JPS6143294B2 - - Google Patents
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- JPS6143294B2 JPS6143294B2 JP9754479A JP9754479A JPS6143294B2 JP S6143294 B2 JPS6143294 B2 JP S6143294B2 JP 9754479 A JP9754479 A JP 9754479A JP 9754479 A JP9754479 A JP 9754479A JP S6143294 B2 JPS6143294 B2 JP S6143294B2
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- chloride raw
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- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 30
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 28
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 9
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/86—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid by bubbling a gas through the liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
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- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/89—Controlling the liquid level in or supply to the tank
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/90—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from solid glass precursors, i.e. by sublimation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、混合ガスの製造装置に関し、更に詳
細にはSiCl4、GeCl4、POCl3等の液体塩化物原料
をO2、N2、Ar、He等のキヤリアガスにより連続
的に飽和して光フアイバ製造用の混合ガスを製造
する装置に関するものである。
細にはSiCl4、GeCl4、POCl3等の液体塩化物原料
をO2、N2、Ar、He等のキヤリアガスにより連続
的に飽和して光フアイバ製造用の混合ガスを製造
する装置に関するものである。
周知の如く、光フアイバ母材製造用の混合ガス
は、液体塩化物原料を供給タンクから塩化物原料
飽和器に連続的に供給した後、この飽和器におい
て塩化物原料をキヤリアガスにより飽和すること
によつて製造されている。例えば、SiCl4を使用
して混合ガスを形成する場合には、第１図に示す
ように、逆止弁１ａの介装された導管２ａから導
入された供給タンク３内のSiCl4を逆止弁１b1，
１b2の介装された導管２ｂから恆温槽内槽４内に
収容された飽和器５に給送した後、この飽和器５
に逆止弁１ｃの介装された導管２ｃからキヤリア
ガスを送気してキヤリアガスによりSiCl4を飽和
し、混合ガスを連続的に形成している。そして、
混合ガスを逆止弁１ｄの介装された導管２ｄから
例えば光フアイバ母材製造用火炎バーナーの所定
の管に供給している。なお、上記方法において供
給タンク３でガス化したSiCl4を逆止弁１ｅの介
装された導管２ｅからパージしている。
は、液体塩化物原料を供給タンクから塩化物原料
飽和器に連続的に供給した後、この飽和器におい
て塩化物原料をキヤリアガスにより飽和すること
によつて製造されている。例えば、SiCl4を使用
して混合ガスを形成する場合には、第１図に示す
ように、逆止弁１ａの介装された導管２ａから導
入された供給タンク３内のSiCl4を逆止弁１b1，
１b2の介装された導管２ｂから恆温槽内槽４内に
収容された飽和器５に給送した後、この飽和器５
に逆止弁１ｃの介装された導管２ｃからキヤリア
ガスを送気してキヤリアガスによりSiCl4を飽和
し、混合ガスを連続的に形成している。そして、
混合ガスを逆止弁１ｄの介装された導管２ｄから
例えば光フアイバ母材製造用火炎バーナーの所定
の管に供給している。なお、上記方法において供
給タンク３でガス化したSiCl4を逆止弁１ｅの介
装された導管２ｅからパージしている。
しかしながら、上記のように従来の装置は、液
体塩化物原料が供給タンク３から飽和器５に直接
供給される構造であるため、種々の欠点が生じて
いる。先ず第一に、液体塩化物原料が飽和器５に
急激に供給されるため、飽和器５内の温度が変化
すると共に液面が変化し、混合ガスを定常的に形
成するのが困難である。また液体塩化物原料が多
量に流入するため、流入した液体塩化物原料の体
積に相応して混合ガスが所望の量よりも多量に流
出する等の不都合が生じている。
体塩化物原料が供給タンク３から飽和器５に直接
供給される構造であるため、種々の欠点が生じて
いる。先ず第一に、液体塩化物原料が飽和器５に
急激に供給されるため、飽和器５内の温度が変化
すると共に液面が変化し、混合ガスを定常的に形
成するのが困難である。また液体塩化物原料が多
量に流入するため、流入した液体塩化物原料の体
積に相応して混合ガスが所望の量よりも多量に流
出する等の不都合が生じている。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、そ
の目的とするところは、混合ガスを定常的かつ連
続的に形成できると共に、所定量の混合ガスを飽
和器から常時流出することができる等の利点を有
する混合ガスの製造装置を提供することにある。
の目的とするところは、混合ガスを定常的かつ連
続的に形成できると共に、所定量の混合ガスを飽
和器から常時流出することができる等の利点を有
する混合ガスの製造装置を提供することにある。
以下、第２図を参照して、本発明を詳細に説明
する。
する。
第２図中６は恆温槽で、この恆温槽６内には水
やフロリナート（3M社の商品名）等の冷媒６ａ
が入れられている。そして、この恆温槽６内には
調整弁７ａの介装された導管８ａにより連結され
た塩化物原料飽和器９と液体塩化物原料の供給調
整器１０とが収容されている。上記飽和器９に
は、O2，N2，He，Ar等のキヤリアガスを導入す
る逆止弁７ｂ付の導管８ｂが設けられていると共
に混合ガスを導出する逆止弁７ｃ付の導管８ｃが
設けられている。また、上記供給調整器１０は、
恆温槽６の外部に設けられた液体塩化物原料の供
給タンク１１に逆止弁７d1，７d2の介装された導
管８ｄにより連結されている。そしてまた、上記
供給調整器１０には逆止弁７ｅの介装されたパー
ジ用導管８ｅが設けられている。一方、上記供給
タンク１１には逆止弁７ｆの介装された液体塩化
物原料導入用導管８ｆが設けられており、
SiCl4，GeCl4，POCl3等の液体塩化物原料がその
貯蔵タンク（図示せず）から供給タンク１１内に
導入されるように設定されている。また、上記供
給タンク１１には逆止弁７ｇの介装されたパージ
用導管８ｇが設けられている。
やフロリナート（3M社の商品名）等の冷媒６ａ
が入れられている。そして、この恆温槽６内には
調整弁７ａの介装された導管８ａにより連結され
た塩化物原料飽和器９と液体塩化物原料の供給調
整器１０とが収容されている。上記飽和器９に
は、O2，N2，He，Ar等のキヤリアガスを導入す
る逆止弁７ｂ付の導管８ｂが設けられていると共
に混合ガスを導出する逆止弁７ｃ付の導管８ｃが
設けられている。また、上記供給調整器１０は、
恆温槽６の外部に設けられた液体塩化物原料の供
給タンク１１に逆止弁７d1，７d2の介装された導
管８ｄにより連結されている。そしてまた、上記
供給調整器１０には逆止弁７ｅの介装されたパー
ジ用導管８ｅが設けられている。一方、上記供給
タンク１１には逆止弁７ｆの介装された液体塩化
物原料導入用導管８ｆが設けられており、
SiCl4，GeCl4，POCl3等の液体塩化物原料がその
貯蔵タンク（図示せず）から供給タンク１１内に
導入されるように設定されている。また、上記供
給タンク１１には逆止弁７ｇの介装されたパージ
用導管８ｇが設けられている。
次に、上記のように構成される混合ガスの製造
装置の使用方法について説明する。
装置の使用方法について説明する。
先ず、液体塩化物原料をその貯蔵タンク（図示
せず）から導管８ｆを経て供給タンク１１内の導
入する。なお、ガス化したものを導管８ｇからパ
ージする。
せず）から導管８ｆを経て供給タンク１１内の導
入する。なお、ガス化したものを導管８ｇからパ
ージする。
次いで、供給タンク１１内の液体塩化物原料を
導管８ｄを経て供給調整器１０内に導入する。こ
の供給調整器１０内の液体塩化物原料は恆温槽６
内に入れられた冷媒により所定温度に制御され
る。なお、ガス化したものを導管８ｅからパージ
する。
導管８ｄを経て供給調整器１０内に導入する。こ
の供給調整器１０内の液体塩化物原料は恆温槽６
内に入れられた冷媒により所定温度に制御され
る。なお、ガス化したものを導管８ｅからパージ
する。
然る後、所定温度に制御された液体塩化物原料
を導管８ａに介装された調整弁７ａにより調整し
つつ供給調整器１０から導出し、飽和器９内に導
入する。そして、キヤリアガスを導管８ｂから飽
和器９内に導入して液体塩化物原料をキヤリアガ
スにより飽和して混合ガスを形成する。そして、
この混合ガスを導管８ｃから導出し、例えば光フ
アイバ母材製造用火炎バーナーの所定の管（図示
せず）に給送する。
を導管８ａに介装された調整弁７ａにより調整し
つつ供給調整器１０から導出し、飽和器９内に導
入する。そして、キヤリアガスを導管８ｂから飽
和器９内に導入して液体塩化物原料をキヤリアガ
スにより飽和して混合ガスを形成する。そして、
この混合ガスを導管８ｃから導出し、例えば光フ
アイバ母材製造用火炎バーナーの所定の管（図示
せず）に給送する。
以上説明したように、本発明においては、塩化
物原料飽和器と液体塩化物原料の供給タンクとの
間に液体塩化物原料の供給調整器を設けている。
そして、飽和器と供給調整器とを調整弁を介して
連結し、この調整弁により液体塩化物原料の供給
量を制御調整しているため、液面が急激に変化す
ることはない。また、恆温槽内に収容された供給
調整器において液体塩化物原料を所定の制御温度
に設定しているため、液体塩化物原料が供給調整
器から飽和器に移送された際に飽和器内の温度は
実質上変化しない。かくの如く、液面が変化しな
いと共に温度が変化しないため、混合ガスを定常
的かつ連続的に形成できる。そのため、所定量の
混合ガスを飽和器から常時流出することができ、
例えば光フアイバ母材製造用火炎バーナーの所定
の管に連続的に給送することができる。
物原料飽和器と液体塩化物原料の供給タンクとの
間に液体塩化物原料の供給調整器を設けている。
そして、飽和器と供給調整器とを調整弁を介して
連結し、この調整弁により液体塩化物原料の供給
量を制御調整しているため、液面が急激に変化す
ることはない。また、恆温槽内に収容された供給
調整器において液体塩化物原料を所定の制御温度
に設定しているため、液体塩化物原料が供給調整
器から飽和器に移送された際に飽和器内の温度は
実質上変化しない。かくの如く、液面が変化しな
いと共に温度が変化しないため、混合ガスを定常
的かつ連続的に形成できる。そのため、所定量の
混合ガスを飽和器から常時流出することができ、
例えば光フアイバ母材製造用火炎バーナーの所定
の管に連続的に給送することができる。
以下、実施例を示して、本発明を具体的に説明
する。
する。
第２図の混合ガス製造装置を使用してSiCl4
（液体塩化物原料）とAr（キヤリアガス）とかな
る混合ガスを形成した。製造時に、所定時間経過
後の蒸発量を測定した。得られた結果を第３図に
示す。比較のため、第１図の混合ガス製造装置を
使用して混合ガスを形成し、同様の測定を行つ
た。得られた結果を第４図に示す。第３〜４図中
横軸は時間、縦軸は蒸発量を示す。
（液体塩化物原料）とAr（キヤリアガス）とかな
る混合ガスを形成した。製造時に、所定時間経過
後の蒸発量を測定した。得られた結果を第３図に
示す。比較のため、第１図の混合ガス製造装置を
使用して混合ガスを形成し、同様の測定を行つ
た。得られた結果を第４図に示す。第３〜４図中
横軸は時間、縦軸は蒸発量を示す。
第３図の結果から、本発明によれば蒸発量は実
質上変化していないことがわかる。これに対し、
従来法の場合には液体塩化物原料を飽和器に供給
した時およびその後に蒸発量が大幅に変化してい
ることがわかる。
質上変化していないことがわかる。これに対し、
従来法の場合には液体塩化物原料を飽和器に供給
した時およびその後に蒸発量が大幅に変化してい
ることがわかる。
第１図は従来の混合ガス製造装置の概略図、第
２図は本発明の混合ガス製造装置の概略図、第３
図は第２図の本発明の混合ガス製造装置を使用し
た場合における蒸発量と時間との関係を示すグラ
フ、第４図は第１図の従来の混合ガス製造装置を
使用した場合における蒸発量と時間との関係を示
すグラフである。 ６…恆温槽、７ａ…調整弁、９…飽和器、１０
…供給調整器、１１…供給タンク。
２図は本発明の混合ガス製造装置の概略図、第３
図は第２図の本発明の混合ガス製造装置を使用し
た場合における蒸発量と時間との関係を示すグラ
フ、第４図は第１図の従来の混合ガス製造装置を
使用した場合における蒸発量と時間との関係を示
すグラフである。 ６…恆温槽、７ａ…調整弁、９…飽和器、１０
…供給調整器、１１…供給タンク。
Claims (1)
- １ SiCl4、GeCl4、POCl3等の液体塩化物原料を
O2、N2、Ar、He等のキヤリアガスにより連続的
に飽和して混合ガスを製造する装置において、塩
化物原料飽和器と液体塩化物原料の供給調整器と
を恆温槽内に収容すると共に、上記飽和器と供給
調整器とを調節弁を介して連結し、かつ上記供給
調整器を恆温槽の外部に設けられた液体塩化物原
料の供給タンクと連結してなることを特徴とする
混合ガスの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9754479A JPS5622390A (en) | 1979-07-31 | 1979-07-31 | Mixed gas production unit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9754479A JPS5622390A (en) | 1979-07-31 | 1979-07-31 | Mixed gas production unit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5622390A JPS5622390A (en) | 1981-03-02 |
| JPS6143294B2 true JPS6143294B2 (ja) | 1986-09-26 |
Family
ID=14195176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9754479A Granted JPS5622390A (en) | 1979-07-31 | 1979-07-31 | Mixed gas production unit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5622390A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59116140A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-07-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 原料供給装置 |
| JP7503039B2 (ja) * | 2021-11-30 | 2024-06-19 | クアーズテック合同会社 | 合成石英ガラスの製造装置及び製造方法 |
-
1979
- 1979-07-31 JP JP9754479A patent/JPS5622390A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5622390A (en) | 1981-03-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees | ||
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |