JPS6140101B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はパターン修正装置に関し、とくにプリ
ント板等の製作用のフオトマスクのパターン修正
装置に関する。

プリント板等の回路パターン作成においては、
作成すべきパターンをまず光透過性フイルムに予
め遮光性インクで形成し、プリント板となる導電
体層が表面全面に形成された基板の該導電体層上
にフオトレジストを塗布し、前記パターンが形成
されたフオトマスクを介して露光し、しかる後、
エツチングによつて露光パターンに対応した導電
体層パターンを前記基板上に形成し、プリント基
板とする。

このようなフオトマスクに形成されるパターン
の修正作業において、まず修正すべきパターン部
位（以下欠陥という）を例えばマトリツクス状に
配設されたランプのうち欠陥位置に対応ランプを
点灯してこのランプマトリツクス上に載置された
フオトマスクの欠陥部位を指示し、作業者はこの
ランプの点灯された部分を目じるしとしてフオト
マスクの欠陥部位を知り、パターン修正用具を用
いて、パターンの修正を行う。

ところでこのようなパターン修正装置において
は前記ランプマトリツクスはフオトマスクを下側
から照射するべく設けられているので、フオトマ
スクのパターンが密に形成されている場合、ラン
プの光の透過光量が低減し、フオトマスクの欠陥
位置がわかりにくくなるほか、このようなパター
ン修正装置においては、前記ランプマトリツクス
は通常作業台に固定して配設しているため、修正
すべきパターン形状によつては作業者の作業姿勢
が不自然となり、作業能率の低下を招来する他、
正確なパターン修正が困難となる等の欠陥があつ
た。本発明はかかる点に鑑みなされたものであつ
て、修正すべきパターンを有するフオトマスクを
修正作業中に作業台上で任意に移動せしめても、
欠陥部位は常に正しく指定されるように構成され
たパターン修正装置を提供することを目的とし、
被修正パターンが描かれた被検査体を修正作業台
に載置して前記被検査体に描かれたパターンを所
望の形状に修正するためのパターン修正装置にお
いて前記作業台上部より該被検査体上に、修正す
べきパターン部位に修正部位を明示する光学マー
クを投映する手段を具えたことを特徴とする。

以下図面を参照しながら本発明の好ましい実施
例について詳細に説明する。

第１図ａは本発明に係るパターン修正装置の一
実施例構成図であつて、１は欠陥位置投映機、２
はフオトマスク、３は作業台である。前記フオト
マスク２は作業台３上の載物台Ｔ上に載置されて
おり、該載物台Ｔは作業台３上で修正作業に合わ
せて自由に移動、回転できるよう自在ボール台Ｂ
上に配設されている。ASは欠陥位置投映機を図
示しない床面に固定する固定柱である。第１図ｂ
は第１図ａに示したパターン修正装置の要部断面
図であつて前記欠陥位置投映機１は欠陥マツプで
ある遮光板１ａに欠陥位置を示すための微少な孔
Ｖが設けられており、光源１ｂからの光はこれら
孔Ｖを透過後光学レンズ１ｃでフオトマスク２上
の欠陥部位に照射される。Baはボールで載物台
Ｔの自在運動を可能ならしめる。１ｄは筐体であ
る。従つてフオトマスク２上の欠陥部位のみに欠
陥位置投映機１から光スポツトが照射されるた
め、作業者はフオトマスク２の欠陥部位を容易に
視認できる。またフオトマスク用載物台Ｔに光透
過用の孔Ｗが設けられており、照明用光源Ｎから
の光を光拡散板Ｄでその表面に光散乱用の微少な
凹凸が形成されており光源Ｎからの光をほゞ一様
な強度分布を有する光にし、載物台Ｔ上のフオト
マスク２に照明する。

次に第１図ａ，ｂの装置の動作を説明する。

載物台Ｔ上に載置されたフオトマスク２は光拡
散板Ｄを介して、光源Ｎによつて照明され、遮光
性インクで形成されたパターンは前記光源Ｎから
の光を遮光し、フオトマスクのパターン非形成部
には前記遮光性インクが塗布されておらず透明で
あるため光源Ｎからの光は前記孔Ｗを透過し、作
業者の目に入るため、フオトマスク２に描かれた
パターン形状が作業者に明瞭に観察される。

かかる状態において、欠陥位置投映機１からフ
オトマスク２上に欠陥位置を明示する光スポツト
が照射されるため作業者は欠陥投映機１によつて
指示された部位のパターンの修正作業を行う。そ
して、フオトマスク２を載置する載物台Ｔは作業
台３上で自在に回転、平行移動が可能であるた
め、修正すべきパターン形状に対応して修正作業
が容易な位置に載物台Ｔを移動せしめることがで
きるため修正作業の能率が向上する。

第２図は本発明の他の実施例構成図であつて、
第１図ａ，ｂと同等部分には同一符号を付した。
第２図において、欠陥位置投映機１はフオトマス
ク２を載置する載物台Ｔに支持腕Asによつて固
定して取付けられている。従つてパターン修正作
業中に、修正作業が容易な位置に載物台Ｔを移動
せしめた場合、欠陥位置投映機１もフオトマスク
２を載置した載物台Ｔと共に移動するため、フオ
トマスク２上に投映される欠陥位置を指示する光
スポツトはフオトマスク２上の所定位置に照射さ
れることになる。

第３図は本発明に係るパターン修正装置の他の
実施例構成図であつて、第１図ａ，ｂと同等部分
には同一符号を付した。

第３図において４は光走査手段であつて、回転
多面鏡４ａとモータ４ｂが矢印Ｘ方向に移動可能
な移動台４ｃ上に載置されており、光源４ｄから
のレーザ光を回転多面鏡４ａで反射して、フオト
マスク２上をl₁又はl₂で示す走査軌跡を描く。

５は他の光走差手段であつて、回転多面鏡５ａ
とモータ５ｂが矢印Ｙ方向に移動可能な移動台５
ｃ上に載置されており、光源５ｄからのレーザ光
を回転多面鏡５ａで反射してフオトマスク２上を
l₃又はl₄で示す走査軌跡を描く。６ａ，６ｂ，６
ｃ，６ｄは前記走査軌跡l₁，l₂上に配置された光
検知器、７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄは前記光走査軌
跡l₃，l₄上に配置された光検知器である。

８はマスク位置検出手段、９は欠陥位置投映機
ドライバーである。L₁〜L₈はリード線である。
Ｇは前記フオトマスクを載置するガラス板であ
る。次にこの装置の動作を説明する。

作業台３に載置されたフオトマスク２上に欠陥
位置投映機１から、欠陥位置が記された欠陥マツ
プを投映し、作業者は該欠陥位置投映機１によつ
てフオトマスク２上に投映されたパターンの欠陥
部位指示マークによつてフオトマスクのパターン
の欠陥部位を知る。

ところで、修正作業中、作業者が、修正作業が
容易となるようにフオトマスク２の位置を作業台
３上で変えた場合、欠陥位置投映機１からフオト
マスク２上に投映される欠陥位置指示マークの位
置がずれるが、この時、次のようにして欠陥位置
投映機１からの欠陥マツプ投映像も該フオトマス
ク２の位置変動に対応して変動する。

まず、第４図に示すように、作業台３面上のフ
オトマスク２位置が破線で示す正規の位置から変
位し、実線で示すような位置になつた時、光走査
手段４，５が該フオトマスクの上にl₁，l₂および
l₃，l₄で示す走査軌跡を有するように光ビームで
走査する。この時フオトマスク２のエツジの部分
では照射光は第５図に示す如く乱反射し、配設さ
れた光検知器６ａに入射する。このようにしてフ
オトマスク２のエツヂ部分P₁〜P₄の位置が光検知
器６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄおよび７ａ，７ｂ，７
ｃ，７ｄによつて検出される。フオトマスク位置
検出手段８はこれら光検知器の出力を受けて、フ
オトマスク２の変位を求める。つまり、エツヂ位
置P₁，P₂よりフオトマスク２の一辺H₁を表す直
線式を求め、エツヂ位置P₃，P₄よりフオトマスク
２の他辺H₂を表す直線式を求め、これら２つの
直線の交点から変位後のフオトマスク２の原点P₀
を求める。

従つて、この原点位置P₀と一辺H₁で表わされ
るフオトマスク２の傾きに対応して欠陥検査装置
に記憶されている欠陥マツプの位置を変位せしめ
欠陥投映機１に入力すると、該投映機１からは、
フオトマスク２の変位に対応して所定の欠陥部位
に欠陥を示すマークを投映する。なお光走査手段
を作業台３の下側に設け、フオトマスクをガラス
板に載置し、レーザ走査光を下側から照射しても
よい。

前述の実施例では、フオトマスク２の位置を読
取るのに光走査手段を用いたが、第６図に示すよ
うに、作業台３台のガラス板Ｇ上にフオトマスク
２を載置し、該ガラス板Ｇの下面よりテレビカメ
ラＫによつてフオトマスク２を該テレビカメラに
内蔵されたビジコン面上に結像し、該ビジコン面
上を電子ビーム走査することによつて第４図に示
したフオトマスク２のエツヂ位置を検出できるた
め、この検出位置をフオトマスク位置検出手段８
へ入力して欠陥位置投映機１から投映される欠陥
マツプの位置を変位せしめてもよい。

さらに本発明においては、前述の欠陥位置投映
機として第７図に示すようにガルバノミラーを具
えた光偏向器を用いてもよい。

第７図において、J₁，J₂はガルバノミラー、
M₁，M₂はこれらガルバノミラーの駆動装置、Ｓ
はレーザ光源、Ｌは集光レンズであつて、フオト
マスク欠陥検査装置１０からの欠陥位置情報およ
びフイルム位置検出手段８からの出力信号を受け
て、該駆動装置M₁，M₂はガルバノミラーJ₁，J₂
の位置を変更せしめ、レーザ光源Ｓからの光ビー
ムはフオトマスク２の位置変動に対応した欠陥位
置を該フオトマスク２上に指示する。Z₁，Z₂はビ
ーム径拡大用レンズである。

さらに、本発明においては、欠陥位置投映機と
して、第８図に示すように陰極線管を用いてもよ
い。つまり欠陥検査装置１０から入力される欠陥
データを該陰極線管Ｃの表示面に表示し、この表
示像を結線レンズＬによつて、作業台に載置され
たフオトマスク２上に投映する。そして該フオト
マスクの位置変動は位置判定手段８の出力を受け
て、欠陥検査装置１０の欠陥マツプ位置をフオト
マスクの位置変動に対応して変位せしめ前記陰極
線管Ｃの表示面に表示する。

以上の説明から明らかなように、本発明に係る
パターン修正装置は修正すべきパターンを有する
フオトマスクの修正位置をフオトマスクの上面に
欠陥マツプを投映するため、パターンが密に描か
れている場合でも、正しく視認できる他、フオト
マスクの位置を作業台上で修正すべきパターン形
状に対応して自由に回転および平行移動できるた
め、作業能率が向上する。さらに、作業中に作業
台上で任意に移動させても、フオトマスク位置を
検出して欠陥位置投映機を制御するため、常に正
しく欠陥位置をフオトマスク上に指示することが
できるため、パターン修正作業能率が著しく向上
する利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図ａは本発明の一実施例構成図、第１図ｂ
は第１図ａの要部断面図、第２図は本発明の他の
実施例構成図、第３図は本発明の更に他の実施例
構成図。第４図第５図はフオトマスクの位置検出
方法の説明図、第６図〜第８図は本発明の他の実
施例構成図である。 １：欠陥位置投映機、２：フオトマスク、３：
作業台、４，５：光走査手段、６ａ〜６ｄ，７ａ
〜７ｄ：光検知器、８：フイルム位置検知手段、
９：欠陥位置投映機ドライバ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 被修正パターンが描かれた被検査体を修正作
   業台に載置して前記被検査体に描かれたパターン
   を所望の形状に修正するためのパターン修正装置
   において、前記作業台上部より、該被検査体上
   に、修正すべきパターン部位に修正部位を明示す
   る光学マークを投映する手段を具えたことを特徴
   とするパターン修正装置。 ２ 前記被検査体を前記作業台上で回転運動を含
   む自在な移動が可能ならしめる前記被検査体載物
   台を具えたことを特徴とする特許請求の範囲第１
   項に記載のパターン修正装置。 ３ 前記光学マーク投映手段と、前記被検査体載
   物台とが、その相対的配置が不変となるごとく一
   体的に設けられたことを特徴とする特許請求の範
   囲第２項に記載のパターン修正装置。 ４ 前記作業台上の被検査体の位置検出手段と、
   該位置検出手段の出力を受けて、前記光学マーク
   投映手段が、前記被検査体の位置に対応して該被
   検査体の修正すべきパターン部位に光学マークを
   投映するべく、前記光学マーク投映手段を駆動す
   る手段とを具えたことを特徴とする特許請求の範
   囲第２項に記載のパターン修正装置。