダー２上に固定
させ、該乾板ホルダー２上に本発明による蓋状構
造を有するマスク清浄装置をかぶせた状態を示す
ものである。
本発明のマスク清浄装置は図に示すように、装
置下面開口部３の周縁部にパツキン４が配設され
上部にハンドル５を有する蓋状構造体６の中央部
に配設されたノズルに対する送気及び吸気が可能
な管状の回転軸７の先端に、蓋状構造体６の開口
面、いいかえるとマスク製造装置の乾板ホルダー
２の上面に対し水平で両端が封じられた硬質塩化
ビニール等のプラスチツクからなるノズル集合体
８が設けられ、該ノズル集合体８には前記開口面
に対して直角方向に通気の軸が形成された複数個
のイオナイザー９を有するノズル１０が配列され
ており、該ノズル集合体８周辺の蓋状構造体６の
内側壁には複数個の排気口１１が設けられた構造
となつている。
置下面開口部３の周縁部にパツキン４が配設され
上部にハンドル５を有する蓋状構造体６の中央部
に配設されたノズルに対する送気及び吸気が可能
な管状の回転軸７の先端に、蓋状構造体６の開口
面、いいかえるとマスク製造装置の乾板ホルダー
２の上面に対し水平で両端が封じられた硬質塩化
ビニール等のプラスチツクからなるノズル集合体
８が設けられ、該ノズル集合体８には前記開口面
に対して直角方向に通気の軸が形成された複数個
のイオナイザー９を有するノズル１０が配列され
ており、該ノズル集合体８周辺の蓋状構造体６の
内側壁には複数個の排気口１１が設けられた構造
となつている。
然してフオトマスクの製造に際して本発明の装
置を使用して、例えばパターンを形成させようと
する乾板を清浄化するには、図に示すように先づ
マスク製造装置の乾板ホルダー２上に感光面を上
にして乾板１を真空固定し、該乾板１を蔽うよう
にマスク清浄装置を開口部３を下にして乾板ホル
ダー２上に載置し、該清浄装置の有するパツキン
４により乾板ホルダー２と密着させる。
置を使用して、例えばパターンを形成させようと
する乾板を清浄化するには、図に示すように先づ
マスク製造装置の乾板ホルダー２上に感光面を上
にして乾板１を真空固定し、該乾板１を蔽うよう
にマスク清浄装置を開口部３を下にして乾板ホル
ダー２上に載置し、該清浄装置の有するパツキン
４により乾板ホルダー２と密着させる。
比の際マスク清浄装置の有するノズル１０の先
端と乾板１の上面との距離は１〜５mmの範囲に設
定する。
端と乾板１の上面との距離は１〜５mmの範囲に設
定する。
次に乾板ホルダー２とマスク清浄装置の蓋状構
造体６の内壁面で形成される空間を、蓋状構造体
６の内側壁に設けた複数個の排気口１１により減
圧排気を行う。
造体６の内壁面で形成される空間を、蓋状構造体
６の内側壁に設けた複数個の排気口１１により減
圧排気を行う。
次に前記減圧排気を行つている状態で、蓋状構
造体６内部の前記ノズル集合体８を３〜10rpmの
ゆるやかな速度で一定方向に回転させながら、ノ
ズル１０からイオナイザー９によりオゾンを混入
させた窒素ガスを1.4〜５Kg/cm2の圧力で乾板１上
に直角に吹きつけ乾板１上に附着しているごみを
吹きとばし、前記蓋状構造体６内壁の排気口１１
から装置外部に排出させる。
造体６内部の前記ノズル集合体８を３〜10rpmの
ゆるやかな速度で一定方向に回転させながら、ノ
ズル１０からイオナイザー９によりオゾンを混入
させた窒素ガスを1.4〜５Kg/cm2の圧力で乾板１上
に直角に吹きつけ乾板１上に附着しているごみを
吹きとばし、前記蓋状構造体６内壁の排気口１１
から装置外部に排出させる。
次にノズル集合体８の回転を続けながら、回転
軸７を経てノズル集合体８の内部を真空に排気し
ノズル１０から吸気を行い乾板１上に密着したご
みを浮き上がらせる。
軸７を経てノズル集合体８の内部を真空に排気し
ノズル１０から吸気を行い乾板１上に密着したご
みを浮き上がらせる。
以上のような窒素の吹き付けと吸気を交互に約
10秒程度づつ数回繰り返し乾板１の清浄化を行う
が、この際蓋状構造体６内壁の排気口１１からの
排気量の調節が清浄化を完全にするための重要な
ポイントである。
10秒程度づつ数回繰り返し乾板１の清浄化を行う
が、この際蓋状構造体６内壁の排気口１１からの
排気量の調節が清浄化を完全にするための重要な
ポイントである。
上記の操作が完了したならば、マスク清浄装置
への窒素ガスの送気及び排気を停止し、該装置を
乾板ホルダー上から取り除き直ちに乾板への露光
を行う。
への窒素ガスの送気及び排気を停止し、該装置を
乾板ホルダー上から取り除き直ちに乾板への露光
を行う。
上記実施例では本発明の装置を使用してマスク
用乾板面の清浄化を行う場合について説明した
が、本発明の装置は乾板に限らずレジストを塗布
したブランク板及びマスター用フオトマスクの清
浄化にも使用し得ることは勿論であり、又投影型
或るいは密着型の何ずれのマスク製造装置につい
ても適用することが可能である。
用乾板面の清浄化を行う場合について説明した
が、本発明の装置は乾板に限らずレジストを塗布
したブランク板及びマスター用フオトマスクの清
浄化にも使用し得ることは勿論であり、又投影型
或るいは密着型の何ずれのマスク製造装置につい
ても適用することが可能である。
又上記実施例に於いてはノズルの通気の軸が蓋
状構造体の開口面に対して直角の場合について説
明したが、該通気軸の角度はごみの形状大きさに
より、最も効果的な角度に設定することが好まし
い。
状構造体の開口面に対して直角の場合について説
明したが、該通気軸の角度はごみの形状大きさに
より、最も効果的な角度に設定することが好まし
い。
以上説明したように本発明の装置はパターンを
形成させようとする乾板或るいはブランク板を外
界から遮断した状態で、該乾板又はブランク板に
附着したごみの除去を行うので清浄化が完全にな
され、フオトマスクの製造歩留りや製造品質を大
幅に向上せしめる効果がある。
形成させようとする乾板或るいはブランク板を外
界から遮断した状態で、該乾板又はブランク板に
附着したごみの除去を行うので清浄化が完全にな
され、フオトマスクの製造歩留りや製造品質を大
幅に向上せしめる効果がある。
図は本発明によるマスク清浄装置の一例の断面
図である。 図に於いて、１は乾板、２は乾板ホルダー、３
は開口部、４はパツキン、５はハンドル、６は蓋
状構造体、７は回転軸、８はノズル集合体、９は
イオナイザー、１０はノズル、１１は排気口。
図である。 図に於いて、１は乾板、２は乾板ホルダー、３
は開口部、４はパツキン、５はハンドル、６は蓋
状構造体、７は回転軸、８はノズル集合体、９は
イオナイザー、１０はノズル、１１は排気口。
Claims (1)
- １ 下面開口部周縁にパツキンを具備し、該パツ
キンを介してマスク製造装置の乾板ホルダー部上
に気密に載置し得るごとき蓋状の構造体を有し、
該構造体の内部に、イオナイザーを具備する複数
個のノズルを有し且つ前記開口面に対し水平方向
に回転し得るごとき構造のノズル集合体を設け、
該ノズル集合体周辺の蓋状構造体内壁に複数個の
排気口を配設してなることを特徴とするマスク清
浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4274079A JPS55134851A (en) | 1979-04-09 | 1979-04-09 | Mask purifier |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4274079A JPS55134851A (en) | 1979-04-09 | 1979-04-09 | Mask purifier |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55134851A JPS55134851A (en) | 1980-10-21 |
| JPS6136221B2 true JPS6136221B2 (ja) | 1986-08-16 |
Family
ID=12644412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4274079A Granted JPS55134851A (en) | 1979-04-09 | 1979-04-09 | Mask purifier |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55134851A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231330A (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-16 | Seiichiro Sogo | 半導体材料の処理装置 |
| JPS61170034A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Hitachi Ltd | 洗浄装置 |
| JP4658776B2 (ja) * | 2005-11-01 | 2011-03-23 | 株式会社リコー | 洗浄装置 |
-
1979
- 1979-04-09 JP JP4274079A patent/JPS55134851A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55134851A (en) | 1980-10-21 |
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