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JPS6141095B2 - - Google Patents
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JPS6141095B2 - - Google Patents

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JPS6141095B2
JPS6141095B2 JP15132177A JP15132177A JPS6141095B2 JP S6141095 B2 JPS6141095 B2 JP S6141095B2 JP 15132177 A JP15132177 A JP 15132177A JP 15132177 A JP15132177 A JP 15132177A JP S6141095 B2 JPS6141095 B2 JP S6141095B2
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JP
Japan
Prior art keywords
aluminum
resistance heating
vapor
heating element
evaporation
Prior art date
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Expired
Application number
JP15132177A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS5483369A (en
Inventor
Hiroshi Tamura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、メタルバツク構造のカラー陰極線
管の螢光面部に金属薄膜を形成する方法に関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming a metal thin film on the fluorescent surface of a color cathode ray tube having a metal back structure.

通常のカラー陰極線管の螢光面は、管体の一部
を構成するガラスフエースプレートの内面に被着
した螢光面上に、この螢光面から発した光を有効
にカラー陰極線管前方へ取り出すための光反射性
金属薄膜を形成したいわゆるメタルバツク構造に
なつている。
The fluorescent surface of a normal color cathode ray tube is attached to the inner surface of a glass face plate that forms part of the tube body, and the light emitted from this surface is effectively directed to the front of the color cathode ray tube. It has a so-called metal back structure in which a light-reflecting metal thin film is formed for extraction.

このメタルバツク構造の螢光面はカラー陰極線
管の輝度を増加させるとともに、螢光面のイオン
焼けの減少という利点を有している。その製造工
程を第1図を参照して説明する。
The phosphor surface of this metal back structure has the advantage of increasing the brightness of the color cathode ray tube and reducing ion burnout of the phosphor surface. The manufacturing process will be explained with reference to FIG.

第1図において、1はガラスフエースプレー
ト、2はその内面に被着された螢光膜、3はその
表面を平滑にするため有機物質を主成分とするフ
イルミング用ラツカー材料により形成された中間
膜、4はアルミニウム薄膜である。このアルミニ
ウム薄膜4は中間膜3上にアルミニウムを真空蒸
着することによつて形成している。中間膜3は最
終的にベーキング処理により除去している。
In Fig. 1, 1 is a glass face plate, 2 is a fluorescent film coated on its inner surface, and 3 is an intermediate film formed of a filming lacquer material mainly composed of an organic substance to smooth the surface. , 4 is an aluminum thin film. This aluminum thin film 4 is formed by vacuum evaporating aluminum onto the intermediate film 3. The intermediate film 3 is finally removed by baking.

従来、アルミニウム薄膜4を蒸着により形成す
るには、第2図に示すように螢光膜2、中間膜3
を形成したガラスフエースプレート1を、3〜4
本のタングステン線の撚り線によりバスケツト状
とした1個あるいは複数個の蒸発用ヒータ5を有
する真空容器6上の所定の位置に支持し、
10-4torr.の真空中でアルミニウムを中間膜3上に
蒸着させる方法が用いられている。しかしなが
ら、この方法では蒸着物質であるアルミニウムの
補給を一回毎に行わなければならないので、手数
がかかること、また蒸発用ヒータ5としてタング
ステン線コイルを用いているため、タングステン
線表面がアルミニウムと合金化して劣化し寿命が
短いという欠点があつた。
Conventionally, in order to form the aluminum thin film 4 by vapor deposition, as shown in FIG.
The glass face plate 1 formed with
Supported at a predetermined position on a vacuum vessel 6 having one or more evaporation heaters 5 formed into a basket shape using twisted tungsten wire,
A method is used in which aluminum is deposited on the intermediate film 3 in a vacuum of 10 -4 torr. However, this method requires replenishment of aluminum, which is the evaporation material, each time, which is time-consuming.Also, since a tungsten wire coil is used as the evaporation heater 5, the surface of the tungsten wire is alloyed with aluminum. The drawback was that it deteriorated and had a short lifespan.

この問題を解消するため、タングステン線コイ
ルに代えてボート状の抵抗加熱体を使用する手段
が提案され、実用に供されている。この抵抗加熱
体としては窒化硼素を主成分とするものが一般に
用いられている。
In order to solve this problem, a method of using a boat-shaped resistance heating element in place of the tungsten wire coil has been proposed and put into practical use. As this resistance heating element, one whose main component is boron nitride is generally used.

この種の抵抗加熱体は第3図に示すように直方
体または角棒状等の抵抗加熱体7の上面に蒸着物
質載置部である凹部7aを形成したいわゆるボー
ト状の構造をしている。なお、凹部7aを設けず
平面としたものもある。
As shown in FIG. 3, this type of resistance heating element has a so-called boat-like structure in which a recess 7a serving as a deposited material placement part is formed on the upper surface of a resistance heating element 7 in the shape of a rectangular parallelepiped or square bar. Note that there is also a flat surface without the recess 7a.

この窒化硼素を主成分とする抵抗加熱体7に蒸
発用ヒータ5を使用した場合の連続型蒸着膜製作
方法を第4図により説明する。
A continuous evaporation film manufacturing method when the evaporation heater 5 is used as the resistance heating body 7 whose main component is boron nitride will be explained with reference to FIG.

第4図において、1〜4および7は第1図、第
3図と同一部分を示し、8は真空外囲器で、入口
室8a、アルミニウム蒸着室8b、出口室8cか
ら構成される。9は線状蒸着金属材料の挿入器、
10は前記挿入器9に挿入される線状蒸着金属材
料(例えばアルミニウム線、以下これを用いて説
明する。)11,12は仕切弁をそれぞれ示す。
中間膜3を形成したガラスフエースプレート1を
仕切弁11を開いて入口室8aに搬入し、真空ポ
ンプ(図示は省略)などの排気機器により入口室
8a、出口室8cを0.05〜0.01torr.の真空に、ア
ルミニウム蒸着室8bは1〜2×10-4torr.の真空
にする。次に仕切弁12を開いてガラスフエース
プレート1をアルミニウム蒸着室8bの所定の位
置に搬送し、仕切弁12を閉じる。抵抗加熱体7
はアルミニウム蒸着室8b内の底部の所定の位置
に設置され、蒸着物質であるアルミニウム線10
を挿入器9により、抵抗加熱体7の凹部7aを挿
入する。この時、抵抗加熱体7は電流を流して約
1350〜1500℃に加熱されており、その熱でアルミ
ニウム線10は溶融・蒸発し、上方に飛散する。
この蒸発により中間膜3上にアルミニウム薄膜4
が形成される。この時、カラー陰極線管として必
要なアルミニウム蒸着量にコントロールするに
は、アルミニウム線10の自動挿入時の速さ、時
間、および抵抗加熱体7に温度を調節している。
In FIG. 4, 1 to 4 and 7 indicate the same parts as in FIGS. 1 and 3, and 8 is a vacuum envelope, which is composed of an inlet chamber 8a, an aluminum deposition chamber 8b, and an outlet chamber 8c. 9 is a linear vapor-deposited metal material inserter;
Reference numeral 10 indicates a linear vapor-deposited metal material (for example, an aluminum wire, which will be explained below) inserted into the inserter 9. Reference numerals 11 and 12 indicate gate valves, respectively.
The glass face plate 1 with the interlayer film 3 formed thereon is carried into the inlet chamber 8a by opening the gate valve 11, and the inlet chamber 8a and outlet chamber 8c are heated to a pressure of 0.05 to 0.01 torr using an exhaust device such as a vacuum pump (not shown). The aluminum deposition chamber 8b is brought to a vacuum of 1 to 2×10 −4 torr. Next, the gate valve 12 is opened, the glass face plate 1 is transported to a predetermined position in the aluminum deposition chamber 8b, and the gate valve 12 is closed. Resistance heating element 7
is installed at a predetermined position at the bottom of the aluminum evaporation chamber 8b, and the aluminum wire 10 which is the evaporation material is
is inserted into the recess 7a of the resistance heating element 7 using the inserter 9. At this time, the resistance heating element 7 passes a current to approximately
It is heated to 1350 to 1500°C, and the aluminum wire 10 melts and evaporates due to the heat, and scatters upward.
This evaporation forms an aluminum thin film 4 on the intermediate film 3.
is formed. At this time, in order to control the amount of aluminum evaporated to the amount necessary for a color cathode ray tube, the speed and time of automatic insertion of the aluminum wire 10, and the temperature of the resistance heating element 7 are adjusted.

次に仕切弁12を開いてアルミニウム蒸着室8
bのガラスフエースプレート1を出口室8cへ、
入口室8aのガラスフエースプレート1をアルミ
ニウム蒸着室8bへ搬送し、入口室8a、出口室
8cを大気圧にして出口室8cのガラスフエース
プレート1は真空外囲器8外に搬出し蒸着工程を
完了する。同時に入口室8aには次のガラスフエ
ースプレート1が搬入され前記工程を繰り返す。
Next, open the gate valve 12 to open the aluminum deposition chamber 8.
the glass face plate 1 of b to the exit chamber 8c;
The glass face plate 1 in the inlet chamber 8a is transferred to the aluminum deposition chamber 8b, and the inlet chamber 8a and outlet chamber 8c are brought to atmospheric pressure, and the glass face plate 1 in the outlet chamber 8c is carried out to the outside of the vacuum envelope 8 to undergo the vapor deposition process. Complete. At the same time, the next glass face plate 1 is carried into the entrance chamber 8a and the above steps are repeated.

被蒸着物であるガラスフエースプレート1に蒸
着する時にアルミニウム線10を挿入器9に挿入
し、その速さ、時間、および抵抗加熱体7の温度
で蒸着量をコントロールする前記方法において
は、ガラスフエースプレート1の搬送時等の蒸着
以外の時間では、アルミニウム線10は停止の状
態にあるため、抵抗加熱体7の熱により第5図に
示す如く、アルミニウム線10の先端が溶融し玉
状となる。また、抵抗加熱体7の凹部7aは、ア
ルミニウムが蒸発してしまい、全然残つていない
状態となつているので、次のガラスフエースプレ
ート1が搬入され、アルミニウム線10を蒸着す
るため凹部7aに挿入しても、アルミニウム線1
0は凹部7aを滑り、溶融蒸発しないまま抵抗加
熱体7より外れてしまう。また溶解しても、その
表面張力のため、凹部7aに玉状となり、抵抗加
熱体7の熱を有効に利用できず、蒸発するまでに
多くの時間を要していた。
In the method described above, in which the aluminum wire 10 is inserted into the inserter 9 during vapor deposition on the glass face plate 1 which is the object to be vapor deposited, and the amount of vapor deposition is controlled by the speed, time, and temperature of the resistance heating element 7. Since the aluminum wire 10 is in a stopped state during times other than vapor deposition, such as when transporting the plate 1, the tip of the aluminum wire 10 melts into a bead shape due to the heat of the resistance heating element 7, as shown in FIG. . Further, since the aluminum has evaporated and no aluminum remains in the recess 7a of the resistance heating element 7, the next glass face plate 1 is carried in and the aluminum wire 10 is deposited on the recess 7a. Even if inserted, aluminum wire 1
0 slides in the recess 7a and comes off from the resistance heating element 7 without being melted and evaporated. Furthermore, even if it melts, it forms a bead in the recess 7a due to its surface tension, making it impossible to utilize the heat of the resistance heating element 7 effectively, and it takes a long time for it to evaporate.

この発明は、上述の点にかんがみなされたもの
で、窒化硼素を主成分とするボート状の抵抗加熱
体を蒸発源として用いた時、アルミニウム線が容
易に溶解蒸発して所望のアルミニウム薄膜を形成
することができるようにしたカラー陰極線管の形
成方法を提供するものである。以下、この発明の
一実施例を第6図によつて説明する。
This invention was developed in view of the above points, and when a boat-shaped resistance heating element mainly composed of boron nitride is used as an evaporation source, the aluminum wire easily melts and evaporates to form a desired aluminum thin film. The present invention provides a method for forming a color cathode ray tube. An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

第6図は第5図に示した線状蒸着金属材料の挿
入器9の挿入、後退、停止の状態を示すタイムチ
ヤートである。
FIG. 6 is a time chart showing the insertion, retraction, and stop states of the linear vapor-deposited metal material inserter 9 shown in FIG.

この動作は、まだアルミニウムを蒸着していな
いガラスフエースプレート1をアルミニウム蒸着
室8bに搬入し、所定の真空度に達した後、蒸着
を開始する。この時点T1がアルミニウム線10
の挿入時点である。この時、アルミニウム線10
の先端は後述の如く抵抗加熱体7から離れた位置
にあつたため、第5図の従来のように玉状にはな
つていない。
In this operation, the glass face plate 1 on which aluminum has not yet been deposited is carried into the aluminum deposition chamber 8b, and after a predetermined degree of vacuum is reached, deposition is started. At this point T 1 is the aluminum wire 10
At the time of insertion. At this time, aluminum wire 10
Since the tip was located away from the resistance heating element 7 as will be described later, it did not have a bead shape as in the conventional case shown in FIG.

そのため、アルミニウム線10の先端が凹部7
aに達し溶解する時、その熱容量が小さいので、
速やかに溶解する。その時、凹部7a上で玉状と
なるが、その体積は極めて小さいので、熱容量が
小さく、抵抗加熱体7の熱により急速に温度上昇
し、表面張力が小さくなつて凹部7a全面に拡が
る。一度凹部7a全面にアルミニウムが拡がれ
ば、連続してアルミニウム線10を挿入しても抵
抗加熱体7に接すると、瞬時に溶解、拡散、蒸発
する。蒸着開始点T1より蒸着終了時点T2まで連
続的にアルミニウム線10が挿入される。
Therefore, the tip of the aluminum wire 10 is placed in the recess 7.
When it reaches a temperature and melts, its heat capacity is small, so
Dissolves quickly. At this time, it forms a bead shape on the recess 7a, but since its volume is extremely small, its heat capacity is small, and the temperature rapidly rises due to the heat of the resistance heating element 7, the surface tension decreases, and it spreads over the entire surface of the recess 7a. Once aluminum spreads over the entire surface of the recess 7a, even if the aluminum wire 10 is continuously inserted, when it comes into contact with the resistance heating element 7, it will instantly melt, diffuse, and evaporate. The aluminum wire 10 is continuously inserted from the deposition start point T 1 to the deposition end point T 2 .

所望のアルミニウム蒸着量を得るまで、アルミ
ニウム線10を挿入した後は、その先端が抵抗加
熱体7の熱により溶解しない位置まで後退させ
る。この時点がT3である。
After the aluminum wire 10 is inserted until the desired amount of aluminum is deposited, it is retreated to a position where its tip will not be melted by the heat of the resistance heating element 7. This point is T3 .

この実施例では上記後退の方法として、挿入器
9の駆動軸をT2からT3の時間まで逆転すること
により、挿入時と同一経路を後退させている。
In this embodiment, as the above-mentioned retraction method, the drive shaft of the inserter 9 is reversed from the time T 2 to the time T 3 to retract the same path as that at the time of insertion.

以上の方法でアルミニウム蒸着の完了したガラ
スフエースプレート1をアルミニウム蒸着室8b
から搬出し、次の新しいガラスフエースプレート
1を搬入し、上記蒸着を繰り返すことにより所望
のアルミニウム薄膜を形成することができる。
The glass face plate 1 on which aluminum vapor deposition has been completed by the above method is placed in the aluminum vapor deposition chamber 8b.
A desired aluminum thin film can be formed by carrying out the next new glass face plate 1 and repeating the above vapor deposition.

なお、上記実施例ではアルミニウム蒸着の場合
について説明したが、この他ガス雰囲気中あるい
は低真空中でアルミニウムを蒸着し、黒化アルミ
ニウム膜を得る場合にも同様に使用できる。
In the above embodiment, the case of aluminum vapor deposition was explained, but the present invention can be similarly used when aluminum is vapor deposited in a gas atmosphere or in a low vacuum to obtain a blackened aluminum film.

また、光反射性金属薄膜および黒化膜の作成に
アルミニウム以外の金属を蒸着する場合にも使用
できる。
It can also be used when metals other than aluminum are vapor-deposited to create light-reflective metal thin films and blackened films.

以上説明したようにこの発明によれば、蒸着終
了後アルミニウム線先端を抵抗加熱体から遠ざけ
るだけで、アルミニウム線が容易に溶解・蒸発
し、均一性の安定したアルミニウム蒸着薄膜を得
ることができる利点がある。
As explained above, according to the present invention, the aluminum wire can be easily melted and evaporated by simply moving the tip of the aluminum wire away from the resistance heating element after the completion of vapor deposition, and an aluminum vapor-deposited thin film with stable uniformity can be obtained. There is.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はガラスフエースプレートの内面に所定
の金属薄膜を形成する製造工程を説明するための
断面図、第2図は第1図の金属薄膜を形成する従
来装置の構成断面図、第3図はボート状の抵抗加
熱体の斜視図、第4図は第3図の抵抗加熱体を用
いてガラスフエースプレートの内面に所定の金属
薄膜を形成する従来装置の一部を断面で表わした
構成略図、第5図は第4図の装置の欠点を説明す
るための斜視図、第6図はこの発明の一実施例を
示すタイムチヤートである。 図中、1はガラスフエースプレート、2は螢光
膜、3は中間膜、4はアルミニウム薄膜、7は抵
抗加熱体、7aは凹部、8は真空外囲器、8aは
入口室、8bはアルミニウム蒸着室、8cは出口
室、9は挿入器、10はアルミニウム線、11,
12は仕切弁である。なお、図中の同一符号は同
一または相当部分を示す。
Fig. 1 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process of forming a predetermined metal thin film on the inner surface of a glass face plate, Fig. 2 is a cross-sectional view of a conventional apparatus for forming the metal thin film shown in Fig. 1, and Fig. 3 4 is a perspective view of a boat-shaped resistance heating element, and FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a part of a conventional apparatus for forming a predetermined metal thin film on the inner surface of a glass face plate using the resistance heating element of FIG. 3. , FIG. 5 is a perspective view for explaining the drawbacks of the device shown in FIG. 4, and FIG. 6 is a time chart showing an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a glass face plate, 2 is a fluorescent film, 3 is an intermediate film, 4 is an aluminum thin film, 7 is a resistance heating element, 7a is a recess, 8 is a vacuum envelope, 8a is an entrance chamber, and 8b is aluminum evaporation chamber, 8c is an exit chamber, 9 is an inserter, 10 is an aluminum wire, 11,
12 is a gate valve. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 平面または凹面の蒸着物質載置部を有する平
板状ないし角棒状の抵抗加熱体を蒸発源として用
い、線状蒸着金属材料を供給装置によつて前記蒸
発源へ供給し、カラー陰極線管螢光面部に金属薄
膜を真空蒸着させる方法において、前記線状蒸着
金属材料を蒸発源へ供給して蒸着を行い、この蒸
着の終了直後、前記線状蒸着金属材料の先極を前
記抵抗加熱体表面から遠ざけることを特徴とする
カラー陰極線管の蒸着膜形成方法。
1. A flat plate or rectangular bar-shaped resistance heating body having a flat or concave evaporation material placement part is used as an evaporation source, a linear evaporation metal material is supplied to the evaporation source by a supply device, and a color cathode ray tube fluorescence is produced. In a method of vacuum-depositing a metal thin film on a surface part, the linear vapor-deposited metal material is supplied to an evaporation source to perform vapor deposition, and immediately after the completion of the vapor deposition, the leading electrode of the linear vapor-deposited metal material is removed from the surface of the resistance heating body. A method for forming a vapor deposited film on a color cathode ray tube, which is characterized by separating the film from the vapor deposited film.
JP15132177A 1977-12-15 1977-12-15 Formation method of vapor deposited film of color cathode ray tube Granted JPS5483369A (en)

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