JPS6139066B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6139066B2 JPS6139066B2 JP16336983A JP16336983A JPS6139066B2 JP S6139066 B2 JPS6139066 B2 JP S6139066B2 JP 16336983 A JP16336983 A JP 16336983A JP 16336983 A JP16336983 A JP 16336983A JP S6139066 B2 JPS6139066 B2 JP S6139066B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- irradiator
- holding arm
- microwave
- cooling
- base axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 206010020843 Hyperthermia Diseases 0.000 claims description 9
- 230000036031 hyperthermia Effects 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
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- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 7
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 7
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- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はハイパサーミア装置、特に生体中の患
部組織に照射波を照射して加温治療を行うハイパ
サーミア装置に関する。
部組織に照射波を照射して加温治療を行うハイパ
サーミア装置に関する。
技術背景
生体中の患部組織(例えば癌組織)に対してマ
イクロ波などを照射し、その温度を所定温度(例
えば42〜45℃程度)に加温し、これを連続的ある
いは間欠的に行うことによつて患部組織の治療を
行うハイパサーミア装置が周知であり、この装置
によれば、周囲の正常組織を損傷することなく、
所望の患部組織のみを治療することができる。
イクロ波などを照射し、その温度を所定温度(例
えば42〜45℃程度)に加温し、これを連続的ある
いは間欠的に行うことによつて患部組織の治療を
行うハイパサーミア装置が周知であり、この装置
によれば、周囲の正常組織を損傷することなく、
所望の患部組織のみを治療することができる。
上記ハイパサーミア装置は次のような動作原理
に基づくものである。
に基づくものである。
すなわち、一般に所定周波数域の交番電磁界中
に誘電体を置くと、誘電体は誘電体損により加温
されるが、ハイパサーミア装置はこの誘電体損を
利用して患部組織の加温治療を行うものである。
そして、癌組織は他の正常組織に比べて誘電率が
高く、熱伝導が悪いことが知られており、この結
果、生体中の所定周波数のマイクロ波等を照射す
れば、正常組織を損傷することなく、癌組織のみ
を選択的に加温治療することができる。
に誘電体を置くと、誘電体は誘電体損により加温
されるが、ハイパサーミア装置はこの誘電体損を
利用して患部組織の加温治療を行うものである。
そして、癌組織は他の正常組織に比べて誘電率が
高く、熱伝導が悪いことが知られており、この結
果、生体中の所定周波数のマイクロ波等を照射す
れば、正常組織を損傷することなく、癌組織のみ
を選択的に加温治療することができる。
従来技術
従来、マイクロ波を集中させて患部組織の温度
むらを少なくするために、複数個(3〜6個)の
球面型照射器を設け、各照射器から患部組織へそ
れぞれマイクロ波を照射させることが試みられた
が、各照射器の照射角合わせが難しく、時間がか
かるという欠点があつた。
むらを少なくするために、複数個(3〜6個)の
球面型照射器を設け、各照射器から患部組織へそ
れぞれマイクロ波を照射させることが試みられた
が、各照射器の照射角合わせが難しく、時間がか
かるという欠点があつた。
また通常の場合、マイクロ波は照射器を含むア
プリケータから患部組織に照射されるが、この
時、アプリケータと体表面との間には冷却整合装
置が配置され、例えば、冷却水が充填された水袋
等がこの冷却整合装置として用いられ、体表面の
局部的な過熱が防止され、また照射されるマイク
ロ波線量の分布を所定患部形状に応じて整合する
ことが行われていた。しかしながら、従来装置に
おいては、冷却整合装置の局部過熱防止作用を効
果的に発揮させるために、冷却水等の冷却液を冷
却整合装置に循環導通させる冷却液供給装置を設
けなければならず、また冷却整合装置の側面に冷
却液導入口及び導出口を設けなければならず、装
置が複雑化するという欠点があつた。
プリケータから患部組織に照射されるが、この
時、アプリケータと体表面との間には冷却整合装
置が配置され、例えば、冷却水が充填された水袋
等がこの冷却整合装置として用いられ、体表面の
局部的な過熱が防止され、また照射されるマイク
ロ波線量の分布を所定患部形状に応じて整合する
ことが行われていた。しかしながら、従来装置に
おいては、冷却整合装置の局部過熱防止作用を効
果的に発揮させるために、冷却水等の冷却液を冷
却整合装置に循環導通させる冷却液供給装置を設
けなければならず、また冷却整合装置の側面に冷
却液導入口及び導出口を設けなければならず、装
置が複雑化するという欠点があつた。
発明の目的
本発明は前述した従来の課題に鑑みなされたも
のであり、その目的は、照射器の照射角合わせを
短時間で正確かつ容易に行うことができるととも
に、簡易な構成で冷却液の撹拌を行うことができ
るハイパサーミア装置を提供することにある。
のであり、その目的は、照射器の照射角合わせを
短時間で正確かつ容易に行うことができるととも
に、簡易な構成で冷却液の撹拌を行うことができ
るハイパサーミア装置を提供することにある。
発明の構成
上記目的を達成するために、本発明は、被加温
部を通る基軸の周囲を回転する保持アームと、該
保持アームの基軸から偏位した位置に設けられ基
軸上の被加温部に対して照射波を照射する少なく
とも1個の照射器と、を備え、照射器の回転によ
り基軸と照射方向との交点にある被加温部を局部
的に加温することを特徴とする。
部を通る基軸の周囲を回転する保持アームと、該
保持アームの基軸から偏位した位置に設けられ基
軸上の被加温部に対して照射波を照射する少なく
とも1個の照射器と、を備え、照射器の回転によ
り基軸と照射方向との交点にある被加温部を局部
的に加温することを特徴とする。
実施例
以下図面に基づいて本発明の好適な実施例を説
明する。
明する。
図には、本発明に係るハイパサーミア装置の好
適な実施例が示され、本実施例のハイパサーミア
装置は、マイクロ波100の照射を行うアプリケ
ータ10と、体表面12の局部的な過熱を防止し
かつ照射されるマイクロ波線量の分布を所定患部
形状に応じて整合するためにアプリケータ10と
体表面12との間に配置される冷却整合装置14
と、を備えている。
適な実施例が示され、本実施例のハイパサーミア
装置は、マイクロ波100の照射を行うアプリケ
ータ10と、体表面12の局部的な過熱を防止し
かつ照射されるマイクロ波線量の分布を所定患部
形状に応じて整合するためにアプリケータ10と
体表面12との間に配置される冷却整合装置14
と、を備えている。
上記アプリケータ10は、被加温部すなわち癌
組織16を通る基軸18上に配置される保持アー
ム20を有し、該保持アーム20はハウジング2
2に設けられた軸受24に回転自在に軸支されて
いる。この保持アーム20を回転するためにモー
タ26が設けられ、該モータ26の駆動軸に固定
された駆動プーリ28と保持アーム20の周部に
固定された従動プーリ30とには、駆動ベルト3
2が張架されている。
組織16を通る基軸18上に配置される保持アー
ム20を有し、該保持アーム20はハウジング2
2に設けられた軸受24に回転自在に軸支されて
いる。この保持アーム20を回転するためにモー
タ26が設けられ、該モータ26の駆動軸に固定
された駆動プーリ28と保持アーム20の周部に
固定された従動プーリ30とには、駆動ベルト3
2が張架されている。
上記保持アーム20の保持部34には、基軸1
8から偏位した位置に1個の照射器36が軸38
を軸心として所定量だけ回動可能に固定されてい
る。そして、上記照射器36に照射用電力を供給
するために、保持アーム20の上部周面にはスリ
ツプリング40a,40bが固着されている。上
記各スリツプリング40a,40bの外周面には
ブラシ42a,42bが一定の押圧力で接触さ
れ、またスリツプリング40a,40bと照射器
36とは筒状の保持アーム20内を通るリード線
44a,44bにより電気的に接続されている。
従つて、後述するように、照射器36はモータ2
6により基軸18の周囲を回転しながらマイクロ
波100の照射を行い、基軸18とマイクロ波1
00の照射方向との交点にある被加温部すなわち
癌組織16の加温治療を行う。
8から偏位した位置に1個の照射器36が軸38
を軸心として所定量だけ回動可能に固定されてい
る。そして、上記照射器36に照射用電力を供給
するために、保持アーム20の上部周面にはスリ
ツプリング40a,40bが固着されている。上
記各スリツプリング40a,40bの外周面には
ブラシ42a,42bが一定の押圧力で接触さ
れ、またスリツプリング40a,40bと照射器
36とは筒状の保持アーム20内を通るリード線
44a,44bにより電気的に接続されている。
従つて、後述するように、照射器36はモータ2
6により基軸18の周囲を回転しながらマイクロ
波100の照射を行い、基軸18とマイクロ波1
00の照射方向との交点にある被加温部すなわち
癌組織16の加温治療を行う。
また前記冷却整合装置14は冷却水48が充填
された水袋(又は水槽)50を有し、該水袋50
の下面は体表面12に密着固定されている。そし
て、冷却水48の冷却作用に加えて前記保持アー
ム20の保持部34及び照射器36の回転による
撹拌作用により、体表面12が局部的に過熱され
ることを防止することができる。更に冷却水48
はマイクロ波100に対するインピーダンス整合
を行うことによつて、癌組織16に照射されるマ
イクロ波100の線量分布を一定値に保つことが
できる。
された水袋(又は水槽)50を有し、該水袋50
の下面は体表面12に密着固定されている。そし
て、冷却水48の冷却作用に加えて前記保持アー
ム20の保持部34及び照射器36の回転による
撹拌作用により、体表面12が局部的に過熱され
ることを防止することができる。更に冷却水48
はマイクロ波100に対するインピーダンス整合
を行うことによつて、癌組織16に照射されるマ
イクロ波100の線量分布を一定値に保つことが
できる。
本発明の実施例は以上の構成から成り、以下に
その作用を説明する。
その作用を説明する。
まず癌組織16の上面にある体表面12に冷却
整合装置14の水袋50を密着固定し、次に癌組
織16を通る基軸18上にアプリケータ10の保
持アーム20を配置する。そして、照射器36を
回動して照射角合わせを行い、マイクロ波100
が癌組織16に正確に照射されるように調整固定
する。このように、本実施例においては、1個の
照射器36を回動調整することにより、マイクロ
波100の照射角合わせを容易かつ短時間で行う
ことができる。
整合装置14の水袋50を密着固定し、次に癌組
織16を通る基軸18上にアプリケータ10の保
持アーム20を配置する。そして、照射器36を
回動して照射角合わせを行い、マイクロ波100
が癌組織16に正確に照射されるように調整固定
する。このように、本実施例においては、1個の
照射器36を回動調整することにより、マイクロ
波100の照射角合わせを容易かつ短時間で行う
ことができる。
次にモータ26により照射器36を基軸18の
周囲に回転させながら、照射用電力をブラシ42
a,42b、スリツプリング40a,40b及び
リード線44a,44bを介して照射器36に供
給し、癌組織16に向けてマイクロ波100の照
射を行う。この時、保持アーム20の保持部34
及び照射器36の回転により、水袋50内の冷却
水48が撹拌され、冷却水48の温度が均一に保
たれ、体表面12が局部的に過熱されることを防
止することができる。
周囲に回転させながら、照射用電力をブラシ42
a,42b、スリツプリング40a,40b及び
リード線44a,44bを介して照射器36に供
給し、癌組織16に向けてマイクロ波100の照
射を行う。この時、保持アーム20の保持部34
及び照射器36の回転により、水袋50内の冷却
水48が撹拌され、冷却水48の温度が均一に保
たれ、体表面12が局部的に過熱されることを防
止することができる。
そして、照射器36の回転により癌組織16に
はマイクロ波100が均一に照射され、この結
果、癌組織16は誘電損失により均一に加温され
る。そして、癌組織16の温度を44℃程度に加温
し、30〜90分程度この状態を維持することによ
り、マイクロ波100の通路にある正常組織を損
傷することなく癌組織16のみを選択的に治療す
ることができる。
はマイクロ波100が均一に照射され、この結
果、癌組織16は誘電損失により均一に加温され
る。そして、癌組織16の温度を44℃程度に加温
し、30〜90分程度この状態を維持することによ
り、マイクロ波100の通路にある正常組織を損
傷することなく癌組織16のみを選択的に治療す
ることができる。
このように、本実施例においては、1個の照射
器36を回動することにより、マイクロ波100
の照射角合わせを行うことができるので、マイク
ロ波100を癌組織16に向けて短時間で正確か
つ容易に位置合わせすることができる。
器36を回動することにより、マイクロ波100
の照射角合わせを行うことができるので、マイク
ロ波100を癌組織16に向けて短時間で正確か
つ容易に位置合わせすることができる。
また本実施例においては、保持アーム20の保
持部34及び照射器36の回転により、水袋50
内の冷却水48が撹拌され、従来装置のように、
冷却水48を循環導通することなく、体表面12
の局部過熱を防止することができる。従つて、本
実施例装置は、従来装置のように冷却液供給装置
を設ける必要がなく、また水袋50に冷却水48
の導入口及び導出口を設ける必要がなく、装置が
簡易化される。
持部34及び照射器36の回転により、水袋50
内の冷却水48が撹拌され、従来装置のように、
冷却水48を循環導通することなく、体表面12
の局部過熱を防止することができる。従つて、本
実施例装置は、従来装置のように冷却液供給装置
を設ける必要がなく、また水袋50に冷却水48
の導入口及び導出口を設ける必要がなく、装置が
簡易化される。
変形例
以上説明した実施例においては、照射波として
マイクロ波100が使用されているが、照射器3
6として超音波トランスデユーサを使用し、超音
波を照射するように構成することも可能である。
マイクロ波100が使用されているが、照射器3
6として超音波トランスデユーサを使用し、超音
波を照射するように構成することも可能である。
発明の効果
以上説明したように、本発明によれば、照射器
の回転により基軸と照射方向との交点にある被加
温部を加温するように構成されているので、照射
器の照射角合わせを短時間で正確かつ容易に行う
ことができ、また簡易な構成で冷却液の撹拌を行
い、冷却液の局部的上昇を防ぐことができる。
の回転により基軸と照射方向との交点にある被加
温部を加温するように構成されているので、照射
器の照射角合わせを短時間で正確かつ容易に行う
ことができ、また簡易な構成で冷却液の撹拌を行
い、冷却液の局部的上昇を防ぐことができる。
図は本発明に係るハイパサーミア装置の好適な
実施例を示す要部断面図である。 16……癌組織、18……基軸、20……保持
アーム、34……保持部、36……照射器、10
0……マイクロ波。
実施例を示す要部断面図である。 16……癌組織、18……基軸、20……保持
アーム、34……保持部、36……照射器、10
0……マイクロ波。
Claims (1)
- 1 被加温部を通る基軸の周囲を回転する保持ア
ームと、該保持アームの基軸から偏位した位置に
設けられ基軸上の被加温部に対して照射波を照射
する少なくとも1個の照射器と、を備え、照射器
の回転により基軸と照射方向との交点にある被加
温部を局部的に加温することを特徴とするハイパ
サーミア装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16336983A JPS6055967A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | ハイパサ−ミア装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16336983A JPS6055967A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | ハイパサ−ミア装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6055967A JPS6055967A (ja) | 1985-04-01 |
| JPS6139066B2 true JPS6139066B2 (ja) | 1986-09-02 |
Family
ID=15772572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16336983A Granted JPS6055967A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | ハイパサ−ミア装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6055967A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6179473A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-23 | チエスト株式会社 | マイクロ波加温装置 |
-
1983
- 1983-09-07 JP JP16336983A patent/JPS6055967A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6055967A (ja) | 1985-04-01 |
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