JPS6142212B2 - - Google Patents
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- JPS6142212B2 JPS6142212B2 JP55164194A JP16419480A JPS6142212B2 JP S6142212 B2 JPS6142212 B2 JP S6142212B2 JP 55164194 A JP55164194 A JP 55164194A JP 16419480 A JP16419480 A JP 16419480A JP S6142212 B2 JPS6142212 B2 JP S6142212B2
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- sample gas
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガスクロマトグラフ等の分折機器によ
つて目的ガスの成分を測定分折するに当つて、従
来方法において生じる問題点、特にサンプルガス
取出点とサンプルガス前処理用のサンプリングラ
ツク間において生じるトラブルを解決し、その円
滑正確な測定分折結果が得られるように改善した
ものに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention addresses the problems that occur in conventional methods when measuring and diffracting the components of a target gas using a gas chromatograph or other analysis instrument, particularly the sample gas extraction point and sample gas pretreatment. This invention relates to an improved method that solves the troubles that occur between sampling racks and allows smooth and accurate measurement and analysis results to be obtained.
例えば高炉操業に当つて、その炉内に発生する
高炉ガスの成分の測定分折は、ガス利用率、鉱石
の還元状態を把握するためのソリユーシヨンロ
ス、エネルギー源としてのガス発生量、あるいは
銑鉄生産速度の検討、これらに基づく操業指針の
設定や補正等の点においてきわめて重要な一翼を
担うものである。従来このためのガスサンプリン
グにおいては、型式内容において若干の相違はあ
るが概ね第1図に例示するような手段が採用され
ている。即ち第1図は高炉におけるガスサンプリ
ング手段を示しているが、Aはサンプリングガス
取出点、Bはサンプリングガスの前処理機関とし
てのサンプリングラツク、Cは分折装置であり、
高炉で発生する高炉ガスは、ダストキヤツチヤ出
口等の排出流路1における適宜の地点に挿設され
た採取パイプ2により一部が連続的に取り出さ
れ、ボールコツク3を介してフイルタ内蔵のプロ
ーブ4にてダストを除去され、切替弁5より測定
弁6をへて流路7を介しサンプリングラツクB側
のドレンポツト8においてドレンを除き、1次フ
イルタ92次フイルタ10等の2段、3段のフイ
ルタ装置によつて更にダストが除去され、減圧弁
11によつて、例えば取出点Aにおける採取ガス
圧1.5Kg/cm2程度のガス圧を0.2Kg/cm2程度に減圧
し、この減圧されたサンプルガスを脱湿器12に
よつて完全に除湿して後、分折装置Cにおける例
えばアナライザ13へ導入し、アナライザ13に
おいてプログラマ14の6分サイクル等に従つ
て、例ばH2、N2、CO、CO2の4成分を分折測定
するのであり、これらの分折成分信号はプロセサ
15をへて記録計16、計算機17に入力され、
特に計算機17ではこの入力を補正、検量線修正
等の作業を行ない、各種のデータとして採用する
のである。図のサンプリングラツクBにおいて、
17は1次フイルタ9および脱湿器12における
各フローメータ、18は標準ガスの供給路で、こ
れは一部フローメータよりの遅れを出さないため
に減圧弁11と脱湿器12間に電磁弁等を介して
ブローされるためのものであり、19は圧力計を
示し、また20はドレンポツト8よりの、21は
1次フイルタ9よりの、また22は脱湿器12よ
りの各サンプルガス過剰流量の排出路であり、こ
れらサンプルガスの過剰分は何れもベント管23
等で外部に放出されるのである。また24は取出
点Aにおけるパージガス(例えばN2等)の供給
路であり、これはサンプルガスの取出し直前にお
いて、パージ弁25を介して切替弁5プローブ4
採取パイプ2の採取ルートを逆洗するためのもの
である。 For example, during blast furnace operation, measurement and analysis of the components of blast furnace gas generated in the furnace can be used to determine the gas utilization rate, solution loss to understand the reduction state of ore, the amount of gas generated as an energy source, or It plays an extremely important role in considering pig iron production rates and setting and correcting operating guidelines based on these. Conventionally, in gas sampling for this purpose, a means as illustrated in FIG. 1 has generally been adopted, although there are some differences in type and content. That is, FIG. 1 shows the gas sampling means in a blast furnace, where A is a sampling gas take-off point, B is a sampling rack as a pretreatment engine for sampling gas, and C is a fractionator.
A part of the blast furnace gas generated in the blast furnace is continuously taken out by a sampling pipe 2 inserted at an appropriate point in the exhaust flow path 1 such as the dust catcher outlet, and then passed through a ball tank 3 to a probe 4 with a built-in filter. The dust is removed from the sample at the sampling rack B side via the switching valve 5, the measurement valve 6, and the drain pot 8 on the sampling rack B side. The device further removes dust, and the pressure reducing valve 11 reduces the gas pressure, for example, from the sampling gas pressure of about 1.5 Kg/cm 2 at the extraction point A to about 0.2 Kg/cm 2 , and the reduced pressure sample After the gas is completely dehumidified by the dehumidifier 12, it is introduced into, for example, an analyzer 13 in the spectrometer C, and in the analyzer 13, for example, H 2 , N 2 , Four components, CO and CO 2 , are measured by spectroscopy, and these spectrometric component signals are input to a recorder 16 and a computer 17 via a processor 15 .
In particular, the computer 17 performs corrections, calibration curve corrections, etc. on this input, and employs it as various data. In sampling rack B in the figure,
17 is each flow meter in the primary filter 9 and dehumidifier 12, and 18 is a standard gas supply path, which is partly connected between the pressure reducing valve 11 and the dehumidifier 12 in order to prevent a delay from the flow meter. 19 indicates a pressure gauge, 20 indicates sample gases from the drain pot 8, 21 indicates the primary filter 9, and 22 indicates the sample gases from the dehumidifier 12. This is a discharge path for excess flow rate, and any excess sample gas is discharged through the vent pipe 23.
etc., and are released to the outside. Further, 24 is a supply path for purge gas (for example, N2 , etc.) at the extraction point A, which is supplied to the switching valve 5 probe 4 via the purge valve 25 immediately before the sample gas is extracted.
This is for backwashing the sampling route of the sampling pipe 2.
このような従来のサンプリング手段における問
題点は、特に取出点A並びにサンプリングラツク
Bにおいて多発するトラブルである。例えば取出
点Aにおいては、前記取出点Aにおけるパージガ
スによる採取ルートの逆洗後におけるパージガス
の置換不良や、パージガス、サンプルガス洩れ等
のトラブルが多く、ガス洩れは弁構造の改良によ
つて防止できるとしても、パージガスの逆洗置換
の不良事故は防止が難しく、パージガスの採取ル
ート内残存によつて分析結果は狂うおそれがあ
り、更にサンプリングラツクB側では、サンプル
ガス中に残るパージガス残量における置換不良
は、ダスト、ドレン等の除去によるサンプルガス
流量の低下、延いては排気量の低下と相まつて
益々解決困難である。これを解決するるため前記
ラツクB側における多量のガス放出が必要であ
り、このことはサンプルガスの大量採取、大量放
出のため、各バルブ、配管、フイルタ9,10や
フローメータ17におけるダスト、ドレンの増大
による閉塞事故を生じ、長時間の運転が困難とな
り、放出量の変化による一定流量の維持困難、こ
れかまたパージガス置換不良による指示異常等に
つながるように、悪循環的なトラブルを次々と生
じるのであり、しかもサンプリングラツクBにお
けるサンプルガスの排出路20,21,22にお
ける放出は、測定分析中、連続に行なわれている
のであり、その解決はきわめて困難である。 A problem with such conventional sampling means is that troubles frequently occur particularly at the take-out point A and the sampling rack B. For example, at take-out point A, there are many problems such as poor replacement of purge gas after backwashing of the sampling route with purge gas at take-out point A, and leakage of purge gas and sample gas. Gas leakage can be prevented by improving the valve structure. However, it is difficult to prevent accidents caused by poor backwashing and replacement of purge gas, and analysis results may be distorted due to purge gas remaining in the sampling route. The problem becomes increasingly difficult to solve as the sample gas flow rate decreases due to the removal of dust, drain, etc., and furthermore, the exhaust volume decreases. In order to solve this problem, it is necessary to release a large amount of gas on the rack B side, and this means that because a large amount of sample gas is collected and released, dust and dirt are generated in each valve, piping, filters 9 and 10, and flow meter 17. A vicious cycle of problems occurs one after another, such as blockage accidents due to increased condensate, difficulty in long-term operation, difficulty maintaining a constant flow rate due to changes in discharge volume, and abnormal indications due to poor purge gas replacement. However, since the release of the sample gas from the exhaust channels 20, 21, and 22 in the sampling rack B occurs continuously during measurement and analysis, it is extremely difficult to solve this problem.
本発明はこのようなサンプルガス取出点とサン
プリングラツク間に亘る前記の問題点を、サンプ
ルガス放出手段の改変によつて容易に解決できる
ようにしたものであり、従つてその特徴とする処
は、高炉ガス等の目的ガスの一部をその排出流路
取出点より分析測定用のサンプルガスとして、そ
の分析測定の間に亘つて連続的に取出し、該サン
プルガスを浄化手段、減圧手段並びに放出手段を
具備したサンプリングラツクを経由して、ガスク
ロマトグラフ等の分析機器に定量的に供給してそ
の分析測定を行なうに当り、前記サンプルガス取
出点において、パージガスによる取出点の逆洗
後、サンプルガスの取出し開始と共に該サンプル
ガスを取出流路に設けた放散弁を介して所定期間
放散し、該放散を終了した後、取出流路に設けた
測定弁を介してサンプルガスをサンプリングラツ
ク側に連続的に送るようにした点にある。 The present invention can easily solve the problems described above between the sample gas extraction point and the sampling rack by modifying the sample gas discharge means. , a part of the target gas such as blast furnace gas is continuously taken out from the outlet point of the discharge flow path as a sample gas for analysis and measurement during the analysis and measurement, and the sample gas is used as a purification means, a depressurization means and discharged. When the sample gas is quantitatively supplied to an analytical instrument such as a gas chromatograph for analysis measurement via a sampling rack equipped with a sampling rack, the sample gas is When the extraction of the sample gas starts, the sample gas is diffused for a predetermined period of time via a diffusion valve provided in the extraction flow path, and after the diffusion is completed, the sample gas is continuously fed to the sampling rack side via a measurement valve provided in the extraction flow path. The point is that we have made sure to send it to the target.
以下図示の実施例に基いて本発明を詳述する
と、第2図は従来方法の取出点要部構造の詳細
図、第3図は本発明方法による取出点要部実施例
の詳細図、第4図は同弁動作のタイムスケジユー
ル図、第5図は同ドレンポツト要部構造の詳細
図、第6図は同ドレンポツト排出弁と他の弁との
連動タイムスケジユール図を示しているが、第2
図において、従来方法では、図示のように、採取
パイプ2ボールコツク3プローブ4による採取側
には、パージガスの供給路24がパージ弁25−
1,25−2,25−3を介して連通し、またサ
ンプリングラツクB側には測定弁6−1,6−2
を介してサンプルガス流路7が連通されている。
従つてサンプルガス採取に先立つてのパージガス
の逆洗に当つては、弁25−1,25−2を開と
し、弁25−3と流路7側の弁6−1を閉とし
て、供給路24よりN2等によるパージガスを採
取パイプ2側に矢印P1のように給送して、採取ル
ート内の逆洗を行ない、しかる後、サンプルガス
の採取に当つては、弁25−1,25−2を閉と
し、流路7側の弁6−1,6−2を開として、目
的の荒ガスの流路1内よりその一部をサンプルガ
スとして採取し、流路7をへて矢印P2のようにサ
ンプリングラツクB側に送り込み、ここに測定作
業が開始される。このさい採取パイプ2よりプロ
ーブ4に亘る採取ルート内には測定開始直後には
パージガス(N2等)の残量があり、また流路7
(サンプルガス移送ライン)は相当の距離がある
ため、サンプリングラツクB内でサンプルガスの
前処理を行なうに当つては、目的量よりも過大な
量のサンプルガスが送られ、時間的な遅れも含め
て過剰な流量のサンプルガスは、ラツクB内で、
図例のようにドレンポツト8における第1段の放
出、更に第1フイルタ9における第2段の放出、
脱湿器12における第3の放出のように、多量の
ガス放出を行なつているのである。ダストやドレ
ンを含んだ荒ガスのかかる大量の移動流通は、各
バルブ配管、フイルタ、フローメータ等のラツク
内各機器部材におけるつまりを生じ易く、その影
響は時間の経過と共に増大し、これは放出量の変
化、従つて一定流量の維持困難を生じ、残存パー
ジガスの置換不良による指示異常を最終的には招
来する。従つてまた各部点検、保守の必要が生じ
ると共に放出量を必要量以上に設定して解決しよ
うとすれば、これは同時にダスト、ドレンの増大
侵入により再びバルブ、配管等のつまりを増大さ
せる等の悪循環的な各種トラブルの発生となる訳
である。 The present invention will be described in detail below based on the illustrated embodiments. FIG. 2 is a detailed view of the structure of the main part of the take-out point according to the conventional method, and FIG. 3 is a detailed view of the main part of the take-out point according to the method of the present invention. Figure 4 shows the time schedule of the valve's operation, Figure 5 shows the detailed structure of the main part of the drain pot, and Figure 6 shows the time schedule of the drain pot discharge valve and other valves.
In the figure, in the conventional method, a purge gas supply path 24 is connected to a purge valve 25-
1, 25-2, 25-3, and measurement valves 6-1, 6-2 are connected to the sampling rack B side.
A sample gas flow path 7 is communicated through the sample gas flow path 7.
Therefore, when backwashing the purge gas prior to sample gas collection, valves 25-1 and 25-2 are opened, valve 25-3 and valve 6-1 on the flow path 7 side are closed, and the supply path is A purge gas such as N 2 is fed from 24 to the sampling pipe 2 side as shown by arrow P 1 to backwash the sampling route. After that, when sampling the sample gas, the valves 25-1, 25-2 is closed, valves 6-1 and 6-2 on the flow path 7 side are opened, a part of the target rough gas is sampled from inside the flow path 1, and the sample gas is passed through the flow path 7. The sample is sent to the sampling rack B side as indicated by arrow P2 , and measurement work begins here. At this time, there is a residual amount of purge gas ( N2, etc.) in the sampling route from the sampling pipe 2 to the probe 4 immediately after the start of measurement, and the flow path 7
(sample gas transfer line) is quite long, so when pre-processing the sample gas in sampling rack B, an excessive amount of sample gas is sent than the intended amount and there is a time delay. Excess flow rate of sample gas including
As shown in the figure, the first stage of discharge at the drain pot 8, and the second stage of discharge at the first filter 9,
Like the third release in the dehumidifier 12, a large amount of gas is released. The movement of a large amount of rough gas containing dust and condensate tends to cause clogging in various equipment parts in the rack, such as valve piping, filters, flow meters, etc., and the effect increases with the passage of time. This causes a change in the amount of purge gas, making it difficult to maintain a constant flow rate, and ultimately leads to an abnormal indication due to insufficient replacement of the remaining purge gas. Therefore, it becomes necessary to inspect and maintain each part, and if an attempt is made to solve the problem by setting the discharge amount higher than the necessary amount, this will also lead to increased clogging of valves, pipes, etc. due to increased intrusion of dust and condensate. This results in a vicious cycle of various problems.
本発明方法では、これを第3,4図に例示する
ような手段に改変することにより、前記取出点A
サンプリングラツクBにおけるトラブルを解決す
るのであり、即ち第3図において、パージガス供
給路24側にパージ弁25−1,25−2,25
−3を設置することは従来と同様であるが、サン
プリングラツクBに通ずるサンプルガスの流路7
には、従来の測定弁6−1,6−2の内、前位の
測定弁6−1を電動型式のものとすると共に、こ
の測定弁6−1より前位に同じく電電動型式の放
散弁26を分岐路を介して新設するのである。即
ち本発明では、サンプルガスの取出点Aにおい
て、サンプルガスの放散弁26を設け、かつパー
ジガスの供給路24側のパージ弁25−1,25
−2と、測定弁6−1放散弁27とを、第4図示
のようなタイムスケジユールの下に、連動的にそ
の開閉を行なうようにするのである。同図におい
てa,a′はパージ弁25−1,25−2の弁開と
弁閉を示し、b,b′は放散弁26の弁開と弁閉を
示し、c,c′は測定弁6−1の弁開と弁閉を示す
が、図示スケジユールのように、先ずパージ弁2
5−1,25−2を開として、採取パイプ2側に
N2等によるパージガスを逆洗し、パージ弁25
−1,25−2の閉と共に、測定弁6−1を閉と
した状態で放散弁26を所要時間T1開として、
ガス流路1よりのガスを採取パイプ2プローブ4
をへて外界に放散し、放散弁26を閉としてT2
時間着れて測定弁6−1を所要時間T2開とし
て、サンプルガスを測定弁6−2の開と共に流路
7をへてサンプリングラツクB側に送るのであ
り、所要時間T2経過と共に測定弁6−1を閉と
し、T3時間遅れてパージ弁25−1,25−2
をパージガス逆洗のために開くという一連の弁動
作を行なうようにするのであり、このさい前記各
所要時間T1は0〜10sec程度(適切例としては
10sec)、T2は0〜6sec程度(適切例としては
2sec)、T3は同じく0〜6sec程度(適切例として
は3sec)のように設定する。 In the method of the present invention, by modifying this to the means illustrated in FIGS. 3 and 4, the extraction point A
This solves the trouble in sampling rack B, that is, in FIG. 3, purge valves 25-1, 25-2, and
-3 is installed in the same way as before, but the sample gas flow path 7 leading to sampling rack B is installed.
Of the conventional measuring valves 6-1 and 6-2, the front measuring valve 6-1 is an electric type, and the dissipation valve 6-1 is also an electric type. The valve 26 is newly installed via a branch path. That is, in the present invention, the sample gas dissipation valve 26 is provided at the sample gas extraction point A, and the purge valves 25-1 and 25 on the purge gas supply path 24 side are provided.
-2 and the measuring valve 6-1 and the discharging valve 27 are opened and closed in conjunction with each other according to a time schedule as shown in the fourth figure. In the figure, a and a' indicate the open and closed states of the purge valves 25-1 and 25-2, b and b' indicate the open and closed state of the emission valve 26, and c and c' indicate the measurement valve. 6-1 shows the opening and closing of the valve, but as shown in the schedule, first purge valve 2 is
Open 5-1 and 25-2 and put it on the sampling pipe 2 side.
Backwash the purge gas with N 2 etc. and close the purge valve 25.
-1 and 25-2 are closed, and with the measurement valve 6-1 closed, the emission valve 26 is opened for the required time T1 ,
Collect gas from gas flow path 1 Pipe 2 Probe 4
and dissipates into the outside world through T 2 with the dissipation valve 26 closed.
After the time has elapsed, the measuring valve 6-1 is opened for the required time T2 , and the sample gas is sent through the flow path 7 to the sampling rack B side as the measuring valve 6-2 is opened. 6-1 is closed, and after a delay of T 3 hours, purge valves 25-1 and 25-2 are closed.
A series of valve operations are performed in which the valves are opened for purge gas backwashing, and the required time T1 is approximately 0 to 10 seconds (an appropriate example is
10sec), T 2 is about 0 to 6sec (appropriate example is
2sec), and T3 is similarly set to about 0 to 6sec (3sec as a suitable example).
上記のような放散弁26の設置とパージ弁25
および測定弁6のタイムスケジユールにより、本
発明のサンプルガス採取は次のように行なわれる
ことになる。即ち先ずサンプルガス採取に先立つ
パージガスの逆洗に当つては、パージガス供給路
24におけるパージ弁25−1,25−2開、パ
ージ弁25−3閉の状態とし、サンプリングガス
流路7における測定弁6−1,6−2および放散
弁26を閉とした状態で、パージガスを供給路2
4からプローブ4ボールコツク3採取パイプ2に
通して逆洗を行ない、その終了と共にパージ弁2
5−1,25−2を閉、パージ弁25−3を開と
し、測定弁6−1,6−2閉、放散弁26を開と
して採取パイプ2ボールコツク3プローブ4を介
し流路1内の目的ガスを放散弁26よりT1時間
に亘つて外部に放散し、この放散終了後、放散弁
26を閉とし、T2時間遅れて測定弁6−1,6
−2を開として、サンプルガスを採取パイプ2側
より流路7をへてサンプリングラツクBのドレン
ポツト8に送り込むのであり、ドレンポツト8に
おいてはドレン除去のみで従来のドレンポツト8
における排出路20による第1段目のガス放散を
行なうことなく、第1フイルタ9第2フイルタ1
0によるダスト除去および第1フイルタ9におけ
る排出路21による第2段のガス放出を介して、
減圧弁11に送り込み、所定減圧後、脱湿器12
によつて完全除湿と排出路22による第3段のガ
ス放出を介し、所定量のサンプルガスを分析装置
C側に送つて、所定の成分分析測定を行なうこと
になる。このさい排出路21による第2段のガス
放出は6.6→2/min、排出路22による第3段
のガス放出は1.1→0.1/min程度のように大幅に
減少できることが確認された。また前記取出点A
における放散弁26による採取ガスの1次放散に
よつてパージガスは完全に排除され、従来のパー
ジガスの置換不良による残存によるトラブルは全
く予防することができたことも確認されたもので
あり、更にサンプリングラツクB側において、サ
ンプル圧が低下しても測定分析が可能であること
も確認された。即ち従来方法のものでは、高炉ガ
スの場合、そのサンプル圧(炉頂ガス圧力)が
0.5Kg/cm2以下になると、放出量の限界によりパー
ジガス置換が不可能で、測定困難であつたが、本
発明の前記方法による場合、そのサンプル圧が
0.1Kg/cm2までは充分に測定可能であることも確認
されたのである。尚前記本発明による操作に当
り、パージ弁25−1,25−2,25−3の3
個を用い、逆洗の終了と共に、パージ返25−
1,25−2を閉とし、パージ返25−3を開と
することは、以下の理由によるものである。 Installation of the release valve 26 and purge valve 25 as described above
According to the time schedule of the measurement valve 6, the sample gas collection of the present invention is performed as follows. That is, first, in backwashing the purge gas prior to sampling the sample gas, the purge valves 25-1 and 25-2 in the purge gas supply path 24 are opened and the purge valve 25-3 is closed, and the measurement valve in the sampling gas flow path 7 is closed. 6-1, 6-2 and the release valve 26 are closed, purge gas is supplied to the supply path 2.
4 through the probe 4 ball pot 3 sampling pipe 2 to perform backwashing, and at the end of the process, the purge valve 2
5-1 and 25-2 are closed, the purge valve 25-3 is opened, the measurement valves 6-1 and 6-2 are closed, and the diffusion valve 26 is opened, and the flow path 1 is The target gas is released from the release valve 26 to the outside for T 1 hour. After this release, the release valve 26 is closed, and after a delay of T 2 hours, the measurement valves 6-1 and 6 are opened.
- 2 is opened, and the sample gas is sent from the sampling pipe 2 side through the flow path 7 to the drain pot 8 of the sampling rack B.
The first filter 9 and the second filter 1
0 through dust removal and second stage gas release through the discharge channel 21 in the first filter 9.
It is sent to the pressure reducing valve 11, and after the predetermined pressure is reduced, it is sent to the dehumidifier 12.
As a result, a predetermined amount of sample gas is sent to the analyzer C side through complete dehumidification and third-stage gas discharge through the exhaust path 22, and a predetermined component analysis measurement is performed. At this time, it was confirmed that the gas discharge in the second stage through the discharge passage 21 could be significantly reduced from 6.6 to 2/min, and the gas discharge in the third stage through the discharge passage 22 could be significantly reduced from approximately 1.1 to 0.1/min. Also, the take-out point A
It was also confirmed that the purge gas was completely eliminated by the primary dispersion of the sampled gas by the dispersion valve 26 in the sampling process. It was also confirmed that measurement and analysis were possible on the rack B side even if the sample pressure decreased. In other words, in the conventional method, in the case of blast furnace gas, the sample pressure (furnace top gas pressure) is
When the sample pressure was below 0.5Kg/cm 2 , it was impossible to replace the purge gas due to the limit of the amount released, making it difficult to measure.However, with the method of the present invention, the sample pressure
It was also confirmed that measurements up to 0.1Kg/cm 2 were possible. In addition, in the operation according to the present invention, three of the purge valves 25-1, 25-2, and 25-3 are
At the end of backwashing, purge return 25-
The reason why purge return 25-2 is closed and purge return 25-3 is opened is as follows.
即ちパージ弁として3個の弁を用いることは、
逆洗パージ用ガスN2の測定ライン側への漏込み
防止のためである。一般にこの種の測定におい
て、サンプルガス圧力は2.5Kg/cm2程度であるに対
し、パージガスN2の圧力は5Kg/cm2程度のように
高くしてあるため、パージ弁25−1,25−2
を閉としていても、測定ライン側へのN2の漏込
みの危険があり、更にパージ終了時点ではパージ
弁25−1とパージ弁25−2との間にN2圧力
が封じ込められた状態であるため、この封じ込め
られたN2ガスがパージ弁25−2側から測定ラ
インへ漏れ込む危険が生じる。このためパージ弁
25−1,25−2を閉とすると共に、パージ弁
25−3は開として、封じ込められたN2ガスを
大気に開設してゼロとするものである。 In other words, using three valves as purge valves means that
This is to prevent backwash purge gas N2 from leaking into the measurement line side. Generally, in this type of measurement, the sample gas pressure is about 2.5Kg/cm 2 , while the purge gas N 2 pressure is high, about 5Kg/cm 2 . 2
Even if it is closed, there is a risk of N2 leaking into the measurement line, and furthermore, at the end of the purge, N2 pressure is trapped between purge valve 25-1 and purge valve 25-2. Therefore, there is a risk that this confined N 2 gas will leak into the measurement line from the purge valve 25-2 side. For this reason, the purge valves 25-1 and 25-2 are closed, and the purge valve 25-3 is opened to release the confined N2 gas to the atmosphere and reduce it to zero.
本発明方法によるサンプルガス取出点Aにおけ
る放散弁26の新設と、これによるパージガス逆
洗後のサンプルガス放散操作によれば、従来のド
レンポツト8における第1段のサンプルガス排出
路20によるガス放出はこれを全く不要化し、サ
ンプリングラツクBにおける測定中の大量のガス
放出を著しく減減できるが、このさいサンプリン
グラツクBを含めて、サンプルガス取出点Aより
ラツクB内の各配管、バルブおよびフイルタ等
(但しドレンポツト8を除く)には、従来蒸気ト
レスを実施し、ドレンポツト8において露点以下
にしてドレン化することが従来行なわれている
が、実際にはフローメータ等にドレンの侵入する
ことが多く、本発明ではこの蒸気トレスを、サン
プリングラツクBより手前の流路7内で中止する
ようにし、これによりドレンポツト8におけるド
レン量を増大するようにして併せてこのドレンポ
ツト8に取付けられた排出弁を前述の放散弁26
を含む取出点Aにおける測定1パージシステムと
協動させるようにし、ドレン集約化とドレン抜き
の容易と自動化、ラツク内における残圧ガスの排
出、取出点Aより遠距離による応答性の向上を得
るようにした。その実施例は第5,6図に示す通
りである。即ち第5図示のように、ドレンポツト
8に電動型式の排出弁27を排出路28と共に装
設し、第6図示のように先に第4図で述べたパー
ジ弁25−1,25−2放散弁26測定弁6−1
のタイムスケジユールに組合せ、ページ弁25−
1,25−2のパージガス逆送用の弁開aとスタ
ートを同じくして、排出弁27を弁開dとし、流
路7内に残る残圧ガスとサンプリングラツクB内
に流さず、このドレンポツト8に底部より排出路
28によりドレンと共に外界に排出させるのであ
り、次いで放散弁26による弁開bによる1次ガ
ス放散後、T2時間遅れての測定用サンプルガス
導入のための測定弁6−1の開放後、T4時間
(T4:0〜6sec、適切例としては4sec)遅れて、
即ちT4秒間、遠距離による応答性を上げるた
め、排出弁27を開状態に保持して、サンプルガ
スの導入を行なうようにするのである。尚この他
の本発明目的を達成するための好ましい参考手段
としては、取出点Aにおける各弁の構造、特にパ
ージガス用弁としては、従来空気式三方向ボール
弁構造のものを用いているが、これはボールとパ
ツキンの接触面の大小から考慮すると、より接触
面の大きくとれる二方用ホール弁の採用が好まし
く、また取出点Aにおけるプローブ4に用いるフ
イルタは、高炉ガスのような荒ガスの場合は、従
来の70ミクロン程度のものを用いるより20ミクロ
ン程度のフイルタを用いることが好ましく、第1
段フイルタ9は10ミクロン程度、第2段のフイル
タ10は0.1ミクロン程度の組合せが好ましく、
また本発明ではそのパージ操作に当り、従来の非
サンプリング時に亘る連続パージ方式に変え、間
欠パージ方式とし、前記プローブ4におけるフイ
ルタの目の大きさを1/3以下のものとすることと
相まつて、間欠パージ方式(間隔は適宜選択可能
である)とすることにより、パージ効果の点で好
ましい。 According to the new installation of the diffusion valve 26 at the sample gas extraction point A according to the method of the present invention and the sample gas diffusion operation after the purge gas backwashing, gas release from the first stage sample gas discharge path 20 in the conventional drain pot 8 is reduced. This can be completely eliminated and the large amount of gas released during measurement in sampling rack B can be significantly reduced, but in this case, each pipe, valve, filter, etc. (However, except for drain pot 8), conventionally, steam trespassing is carried out to reduce the temperature to below the dew point at drain pot 8 and convert it into drain. However, in reality, condensate often enters the flow meter, etc. In the present invention, this steam tress is stopped in the flow path 7 before the sampling rack B, thereby increasing the amount of drain in the drain pot 8. At the same time, the discharge valve attached to the drain pot 8 is The aforementioned release valve 26
Measurement 1 at take-out point A, including the purge system, is used to centralize drains, facilitate and automate drain removal, discharge residual pressure gas in the rack, and improve responsiveness due to the distance from take-out point A. I did it like that. The embodiment is as shown in FIGS. 5 and 6. That is, as shown in FIG. 5, an electric discharge valve 27 is installed in the drain pot 8 together with a discharge passage 28, and as shown in FIG. Valve 26 Measuring valve 6-1
In combination with the time schedule of page valve 25-
1, 25-2, the discharge valve 27 is opened at the same time as the opening a of the purge gas reverse flow valve a, and the residual pressure gas remaining in the flow path 7 is not allowed to flow into the sampling rack B, but is drained from this drain pot. 8 is discharged from the bottom along with the drain to the outside world through a discharge passage 28. Next, after the primary gas is released by opening b of the release valve 26, a measurement valve 6- is used to introduce the sample gas for measurement with a delay of T2 hours. After opening 1, after a delay of T 4 hours (T 4 : 0 to 6 sec, 4 sec as a suitable example),
That is, in order to improve the long-distance response for T4 seconds, the exhaust valve 27 is held open and the sample gas is introduced. In addition, as a preferable reference means for achieving other objects of the present invention, the structure of each valve at the extraction point A, especially the purge gas valve, is a conventional pneumatic three-way ball valve structure. Considering the size of the contact surface between the ball and the packing, it is preferable to use a two-way hole valve that allows for a larger contact surface.Also, the filter used for the probe 4 at the extraction point A is suitable for handling rough gas such as blast furnace gas. In this case, it is preferable to use a filter of about 20 microns rather than the conventional filter of about 70 microns
It is preferable that the stage filter 9 has a thickness of about 10 microns and the second stage filter 10 has a diameter of about 0.1 microns.
In addition, in the present invention, for the purging operation, the conventional continuous purge method during non-sampling is replaced with an intermittent purge method, and the size of the filter mesh in the probe 4 is reduced to 1/3 or less. , an intermittent purge method (intervals can be selected as appropriate) is preferable in terms of purge effect.
本発明によるガスサンプリング法は、以上の通
りであり、前記取出点Aにおける放散弁26の新
設とこれによるパージ弁25および測定弁6と協
動しての採取サンプルガスの取出点における1次
放散とその後のサンプルガス取出移送により、従
来の取出点AよりサンプリングラツクBに亘つて
生じる各種のトラブル、即ちパージガスのサンプ
ルガス残存によるパージガス置換不良事故を完全
に解消し、かつパージガス置換不良を主因とする
指示異常、必要量以上のサンプルガス放出量設
定、これに伴なう大量のサンプルガス採取、バル
ブ、配管、フイルタその他の各器材におけるダス
ト、ドレンの大量侵入、放出量の変化に伴なう一
定流量維持の困難等の悪循環的な各トラブルを同
時に解消でき、正確かつ容易な必要成分の測定分
析を行なうことが可能となるのであり、トラブル
解消による保守管理手間の掛らないこと、測定条
件の向上に著しく寄与でき、従来方式によるもの
が3ケ月間に約30件のトラブルを発生していたの
に対し、本発明方式によるものでは同一条件で3
ケ月間におけるトラブル発生はゼロのように、優
れた効果を実際に発揮できたものであり、ガスサ
ンプリング方法の改善として卓越した価値を有す
るものといえる。 The gas sampling method according to the present invention is as described above, and includes the installation of a new diffusion valve 26 at the extraction point A and the primary diffusion of the collected sample gas at the extraction point in cooperation with the purge valve 25 and the measurement valve 6. The subsequent sample gas removal and transfer completely eliminates various troubles that conventionally occur from take-out point A to sampling rack B, that is, purge gas replacement failure accidents due to sample gas remaining in the purge gas, and eliminates purge gas replacement failure as the main cause. abnormality in the indication, sample gas release amount set higher than required amount, large amount of sample gas collected as a result, large amount of dust and condensate entering valves, piping, filters, and other equipment, and changes in the release amount. Vicious cycle problems such as difficulty in maintaining a constant flow rate can be resolved at the same time, making it possible to accurately and easily measure and analyze the necessary components. While the conventional method caused about 30 troubles in three months, the method of the present invention caused about 30 troubles under the same conditions.
The system has shown excellent results, with zero troubles occurring over the past few months, and can be said to have outstanding value as an improvement to gas sampling methods.
第1図は従来のサンプリング手段1例の説明
図、第2図は従来手段の取出点要部の説明図、第
3図は本発明方法によるサンプリング手段実施例
の同じく取出点要部の説明図、第4図は同パー
ジ、測定弁作動システムのタイムスケジユール説
明図、第5図は同ドレンポツト要部の説明図、第
6図は同ポツト排出弁とパージ、測定弁システム
の連動タイムスケジユール説明図である。
A……サンプルガス取出点、B……サンプリン
グラツク、C……分析装置、25,25−1,2
5−2,25−3……パージ弁、6,6−1,6
−2……測定弁、26……放散弁、27……排出
弁、2……採取パイプ、7……サンプルガス流
路、24……パージガス供給路、9,10……フ
イルタ、11……減圧弁、12……脱湿器、28
……残存ガス ドレン排出路。
Fig. 1 is an explanatory diagram of an example of a conventional sampling means, Fig. 2 is an explanatory diagram of the main part of the extraction point of the conventional means, and Fig. 3 is an explanatory diagram of the main part of the extraction point of an embodiment of the sampling means according to the method of the present invention. , Fig. 4 is an explanatory diagram of the time schedule of the purge and measurement valve operating system, Fig. 5 is an explanatory diagram of the main parts of the drain pot, and Fig. 6 is an explanatory diagram of the interlocking time schedule of the pot discharge valve, purge, and measurement valve system. It is. A...Sample gas extraction point, B...Sampling rack, C...Analyzer, 25, 25-1, 2
5-2, 25-3...Purge valve, 6, 6-1, 6
-2...Measuring valve, 26...Diffusion valve, 27...Discharge valve, 2...Sampling pipe, 7...Sample gas flow path, 24...Purge gas supply path, 9, 10...Filter, 11... Pressure reducing valve, 12...Dehumidifier, 28
...Residual gas drain outlet.
Claims (1)
取出点より分折測定用のサンプルガスとして、そ
の分折測定の間に亘つて連続的に取出し、該サン
プルガスを浄化手段、減圧手段並びに放出手段を
具備したサンプリングラツクを経由して、ガスク
ロマトグラフ等の分折機器に定量的に供給してそ
の分折測定を行なうに当り、前記サンプルガス取
出点において、パージガスによる取出点の逆洗
後、サンプルガスの取出開始と共に該サンプルガ
スを取出流路に設けた放散弁を介して所定期間放
散し、該放散を終了して後、取出流路に設けた測
定弁を介してサンプルガスをサンプリングラツク
側に連続的に送るようにしたことを特徴とするガ
スサンプリング方法。1. A part of the target gas such as blast furnace gas is continuously taken out as a sample gas for spectrometry from the outlet point of the discharge flow path during the spectrometry measurement, and the sample gas is passed through purification means and depressurization means. In addition, when the sample gas is quantitatively supplied to a spectrometer such as a gas chromatograph and subjected to spectrometry measurement via a sampling rack equipped with a discharge means, the sample gas is backwashed with purge gas at the sample gas take-out point. After that, when the sample gas starts to be taken out, the sample gas is diffused for a predetermined period of time through a diffusion valve provided in the extraction flow path, and after the diffusion is finished, the sample gas is released through a measurement valve provided in the extraction flow path. A gas sampling method characterized in that the gas is continuously fed to the sampling rack side.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16419480A JPS5786739A (en) | 1980-11-19 | 1980-11-19 | Gas sampling method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16419480A JPS5786739A (en) | 1980-11-19 | 1980-11-19 | Gas sampling method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5786739A JPS5786739A (en) | 1982-05-29 |
| JPS6142212B2 true JPS6142212B2 (en) | 1986-09-19 |
Family
ID=15788461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16419480A Granted JPS5786739A (en) | 1980-11-19 | 1980-11-19 | Gas sampling method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5786739A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10706755B2 (en) | 2018-08-07 | 2020-07-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting diode display and repairing method thereof |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59149056U (en) * | 1983-03-28 | 1984-10-05 | 横河電機株式会社 | gas chromatograph sampling device |
| JPS6040951A (en) * | 1983-08-15 | 1985-03-04 | Yokogawa Hokushin Electric Corp | Sampling device |
| JPS62198730A (en) * | 1986-02-26 | 1987-09-02 | Data Syst:Kk | Impurity separating device |
| KR100989991B1 (en) | 2003-07-19 | 2010-10-26 | 주식회사 포스코 | Wet Dust Collecting Steel Exhaust Gas Analyzer Sampler |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS552026B2 (en) * | 1975-02-18 | 1980-01-18 | ||
| JPS5487591A (en) * | 1977-12-23 | 1979-07-12 | Fuji Electric Co Ltd | Exhaust gas sampling device |
-
1980
- 1980-11-19 JP JP16419480A patent/JPS5786739A/en active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10706755B2 (en) | 2018-08-07 | 2020-07-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting diode display and repairing method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5786739A (en) | 1982-05-29 |
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